JP2023064657A - Cha-type zeolite and production method thereof - Google Patents

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Abstract

To provide CHA-type zeolite having fewer paired aluminum structures and exhibiting higher heat resistance compared with conventional CHA-type zeolite, catalysts containing the same, and at least one of their manufacturing methods.SOLUTION: CHA-type zeolite is characterized by a molar ratio of silica to alumina of 20 or less and a paired aluminum ratio of 13% or less. The CHA-type zeolite is preferably obtained by a production method that includes a step of crystallizing a composition containing an amorphous alumina source, an amorphous silica-alumina source, an alkaline source, an organic structure-directing agent and water.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、CHA型ゼオライト及びその製造方法に関する。特に窒素酸化物還元触媒として、なおかつ、工業的な利用に適したCHA型ゼオライト及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a CHA-type zeolite and a method for producing the same. In particular, the present invention relates to a CHA-type zeolite suitable for industrial use as a catalyst for reducing nitrogen oxides, and a method for producing the same.

CHA型ゼオライトは、人工的に合成された小細孔ゼオライトである。比較的高いSiO/Al比を有するCHA型ゼオライトは耐熱性が高く、熱水雰囲気に暴露された場合であっても、その構造が崩壊しにくい。そのため、SiO/Al比が20を超えるCHA型ゼオライトは窒素酸化物還元触媒として実用化されている。このようなCHA型ゼオライトに対し、SiO/Al比が20以下のゼオライトは耐熱性が低く、熱水雰囲気に暴露されると結晶構造が崩壊しやすいことが知られているため、耐熱性が求められない用途へ、その適用が限定されていた。 CHA-type zeolite is an artificially synthesized small-pore zeolite. CHA-type zeolite, which has a relatively high SiO 2 /Al 2 O 3 ratio, has high heat resistance and does not easily collapse its structure even when exposed to a hot water atmosphere. Therefore, CHA-type zeolite with a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio exceeding 20 has been put to practical use as a nitrogen oxide reduction catalyst. In contrast to such CHA-type zeolites, zeolites with a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 20 or less are known to have low heat resistance and tend to collapse the crystal structure when exposed to a hot water atmosphere. Its application has been limited to applications that do not require heat resistance.

ところで、近年、CHA型ゼオライトの骨格構造におけるアルミニウムの分布状態、特に「ペアアルミニウム構造」、に着目した検討がされている。例えば、非特許文献1では、アルミニウムに占めるペアアルミニウム構造の割合が5%以上17%以下のCHA型ゼオライトが、非特許文献2にはアルミニウムに占めるペアアルミニウム構造の割合が60%以下のCHA型ゼオライトが報告されている。 In recent years, studies have focused on the distribution of aluminum in the framework structure of CHA-type zeolite, particularly the "paired aluminum structure". For example, Non-Patent Document 1 describes a CHA-type zeolite in which the ratio of a pair aluminum structure in aluminum is 5% or more and 17% or less, and Non-Patent Document 2 describes a CHA-type zeolite in which a ratio of a pair aluminum structure in aluminum is 60% or less. Zeolites have been reported.

Chem.Mater.,28(2016)2236-2247Chem. Mater. , 28 (2016) 2236-2247 Chem.Mater.,32(2020)273-285Chem. Mater. , 32 (2020) 273-285

本開示では、アルミナに対するシリカのモル比が20以下である従来のCHA型ゼオライトと同等のアルミナに対するシリカのモル比を有しているにも関わらず、より高い耐熱性を示すCHA型ゼオライト及びこれを含む触媒、並びに、これらの製造方法の少なくともいずれか、を提供することを目的とする。 In the present disclosure, a CHA-type zeolite that exhibits higher heat resistance despite having a silica-to-alumina molar ratio equivalent to that of conventional CHA-type zeolite having a silica-to-alumina molar ratio of 20 or less, and the same. and at least one of these production methods.

本発明者らは、SiO/Al比が20以下のCHA型ゼオライトの窒素酸化物還元触媒への適用について検討した。その結果、ゼオライト構造おけるアルミニウムの分布状態がCHA型ゼオライトの耐熱性に影響を与えること、及び、アルミニウムの分布状態の影響がSiO/Al比により異なることを見出した。さらに、本発明者らは、SiO/Al比が20以下のCHA型ゼオライトにおいて、アルミニウムの分布状態を制御することで、SiO/Al比が低いにも関わらず、耐熱性、特に400℃以上の高温下における耐熱性が高く、該温度域における窒素酸化物還元特性の低下が抑制されることを見出した。 The present inventors investigated the application of CHA-type zeolite having a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 20 or less to a nitrogen oxide reduction catalyst. As a result, it was found that the distribution state of aluminum in the zeolite structure affects the heat resistance of CHA-type zeolite, and that the influence of the distribution state of aluminum differs depending on the SiO 2 /Al 2 O 3 ratio. Furthermore, the present inventors have found that in a CHA-type zeolite having a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 20 or less, by controlling the aluminum distribution state, despite the low SiO 2 /Al 2 O 3 ratio, It has been found that the heat resistance, particularly at high temperatures of 400° C. or higher, is high, and the deterioration of nitrogen oxide reduction properties in this temperature range is suppressed.

すなわち、本発明は特許請求の範囲に示す発明のとおりであり、また、本開示の要旨は以下のとおりである。
[1] アルミナに対するシリカのモル比が20以下であり、なおかつ、ペアアルミニウム比が13%以下であること、を特徴とするCHA型ゼオライト。
[2] ミクロ細孔容積が0.2mL/g以上である上記[1]に記載のCHA型ゼオライト。
[3] 遷移金属元素を含有する上記[1]又は[2]に記載のCHA型ゼオライト。
[4] 前記遷移金属元素が鉄及び銅の少なくともいずれかである上記[3]に記載のCHA型ゼオライト。
[5] 非晶質アルミナ源、非晶質シリカアルミナ源、アルカリ源、有機構造指向剤及び水を含む組成物を結晶化する工程を含む、アルミナに対するシリカのモル比が20以下であり、なおかつ、ペアアルミニウム比が13%以下であること、を特徴とするCHA型ゼオライトの製造方法。
[6] 前記非晶性アルミナ源が、乾燥水酸化アルミニウムゲル及びアルミン酸ナトリウムの少なくともいずれかである上記[5]に記載の製造方法。
[7] 前記非晶質シリカアルミナ源が、非晶質アルミノシリケートである上記[5]又は[6]に記載の製造方法。
[8] 前記組成物がシリカ源を含む上記[5]乃至[7]のいずれかひとつに記載の製造方法。
[9] 前記組成物のアルミナに対するシリカのモル比が22以下である上記[5]乃至[8]のいずれかひとつに記載の製造方法。
[10] 非晶質アルミナ源に対する非晶質シリカアルミナ源の質量比が15以上である上記[5]乃至[9]のいずれかひとつに記載の製造方法。
[11] 上記[1]乃至[4]のいずれかひとつに記載のCHA型ゼオライトを含む窒素酸化物還元触媒。
[12] 上記[1]乃至[4]のいずれかひとつに記載のCHA型ゼオライトを使用する窒素酸化物の還元方法。
That is, the present invention is as defined in the scope of claims, and the gist of the present disclosure is as follows.
[1] A CHA-type zeolite characterized by having a molar ratio of silica to alumina of 20 or less and a pair aluminum ratio of 13% or less.
[2] The CHA-type zeolite according to [1] above, which has a micropore volume of 0.2 mL/g or more.
[3] The CHA-type zeolite according to [1] or [2] above, which contains a transition metal element.
[4] The CHA-type zeolite according to [3] above, wherein the transition metal element is at least one of iron and copper.
[5] comprising crystallizing a composition comprising an amorphous alumina source, an amorphous silica alumina source, an alkali source, an organic structure-directing agent and water, wherein the molar ratio of silica to alumina is 20 or less, and and a pair aluminum ratio of 13% or less.
[6] The production method according to [5] above, wherein the amorphous alumina source is at least one of dry aluminum hydroxide gel and sodium aluminate.
[7] The production method according to the above [5] or [6], wherein the amorphous silica-alumina source is amorphous aluminosilicate.
[8] The production method according to any one of [5] to [7] above, wherein the composition contains a silica source.
[9] The production method according to any one of [5] to [8] above, wherein the molar ratio of silica to alumina in the composition is 22 or less.
[10] The production method according to any one of [5] to [9] above, wherein the mass ratio of the amorphous silica-alumina source to the amorphous alumina source is 15 or more.
[11] A nitrogen oxide reduction catalyst comprising the CHA-type zeolite according to any one of [1] to [4] above.
[12] A method for reducing nitrogen oxides using the CHA-type zeolite according to any one of [1] to [4] above.

本開示によって、アルミナに対するシリカのモル比が20以下である従来のCHA型ゼオライトと同等のアルミナに対するシリカのモル比を有しているにも関わらず、より高い耐熱性を示すCHA型ゼオライト及びこれを含む触媒、並びに、これらの製造方法の少なくともいずれか、を提供することができる。 According to the present disclosure, CHA-type zeolite that exhibits higher heat resistance despite having a silica-to-alumina molar ratio equivalent to conventional CHA-type zeolite having a silica-to-alumina molar ratio of 20 or less, and the same and at least one of these production methods can be provided.

以下、本開示について、その実施態様の一例を示して説明する。なお、本実施形態における用語は以下の通りである。 Hereinafter, the present disclosure will be described by showing an example of its embodiment. The terms used in this embodiment are as follows.

「アルミノシリケート」は、アルミニウム(Al)とケイ素(Si)とが酸素(O)を介したネットワークの繰返しからなる構造を有する複合酸化物である。アルミノシリケートのうち、その粉末X線回折(以下、「XRD」ともいう。)パターンにおいて、結晶性のXRDピークを有するものが「結晶性アルミノシリケート」、及び、結晶性のXRDピークを有さないものが「非晶質アルミノシリケート」である。 “Aluminosilicate” is a composite oxide having a structure consisting of repeating networks of aluminum (Al) and silicon (Si) via oxygen (O). Among aluminosilicates, those having a crystalline XRD peak in the powder X-ray diffraction (hereinafter also referred to as “XRD”) pattern are “crystalline aluminosilicates”, and those that do not have a crystalline XRD peak The thing is "amorphous aluminosilicate".

本実施形態におけるXRDパターンはCuKα線を線源として測定され、測定条件として、以下の条件が挙げられる。
加速電流・電圧 : 40mA・40kV
線源 : CuKα線(λ=1.5405Å)
測定モード : 連続スキャン
スキャン条件 : 40°/分
測定範囲 : 2θ=3°から43°
発散縦制限スリット: 10mm
発散/入射スリット: 1°
受光スリット : open
検出器 : D/teX Ultra
Niフィルター使用
The XRD pattern in this embodiment is measured using a CuKα ray as a radiation source, and measurement conditions include the following conditions.
Accelerating current/voltage: 40mA/40kV
Radiation source: CuKα ray (λ = 1.5405 Å)
Measurement mode: Continuous scan
Scan condition: 40°/min
Measurement range: 2θ = 3° to 43°
Divergence longitudinal limiting slit: 10mm
Divergence/Entrance Slit: 1°
Light receiving slit: open
Detector: D/teX Ultra
Use Ni filter

XRDパターンは一般的な粉末X線回折装置(例えば、Ultima IV、リガク社製)を使用して測定することができる。また、結晶性のXRDピークは、一般的な解析ソフト(例えば、SmartLab StudioII、リガク社製)を使用したXRDパターンの解析においてピークトップの2θが特定され検出されるピークであり、半値幅が2θ=0.50°以下のXRDピークが例示できる。 The XRD pattern can be measured using a general powder X-ray diffractometer (for example, Ultima IV, manufactured by Rigaku). In addition, the crystalline XRD peak is a peak whose peak top 2θ is specified and detected in XRD pattern analysis using general analysis software (e.g., SmartLab Studio II, manufactured by Rigaku), and the half width is 2θ. = 0.50° or less can be exemplified.

「ゼオライト」とは、骨格原子(以下、「T原子」ともいう。)が酸素(O)を介した規則的構造を有する化合物であり、T原子が金属原子及び又は半金属原子の少なくともいずれかからなる化合物である。半金属原子としては、ホウ素(B)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)及びテルル(Te)の群から選ばれる1以上が例示できる。 A “zeolite” is a compound having a regular structure in which skeleton atoms (hereinafter also referred to as “T atoms”) are interposed with oxygen (O), and the T atoms are at least one of a metal atom and/or a metalloid atom. It is a compound consisting of Examples of metalloid atoms include one or more selected from the group consisting of boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb) and tellurium (Te).

「ゼオライト類似物質」とは、T原子が酸素を介した規則的構造を有する化合物であり、T原子に少なくとも金属及び半金属以外の原子を含む化合物である。ゼオライト類似物質として、アルミノフォスフェート(AlPO)やシリコアルミノフォスフェート(SAPO)など、T原子としてリン(P)を含む複合リン化合物が例示できる。 A “zeolite-like substance” is a compound having a regular structure in which T atoms intervene with oxygen and containing at least atoms other than metals and metalloids in the T atoms. Examples of zeolite-like substances include complex phosphorus compounds containing phosphorus (P) as a T atom, such as aluminophosphate (AlPO) and silicoaluminophosphate (SAPO).

ゼオライトやゼオライト類似物質における「規則的構造(以下、「ゼオライト構造」ともいう。)」とは、国際ゼオライト学会(International Zeolite Association)のStructure Commissionが定めている構造コード(以下、単に「構造コード」ともいう。)で特定される骨格構造である。例えば、CHA構造は構造コード「CHA」として、特定される骨格構造である。Collection of simulated XRD powder patterns for zeolites,Fifth revised edition,p.483(2007)に記載された各構造のXRDパターン(以下、「参照パターン」ともいう。)との対比によって、ゼオライト構造は同定できる。ゼオライト構造に関し、骨格構造、結晶構造又は結晶相はそれぞれ同義で使用される。 The “regular structure (hereinafter also referred to as “zeolite structure”)” in zeolite and zeolite-like substances is a structure code defined by the Structure Commission of the International Zeolite Association (hereinafter simply “structure code”). It is also called.) It is a skeleton structure specified by. For example, the CHA structure is the backbone structure specified as structure code "CHA". Collection of simulated XRD powder patterns for zeolites, Fifth revised edition, p. 483 (2007) of each structure (hereinafter also referred to as "reference pattern"), the zeolite structure can be identified. With respect to zeolite structure, framework structure, crystalline structure or crystalline phase are used interchangeably.

本実施形態において、「CHA型ゼオライト」など、「~型ゼオライト」は、当該構造コードのゼオライト構造を有するゼオライトを意味し、好ましくは当該構造コードのゼオライト構造を有する結晶性アルミノシリケートを意味する。 In the present embodiment, "-type zeolite" such as "CHA-type zeolite" means a zeolite having the zeolite structure of the structure code, preferably a crystalline aluminosilicate having the zeolite structure of the structure code.

次に、本開示のCHA型ゼオライトについて実施形態の一例を示して説明する。 Next, an example of an embodiment of the CHA-type zeolite of the present disclosure will be described.

本実施形態のCHA型ゼオライトは、アルミナに対するシリカのモル比が20以下であり、なおかつ、ペアアルミニウム比が13%以下であること、を特徴とするCHA型ゼオライト、である。これにより、アルミナに対するシリカのモル比(以下、「SiO/Al比」ともいう。)が低いCHA型ゼオライトであるにも関わらず、同程度のSiO/Al比を有するCHA型ゼオライトと比べ、より高い窒素酸化物還元特性を示す。 The CHA-type zeolite of the present embodiment is a CHA-type zeolite characterized by having a molar ratio of silica to alumina of 20 or less and a pair aluminum ratio of 13% or less. As a result, although the CHA-type zeolite has a low molar ratio of silica to alumina (hereinafter also referred to as “SiO 2 /Al 2 O 3 ratio”), it has a similar SiO 2 /Al 2 O 3 ratio. CHA-type zeolite having a higher nitrogen oxide reduction property.

本実施形態のCHA型ゼオライトのSiO/Al比は20以下であり、20未満、15以下又は13以下であることが好ましい。SiO/Al比は5以上又は10以上であることが挙げられる。 The CHA-type zeolite of the present embodiment has a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 20 or less, preferably less than 20, 15 or less, or 13 or less. The SiO 2 /Al 2 O 3 ratio is 5 or more or 10 or more.

本実施形態のCHA型ゼオライトのペアアルミニウム比率(以下、「ペアAl比率」ともいう。)は、13%以下であり、10%以下であることが好ましい。ペアAl比率は0%以上であればよいが、本実施形態のCHA型ゼオライトはペアAl比率が0%超、1%以下又は5%以下であることが例示できる。 The paired aluminum ratio (hereinafter also referred to as “paired Al ratio”) of the CHA-type zeolite of the present embodiment is 13% or less, preferably 10% or less. The pair Al ratio may be 0% or more, but the CHA-type zeolite of the present embodiment may have a pair Al ratio of more than 0%, 1% or less, or 5% or less.

ペアAl比率は、ペアアルミニウム構造を有する二価イオンのイオン交換サイトにイオン交換されるコバルトを定量することにより求めることができる値である。具体的には、アルミニウムに対する、アルカリ金属元素及びアルカリ土類金属元素の比(以下、「M/Al比」ともいう。)が0.01以下であるCHA型ゼオライト、を硝酸コバルト水溶液に浸漬した後のコバルト(Co)の含有量を測定し、以下の式から求められる値が、ペアAl比率である。 The pair Al ratio is a value that can be obtained by quantifying the amount of cobalt ion-exchanged to the ion exchange sites of divalent ions having a pair aluminum structure. Specifically, a CHA-type zeolite having a ratio of alkali metal elements and alkaline earth metal elements to aluminum (hereinafter also referred to as "M/Al ratio") of 0.01 or less was immersed in an aqueous solution of cobalt nitrate. After measuring the cobalt (Co) content, the value obtained from the following formula is the pair Al ratio.

ペアAl比率[%] =(MCo[mol]/MAl[mol])×2×100
上式におけるは、MCo[mol]はICP測定で測定されるコバルト含有量、及び、MAl[mol]はICP測定で測定されるアルミニウム含有量、である。
Pair Al ratio [%] = (M Co [mol]/M Al [mol]) × 2 × 100
In the above formula, M Co [mol] is the cobalt content measured by ICP measurement, and M Al [mol] is the aluminum content measured by ICP measurement.

また、硝酸コバルト水溶液への浸漬条件として、以下の条件が挙げられる。
浸漬温度 :10℃以上40℃以下
浸漬時間 :1時間以上40時間以下
硝酸コバルト濃度 :0.001mol/L以上2.0mol/L以下
固液比 :(CHA型ゼオライト/硝酸コバルト水溶液)≦0.5
Moreover, the following conditions are mentioned as immersion conditions to cobalt nitrate aqueous solution.
Immersion temperature: 10° C. to 40° C. Immersion time: 1 hour to 40 hours Cobalt nitrate concentration: 0.001 mol/L to 2.0 mol/L Solid-liquid ratio: (CHA type zeolite/cobalt nitrate aqueous solution)≦0. 5

M/Al比が0.01以下であるCHA型ゼオライトとして、カチオンタイプがプロトン型又はアンモニウム型のCHA型ゼオライトが挙げられる。 Examples of CHA-type zeolite having an M/Al ratio of 0.01 or less include CHA-type zeolite with a proton-type or ammonium-type cation.

なお、カチオンタイプがナトリウム型、カリウム型、カルシウム型などのM/Al比が0.01を超えるCHA型ゼオライトに同様な処理を施した場合であっても、形式的にペアAl比率(以下、これにより求まるペアAl比率を「形式ペアAl比率」ともいう。」が求まる。しかしながら、形式的Al比率は、コバルト錯体等、ペアアルミニウム構造を有する二価イオンのイオン交換サイトに担持されたコバルト(Co2+)以外の構造に由来するコバルトを含む値である。そのため、形式的ペアAl比率の値は、CHA型ゼオライトのペアアルミニウム構造の含有量を反映した値ではなく、本実施形態のペアAl比率(すなわち、実際のペアアルミニウム構造の割合)よりも大きい値となる。形式的ペアAl比率は、本実施形態のペアAl比率とは異なる値を示しているため、本実施形態のペアAl比率と、形式的ペアAl比率との比較はできない。 Note that even if a CHA-type zeolite with a M/Al ratio exceeding 0.01, such as a sodium-type, potassium-type, or calcium-type cation type, is subjected to the same treatment, the pair Al ratio (hereinafter referred to as The paired Al ratio determined by this is also referred to as "formal paired Al ratio."However, the formal Al ratio is determined by the cobalt ( Co 2+ ) is a value including cobalt derived from a structure other than Co 2+ ).Therefore, the value of the formal paired Al ratio is not a value reflecting the content of the paired aluminum structure of CHA-type zeolite, but the paired Al of the present embodiment. ratio (that is, the ratio of the actual paired aluminum structure).Since the formal paired Al ratio shows a value different from the paired Al ratio of the present embodiment, the paired Al ratio of the present embodiment and the formal pair Al ratio cannot be compared.

本実施形態のCHA型ゼオライトのBET比表面積は200m/g以上又は500m/g以上であり、1000m/g以下又は800m/g以下、であることが好ましい。 The BET specific surface area of the CHA-type zeolite of the present embodiment is 200 m 2 /g or more or 500 m 2 /g or more, and preferably 1000 m 2 /g or less or 800 m 2 /g or less.

BET比表面積は、JIS Z8830:2013に準じた窒素吸着法によるBET1点法により求めることができる。窒素吸着は前処理後の試料について測定すればよい。前処理条件及び窒素吸着条件を以下に示す。
測定方法 :定容法
測定温度 :77K(-196℃)
前処理 :150℃、1時間での真空乾燥、及び、350℃、2時間の真空乾燥
The BET specific surface area can be obtained by the BET one-point method by the nitrogen adsorption method according to JIS Z8830:2013. Nitrogen adsorption can be measured on samples after pretreatment. Pretreatment conditions and nitrogen adsorption conditions are shown below.
Measurement method: Constant volume method Measurement temperature: 77K (-196°C)
Pretreatment: vacuum drying at 150°C for 1 hour and vacuum drying at 350°C for 2 hours

窒素吸着は、一般的な窒素吸着装置(例えば、BELSORP-mini II、マイクロトラック・ベル社製)を使用して測定することができる。 Nitrogen adsorption can be measured using a common nitrogen adsorption device (eg, BELSORP-mini II, manufactured by Microtrac Bell).

本実施形態のCHA型ゼオライトは、細孔の容積(以下、「ミクロ細孔容積」ともいう。)が0.18mL/g以上又は0.20mL/g以上であり、また、0.40mL/g以下又は0.35mL/g以下であることが挙げられる。 The CHA-type zeolite of the present embodiment has a pore volume (hereinafter also referred to as “micropore volume”) of 0.18 mL/g or more or 0.20 mL/g or more, and 0.40 mL/g or less or 0.35 mL/g or less.

ミクロ細孔容積はBET比表面積の測定と同様な方法で得られる窒素吸着等温線をt-plot解析することで求めることができる。t-plot解析は、以下の条件により解析することが挙げられ、窒素吸着装置に付属の解析ソフト(例えば、BELMASTER、マイクロトラック・ベル社製)を使用して解析すればよい。
吸着質断面積 :0.162nm
飽和水蒸気圧 :103.72kPa
第一直線 :t=0nmの点及びt=0.26±0.01nmの点を結合した直線
第二直線 :t=0.35±0.01nmの点及びt=0.66±0.01nmの点を結合した直線
The micropore volume can be determined by t-plot analysis of the nitrogen adsorption isotherm obtained in the same manner as the measurement of the BET specific surface area. The t-plot analysis may be performed under the following conditions, and analysis may be performed using analysis software attached to the nitrogen adsorption apparatus (eg, BELMASTER, manufactured by Microtrac Bell).
Adsorbate cross section: 0.162 nm 2
Saturated water vapor pressure: 103.72kPa
First straight line: straight line connecting points at t = 0 nm and points at t = 0.26 ± 0.01 nm Second straight line: points at t = 0.35 ± 0.01 nm and points at t = 0.66 ± 0.01 nm straight line connecting points

本実施形態のCHA型ゼオライトは、遷移金属元素を含むことが好ましい。遷移金属元素は、周期表の8族、9族、10族及び11族の群から選ばれる1以上の元素、更には白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、鉄(Fe)、銅(Cu)、コバルト(Co)、マンガン(Mn)及びインジウム(In)の群から選ばれる1以上、また更には鉄及び銅の少なくともいずれか、また更には銅である。本実施形態のCHA型ゼオライトは、遷移金属元素をゼオライト骨格以外、例えば、細孔及びイオン交換サイトの少なくともいずれか、に含むことが好ましい。 The CHA-type zeolite of the present embodiment preferably contains a transition metal element. The transition metal element is one or more elements selected from the group of groups 8, 9, 10 and 11 of the periodic table, platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), iron (Fe) , copper (Cu), cobalt (Co), manganese (Mn) and indium (In), or at least one of iron and copper, or copper. The CHA-type zeolite of the present embodiment preferably contains a transition metal element other than the zeolite skeleton, for example, at least one of pores and ion-exchange sites.

本実施形態のCHA型ゼオライトは、遷移金属元素の含有量が1.0質量%以上、1.5質量%以上又は2.0質量%以上であり、5.0質量%以下、4.5質量%以下又は4.0質量%以下であればよい。 The CHA-type zeolite of the present embodiment has a transition metal element content of 1.0% by mass or more, 1.5% by mass or more, or 2.0% by mass or more, and 5.0% by mass or less and 4.5% by mass. % or less or 4.0% by mass or less.

以下、本開示のCHA型ゼオライトの製造方法について実施形態の一例を示して説明する。 An example of an embodiment of the method for producing a CHA-type zeolite of the present disclosure will be described below.

本実施形態のCHA型ゼオライトは、非晶質アルミナ源、非晶質シリカアルミナ源、有機構造指向剤源、アルカリ源及び水を含む組成物を結晶化する工程、を有する製造方法により得られる。非晶質アルミナ源、非晶質シリカアルミナ源、有機構造指向剤源、アルカリ源及び水を含む組成物(以下、「原料組成物」ともいう。)を結晶化する工程(以下、「結晶化工程」ともいう。)により、本実施形態のCHA型ゼオライトが結晶化する。 The CHA-type zeolite of the present embodiment is obtained by a production method comprising crystallizing a composition containing an amorphous alumina source, an amorphous silica-alumina source, an organic structure-directing agent source, an alkalinity source and water. A step of crystallizing a composition (hereinafter also referred to as "raw material composition") containing an amorphous alumina source, an amorphous silica alumina source, an organic structure directing agent source, an alkali source and water (hereinafter referred to as "crystallization CHA-type zeolite of the present embodiment crystallizes.

非晶質アルミナ源は、アルミナ(Al)の前駆体となるアルミニウム(Al)を含有する非晶質化合物であり、アルミニウムを含有し、なおかつ、ケイ素(Si)を含有しない非晶質化合物であることが好ましい。非晶質アルミナ源を含む原料組成物を結晶化することで、SiO/Al比が低い、すなわち、ゼオライト骨格に含有されるアルミニウムが多いにも関わらず、ペアAl比が低いCHA型ゼオライトが得られやすくなる。具体的な非晶質アルミナ源として、水酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム及びアルミン酸ナトリウムの群から選ばれる1以上が挙げられる。本実施形態における特に好ましい非晶質アルミナ源は、乾燥水酸化アルミニウムゲル及びアルミン酸ナトリウムの少なくともいずれか、更には、乾燥水酸化アルミニウムゲル、が挙げられる。 The amorphous alumina source is an amorphous compound containing aluminum (Al) that is a precursor of alumina (Al 2 O 3 ), and contains aluminum and does not contain silicon (Si). A compound is preferred. By crystallizing a raw material composition containing an amorphous alumina source, CHA with a low pair Al ratio despite a low SiO 2 /Al 2 O 3 ratio, that is, a large amount of aluminum contained in the zeolite skeleton type zeolite is more likely to be obtained. Specific amorphous alumina sources include one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum chloride, aluminum sulfate, aluminum nitrate and sodium aluminate. A particularly preferred amorphous alumina source in this embodiment includes at least one of dry aluminum hydroxide gel and sodium aluminate, and further dry aluminum hydroxide gel.

非晶質シリカアルミナ源は、ケイ素及びアルミニウムを含む非晶質化合物である。具体的な非晶質シリカアルミナ源として、非晶質アルミノシリケート及びケイ酸アルミニウムの少なくともいずれか、更には非晶質アルミノシリケートが挙げられる。非晶質アルミノシリケートは、SiO/Al比が2以上又は5以上であり、また、100以下、50以下、20以下であることが挙げられる。非晶質アルミノシリケートのカチオンタイプとして、ナトリウム型(Na型)、プロトン型(H型)及びアンモニウム型(NH型)の群から選ばれる1以上、又は、アンモニウム型が挙げられる。 Amorphous silica-alumina sources are amorphous compounds containing silicon and aluminum. Specific amorphous silica-alumina sources include at least one of amorphous aluminosilicate and aluminum silicate, and amorphous aluminosilicate. The amorphous aluminosilicate has a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 2 or more or 5 or more, and is 100 or less, 50 or less, or 20 or less. The cation type of amorphous aluminosilicate includes one or more selected from the group of sodium type (Na type), proton type (H + type) and ammonium type (NH 4 type), or ammonium type.

非晶質アルミナ源に対する非晶質シリカアルミナ源の質量比が15以上又は18以上であることが好ましく、また、40以下又は30以下であることが挙げられる。 The mass ratio of the amorphous silica-alumina source to the amorphous alumina source is preferably 15 or more or 18 or more, and may be 40 or less or 30 or less.

該質量比は、物理的に吸着した水分を除いた質量(いわゆる、乾燥質量)であり、例えば、以下の条件で乾燥処理後の質量が挙げられる。
処理雰囲気 : 大気雰囲気
乾燥温度 : 500℃以上700℃以下
乾燥時間 : 0.5時間以上4時間以下
The mass ratio is the mass excluding physically adsorbed water (so-called dry mass), for example, the mass after drying treatment under the following conditions.
Treatment atmosphere: Air atmosphere Drying temperature: 500°C to 700°C Drying time: 0.5 hours to 4 hours

原料組成物はシリカ源を含まなくてもよいが、原料組成物のSiO/Al比を微調整するため、原料組成物はシリカ源を含んでいてもよい。シリカ源は、シリカ(SiO)又はその前駆体となるケイ素化合物、更にはアルミニウムを含有しないケイ素化合物である。具体的なシリカ源として、コロイダルシリカ、無定型シリカ、珪酸ナトリウム、テトラエトキシシラン、沈殿法シリカ及びヒュームドシリカの群から選ばれる少なくとも1種、コロイダルシリカ、無定型シリカ、珪酸ナトリウム、沈殿法シリカ及びヒュームドシリカの群から選ばれる少なくとも1種、沈殿法シリカ及びヒュームドシリカの少なくともいずれか、若しくは、ヒュームドシリカを挙げることができる。 The raw material composition may not contain a silica source, but the raw material composition may contain a silica source in order to fine-tune the SiO2 / Al2O3 ratio of the raw material composition. The silica source is silica (SiO 2 ) or a silicon compound that is a precursor thereof, or a silicon compound that does not contain aluminum. Specific silica sources include at least one selected from the group consisting of colloidal silica, amorphous silica, sodium silicate, tetraethoxysilane, precipitated silica and fumed silica, colloidal silica, amorphous silica, sodium silicate, and precipitated silica. and fumed silica, at least one of precipitated silica and fumed silica, or fumed silica.

有機構造指向剤(以下、「SDA」ともいう。)源は、CHA構造を指向するカチオンを含む塩及び化合物の少なくともいずれか、SDAの硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物及び水酸化物の群から選ばれる1以上、SDAのハロゲン化物又は水酸化物の少なくともいずれか、若しくは、SDAの水酸化物、である。 The organic structure directing agent (hereinafter also referred to as "SDA") source is selected from the group of at least one of salts and compounds containing cations directing the CHA structure, SDA sulfates, nitrates, halides and hydroxides. and at least one of a halide or hydroxide of SDA, or a hydroxide of SDA.

SDAは、CHA型ゼオライトを指向するカチオンであればよい。CHA型ゼオライトを指向するカチオンとして、N,N,N-トリアルキルアダマンタンアンモニウムカチオン、N,N,N-トリメチルベンジルアンモニウムカチオン、N-アルキル-3-キヌクリジノールカチオン、N,N,N-トリアルキルエキソアミノノルボルナンカチオン及びN,N,N-トリアルキルシクロヘキシルアンモニウムカチオンの群から選ばれる1以上が例示でき、好ましくは、N,N,N-トリアルキルアダマンタンアンモニウムカチオン(以下、「TAAd」ともいう。)、N,N,N-トリメチルベンジルアンモニウムカチオン(以下、「TMBA」ともいう。)、及びN,N,N-トリアルキルシクロヘキシルアンモニウムカチオン(以下、「TACH」ともいう。)の群から選ばれる1以上、より好ましくはTAAd及びTACHの少なくともいずれか、特に好ましくはTAAd及びTACHである。 SDA may be any cation that directs CHA-type zeolite. As cations for CHA-type zeolite, N,N,N-trialkyladamantane ammonium cations, N,N,N-trimethylbenzylammonium cations, N-alkyl-3-quinuclidinol cations, N,N,N- One or more selected from the group of trialkylexoaminonorbornane cations and N,N,N-trialkylcyclohexylammonium cations can be exemplified, preferably N,N,N-trialkyladamantane ammonium cations (hereinafter, “TAAd + ”) ), N,N,N-trimethylbenzylammonium cation (hereinafter also referred to as “TMBA + ”), and N,N,N-trialkylcyclohexylammonium cation (hereinafter also referred to as “TACH + ”) One or more selected from the group of, more preferably at least one of TAAd + and TACH + , particularly preferably TAAd + and TACH + .

好ましいTAAdとしてN,N,N-トリメチルアダマンタンアンモニウムカチオン(以下、TMAd+)が挙げられる。また、好ましいTACHとしてN,N,N-ジメチルエチルシクロヘキシルアンモニウムカチオン(以下、「CDMEA」ともいう。)及びN,N,N-メチルジエチルシクロヘキシルアンモニウムカチオン(以下、「MDECH」ともいう。)の少なくともいずれか、更にはCDMEA、が挙げられる。 Preferred TAAd + include N,N,N-trimethyladamantane ammonium cation (hereinafter TMAd+). Preferred TACH + are N,N,N-dimethylethylcyclohexylammonium cation (hereinafter also referred to as “CDMEA + ”) and N,N,N-methyldiethylcyclohexylammonium cation (hereinafter also referred to as “MDECH + ”). ), and also CDMEA + .

アルカリ源は、アルカリ金属元素を含む化合物であり、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムの群から選ばれる1以上を含む化合物、ナトリウム、カリウム及びセシウムの群から選ばれる1以上を含む化合物、ナトリウム及びカリウムの少なくともいずれかを含む化合物、若しくは、ナトリウムを含む化合物、が挙げられる。アルカリ源は、上述のアルカリ金属元素を含む、水酸化物及びハロゲン化物の少なくともいずれかが例示できる。原料組成物の調製時にアルミニウムの急激な溶解が抑制されやすくなるため、アルカリ源は、アルカリ金属元素を含むハロゲン化物を含むことが好ましく、水酸化物及びハロゲン化物を含むことがより好ましい。具体的には、上述のアルカリ金属元素を含む水酸化物、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸塩、硝酸塩及び炭酸塩の群から選ばれる1種以上、更には水酸化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物の群から選ばれる1種以上、また更には、水酸化物、塩化物及び臭化物の群から選ばれる1以上、また更には塩化物が例示できる(以下、それぞれ、ナトリウムを含むアルカリ源を「ナトリウム源」、カリウムを含むアルカリ源を「カリウム源」等ともいう。)。非晶質アルミナ源等の出発物質がアルカリ金属元素を含む場合、これらの出発物質もアルカリ源とみなせばよい。原料組成物は、ナトリウム源及びカリウム源を含むことが特に好ましい。 The alkali source is a compound containing an alkali metal element, a compound containing one or more selected from the group of sodium, potassium, rubidium and cesium, a compound containing one or more selected from the group of sodium, potassium and cesium, sodium and potassium. or a compound containing sodium. The alkali source can be exemplified by at least one of hydroxides and halides containing the alkali metal elements described above. The alkali source preferably contains a halide containing an alkali metal element, and more preferably contains a hydroxide and a halide, since rapid dissolution of aluminum is likely to be suppressed during preparation of the raw material composition. Specifically, one or more selected from the group of hydroxides, fluorides, chlorides, bromides, iodides, sulfates, nitrates and carbonates containing the above-mentioned alkali metal elements, further hydroxides, chlorides one or more selected from the group of compounds, bromides and iodides, and one or more selected from the group of hydroxides, chlorides and bromides, and further chlorides (hereinafter, sodium An alkaline source containing potassium is also called a "sodium source", and an alkaline source containing potassium is called a "potassium source", etc.). If starting materials such as amorphous alumina sources contain alkali metal elements, these starting materials may also be considered alkalinity sources. It is particularly preferred that the raw material composition contains a sodium source and a potassium source.

水は、純水、イオン交換水に加え、構造水、水和水及び溶媒など他の出発物質が含む水も、原料組成物中の水とみなせばよい。 In addition to pure water and ion-exchanged water, water contained in other starting materials such as structural water, hydration water, and solvent may also be regarded as water in the raw material composition.

原料組成物の好ましい組成として以下のモル組成が例示できる。以下の組成におけるSDAは有機構造指向剤、Mはアルカリ金属元素及びOHは水酸化物イオンである。SDA/SiO比は、SDAがTMAdaである場合は「TMAda/SiO比」、SDAがCDMEAである場合は「CDMEA/SiO比」等とすればよい。M/SiO比は、Mがナトリウムである場合は「Na/SiO比」、Mがナトリウムとカリウムである場合は「(Na+K)/SiO比」等とみなせばよい。 The following molar composition can be exemplified as a preferred composition of the raw material composition. SDA in the following compositions is an organic structure directing agent, M is an alkali metal element and OH is a hydroxide ion. The SDA/SiO 2 ratio may be "TMAda + /SiO 2 ratio" when SDA is TMAda + , and "CDMEA + /SiO 2 ratio" when SDA is CDMEA + . The M/SiO 2 ratio may be regarded as “Na/SiO 2 ratio” when M is sodium, “(Na+K)/SiO 2 ratio” when M is sodium and potassium, and the like.

SiO/Al比 : 5以上、6以上又は8以上、かつ、
40以下、30以下、20以下又は16未満
SDA/SiO比 : 0.01以上又は0.05以上、かつ、
0.50以下、0.40以下又は0.30以下
M/SiO比 : 0.05以上、0.1以上又は0.15以上、かつ、
1.5以下、1.0以下又は0.4以下
OH/SiO比 : 0.1以上又は0.15以上、かつ、
0.8以下又は0.5以下
O/SiO比 : 3以上、5以上又は8以上、かつ、
50以下又は30以下
さらに、原料組成物は、K/(Na+K)が0.5以下又は0.5未満であることが好ましく、0超又は0.1以上であることが好ましい。
SiO 2 /Al 2 O 3 ratio: 5 or more, 6 or more, or 8 or more, and
40 or less, 30 or less, 20 or less, or less than 16 SDA/SiO 2 ratio: 0.01 or more, or 0.05 or more, and
0.50 or less, 0.40 or less, or 0.30 or less
M/SiO 2 ratio: 0.05 or more, 0.1 or more, or 0.15 or more, and
1.5 or less, 1.0 or less, or 0.4 or less OH/ SiO2 ratio: 0.1 or more or 0.15 or more, and
0.8 or less or 0.5 or less H 2 O/SiO 2 ratio: 3 or more, 5 or more, or 8 or more, and
50 or less or 30 or less Further, the raw material composition preferably has a K/(Na+K) of 0.5 or less or less than 0.5, preferably greater than 0 or 0.1 or more.

結晶化の促進の為、原料組成物は、必要に応じ、種晶を含んでいてもよい。種晶は原料組成物の結晶化を促進する機能を有する結晶性アルミノシリケートであり、CHA型ゼオライトが挙げられる。種晶は、原料組成物(種晶を含まない)のケイ素及びアルミニウムをそれぞれSiO及びAlとして換算した合計質量に対する、種晶のケイ素及びアルミニウムをそれぞれSiO及びAlとして換算した合計質量(以下、「種晶含有量」ともいう。)、が0.1質量%以上であり、かつ、30.0質量%以下となるように、原料組成物と混合すればよい。 In order to promote crystallization, the raw material composition may contain seed crystals, if necessary. The seed crystal is a crystalline aluminosilicate having a function of promoting crystallization of the raw material composition, and includes CHA-type zeolite. The seed crystals are obtained by dividing the silicon and aluminum of the seed crystals as SiO 2 and Al 2 O 3 with respect to the total mass of silicon and aluminum in the raw material composition (not including seed crystals) converted as SiO 2 and Al 2 O 3 , respectively. It may be mixed with the raw material composition so that the converted total mass (hereinafter also referred to as "seed crystal content") is 0.1% by mass or more and 30.0% by mass or less.

原料組成物はフッ素(F)及びリン(P)を実質的に含んでいないことが好ましい。通常の組成分析法により得られる測定値の測定限界を考慮すると、原料組成物のフッ素含有量は0ppm以上100ppm以下であればよく、0ppm以上50ppm以下であることがより好ましい。 The raw material composition preferably does not substantially contain fluorine (F) and phosphorus (P). Considering the measurement limit of the measurement value obtained by the usual composition analysis method, the fluorine content of the raw material composition may be 0 ppm or more and 100 ppm or less, more preferably 0 ppm or more and 50 ppm or less.

結晶化工程では原料組成物を水熱処理することにより結晶化すればよい。水熱処理の条件として、以下の条件が挙げられる。
水熱処理温度 : 80℃以上、100℃以上又は120℃以上、かつ、
200℃以下、190℃以下又は180℃以下
水熱処理時間 : 1時間以上10時間以上又は1日以上、かつ、
10日以下又は6日以下
水熱処理圧力 : 自生圧
水熱処理状態 : 撹拌状態及び静置状態の少なくともいずれか、
好ましくは撹拌状態
In the crystallization step, the raw material composition may be crystallized by subjecting it to hydrothermal treatment. Conditions for the hydrothermal treatment include the following conditions.
Hydrothermal treatment temperature: 80°C or higher, 100°C or higher, or 120°C or higher, and
200°C or less, 190°C or less, or 180°C or less Hydrothermal treatment time: 1 hour or longer, 10 hours or longer, or 1 day or longer, and
10 days or less or 6 days or less Hydrothermal treatment pressure: Autogenous pressure Hydrothermal treatment state: At least one of stirring state and stationary state,
preferably under agitation

本実施形態の製造方法では、結晶化工程の後、必要に応じて、洗浄工程、乾燥工程、イオン交換工程及び金属含有工程の群から選ばれる1以上(以下、「後処理工程」ともいう。)を含んでいてもよい。 In the production method of the present embodiment, after the crystallization step, one or more selected from the group of a washing step, a drying step, an ion exchange step, and a metal-containing step (hereinafter also referred to as a “post-treatment step”). ) may be included.

洗浄工程では、CHA型ゼオライトを洗浄する。回収及び洗浄は任意の方法で行えばよく、結晶化工程後、固液分離し、固相として得られる小細孔ゼオライトを純水で洗浄することが挙げられる。 In the washing step, the CHA-type zeolite is washed. Recovery and washing may be performed by any method, and examples include washing the small-pore zeolite obtained as a solid phase after solid-liquid separation with pure water after the crystallization step.

乾燥工程では、CHA型ゼオライトから水分を除去する。乾燥条件は任意であるが、小細孔ゼオライトを、大気中、50℃以上150℃以下、2時間以上処理することが挙げられる。 In the drying step, water is removed from the CHA-type zeolite. Drying conditions are arbitrary, but treatment of the small pore zeolite in the air at 50° C. or higher and 150° C. or lower for 2 hours or longer can be mentioned.

イオン交換工程では、CHA型ゼオライトを任意のカチオンタイプとする。カチオンタイプをアンモニウム型とする場合、CHA型ゼオライトと塩化アンモニウム水溶液とを混合することが挙げられる。また、カチオンタイプをプロトン型とする場合、アンモニウム型のCHA型ゼオライトを焼成することが挙げられる。 In the ion exchange step, the CHA-type zeolite is of any cation type. When the cation type is an ammonium type, CHA type zeolite and an aqueous ammonium chloride solution may be mixed. Further, when the cation type is proton type, calcination of an ammonium type CHA type zeolite can be mentioned.

金属含有工程では、CHA型ゼオライトに任意の活性金属元素を含有させ、好ましくはCHA型ゼオライトに任意の遷移金属元素を担持する。これにより、金属含有CHA型ゼオライト(又は、金属担持CHA型ゼオライト)が得られる。金属の含有は、CHA型ゼオライトと遷移金属源が接触する方法であればよく、例えば、イオン交換法、含浸担持法、蒸発乾固法、沈殿担持法及び物理混合法の群から選ばれる1以上を挙げることができ、含浸担持法であることが好ましい
遷移金属源は、遷移金属元素を含む塩及び化合物の少なくともいずれかであり、具体的な遷移金属源として、遷移金属元素を含む、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、塩化物、錯塩、酸化物及び複合酸化物の群から選ばれる1以上、更には硝酸塩、硫酸塩及び塩化物の群から選ばれる1以上が挙げられる。
In the metal-containing step, the CHA-type zeolite is made to contain an arbitrary active metal element, and preferably the CHA-type zeolite is loaded with an arbitrary transition metal element. Thereby, a metal-containing CHA-type zeolite (or a metal-supported CHA-type zeolite) is obtained. The inclusion of the metal may be any method as long as the CHA-type zeolite and the transition metal source are brought into contact, for example, one or more selected from the group of ion exchange method, impregnation support method, evaporation to dryness method, precipitation support method and physical mixing method. The transition metal source is at least one of a salt and a compound containing a transition metal element, and specific transition metal sources include nitrates, One or more selected from the group of sulfates, acetates, chlorides, complex salts, oxides and composite oxides, and one or more selected from the group of nitrates, sulfates and chlorides.

遷移金属源に含まれる遷移金属元素は、周期表の8族、9族、10族及び11族の群から選ばれる1以上、好ましくは白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、鉄(Fe)、銅(Cu)、コバルト(Co)、マンガン(Mn)及びインジウム(In)の群から選ばれる1以上、鉄及び銅の少なくともいずれか、若しくは、銅、である。 The transition metal element contained in the transition metal source is one or more selected from the group of groups 8, 9, 10 and 11 of the periodic table, preferably platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), One or more selected from the group consisting of iron (Fe), copper (Cu), cobalt (Co), manganese (Mn) and indium (In), at least one of iron and copper, or copper.

本実施形態の製造方法では、必要に応じ、金属含有CHA型ゼオライトを焼成する工程、を有していてもよい。焼成により不純物が除去される。焼成方法は任意であるが、酸化雰囲気及び還元雰囲気の少なくともいずれかの雰囲気で、100℃以上650℃以下で処理することが挙げられ、大気中、400℃以上600℃以下で処理することが好ましい。 The production method of the present embodiment may optionally include a step of calcining the metal-containing CHA-type zeolite. Impurities are removed by firing. Although the firing method is arbitrary, treatment at 100° C. or higher and 650° C. or lower in at least one of an oxidizing atmosphere and a reducing atmosphere can be mentioned, and treatment at 400° C. or higher and 600° C. or lower in the atmosphere is preferable. .

以下、実施例を挙げて本実施形態について説明する。しかしながら、本実施形態はこれら実施例に限定されるものではない。
(結晶構造)
一般的な粉末X線回折装置(装置名:Ultima IV Protectus、Bruker社製)を使用し、試料のXRD測定をした。測定条件は以下のとおりである。
加速電流・電圧 : 40mA・40kV
線源 : CuKα線(λ=1.5405Å)
測定モード : 連続スキャン
スキャン条件 : 40°/分
測定範囲 : 2θ=3°から43°
発散縦制限スリット: 10mm
発散/入射スリット: 1°
受光スリット : open
検出器 : D/teX Ultra
Niフィルター使用
得られたXRDパターンと参照パターンとを比較し、試料の結晶構造を同定した。
EXAMPLES The present embodiment will be described below with reference to examples. However, this embodiment is not limited to these examples.
(Crystal structure)
A sample was subjected to XRD measurement using a general powder X-ray diffractometer (device name: Ultima IV Protectus, manufactured by Bruker). The measurement conditions are as follows.
Accelerating current/voltage: 40mA/40kV
Radiation source: CuKα ray (λ = 1.5405 Å)
Measurement mode: Continuous scan
Scan condition: 40°/min
Measurement range: 2θ = 3° to 43°
Divergence longitudinal limiting slit: 10mm
Divergence/Entrance Slit: 1°
Light receiving slit: open
Detector: D/TeX Ultra
Using Ni filter The XRD pattern obtained was compared with a reference pattern to identify the crystal structure of the sample.

(組成分析)
フッ酸と硝酸の混合水溶液に試料を溶解して試料溶液を調製した。一般的なICP装置(装置名:OPTIMA5300DV、PerkinElmer社製)を使用して、当該試料溶液を誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES)で測定し、試料中の各組成を求めた。
(BET比表面積、及び、ミクロ細孔容積)
一般的な窒素吸着装置(装置名:BELSORP-mini II、マイクロトラック・ベル株式会社製)を用いて、試料に対する窒素ガスの吸着量を測定した。窒素ガスの吸着結果に、BET法を適用することにより、試料のBET比表面積を求めた。また、窒素ガスの吸着結果に、t-plot法を適用することにより、ミクロ細孔容積を求めた。t-plot法は窒素吸着装置付属の解析ソフト(製品名:BELMaster、マイクロトラック・ベル社製)を使用した。なお、窒素ガス吸着は、通常の定容量法を用いた。測定条件は、以下に示す通りである。
測定温度 :-196℃
前処理 :150℃、1時間での真空乾燥、及び、350℃、2時間の真空乾燥
(composition analysis)
A sample solution was prepared by dissolving the sample in a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid. Using a general ICP device (device name: OPTIMA5300DV, manufactured by PerkinElmer), the sample solution was measured by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP-AES) to determine each composition in the sample.
(BET specific surface area and micropore volume)
Using a general nitrogen adsorption device (device name: BELSORP-mini II, manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.), the amount of nitrogen gas adsorbed on the sample was measured. The BET specific surface area of the sample was determined by applying the BET method to the nitrogen gas adsorption results. Also, the micropore volume was obtained by applying the t-plot method to the nitrogen gas adsorption results. For the t-plot method, analysis software attached to the nitrogen adsorption apparatus (product name: BELMaster, manufactured by Microtrack Bell) was used. Nitrogen gas adsorption was carried out using a normal constant volume method. Measurement conditions are as shown below.
Measurement temperature: -196°C
Pretreatment: vacuum drying at 150°C for 1 hour and vacuum drying at 350°C for 2 hours

(ペアAl比率)
前処理として、20%塩化アンモニウム水溶液でイオン交換した後、大気中、110℃、一晩乾燥した試料を、硝酸コバルト水溶液に浸漬した。浸漬条件を以下に示す。
(Pair Al ratio)
As a pretreatment, after ion exchange with a 20% aqueous ammonium chloride solution, the sample was dried overnight at 110° C. in the atmosphere and immersed in an aqueous cobalt nitrate solution. The immersion conditions are shown below.

浸漬温度 :室温
浸漬時間 :16時間
硝酸コバルト濃度 :0.25mol/L
固液比 :(試料/硝酸コバルト水溶液)≦0.5
浸漬後の試料を回収、及び、純水で洗浄した後、大気中、110℃、1時間でこれを乾燥した。乾燥後の試料をICP測定し、上述の式からペアAl比率を測定した。
Immersion temperature: Room temperature Immersion time: 16 hours Cobalt nitrate concentration: 0.25 mol/L
Solid-liquid ratio: (sample/cobalt nitrate aqueous solution) ≤ 0.5
After the immersed sample was collected and washed with pure water, it was dried in air at 110° C. for 1 hour. The dried sample was subjected to ICP measurement, and the paired Al ratio was measured from the above formula.

実施例1
TMAdaOH水溶液、CDMEAOH水溶液、純水、水酸化ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、非晶質アルミノシリケート(SiO/Al比=22.0)、乾燥水酸化アルミニウムゲルを混合して以下の組成を有する原料組成物を得た。
SiO/Al比 =13.0
TMAda/SiO比 =0.05
CDMEA/SiO比 =0.03
OH/SiO比 =0.21
Na/SiO比 =0.16
K/SiO比 =0.04
O/SiO比 =15.0
Example 1
A TMAdaOH aqueous solution, a CDMEAOH aqueous solution, pure water, sodium hydroxide, sodium chloride, potassium chloride, amorphous aluminosilicate (SiO 2 /Al 2 O 3 ratio = 22.0), and dry aluminum hydroxide gel were mixed to obtain the following: A raw material composition having the following composition was obtained.
SiO2 / Al2O3 ratio = 13.0
TMAda/ SiO2 ratio = 0.05
CDMEA/ SiO2 ratio = 0.03
OH/ SiO2 ratio = 0.21
Na/ SiO2 ratio = 0.16
K/ SiO2 ratio = 0.04
H2O / SiO2 ratio = 15.0

また、乾燥水酸化アルミニウムゲル(非晶質アルミナ源)に対する非晶質シリカアルミナ源の質量比は20.1あった。 Also, the mass ratio of the amorphous silica alumina source to the dry aluminum hydroxide gel (amorphous alumina source) was 20.1.

得られた原料組成物を80mLの密閉容器内に充填し、密閉容器を55rpmで回転させながら原料組成物を撹拌状態とし、160℃で48時間、水熱処理した。水熱処理後の結晶化物を固液分離し、純水で洗浄した後、大気中、600℃で焼成し、さらに塩化アンモニウム水溶液で処理後、乾燥して本実施例のCHA型ゼオライトを得た。 The obtained raw material composition was filled in an 80 mL closed container, and the raw material composition was stirred while rotating the closed container at 55 rpm, and hydrothermally treated at 160° C. for 48 hours. After the hydrothermal treatment, the crystallized product was subjected to solid-liquid separation, washed with pure water, calcined in the atmosphere at 600° C., treated with an ammonium chloride aqueous solution, and dried to obtain the CHA-type zeolite of this example.

得られた試料は、CHA型ゼオライトの単一相であり、ペアAl比率が8.4%、SiO/Al比が13.5、BET比表面積が642m/g及びミクロ細孔容積が0.25mL/gであった。 The obtained sample was a single-phase CHA-type zeolite, and had a pair Al ratio of 8.4%, a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 13.5, a BET specific surface area of 642 m 2 /g, and micropores. The volume was 0.25 mL/g.

比較例1
乾燥水酸化アルミニウムゲルを使用しなかったこと、及び、SiO/Al比=13.0の非晶質アルミノシリケートを使用したこと以外は実施例1と同様の方法で本比較例の型ゼオライトを得た。
Comparative example 1
This comparative example was prepared in the same manner as in Example 1 except that dry aluminum hydroxide gel was not used and amorphous aluminosilicate having a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 13.0 was used. A type zeolite was obtained.

本比較のゼオライトはCHA型ゼオライトの単一相であり、ペアAl比率が21.8%及びSiO/Al比が13.7であった。 The zeolite for this comparison was a single-phase CHA-type zeolite, and had a pair Al ratio of 21.8% and a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 13.7.

比較例2
乾燥水酸化アルミニウムゲルを使用しなかったこと、及び、SiO/Al比=13.0の非晶質アルミノシリケートを使用したこと、及び、以下の組成を有する原料組成物を使用したこと以外は実施例1と同様の方法で本比較例のゼオライトを得た。
SiO/Al比 =13.0
TMAda/SiO比 =0.08
OH/SiO比 =0.21
Na/SiO比 =0.13
K/SiO比 =0.07
O/SiO比 =15.0
Comparative example 2
No dry aluminum hydroxide gel was used, and an amorphous aluminosilicate with a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 13.0 was used, and a raw material composition having the following composition was used: A zeolite of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.
SiO2 / Al2O3 ratio = 13.0
TMAda/ SiO2 ratio = 0.08
OH/ SiO2 ratio = 0.21
Na/ SiO2 ratio = 0.13
K/ SiO2 ratio = 0.07
H2O / SiO2 ratio = 15.0

本比較例のゼオライトは、CHA型ゼオライトの単一相であり、ペアAl比率が13.2%及びSiO/Al比が14.2であった。 The zeolite of this comparative example was a single-phase CHA-type zeolite, and had a pair Al ratio of 13.2% and a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 14.2.

比較例3
シリカ源として親水性ヒュームドシリカ(製品名:Cab-O-Sil M5、キャボット社製)を使用したこと、アルミナ源として乾燥水酸化アルミニウムゲルを使用したこと、以下の組成を有する原料組成物を使用したこと、及び、水熱処理の時間を110時間としたこと以外は実施例1と同様の方法で本比較例のゼオライトを得た。
SiO/Al比 =13.0
CDMEA/SiO比 =0.20
OH/SiO比 =0.40
Na/SiO比 =0.20
K/SiO比 =0
O/SiO比 =40.0
Comparative example 3
Using hydrophilic fumed silica (product name: Cab-O-Sil M5, manufactured by Cabot Corporation) as a silica source, using dry aluminum hydroxide gel as an alumina source, and using a raw material composition having the following composition: A zeolite of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1, except that the hydrothermal treatment was performed for 110 hours.
SiO2 / Al2O3 ratio = 13.0
CDMEA/ SiO2 ratio = 0.20
OH/ SiO2 ratio = 0.40
Na/ SiO2 ratio = 0.20
K/ SiO2 ratio = 0
H2O / SiO2 ratio = 40.0

本比較例のゼオライトは、CHA型ゼオライトの単一相であり、ペアAl比率が27.4%及びSiO/Al比が13.5であった。 The zeolite of this comparative example was a single-phase CHA-type zeolite, and had a pair Al ratio of 27.4% and a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 13.5.

比較例4
非特許文献1 Table.2のSSZ-13(15,1.00)に準じた方法でCHA型ゼオライトを得た。すなわち。TMAdaOH水溶液、純水、水酸化ナトリウム、コロイダルシリカ、水酸化アルミニウム(結晶性水酸化アルミニウム)を混合して以下の組成を有する原料組成物を得た。
SiO/Al比 =30.63
TMAda/SiO比 =0.25
OH/SiO比 =0.50
Na/SiO比 =0.25
O/SiO比 =44.0
Comparative example 4
Non-Patent Document 1 Table. CHA-type zeolite was obtained by a method according to SSZ-13 (15, 1.00) of No. 2. Namely. A TMAdaOH aqueous solution, pure water, sodium hydroxide, colloidal silica, and aluminum hydroxide (crystalline aluminum hydroxide) were mixed to obtain a raw material composition having the following composition.
SiO2 / Al2O3 ratio = 30.63
TMAda/ SiO2 ratio = 0.25
OH/ SiO2 ratio = 0.50
Na/ SiO2 ratio = 0.25
H2O / SiO2 ratio = 44.0

原料組成物の非晶質Al比は0であった。得られた原料組成物を密閉容器内に充填し、密閉容器を40rpmで回転させながら原料組成物を撹拌状態とし、160℃、6日間水熱処理した。水熱処理後の結晶化物を固液分離し、純水で洗浄した後、大気中、550℃で焼成し、本比較例のCHA型ゼオライトを得た。 The amorphous Al ratio of the raw material composition was zero. The obtained raw material composition was filled in a closed container, and the raw material composition was stirred while rotating the closed container at 40 rpm, and hydrothermally treated at 160° C. for 6 days. After the hydrothermal treatment, the crystallized product was subjected to solid-liquid separation, washed with pure water, and then calcined in air at 550° C. to obtain the CHA-type zeolite of this comparative example.

本比較例のCHA型ゼオライトは、CHA型ゼオライトの単一相であり、ペアAl比率が1.0%及びSiO/Al比が22.8であった。 The CHA-type zeolite of this comparative example was a single-phase CHA-type zeolite, and had a pair Al ratio of 1.0% and a SiO 2 /Al 2 O 3 ratio of 22.8.

非特許文献1では、カチオンタイプがナトリウム型である場合のコバルト交換量から求められるペアAl比率が16%であるとされている。これに対し、カチオンタイプをプロトン型とした場合のコバルト交換量から求められるペアAlは1.0%と、測定するCHA型ゼオライトのカチオンタイプによりペアAl比率が大きく異なることが確認でき、非特許文献1におけるペアAl比率は、形式的なペアAl比率であったことが確認できる。 Non-Patent Document 1 states that the ratio of paired Al obtained from the exchange amount of cobalt when the cation type is sodium is 16%. On the other hand, the pair Al ratio obtained from the amount of cobalt exchanged when the cation type is proton type is 1.0%. It can be confirmed that the pair Al ratio in Document 1 was a formal pair Al ratio.

結果を下表に示す。 The results are shown in the table below.

Figure 2023064657000001
Figure 2023064657000001

測定例
実施例1、及び、比較例3で得られたCHA型ゼオライトに、それぞれ、硝酸銅水溶液を滴下した後、乳鉢で10分間混合した。混合後、大気中で、110℃、一晩乾燥させた後、大気中、550℃で1時間焼成することで銅を3質量%担持した金属含有CHA型ゼオライト(銅担持CHA型ゼオライト)とした。
Measurement Example An aqueous copper nitrate solution was added dropwise to each of the CHA-type zeolites obtained in Example 1 and Comparative Example 3, and then mixed in a mortar for 10 minutes. After mixing, the mixture was dried overnight at 110°C in air, and then calcined at 550°C for 1 hour in air to obtain a metal-containing CHA-type zeolite supporting 3% by mass of copper (copper-supporting CHA-type zeolite). .

(水熱耐久処理)
銅担持CHA型ゼオライトを成形及び破砕し、凝集径12~20メッシュの凝集粒子とした。凝集粒子3mLを常圧固定床流通式反応管(以下、単に「反応管」ともいう。)に充填した後、以下の条件で水熱耐久処理した。
処理雰囲気 :水分含有量10体積%の空気流通雰囲気
空間速度 :9,000h-1
処理温度 :900℃
処理時間 :1時間
(Hydrothermal durability treatment)
A copper-supporting CHA-type zeolite was molded and crushed to form aggregated particles having an aggregate size of 12 to 20 mesh. After filling 3 mL of the aggregated particles into a normal-pressure fixed-bed flow-type reaction tube (hereinafter also simply referred to as "reaction tube"), hydrothermal durability treatment was performed under the following conditions.
Treatment atmosphere: Air circulation atmosphere with a moisture content of 10% by volume Space velocity: 9,000 h -1
Processing temperature: 900°C
Processing time: 1 hour

(窒素酸化物還元率の測定方法)
試料の窒素酸化物還元率は、以下に示すアンモニアSCR方法により測定した。
プレス成形後、12メッシュ~20メッシュに整粒した試料1.5mLを反応管に充填した。その後、以下の条件で処理ガスを当該反応管に流通させた。
処理ガス組成 :NO 200ppm
NH 200ppm
10容量%
O 3容量%
残部 N
処理ガスの流量 :1.5L/min
空間速度(SV) :60,000hr-1
(Method for measuring nitrogen oxide reduction rate)
The nitrogen oxide reduction rate of the sample was measured by the ammonia SCR method described below.
After press molding, 1.5 mL of a sample sized to 12 mesh to 20 mesh was filled in the reaction tube. After that, the processing gas was passed through the reaction tube under the following conditions.
Process gas composition: NO 200 ppm
NH3 200 ppm
O2 10% by volume
H2O 3% by volume
remainder N 2
Process gas flow rate: 1.5 L/min
Space velocity (SV): 60,000hr -1

反応管に流通させた処理ガス中の窒素酸化物濃度(200ppm)に対する、触媒流通後の処理ガス中の窒素酸化物濃度(ppm)を求め、以下の式に従って、窒素酸化物還元率を求めた。 The nitrogen oxide concentration (ppm) in the treated gas after catalyst flow was determined with respect to the nitrogen oxide concentration (200 ppm) in the treated gas passed through the reaction tube, and the nitrogen oxide reduction rate was determined according to the following formula. .

窒素酸化物還元率(%)={1-(接触後の処理ガス中の窒素酸化物濃度
/接触前の処理ガス中の窒素酸化物濃度)}×100
Nitrogen oxide reduction rate (%) = {1-(nitrogen oxide concentration in treated gas after contact
/ nitrogen oxide concentration in the process gas before contact)}×100

Figure 2023064657000002
Figure 2023064657000002

実施例1と、シリカアルミナ源を含まない原料組成物から得られた比較例3とは、いずれも同じSiO/Al比を有するCHA型ゼオライトである。それにも関わらず、実施例1は、比較例3のCHA型ゼオライトと比べ、何れの温度域における窒素酸化物還元率が高いことが確認できる。特に、比較例3のCHA型ゼオライトは、400℃以上の高温になるに従い、窒素酸化物還元率の低下が著しくなるのに対し、実施例1のCHA型ゼオライトはその低下が顕著に抑制されていることが確認できる。更に、実施例1のCHA型ゼオライトは、200℃及び150℃の低い温度における窒素酸化物還元率も顕著に高くなることが確認できる。 Both Example 1 and Comparative Example 3 obtained from a raw material composition containing no silica-alumina source are CHA-type zeolites having the same SiO 2 /Al 2 O 3 ratio. Nevertheless, it can be confirmed that Example 1 has a higher nitrogen oxide reduction rate than the CHA-type zeolite of Comparative Example 3 in any temperature range. In particular, in the CHA-type zeolite of Comparative Example 3, as the temperature rises to 400° C. or higher, the decrease in the nitrogen oxide reduction rate becomes remarkable, whereas in the CHA-type zeolite of Example 1, the decrease is remarkably suppressed. It can be confirmed that there is Furthermore, it can be confirmed that the CHA-type zeolite of Example 1 has a remarkably high nitrogen oxide reduction rate at low temperatures of 200°C and 150°C.

本開示のCHA型ゼオライトの製造方法は、排気ガス処理システムに組み込まれるゼオライト触媒及びその基材として使用できるCHA型ゼオライトの製造方法として供することができる。本開示の製造方法により得られるCHA型ゼオライトは、特に、還元剤の存在下で、ディーゼル車などの自動車排ガス中の窒素酸化物を還元除去するSCR触媒として、更にはDPFと一体化されたSCR触媒として使用できる。 The method for producing CHA-type zeolite of the present disclosure can be used as a method for producing CHA-type zeolite that can be used as a zeolite catalyst incorporated in an exhaust gas treatment system and its base material. The CHA-type zeolite obtained by the production method of the present disclosure is particularly useful as an SCR catalyst for reducing and removing nitrogen oxides in the exhaust gas of automobiles such as diesel vehicles in the presence of a reducing agent. Can be used as a catalyst.

Claims (12)

アルミナに対するシリカのモル比が20以下であり、なおかつ、ペアアルミニウム比が13%以下であること、を特徴とするCHA型ゼオライト。 A CHA-type zeolite characterized by having a molar ratio of silica to alumina of 20 or less and a pair aluminum ratio of 13% or less. ミクロ細孔容積が0.2mL/g以上である請求項1に記載のCHA型ゼオライト。 CHA-type zeolite according to claim 1, having a micropore volume of 0.2 mL/g or more. 遷移金属元素を含有する請求項1又は2に記載のCHA型ゼオライト。 CHA-type zeolite according to claim 1 or 2, containing a transition metal element. 前記遷移金属元素が鉄及び銅の少なくともいずれかである請求項3に記載のCHA型ゼオライト。 4. The CHA-type zeolite according to claim 3, wherein said transition metal element is at least one of iron and copper. 非晶質アルミナ源、非晶質シリカアルミナ源、アルカリ源、有機構造指向剤及び水を含む組成物を結晶化する工程を含む、アルミナに対するシリカのモル比が20以下であり、なおかつ、ペアアルミニウム比が13%以下であること、を特徴とするCHA型ゼオライトの製造方法。 A silica to alumina molar ratio of 20 or less and paired aluminum comprising crystallizing a composition comprising an amorphous alumina source, an amorphous silica alumina source, an alkalinity source, an organic structure directing agent and water. A method for producing CHA-type zeolite, wherein the ratio is 13% or less. 前記非晶性アルミナ源が、乾燥水酸化アルミニウムゲル及びアルミン酸ナトリウムの少なくともいずれかである請求項5に記載の製造方法。 6. The production method according to claim 5, wherein the amorphous alumina source is at least one of dry aluminum hydroxide gel and sodium aluminate. 前記非晶質シリカアルミナ源が、非晶質アルミノシリケートである請求項5又は6に記載の製造方法。 The production method according to claim 5 or 6, wherein the amorphous silica-alumina source is amorphous aluminosilicate. 前記組成物がシリカ源を含む請求項5乃至7のいずれか一項に記載の製造方法。 8. The manufacturing method according to any one of claims 5 to 7, wherein said composition comprises a silica source. 前記組成物のアルミナに対するシリカのモル比が22以下である請求項5乃至8のいずれか一項に記載の製造方法。 9. The method according to any one of claims 5 to 8, wherein the composition has a molar ratio of silica to alumina of 22 or less. 非晶質アルミナ源に対する非晶質シリカアルミナ源の質量比が13以上である請求項5乃至9のいずれか一項に記載の製造方法。 10. The production method according to any one of claims 5 to 9, wherein the mass ratio of the amorphous silica-alumina source to the amorphous alumina source is 13 or more. 請求項1乃至4のいずれか一項に記載のCHA型ゼオライトを含む窒素酸化物還元触媒。 A nitrogen oxide reduction catalyst comprising the CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 4. 請求項1乃至4のいずれか一項に記載のCHA型ゼオライトを使用する窒素酸化物の還元方法。 A method for reducing nitrogen oxides using the CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 4.
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