JP6776338B2 - 排気ガス流の処理のための排気処理システムおよび方法 - Google Patents
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- F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion ; Methods of operation or control of catalytic converters
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- F01N3/18—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control
- F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion ; Methods of operation or control of catalytic converters
- F01N3/2066—Selective catalytic reduction [SCR]
- F01N3/208—Control of selective catalytic reduction [SCR], e.g. dosing of reducing agent
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- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/24—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by constructional aspects of converting apparatus
- F01N3/36—Arrangements for supply of additional fuel
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- F01N9/00—Electrical control of exhaust gas treating apparatus
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- F01N11/00—Monitoring or diagnostic devices for exhaust-gas treatment apparatus, e.g. for catalytic activity
- F01N11/002—Monitoring or diagnostic devices for exhaust-gas treatment apparatus, e.g. for catalytic activity the diagnostic devices measuring or estimating temperature or pressure in, or downstream of the exhaust apparatus
- F01N11/005—Monitoring or diagnostic devices for exhaust-gas treatment apparatus, e.g. for catalytic activity the diagnostic devices measuring or estimating temperature or pressure in, or downstream of the exhaust apparatus the temperature or pressure being estimated, e.g. by means of a theoretical model
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- F01N2900/04—Methods of control or diagnosing
- F01N2900/0416—Methods of control or diagnosing using the state of a sensor, e.g. of an exhaust gas sensor
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Description
HC+NOx→N2+CO2+H2O (等式1)
CO+NOx→N2+CO2 (等式2)
− 第1の触媒還元触媒CR1;
− 下流に第1のスリップ触媒SC1が続く第1の触媒還元触媒CR1であって、第1のスリップ触媒SC1は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたはいくつかを含む化合物の残留物を酸化および/または分解するように配置されており、排気流303の中の窒素酸化物NOxのさらなる還元によってCR1を支援するように配置されており、および/または、発熱反応を生成するように配置されている、第1の触媒還元触媒CR1;
− 下流に第1の触媒還元触媒CR1が続く第1のスリップ触媒SC1であって、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つもしくはいくつかを含む化合物を酸化させるように配置されており、ならびに/または、排気流303の中の窒素酸化物NOxの還元によって第1の触媒還元触媒CR1を支援するように配置されている、第1のスリップ触媒SC1;および、
− 第1のスリップ触媒SC1であって、一次的に、窒素酸化物NOxの還元のために配置されており、二次的に、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたはいくつかを含む化合物の残留物の酸化のために配置されている、第1のスリップ触媒SC1
のうちの1つから構成されている。
− 第2の選択触媒還元触媒SCR2;および、
− 下流に第2のスリップ触媒SC2が続く第2の選択触媒還元触媒SCR2であって、第2のスリップ触媒SC2は、添加剤の残留物を酸化させるように配置されており、そのような残留物は、たとえば、尿素、アンモニアNH3、またはイソシアン酸HNCOから構成され得、および/または、排気流303の中の窒素酸化物NOxのさらなる還元によってSCR2を支援することが可能である、第2の選択触媒還元触媒SCR2
のうちの1つから少なくとも部分的に構成されている。
HC+O2→H20+CO2 (等式3)
HC+NOx→N2+CO2 (等式4)
および/または
CO+NOx→NO2+CO2 (等式5)
これらの簡単化された反応公式において、HCは、1つまたはいくつかの炭化水素化合物CaHbを表している。ここで、等式3による反応は、炭化水素HCの酸化をもたらす。等式4および5による反応は、窒素酸化物NOxの還元を提供しており、ここで、HCおよびCOは、それぞれ、還元において使用されている。
NH3+O2→N2 (等式6)
および/または
NOx+NH3→N2+H2O (等式7)
ここで、等式6による反応は、添加剤の酸化、たとえば、アンモニアを含む添加剤の残留物の酸化をもたらす。等式7による反応は、窒素酸化物NOxの還元をもたらす。したがって、添加剤、たとえば、アンモニアNH3、イソシアン酸HNCO、尿素、または類似物の残留物が、酸化され得る。また、ここで、添加剤のこれらの残留物、すなわち、アンモニアNH3、HNCO、尿素、または類似物が、窒素酸化物NOxを還元するために使用され得る。
Claims (49)
- 燃焼エンジン(301)の中の燃焼から結果として生じる排気流(303)の処理のために配置されている排気処理システム(350)であって、
前記排気流(303)が第1の還元触媒デバイス(331)に到達するときに前記排気流(303)の中に含まれている一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の使用による、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元のために配置されている、第1の還元触媒デバイス(331)であって、該第1の還元触媒デバイス(331)は、第1の触媒還元触媒と第1のスリップ触媒とを含み、前記第1のスリップ触媒は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む前記化合物を酸化および/または分解するように配置されており、前記排気流の中の窒素酸化物NO x のさらなる還元によって前記第1の触媒還元触媒を支援するように配置されており、かつ/または、発熱反応を生成するように配置されている、第1の還元触媒デバイス(331)と、
前記第1の還元触媒デバイス(331)の下流に配置され、前記排気流(303)の中のスート粒子を捕らえて酸化させる、微粒子フィルタ(320)と、
前記微粒子フィルタ(320)の下流に配置されており、かつ、添加剤を供給するように配置されている投与デバイス(372)であって、前記添加剤は、アンモニア、または、アンモニアがそれから前記排気流(303)の中へ抽出および/もしくは放出され得る物質を含む、投与デバイス(372)と、
前記投与デバイス(372)の下流に配置されており、かつ、前記添加剤の使用を通した前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元のために配置されている、第2の還元触媒デバイス(332)と
を含むことを特徴とする、排気処理システム(350)。 - 前記燃焼エンジン(301)は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物を前記排気流(303)の中へ放出するように配置されており、
前記第1の還元触媒デバイス(331)は、前記排気流(303)の中の一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む少なくとも前記放出された化合物の使用により、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxを還元するために配置されている、請求項1に記載の排気処理システム(350)。 - 追加の投与デバイス(371)が、前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されており、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物を前記排気流(303)に供給するように配置されており、
前記第1の還元触媒デバイス(331)は、前記排気流(303)の中の一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む少なくとも前記供給された化合物の使用による、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元のために配置されている、請求項1または2に記載の排気処理システム(350)。 - 前記燃焼エンジン(301)は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物を前記排気流(303)の中へ放出するように配置されており、
追加の投与デバイス(371)が、前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されており、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物を前記排気流(303)に供給するように配置されており、
前記第1の還元触媒デバイス(331)は、前記供給された化合物および前記放出された化合物のうちの1つまたは複数の使用による、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxに還元のために配置されており、前記供給された化合物および前記放出された化合物は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 1つまたはいくつかの制御信号を提供するように配置されている制御デバイス(360)であって、前記1つまたはいくつかの制御信号は、前記一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む所望の量の化合物が前記燃焼エンジン(301)から放出されるように、前記燃焼エンジン(301)を制御するために使用され得る、制御デバイス(360)
を含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 前記第1の還元触媒デバイス(331)は、
下流に第1のスリップ触媒(SC1)が続く第1の触媒還元触媒(CR1)であって、前記第1のスリップ触媒(SC1)は、前記化合物を酸化および/または分解するように配置されており、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxのさらなる還元によって前記第1の触媒還元触媒(CR1)を支援するように配置されており、かつ/または、発熱反応を生成するように配置されている、第1の触媒還元触媒(CR1);および、
下流に第1の触媒還元触媒(CR1)が続く第1のスリップ触媒(SC1)であって、前記化合物を酸化および/または分解するように配置されており、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxのさらなる還元によって前記第1の触媒還元触媒(CR1)を支援するように配置されており、かつ/または、発熱反応を生成するように配置されている、第1のスリップ触媒(SC1 )
の群からの1つを含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 前記第2の還元触媒デバイス(332)は、
第2の選択触媒還元触媒(SCR2);および、
下流に第2のスリップ触媒(SC2)が続く第2の選択触媒還元触媒(SCR2)であって、前記第2のスリップ触媒(SC2)は、添加剤の残留物を酸化させるように配置されており、かつ/または、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの追加的な還元によって前記第2の選択触媒還元触媒(SCR2)を支援するように配置されている、第2の選択触媒還元触媒(SCR2)
の群からの1つを含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 前記排気処理システム(350)は、一酸化炭素CO、炭化水素HC、および前記添加剤のうちの1つまたは複数を含む前記化合物のうちの1つまたは複数の供給のためのシステム(370)を含み、前記システム(370)は、少なくとも1つのポンプ(373)を含み、前記少なくとも1つのポンプ(373)は、前記投与デバイス(372)および追加の投与デバイス(371)に、一酸化炭素CO、炭化水素HC、および前記添加剤のうちの1つまたは複数を含む前記化合物をそれぞれ供給するように配置されている、請求項1から7のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。
- 一酸化炭素CO、炭化水素HC、および前記添加剤のうちの1つまたは複数を含む前記化合物のうちの1つまたは複数の供給のための前記システム(370)は、前記少なくとも1つのポンプ(373)の制御のために配置されている投与制御デバイス(374)を含む、請求項8に記載の排気処理システム(350)。
- 一酸化炭素CO、炭化水素HC、および前記添加剤のうちの1つまたは複数を含む前記化合物のうちの1つまたは複数の供給のための前記システム(370)は、投与制御デバイス(374)を含み、前記投与制御デバイス(374)は、
前記少なくとも1つのポンプ(373)を制御するように配置されている第1のポンプ制御デバイス(378)であって、前記一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の第1の投入は、前記追加の投与デバイス(371)の使用によって前記排気流に供給される、第1のポンプ制御デバイス(378)と、
前記少なくとも1つのポンプ(373)を制御するように配置されている第2のポンプ制御デバイス(379)であって、前記添加剤の第2の投入は、前記投与デバイス(372)の使用によって前記排気流に提供される、第2のポンプ制御デバイス(379)と
を含む、請求項8に記載の排気処理システム(350)。 - 前記第1の還元触媒デバイス(331)は、還元温度間隔Tredの中で前記窒素酸化物NOxを還元するために配置されており、前記還元温度間隔Tredは、酸化温度間隔Toxとは少なくとも部分的に異なっており、前記酸化温度間隔Toxの中で、前記微粒子フィルタ(320)は、不完全に酸化された炭素化合物を酸化するために配置されている(Tred≠Tox)、請求項1から10のいずれか一項に記載の排気処理システム。
- 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つもしくは複数を含む化合物の第1の酸化および/もしくは分解のために、ならびに/または、発熱反応を生成するために、前記第1の還元触媒(331)の上流に配置されている第1の酸化触媒(311)
も含む、請求項1から11のいずれか一項に記載の排気処理システム。 - 前記微粒子フィルタ(320)は、触媒酸化コーティングを少なくとも部分的に含み、前記触媒酸化コーティングは、酸化窒素NOおよび不完全に酸化された炭素化合物のうちの1つまたは複数を酸化させるように配置されている、請求項1から12のいずれか一項に記載の排気処理システム。
- 前記微粒子フィルタ(320)は、触媒酸化コーティングを少なくとも部分的に含み、前記触媒酸化コーティングは、窒素酸化物NOxの還元のために配置されている、請求項1から13のいずれか一項に記載の排気処理システム。
- 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つもしくは複数を含む化合物の第2の酸化および/もしくは分解を実施するために、ならびに/または、発熱反応を生成するために、前記第1の還元触媒デバイス(331)の下流、かつ前記微粒子フィルタ(320)の上流に配置されている、第2の酸化触媒(312)も含む、請求項1から14のいずれか一項に記載の排気処理システム。
- 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つもしくは複数を含む化合物の第3の酸化および/もしくは分解を実施するために、ならびに/または、発熱反応を生成するために、前記微粒子フィルタ(320)の下流、かつ前記第2の還元触媒デバイス(332)の上流に配置されている、第3の酸化触媒(313)も含む、請求項1から15のいずれか一項に記載の排気処理システム。
- 1つまたはいくつかの制御信号を提供するように配置されており、前記1つまたはいくつかの制御信号は、前記第1の還元触媒デバイス(331)による前記還元(410)を制御するために使用され得、前記還元触媒デバイス(331)から放出される前記化合物のスリップHC/COslipが、スリップ閾値HC/COslip_threshold以下となるようになっている(HC/COslip≦HC/COslip_threshold)、制御デバイス(360)
も含む、請求項1から16のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 前記還元(410)の前記制御は、
前記燃焼エンジン(301)から前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401);および、
前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用による、前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)
のうちの1つまたは複数の制御を含む、請求項17に記載の排気処理システム(350)。 - 前記スリップ閾値HC/COslip_thresholdは、
500ppmの前記化合物;
100ppmの前記化合物;
50ppmの前記化合物;および、
10ppmの前記化合物
の群の中の値を有する、請求項17または18に記載の排気処理システム(350)。 - 1つまたはいくつかの制御信号を提供するように配置されており、前記1つまたはいくつかの制御信号は、前記第1の還元触媒デバイス(331)による前記還元(410)を制御するために使用され得、前記還元触媒デバイス(331)から放出されるアンモニアのスリップNH3_slipが、アンモニアスリップ閾値NH3_slip_threshold以下となるようになっている(NH3_slip≦NH3_slip_threshold)、制御デバイス(360)
も含む、請求項1から19のいずれか一項に記載の排気処理システム(350)。 - 前記還元(410)の前記制御は、
前記燃焼エンジン(301)から前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401)、
前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用による、前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)
のうちの1つまたは複数の制御を含む、請求項20に記載の排気処理システム(350)。 - 前記アンモニアスリップ閾値NH3_slip_thresholdは、
100ppmアンモニアNH3;
50ppmアンモニアNH3;
20ppmアンモニアNH3;
10ppmアンモニアNH3;
5ppmアンモニアNH3;および、
0ppmアンモニアNH3
の群の中の値を有する、請求項20または21に記載の排気処理システム(350)。 - 燃焼エンジン(301)の中の燃焼から結果として生じる排気流(303)の処理のための方法であって、
第1の触媒還元触媒と第1のスリップ触媒とを含む第1の還元触媒デバイス(331)の使用を通した、前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元(410)であって、前記排気流(303)が前記第1の還元触媒デバイス(331)に到達するときに前記排気流(303)の中に含まれている一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の使用によって実施される、還元(410)と、
前記第1の還元触媒デバイス(331)の下流に配置されている微粒子フィルタ(320)の使用によって、前記排気流(303)の中のスート粒子を捕らえて酸化させること(420)と、
前記微粒子フィルタ(320)の下流に配置されている投与デバイス(372)の使用による、前記排気流(303)の中への、アンモニアまたはアンモニアが抽出および/もしくは放出され得る物質を含む添加剤の供給の制御(430)であって、前記添加剤の前記供給は、前記投与デバイス(372)の下流に配置されている第2の還元触媒デバイス(332)の中での前記添加剤の使用を通した前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元(440)に影響を与える、制御(430)と
を含むことを特徴とする、方法。 - 一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401)は、前記燃焼エンジン(301)から前記排気流(303)の中へ行われ、
前記第1の還元触媒デバイス(331)の使用を通した前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの前記還元(410)は、前記排気流(303)の中の一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む前記放出された化合物を使用する、請求項23に記載の方法。 - 前記排気流(303)への一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)は、前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用によって実施され、
前記第1の還元触媒デバイス(331)の使用を通した前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの前記還元(410)は、前記排気流(303)の中の一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む前記供給された化合物を使用する、請求項23または24に記載の方法。 - 前記排気流(303)の中への一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401)は、前記燃焼エンジン(301)から行われ、
前記排気流(303)への一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)は、前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用によって実施され、
前記排気流(303)の中の窒素酸化物NOxの還元(410)は、前記第1の還元触媒デバイス(331)の使用により、前記供給された化合物および前記放出された化合物のうちの1つまたは複数の使用によって起こり、前記供給された化合物および前記放出された化合物は、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む、請求項23から25のいずれか一項に記載の方法。 - 1つまたはいくつかの制御信号の供給(402)であって、前記1つまたはいくつかの制御信号は、前記一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む所望の量の化合物が、前記燃焼エンジン(301)から放出されるように、前記燃焼エンジン(301)を制御するために使用され得る、供給(402)を含む、請求項23から26のいずれか一項に記載の方法。
- 前記燃焼エンジン(301)は、前記第1の還元触媒デバイス(331)が所定の温度に到達する程度にまで、前記第1の還元触媒デバイス(331)を加熱するための熱を発生させるように制御される、請求項23から27のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の還元触媒デバイス(331)による前記還元(410)は、還元温度間隔Tredの中で起こるように制御され、前記還元温度間隔Tredは、酸化温度間隔Toxとは少なくとも部分的に異なっており、前記酸化温度間隔Toxの中で、前記微粒子フィルタ(320)による不完全に酸化された炭素化合物の前記酸化が起こる(Tred≠Tox)、請求項23から28のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の還元触媒デバイス(331)による窒素酸化物NOxの前記還元(410)は、前記第1の還元触媒デバイス(331)に関する1つもしくはいくつかの特性および/または動作条件に基づいて制御される、請求項23から29のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の還元触媒デバイス(331)による窒素酸化物NOxの前記還元(410)は、前記第2の還元触媒デバイス(332)に関する1つもしくはいくつかの特性および/または動作条件に基づいて制御される、請求項23から30のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の還元触媒デバイス(332)による前記還元(440)は、前記第2の還元触媒デバイス(332)に関する1つもしくはいくつかの特性および/または動作条件に基づいて制御される、請求項23から31のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の還元触媒デバイス(332)による前記還元(440)は、前記第1の還元触媒デバイス(331)に関する1つもしくはいくつかの特性および/または動作条件に基づいて制御される、請求項23から32のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の還元触媒デバイス(331)、および第2の還元触媒デバイス(332)に関する前記特性は、
前記第1の還元触媒デバイス(331)に関する触媒特性;
前記第2の還元触媒デバイス(332)に関する触媒特性;
前記第1の還元触媒デバイス(331)に関する触媒タイプ;
前記第2の還元触媒デバイス(332)に関する触媒タイプ;
前記第1の還元触媒デバイス(331)がその中でアクティブである温度間隔;
前記第2の還元触媒デバイス(332)がその中でアクティブである温度間隔;
前記第1の還元触媒デバイス(331)に関する一酸化炭素および/または炭化水素のカバー率レベル;および
前記第2の還元触媒デバイス(332)に関するアンモニアのカバー率レベル
の群の中からの1つまたはいくつかにそれぞれ関連している、請求項30から33のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第1の還元触媒デバイス(331)は、前記第1の還元触媒デバイス(331)に到達する窒素酸化物NOx_1の第1の量の第1の還元(410)を実施し、
前記第2の還元触媒デバイス(332)は、前記第2の還元触媒デバイス(332)に到達する窒素酸化物NOx_2の第2の量の第2の還元を実施し、
前記第2の還元触媒デバイス(332)に到達する二酸化窒素NO2_2の量と窒素酸化物NOx_2の前記第2の量との間の比率NO2_2/NOx_2の適合が実施され、窒素酸化物NOx_1の前記第1の量の前記第1の還元(410)のアクティブ制御は、前記比率NO2_2/NOx_2に関する値(NO2_2/NOx_2)detに基づいて実施される、請求項23または24に記載の方法。 - 前記比率NO2_2/NOx_2に関する前記値(NO2_2/NOx_2)detは、
測定される値;
モデル化される値;
予測される値
の群からの1つから構成されている、請求項35に記載の方法。 - 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つまたは複数を含む化合物の第1の酸化であって、前記第1の還元触媒(331)の上流に配置されている第1の酸化触媒(311)によって実施される、第1の酸化
をさらに含む、請求項23から36のいずれか一項に記載の方法。 - 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つまたは複数を含む化合物の第2の酸化であって、前記第1の還元触媒(331)の下流、かつ前記微粒子フィルタ(320)の上流に配置されている第2の酸化触媒(312)によって実施される、第2の酸化
をさらに含む、請求項23から37のいずれか一項に記載の方法。 - 前記排気流(303)の中の窒素、炭素、および水素のうちの1つまたは複数を含む化合物の第3の酸化であって、前記微粒子フィルタ(320)の下流、かつ前記第2の還元触媒デバイス(332)の上流に配置されている第3の酸化触媒(313)によって実施される、第3の酸化
をさらに含む、請求項23から38のいずれか一項に記載の方法。 - 前記微粒子フィルタ(320)は、触媒酸化コーティングを少なくとも部分的に含み、前記触媒酸化コーティングは、前記排気流の中の酸化窒素NOおよび不完全に酸化された炭素化合物のうちの1つまたは複数を酸化させるように配置されている、請求項23から39のいずれか一項に記載の方法。
- 前記微粒子フィルタ(320)は、前記微粒子フィルタ(320)の中に配置されている少なくとも部分的に触媒の還元コーティングの使用によって、窒素酸化物NOxの還元を実施する、請求項23から40のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の還元触媒デバイス(331)による前記還元(410)は、前記還元触媒デバイス(331)から放出される前記化合物のスリップHC/COslipが、スリップ閾値HC/COslip_threshold以下となるように制御される(HC/COslip≦HC/COslip_threshold)、請求項23から41のいずれか一項に記載の方法。
- 前記還元(410)の前記制御は、
前記燃焼エンジン(301)から前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401);および、
前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用による、前記排気流(303)への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)
のうちの1つまたは複数の制御を含む、請求項42に記載の方法。 - 前記スリップ閾値HC/COslip_thresholdは、
500ppmの前記化合物;
100ppmの前記化合物;
50ppmの前記化合物;および、
10ppmの前記化合物
の群の中の値を有する、請求項42または43に記載の方法。 - 前記第1の還元触媒デバイス(331)による前記還元(410)は、前記還元触媒デバイス(331)から放出されるアンモニアのスリップNH3_slipが、アンモニアスリップ閾値NH3_slip_threshold以下となるように制御される(NH3_slip≦NH3_slip_threshold)、請求項23から44のいずれか一項に記載の方法。
- 前記還元(410)の前記制御は、
前記燃焼エンジン(301)から前記排気流(303)の中への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の放出(401)、
前記燃焼エンジン(301)の下流、かつ前記第1の還元触媒デバイス(331)の上流に配置されている追加の投与デバイス(371)の使用による、前記排気流(303)への、一酸化炭素COおよび炭化水素HCのうちの1つまたは複数を含む化合物の供給(402)
のうちの1つまたは複数の制御を含む、請求項45に記載の方法。 - 前記アンモニアスリップ閾値NH3_slip_thresholdは、
100ppmアンモニアNH3;
50ppmアンモニアNH3;
20ppmアンモニアNH3;
10ppmアンモニアNH3;
5ppmアンモニアNH3;および、
0ppmアンモニアNH3
の群の中の値を有する、請求項45または46に記載の方法。 - プログラムコードを含むコンピュータプログラムであって、前記プログラムコードは、前記プログラムコードがコンピュータの中で実行されたとき、前記コンピュータが請求項23から47のいずれか一項に記載の方法を実施することを実現する、コンピュータプログラム。
- コンピュータ可読媒体および請求項48に記載のコンピュータプログラムを含むコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータプログラムは、前記コンピュータ可読媒体の中に含まれている、コンピュータプログラム製品。
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