JP6760936B2 - タッチスクリーンとその製造方法及び表示装置 - Google Patents
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Description
本出願は、2015年11月20日に提出した中国特許出願No.201510811842.Xの優先権を主張し、その全体が参照により本出願に援用される。
本開示は表示技術に関し、特に、タッチスクリーンとその製造方法及び表示装置に関する。
タッチスクリーンのいくつかの実施形態において、第1バリアは高さの異なる様々な部分を含み、例えば、第1部分と第2部分を含むことができる。
少なくとも1つの第2バリアの各々は、第1電極と発光層の厚さの和以上、且つ、第1電極と、発光層と、第2電極の厚さの和より小さい高さを有するように構成されてもよい。
このため、第2電極は、中空領域と非中空領域を含んでよい。少なくとも1つの第2バリアの各々は中空領域と非中空領域にそれぞれ対応する第一部分と第二部分を含み、第一部分の高さは第二部分の高さより大きいようにすることができる。
上記のタッチスクリーンの任意の実施形態において、第1電極はアノードであり、第2電極はカソードとタッチコントロール電極であり、発光層は少なくとも1つの有機発光材料を含むことができる。
上記の任意の実施形態によるタッチスクリーンは、第2電極上に配置される透明カバーをさらに含むことができる。
ベース基板上に第1電極と発光層を形成する。
溶解法により発光層上に第2電極を形成する。
この方法のいくつかの実施形態において、第1バリアはその中に間隙が設けられた二重壁構造を有するように構成されることができる。このため、溶解法により発光層上に第2電極を形成する工程は、二重壁構造の間隙に、第1バリアの開口上で第2電極と電気的に接続させる電極リード線を第2電極と同時に形成する工程を含む。
いくつかの実施形態をより明らかにするために、以下では図面について簡単に説明する。以下の図面は実施形態の例にすぎず、各フィルム層の厚さ及び形状は必ずしも構造の実比率を反映するものではない。これらの図面を基にすれば他の実施形態の他の図面も当業者には明らかであろう。
上記のタッチスクリーンにおいて、第1電極はアノードで、第2電極がカソードとタッチコントロール電極であってよい、そして、タッチスクリーンはインセル型タッチスクリーンであってよい。
本開示の当該実施形態による設計では、カソードを分割しOLEDパネルのタッチコントロール電極としても機能させてインセル型タッチコントロールを実現することができる。これにより、タッチコントロール表示装置の厚さを低減できるほか、薄型で軽量の表示装置の設計が容易となる。
タッチスクリーンとして使用する場合にスクリーンを頻繁に押す必要があるため、タッチコントロール電極004上に透明カバー006を配置することができる。透明カバー006は、スクリーンの保護に加え、水と酸素によるダメージからエレクトロルミネセンスサブ画素領域100を守ることができる。
各層の機能、製造用の材料が異なるため、各層は所定の指示により所定の位置で印刷されることができる。インクジェット印刷設備のノズルの数は1つ以上としてよい。
例えば、同一のタッチコントロール電極004で覆われたエレクトロルミネセンスサブ画素領域100の各々における発光層003は一体的な層であり、3つの異なる色フィルタを含んで3色のサブ画素を形成することができる。
図3Aに示すように、これらの実施形態において、第2バリア008の高さはアノード002の厚さよりも低くなければよい。アノード層002は、同一のサブ画素領域100内のサブ画素の各々に対応する複数のアノードに分割されるため、個別のサブ画素の制御が依然可能である。
第2バリア008の第二部分008bは非中空領域に構成され、第2バリア008の第二部分008bの高さは、アノード002の厚さ以上、且つ、アノード002と、タッチコントロール電極004と、発光層003の厚さの和より小さくなるように設定される。
導電性のタッチコントロール電極004の一部が絶縁性の第2バリア008の第一部分008aにより置換されるため、タッチコントロール電極004の表面積が有効に低減され、この結果、表面積に比例する容量が低減する。
いくつかの実施形態において、相互容量又は自己容量によりタッチコントロールの試験を実施できる。
タッチコントロール電極004各々の外郭形状は図面に例示したものと異なってもよく、矩形、三角形又は菱形等であってもよい。
ベース基板上に第1電極と発光層を形成する工程と、
溶解法(solution process)により発光層上に第2電極を形成する工程。
上記の方法において、第1電極はアノードであり、第2電極はカソード及びタッチコントロール電極であり、溶解法はインクジェット印刷であってよい。
S501:ベース基板上のエレクトロルミネセンスサブ画素領域の各々にアノード層と発光層を形成する。いくつかの実施形態では、インクジェット印刷法を用いてベース基板上のエレクトロルミネセンスサブ画素領域の各々にアノード層と発光層を順次形成してよい。
いくつかの実施形態において、インクジェット印刷によりパターンニングされたフィルム層の形成を容易にするため、図5に示す方法は、工程S502の実行に先立ち次の工程をさらに含んでよい。
第1バリア007と第2バリア008が3つの異なる高さを含む場合、3つのエッチングプロセスにより3つの異なる高さを有する第1バリア007と第2バリア008を形成してよい。
いくつかの実施形態において、画素制御回路005の製造に用いたのと同様のパターニングプロセスを用いて第1バリア007と第2バリア008のパターンを形成することができる。
各層の機能は異なり、それらの形成に用いる材料も異なるため、特定の位置で設計厚さになる各層の印刷はインクジェットプリンタのパラメータに基づいて実現される。インクジェットプリンタは1つ又は複数のノズルを有することができる。
これにより、工程S502でタッチコントロール電極004が形成されると、対応するタッチコントロール電極004を接続するように構成される電極リード線009が、第1バリア007の二重壁バリア構造内の間隙で同時に形成されることができる。
2)マスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、フォトレジストが完全に除去された領域と、フォトレジストが完全に保留された領域と、フォトレジストが一部保留された領域をフォトレジスト層に形成する。
フォトレジストが完全に保留された領域は、電極リード線009と対応するタッチコントロール電極004との間の接続部分以外の第1バリア007の領域に対応する。即ち、フォトレジストが完全に保留された領域は第1バリア007の第1部分007aに対応する。
フォトレジストが一部保留された領域は、電極リード線009と対応するタッチコントロール電極004との間の接続部分にある第1バリア007の領域、即ち、第1バリア007の第2部分007bと第2バリアの領域に対応する。
4)フォトレジスト層を薄くすることにより、フォトレジストが一部保留された領域におけるフォトレジスト層を除去し、フォトレジストが完全に保留された領域におけるフォトレジスト層をする。
6)フォトレジスト層を完全に剥離して第1バリア007の第1部分007aのパターンを得る。
上記に加え、例示した実施形態について開示した方面の様々な変形や同等の行為は、次の請求項で定義する精神と範囲から逸脱せずに、本開示を利用して当業者が行えるものである。請求項の範囲はこのような変形や同等の構造を含むようにできる限り広く解釈されるものとする。
002 アノード
003 発光層
004 タッチコントロール電極
005 画素制御回路
006 透明カバー
007 第1バリア
008 第2バリア
009 電極リード線
Claims (14)
- ベース基板上に配置された画素領域を含み、
前記画素領域は、前記画素領域を絶縁するように構成される第1バリアに囲まれ、
前記画素領域は、
第1電極と、
前記第1電極上に配置される発光層と、
前記発光層上に配置される第2電極を含み、
前記第2電極は、前記画素領域外の第3電極と電気的に接続できるように前記第1バリアの開口上に広がり、
前記画素領域は、少なくとも1つの第2バリアにより分離され絶縁された複数のサブ画素領域を含み、
前記画素領域は、
前記複数のサブ画素領域の各々が前記第1電極のセグメントを含み、
前記第2電極が前記複数のサブ画素領域と前記少なくとも1つの第2バリア上に配置されるように構成され、
前記少なくとも1つの第2バリアの各々の高さが、前記第1電極の厚さ以上、且つ、前記第1電極と前記発光層の厚さの和より小さい、タッチスクリーン。 - 前記第1バリアはその中に間隙を含む二重壁構造を有し、
電極リード線は、前記間隙内に配置され、前記第1バリアの前記開口上で前記第2電極と電気的に接続される請求項1に記載のタッチスクリーン。 - 前記第1バリアは第1部分と第2部分を含み、
前記第1部分の第1高さは、前記第1電極と、前記発光層と、前記第2電極の厚さの和以上であり、
前記第2部分の第2高さは、前記第1電極と前記発光層の厚さの和以上、且つ、前記第1電極と、前記発光層と、前記第2電極の厚さの和より小さく、
前記開口は、前記第2部分に設けられる請求項1に記載のタッチスクリーン。 - 前記第1電極はアノードであり、前記第2電極はカソードとタッチコントロール電極である請求項1に記載のタッチスクリーン。
- 前記発光層は少なくとも1つの有機発光材料を含む請求項4に記載のタッチスクリーン。
- 前記複数のサブ画素領域の各々は前記ベース基板と前記第1電極の間に配置される画素制御回路をさらに含む請求項1に記載のタッチスクリーン。
- 前記第2電極上に配置される透明カバーをさらに含む請求項2に記載のタッチスクリーン。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載のタッチスクリーンを含む表示装置。
- 前記表示装置は、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、モニタ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム又はナビゲーションシステムである請求項8に記載の表示装置。
- 前記ベース基板上に前記第1電極と前記発光層を形成する工程と、
溶解法により前記発光層上に前記第2電極を形成する工程を含む請求項1に記載のタッチスクリーンの製造方法。 - 前記溶解法がインクジェット印刷である請求項10に記載のタッチスクリーンの製造方法。
- 前記第1バリアはその中に間隙が設けられた二重壁構造を有し、
溶解法により前記発光層上に前記第2電極を形成する工程は、
前記二重壁構造の前記間隙に、前記第1バリアの開口上で前記第2電極と電気的に接続させる電極リード線を前記第2電極と同時に形成する工程を含む請求項10に記載のタッチスクリーンの製造方法。 - 前記ベース基板上に前記第1電極と前記発光層を形成する工程に先立ち、
前記ベース基板上に前記第1バリアを形成する工程をさらに含む請求項10に記載のタッチスクリーンの製造方法。 - 前記ベース基板上に前記第1バリアを形成する工程はパターニングプロセスとエッチングプロセスを含む請求項13に記載のタッチスクリーンの製造方法。
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