JP6759617B2 - Resin composition - Google Patents

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本発明は、新規な樹脂組成物及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規な樹脂組成物に関するものである。 The present invention relates to a novel resin composition and a retardation film using the same, and more specifically, a retardation film having a high out-of-plane retardation even in a thin film, particularly an optical compensation film for a liquid crystal display element. It relates to a novel resin composition suitable for the above.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。 Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including mobile phones, computer monitors, laptop computers, and televisions.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。 Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics, and in particular, retardation films play a major role in improving contrast when viewed from the front or at an angle, and compensating for color tones. Polycarbonate and cyclic polyolefin are used as the conventional retardation film, and all of these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the positive and negative of birefringence are defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図1に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。 The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like can be represented by the refractive index ellipsoid shown in FIG. Here, the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane when the film is stretched is shown as nx, the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to it is shown as ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is shown as nz. The phase-advancing axis refers to the axial direction in which the refractive index is low in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。 Negative birefringence means that the stretching direction is the phase-advancing axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the phase-advancing axis direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。 That is, in the uniaxial stretching of a polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (phase-advancing axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of a polymer having positive birefringence, the axial direction orthogonal to the stretching axis. The refractive index of is small (phase advance axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。 Many macromolecules have positive birefringence. Acrylic resin and polystyrene are examples of polymers having negative birefringence, but acrylic resin has a small retardation and its characteristics as a retardation film are not sufficient. Polystyrene is not currently used because it has a large photoelastic modulus in a low temperature region, so that the phase difference changes with a slight stress, and there is a problem of stability of the phase difference and a practical problem of low heat resistance. ..

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。 A polymer stretched film showing negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, resulting in an unprecedented retardation film. Therefore, for example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertically oriented liquid crystal display. (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc., useful as a retardation film for compensating the viewing angle characteristics and a viewing angle compensating film for a deflection plate. There is a strong market demand for retardation films with negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。 A method for producing a film in which the refractive index in the thickness direction of the film is increased by using a polymer having positive birefringence has been proposed. One is a treatment method in which a heat-shrinkable film is adhered to one or both sides of a polymer film, the laminate is heat-stretched, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film (for example, Patent Documents 1 to 3). See). Further, a method of uniaxially stretching the polymer film while applying an electric field has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。 In addition to this, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (see, for example, Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。 However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that the productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Further, the control of the uniformity of the phase difference and the like is remarkably difficult as compared with the conventional control by stretching.

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。 When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large and the phase difference changes due to a slight stress, so that there is a problem in the stability of the phase difference. Furthermore, there is a problem that the wavelength dependence of the phase difference is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。 The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy, and is fine particles from the viewpoint of simplification of manufacturing method and economy. There is a demand for a retardation film that does not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。 Further, a fumaric acid diester resin and a film made of the same have been proposed (see, for example, Patent Documents 6 to 10).

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。 Further, a diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative based copolymer containing a diisopropyl fumarate residue unit and a cinnamic acid residue unit or a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A retardation film using the diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative-based copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 11).

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。 Further, a fumal containing a fumaric acid diester residue unit, a silicic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a residue unit of a polyfunctional monomer having two or more radically polymerizable functional groups. A retardation film using an acid diester-silicate ester-based copolymer and the fumaric acid diester-silicate ester-based copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 12).

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-297223 特開平5−323120号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-323120 特開平6−88909号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-88909 特開2005−156862号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-156862 特開2008−112141号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-112141 特開2012−032784号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-032784 WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 特開2008−129465号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-129465 特開2006-193616号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-193616 WO2014/013982号公報WO2014 / 013982A WO2014/084178号公報WO2014 / 084178

特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diester resin and the film made thereof proposed in Patent Documents 6 to 10 have a high out-of-plane retardation, at present, even a thin film has a higher out-of-plane retardation. It has been demanded.

特許文献11及び12で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献6〜10で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。 The diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative-based copolymers proposed in Patent Documents 11 and 12 exhibit higher out-of-plane retardation than the resins proposed in Patent Documents 6 to 10, but even in thin films. There is a demand for a film having a high out-of-plane phase difference.

本発明の目的は、薄膜においても高い面外位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規な樹脂組成物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a novel resin composition suitable for a retardation film having a high out-of-plane retardation even in a thin film and having excellent optical characteristics.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の化合物と特定の置換基を有する重合体とを含む樹脂組成物が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that a resin composition containing a specific compound and a polymer having a specific substituent can solve the above problems, and complete the present invention. It came to.

すなわち、本発明は、少なくとも一般式(1)で表されるピリジン誘導体とカルボキシル基を有する重合体とを含む樹脂組成物及び位相差フィルムに関するものである。 That is, the present invention relates to a resin composition and a retardation film containing at least a pyridine derivative represented by the general formula (1) and a polymer having a carboxyl group.

(ここで、R〜Rはそれぞれ独立して水素または任意の置換基を表し、Arは置換または非置換の芳香族基を表す。)
以下、本発明の位相差フィルムに適した樹脂組成物について詳細に説明する。
(Here, R 1 to R 4 independently represent hydrogen or an arbitrary substituent, and Ar represents a substituted or unsubstituted aromatic group.)
Hereinafter, the resin composition suitable for the retardation film of the present invention will be described in detail.

本発明の樹脂組成物は、少なくとも一般式(1)で表されるピリジン誘導体とカルボキシル基を有する重合体とを含む樹脂組成物である。そして、特定のピリジン誘導体とカルボキシル基を有する重合体とを含むことにより、位相差フィルムとして用いるときに、より薄膜において高い面外位相差を発現させることを特徴とする。 The resin composition of the present invention is a resin composition containing at least a pyridine derivative represented by the general formula (1) and a polymer having a carboxyl group. Then, by containing a specific pyridine derivative and a polymer having a carboxyl group, a higher out-of-plane retardation is exhibited in a thinner film when used as a retardation film.

本発明の一般式(1)におけるR〜Rはそれぞれ独立して水素または任意の置換基を示し、該任意の置換基としては例えば、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基等が挙げられる。また、Arは置換または非置換の芳香族基を表し、例えば、フェニル基、ペンタレニル基、インデニル基、ナフタレニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、インダセニル基、ビフェニレニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基、フラニル基、ピラニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、イソクロメニル基、キサンテニル基、チエニル基、チオクロメニル基、イソチオクオメニル基、チオキサンテニル基、チアントレニル基、フェノキサチイニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピロリジニル基、ピリンジニル基、インドリジニル基、インドリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、ナフチリジニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロニル基、フェナジニル基、フェノチアニジル基、フェノキサジニル基、アンチリジニル基、及びこれらから誘導される置換芳香族基等を例示することができる。この中でも、特に高い位相差を発現することから、フェニル基、ピリジル基が好ましい。 R 1 to R 4 in the general formula (1) of the present invention independently represent hydrogen or an arbitrary substituent, and examples of the optional substituent include an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, a carboxyl group, and a cyano group. Examples include groups, nitro groups, phenyl groups and the like. In addition, Ar represents a substituted or unsubstituted aromatic group, for example, a phenyl group, a pentarenyl group, an indenyl group, a naphthalenyl group, an azulenyl group, a heptalenyl group, an indasenyl group, a biphenylenyl group, an acenaphthylenyl group, a fluorenyl group, a phenylenyl group, Phenantrenyl group, anthracenyl group, flanyl group, pyranyl group, benzofuranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, isochromenyl group, xanthenyl group, thienyl group, thiochromenyl group, isothioquomenyl group, thioxanthenyl group, thianthrenyl group, phenoxati Inyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridadinyl group, pyrrolidinyl group, pyrindinyl group, indridinyl group, indolyl group, isoindryl group, indazolyl group, prynyl group, quinolidinyl group, quinolyl Group, isoquinolyl group, naphthyldinyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group, phenanthronyl group, phenazinyl group, phenothianidyl group, phenoxadinyl group, antilydinyl group, and substituted aromatics derived from these. The groups and the like can be exemplified. Of these, a phenyl group and a pyridyl group are preferable because they exhibit a particularly high phase difference.

具体的な本発明の一般式(1)で表されるピリジン誘導体としては、例えば、4−フェニルピリジン、4−(p-トリル)ピリジン、4−(4−シアノフェニルピリジン)、4−ニトロフェニルピリジン、4−(4−メトキシフェニルピリジン)、1−ペンタレニル−4−ピリジン、2−ペンタレニル−4−ピリジン、1−インデニル−4−ピリジン、2−インデニル−4−ピリジン、4−インデニル−4−ピリジン、5−インデニル−4−ピリジン、1−ナフタレニル−4−ピリジン、2−ナフタレニル−4−ピリジン、1−アズレニル−4−ピリジン、2−アズレニル−4−ピリジン、4−アズレニル−4−ピリジン、5−アズレニル−4−ピリジン、6−アズレニル−4−ピリジン、1−ヘプタレニル−4−ピリジン、2−ヘプタレニル−4−ピリジン、3−ヘプタレニル−4−ピリジン、1−s−インダセニル−4−ピリジン、2−s−インダセニル−4−ピリジン、4−s−インダセニル−4−ピリジン、1−as−インダセニル−4−ピリジン、2−as−インダセニル−4−ピリジン、3−as−インダセニル−4−ピリジン、4−as−インダセニル−4−ピリジン、1−ビフェニレニル−4−ピリジン、2−ビフェニレニル−4−ピリジン、1−アセナフチレニル−4−ピリジン、3−アセナフチレニル−4−ピリジン、4−アセナフチレニル−4−ピリジン、5−アセナフチレニル−4−ピリジン、1−フルオレニル−4−ピリジン、2−フルオレニル−4−ピリジン、3−フルオレニル−4−ピリジン、4−フルオレニル−4−ピリジン、9−フルオレニル−4−ピリジン、1−フェナレニル−4−ピリジン、2−フェナレニル−4−ピリジン、1−フェナントレニル−4−ピリジン、2−フェナントレニル−4−ピリジン、3−フェナントレニル−4−ピリジン、4−フェナントレニル−4−ピリジン、9−フェナントレニル−4−ピリジン、1−アントラセニル−4−ピリジン、2−アントラセニル−4−ピリジン、9−アントラセニル−4−ピリジン、2−フラニル−4−ピリジン、3−フラニル−4−ピリジン、2−ピラニル−4−ピリジン、4−ピラニル−4−ピリジン、2−ベンゾフラニル−4−ピリジン、3−ベンゾフラニル−4−ピリジン、4−ベンゾフラニル−4−ピリジン、5−ベンゾフラニル−4−ピリジン、6−ベンゾフラニル−4−ピリジン、7−ベンゾフラニル−4−ピリジン、1−イソベンゾフラニル−4−ピリジン、4−イソベンゾフラニル−4−ピリジン、5−イソベンゾフラニル−4−ピリジン、5−クロメニル−4−ピリジン、6−クロメニル−4−ピリジン、7−クロメニル−4−ピリジン、8−クロメニル−4−ピリジン、5−イソクロメニル−4−ピリジン、6−イソクロメニル−4−ピリジン、7−イソクロメニル−4−ピリジン、8−イソクロメニル−4−ピリジン、1−キサンテニル−4−ピリジン、2−キサンテニル−4−ピリジン、3−キサンテニル−4−ピリジン、4−キサンテニル−4−ピリジン、9−キサンテニル−4−ピリジン、2−チエニル−4−ピリジン、3−チエニル−4−ピリジン、5−チオクロメニル−4−ピリジン、6−チオクロメニル−4−ピリジン、7−チオクロメニル−4−ピリジン、8−チオクロメニル−4−ピリジン、5−イソチオクロメニル−4−ピリジン、6−イソチオクロメニル−4−ピリジン、7−イソチオクロメニル−4−ピリジン、8−イソチオクロメニル−4−ピリジン、1−チオキサンテニル−4−ピリジン、2−チオキサンテニル−4−ピリジン、3−チオキサンテニル−4−ピリジン、4−チオキサンテニル−4−ピリジン、9−チオキサンテニル−4−ピリジン、1−チアントレニル−4−ピリジン、2−チアントレニル−4−ピリジン、1−フェノキサチイニル−4−ピリジン、2−フェノキサチイニル−4−ピリジン、3−フェノキサチイニル−4−ピリジン、4−フェノキサチイニル−4−ピリジン、1-ピロリル−4−ピリジン、2-ピロリル−4−ピリジン、3-ピロリル−4−ピリジン、1-イミダゾリル−4−ピリジン、2-イミダゾリル−4−ピリジン、4-イミダゾリル−4−ピリジン、5-イミダゾリル−4−ピリジン、1-ピラゾリル−4−ピリジン、3-ピラゾリル−4−ピリジン、4-ピラゾリル−4−ピリジン、5-ピラゾリル−4−ピリジン、2-ピリジル−4−ピリジン、3-ピリジル−4−ピリジン、4,4’−ビピリジン、2−ピラジニル−4−ピリジン、3−ピラジニル−4−ピリジン、2−ピリミジニル−4−ピリジン、4−ピリミジニル−4−ピリジン、5−ピリミジニル−4−ピリジン、3−ピリダジニル−4−ピリジン、4−ピリダジニル−4−ピリジン、4−ピリダジニル−4−ピリジン、5−ピロリジニル−4−ピリジン、6−ピロリジニル−4−ピリジン、7−ピロリジニル−4−ピリジン、1−ピリンジニル−4−ピリジン、2−ピリンジニル−4−ピリジン、3−ピリンジニル−4−ピリジン、4−ピリンジニル−4−ピリジン、5−ピリンジニル−4−ピリジン、6−ピリンジニル−4−ピリジン、7−ピリンジニル−4−ピリジン、1−インドリジニル−4−ピリジン、2−インドリジニル−4−ピリジン、3−インドリジニル−4−ピリジン、5−インドリジニル−4−ピリジン、6−インドリジニル−4−ピリジン、7−インドリジニル−4−ピリジン、8−インドリジニル−4−ピリジン、1−インドリル−4−ピリジン、2−インドリル−4−ピリジン、3−インドリル−4−ピリジン、4−インドリル−4−ピリジン、5−インドリル−4−ピリジン、6−インドリル−4−ピリジン、7−インドリル−4−ピリジン、1−イソインドリル−4−ピリジン、2−イソインドリル−4−ピリジン、4−イソインドリル−4−ピリジン、5−イソインドリル−4−ピリジン、4−インダゾリル−4−ピリジン、5−インダゾリル−4−ピリジン、6−インダゾリル−4−ピリジン、7−インダゾリル−4−ピリジン、1−プリニル−4−ピリジン、2−プリニル−4−ピリジン、3−プリニル−4−ピリジン、6−プリニル−4−ピリジン、7−プリニル−4−ピリジン、8−プリニル−4−ピリジン、1−キノリジニル−4−ピリジン、2−キノリジニル−4−ピリジン、3−キノリジニル−4−ピリジン、4−キノリジニル−4−ピリジン、2−キノリル−4−ピリジン、3−キノリル−4−ピリジン、4−キノリル−4−ピリジン、5−キノリル−4−ピリジン、6−キノリル−4−ピリジン、7−キノリル−4−ピリジン、8−キノリル−4−ピリジン、1−イソキノリル−4−ピリジン、3−イソキノリル−4−ピリジン、4−イソキノリル−4−ピリジン、5−イソキノリル−4−ピリジン、6−イソキノリル−4−ピリジン、7−イソキノリル−4−ピリジン、8−イソキノリル−4−ピリジン、1−ナフチリジニル−4−ピリジン、3−ナフチリジニル−4−ピリジン、4−ナフチリジニル−4−ピリジン、1−カルバゾリル−4−ピリジン、2−カルバゾリル−4−ピリジン、3−カルバゾリル−4−ピリジン、4−カルバゾリル−4−ピリジン、9−カルバゾリル−4−ピリジン、1−フェナントリジニル−4−ピリジン、2−フェナントリジニル−4−ピリジン、3−フェナントリジニル−4−ピリジン、4−フェナントリジニル−4−ピリジン、6−フェナントリジニル−4−ピリジン、7−フェナントリジニル−4−ピリジン、8−フェナントリジニル−4−ピリジン、9−フェナントリジニル−4−ピリジン、10−フェナントリジニル−4−ピリジン、1−アクリジニル−4−ピリジン、2−アクリジニル−4−ピリジン、3−アクリジニル−4−ピリジン、4−アクリジニル−4−ピリジン、9−アクリジニル−4−ピリジン、1−ペリミジニル−4−ピリジン、2−ペリミジニル−4−ピリジン、4−ペリミジニル−4−ピリジン、5−ペリミジニル−4−ピリジン、6−ペリミジニル−4−ピリジン、7−ペリミジニル−4−ピリジン、8−ペリミジニル−4−ピリジン、9−ペリミジニル−4−ピリジン、フェナントロニル−4−ピリジン、1−フェナジニル−4−ピリジン、2−フェナジニル−4−ピリジン、1−フェノチアジニル−4−ピリジン、2−フェノチアジニル−4−ピリジン、3−フェノチアジニル−4−ピリジン、4−フェノチアジニル−4−ピリジン、10−フェノチアジニル−4−ピリジン、1−フェノキサジニル−4−ピリジン、2−フェノキサジニル−4−ピリジン、3−フェノキサジニル−4−ピリジン、4−フェノキサジニル−4−ピリジン、10−フェノキサジニル−4−ピリジン、2−アンチリジニル−4−ピリジン、3−アンチリジニル−4−ピリジン、4−アンチリジニル−4−ピリジン、5−アンチリジニル−4−ピリジン及びこれらの誘導体等が挙げられ、これらの1種又は2種以上であってもよい。これらのうち、一般式(1)で表される置換もしくは非置換のビピリジン化合物及び/又は一般式(1)で表される置換もしくは非置換のフェニルピリジン化合物を含むピリジン誘導体が好ましい。 Specific examples of the pyridine derivative represented by the general formula (1) of the present invention include 4-phenylpyridine, 4- (p-tolyl) pyridine, 4- (4-cyanophenylpyridine), and 4-nitrophenyl. Pyridine, 4- (4-methoxyphenylpyridine), 1-pentalenyl-4-pyridine, 2-pentalenyl-4-pyridine, 1-indenyl-4-pyridine, 2-indenyl-4-pyridine, 4-indenyl-4-pyridine Pyridine, 5-indenyl-4-pyridine, 1-naphthalenyl-4-pyridine, 2-naphthalenyl-4-pyridine, 1-azulenyl-4-pyridine, 2-azurenyl-4-pyridine, 4-azulenyl-4-pyridine, 5-Azrenyl-4-pyridine, 6-Azulenyl-4-pyridine, 1-heptalenyl-4-pyridine, 2-heptalenyl-4-pyridine, 3-heptalenyl-4-pyridine, 1-s-indacenyl-4-pyridine, 2-s-Indasenyl-4-pyridine, 4-s-Indasenyl-4-pyridine, 1-as-Indasenyl-4-pyridine, 2-as-Indasenyl-4-pyridine, 3-as-Indasenyl-4-pyridine, 4-as-indacenyl-4-pyridine, 1-biphenylenyl-4-pyridine, 2-biphenylenyl-4-pyridine, 1-acenaftyrenyl-4-pyridine, 3-acenaftyrenyl-4-pyridine, 4-acenaftyrenyl-4-pyridine, 5-Acenaftyrenyl-4-pyridine, 1-fluorenyl-4-pyridine, 2-fluorenyl-4-pyridine, 3-fluorenyl-4-pyridine, 4-fluorenyl-4-pyridine, 9-fluorenyl-4-pyridine, 1- Phenalenyl-4-pyridine, 2-phenalenyl-4-pyridine, 1-phenanthrenyl-4-pyridine, 2-phenanthrenyl-4-pyridine, 3-phenanthrenyl-4-pyridine, 4-phenanthrenyl-4-pyridine, 9-phenanthrenyl- 4-Pyridine, 1-anthrasenyl-4-pyridine, 2-anthrasenyl-4-pyridine, 9-anthrasenyl-4-pyridine, 2-furanyl-4-pyridine, 3-furanyl-4-pyridine, 2-pyranyl-4-pyridine Pyridine, 4-pyranyl-4-pyridine, 2-benzofuranyl-4-pyridine, 3-benzofuranyl-4-pyridine, 4-benzofuranyl-4-pyridine, 5-benzofuranyl-4-pyridine, 6-benzofuranyl-4-pyridine, 7-Benzoflanyl-4- Pyridine, 1-isobenzofuranyl-4-pyridine, 4-isobenzofuranyl-4-pyridine, 5-isobenzofuranyl-4-pyridine, 5-chromenyl-4-pyridine, 6-chromenyl-4-pyridine , 7-chromenyl-4-pyridine, 8-chromenyl-4-pyridine, 5-isochromenyl-4-pyridine, 6-isochromenyl-4-pyridine, 7-isochromenyl-4-pyridine, 8-isochromenyl-4-pyridine, 1 -Xanthenyl-4-pyridine, 2-xanthenyl-4-pyridine, 3-xanthenyl-4-pyridine, 4-xanthenyl-4-pyridine, 9-xanthenyl-4-pyridine, 2-thienyl-4-pyridine, 3-thienyl -4-Pyridine, 5-thiochromenyl-4-pyridine, 6-thiochromenyl-4-pyridine, 7-thiochromenyl-4-pyridine, 8-thiochromenyl-4-pyridine, 5-isothiochromenyl-4-pyridine, 6-isoti Ochromenyl-4-pyridine, 7-isothiochromenyl-4-pyridine, 8-isothiochromenyl-4-pyridine, 1-thioxanthenyl-4-pyridine, 2-thioxanthenyl-4-pyridine, 3-thioxanthenyl-4-pyridine , 4-Thioxanthenyl-4-pyridine, 9-thioxanthenyl-4-pyridine, 1-thianthrenyl-4-pyridine, 2-thianthrenyl-4-pyridine, 1-phenoxathinyl-4-pyridine, 2-phenoxatinyl -4-Pyridine, 3-Phenoxatiinyl-4-pyridine, 4-Phenoxatiinyl-4-pyridine, 1-Pyrrolyl-4-pyridine, 2-Pyrrolyl-4-pyridine, 3-Pyrrolyl-4-pyridine 1, 1-Imidazolyl-4-pyridine, 2-Imidazolyl-4-pyridine, 4-Imidazolyl-4-pyridine, 5-Imidazolyl-4-pyridine, 1-Pyrazolyl-4-pyridine, 3-Pyrazolyl-4-pyridine, 4 -Pyrazolyl-4-pyridine, 5-pyrazolyl-4-pyridine, 2-pyridyl-4-pyridine, 3-pyridyl-4-pyridine, 4,4'-bipyridine, 2-pyrazinyl-4-pyridine, 3-pyrazinyl- 4-Pyridine, 2-pyrimidinyl-4-pyridine, 4-pyrimidinyl-4-pyridine, 5-pyrimidinyl-4-pyridine, 3-pyridazinyl-4-pyridine, 4-pyridadinyl-4-pyridine, 4-pyridadinyl-4-pyridine Pyridine, 5-pyrrolidinyl-4-pyridine, 6-pyrrolidinyl-4- Pyridine, 7-pyrrolidinyl-4-pyridine, 1-pyringinyl-4-pyridine, 2-pyringinyl-4-pyridine, 3-pyringinyl-4-pyridine, 4-pyringinyl-4-pyridine, 5-pyringinyl-4-pyridine, 6-Pyringinyl-4-pyridine, 7-Pyringinyl-4-pyridine, 1-Indridinyl-4-pyridine, 2-Indridinyl-4-pyridine, 3-Indridinyl-4-pyridine, 5-Indridinyl-4-pyridine, 6- Indridinyl-4-pyridine, 7-Indridinyl-4-pyridine, 8-Indridinyl-4-pyridine, 1-Indrill-4-pyridine, 2-Indrill-4-pyridine, 3-Indrill-4-pyridine, 4-Indrill- 4-Pyridine, 5-Indrill-4-pyridine, 6-Indrill-4-pyridine, 7-Indrill-4-pyridine, 1-Isoindrill-4-pyridine, 2-Isoindrill-4-pyridine, 4-Isoindrill-4- Pyridine, 5-isoindrill-4-pyridine, 4-indazolyl-4-pyridine, 5-indazolyl-4-pyridine, 6-indazolyl-4-pyridine, 7-indazolyl-4-pyridine, 1-prinyl-4-pyridine, 2-Prinyl-4-pyridine, 3-Prinyl-4-pyridine, 6-Prinyl-4-pyridine, 7-Prinyl-4-pyridine, 8-Prinyl-4-pyridine, 1-quinolidinyl-4-pyridine, 2- Kinolidinyl-4-pyridine, 3-quinolidinyl-4-pyridine, 4-quinolidinyl-4-pyridine, 2-quinolyl-4-pyridine, 3-quinolyl-4-pyridine, 4-quinolyl-4-pyridine, 5-quinolyl- 4-Pyridine, 6-quinolyl-4-pyridine, 7-quinolyl-4-pyridine, 8-quinolyl-4-pyridine, 1-isoquinolyl-4-pyridine, 3-isoquinolyl-4-pyridine, 4-isoquinolyl-4-pyridine Pyridine, 5-isoquinolyl-4-pyridine, 6-isoquinolyl-4-pyridine, 7-isoquinolyl-4-pyridine, 8-isoquinolyl-4-pyridine, 1-naphthylidineyl-4-pyridine, 3-naphthylidineyl-4-pyridine, 4-naphthyridinyl-4-pyridine, 1-carbazolyl-4-pyridine, 2-carbazolyl-4-pyridine, 3-carbazolyl-4-pyridine, 4-carbazolyl-4-pyridine, 9-carbazolyl-4-pyridine, 1- Phenantridinyl-4-pyridine, 2-f Enantridinyl-4-pyridine, 3-phenanthridinyl-4-pyridine, 4-phenanthridinyl-4-pyridine, 6-phenanthridinyl-4-pyridine, 7-phenanthridinyl-4-pyridine, 8-Phenantridinyl-4-pyridine, 9-Phenantridinyl-4-pyridine, 10-Phenantridinyl-4-pyridine, 1-acridinyl-4-pyridine, 2-acridinyl-4-pyridine, 3 −Acridinyl-4-pyridine, 4-acridinyl-4-pyridine, 9-acridinyl-4-pyridine, 1-perimidinyl-4-pyridine, 2-perimidinyl-4-pyridine, 4-perimidinyl-4-pyridine, 5-perimidinyl -4-Pyridine, 6-Perimidinyl-4-pyridine, 7-Perimidinyl-4-pyridine, 8-Perimidinyl-4-pyridine, 9-Perimidinyl-4-pyridine, Phenantronyl-4-pyridine, 1-Phenazinyl-4-pyridine , 2-Phenazinyl-4-pyridine, 1-Phenothiadinyl-4-pyridine, 2-Phenothiadinyl-4-pyridine, 3-Phenothiadinyl-4-pyridine, 4-Phenothiadinyl-4-pyridine, 10-Phenothiadinyl- 4-Pyridine, 1-Phenoxadinyl-4-pyridine, 2-Phenoxazinyl-4-pyridine, 3-Phenoxazinyl-4-pyridine, 4-Phenoxazinyl-4-pyridine, 10-Phenoxazinyl-4-pyridine, 2-Antilydinyl-4-pyridine Examples thereof include pyridine, 3-antiridinyl-4-pyridine, 4-antiridinyl-4-pyridine, 5-antiridinyl-4-pyridine and derivatives thereof, and one or more of these may be used. Of these, a pyridine derivative containing a substituted or unsubstituted bipyridine compound represented by the general formula (1) and / or a substituted or unsubstituted phenylpyridine compound represented by the general formula (1) is preferable.

本発明のカルボキシル基を有する重合体はカルボキシル基を有する重合体であれば特に制限はなく、より高位相差を発現するため、一般式(2)で表される残基単位を含む重合体であることが好ましい。 The polymer having a carboxyl group of the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer having a carboxyl group, and since it exhibits a higher phase difference, it is a polymer containing a residue unit represented by the general formula (2). Is preferable.

(ここで、Rは水素または任意の置換基を表す。)
本発明の一般式(2)におけるRは水素または任意の置換基を示し、任意の置換基としては、例えば、ハロゲン、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アシル基、カルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、エステル基、ベンゾイル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、及びこれらから誘導される置換基等を例示することができる。この中でも特に高い位相差を発現することから、カルボキシル基、フェニル基及びこれらから誘導される置換基が好ましい。さらに具体的な一般式(2)で表される残基単位としては、マレイン酸残基単位、マレイン酸モノエステル残基単位、フマル酸残基単位、フマル酸モノエステル残基単位、ケイ皮酸残基単位、アルキルケイ皮酸残基単位、アルコキシケイ皮酸残基が好ましい。これらの残基単位は1種または2種以上含まれていても良い。
(Here, R 5 represents hydrogen or any substituent.)
R 5 in the general formula (2) of the present invention indicates hydrogen or an arbitrary substituent, and examples of the optional substituent include a halogen, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, a carbonyl group, and a carboxyl group. Examples thereof include a formyl group, an ester group, a benzoyl group, an amino group, an imino group, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, and a substituent derived from these. Of these, a carboxyl group, a phenyl group, and a substituent derived from these are preferable because they exhibit a particularly high phase difference. More specific residue units represented by the general formula (2) include maleic acid residue unit, maleic acid monoester residue unit, fumaric acid residue unit, fumaric acid monoester residue unit, and silicic acid. Residue units, alkyl silicate residue units, and alkoxy silicate residue are preferred. These residue units may contain one kind or two or more kinds.

具体的な本発明のカルボキシル基を有する重合体としては、例えば、ポリフマル酸、ポリフマル酸モノエステル、フマル酸モノエステル−ケイ皮酸共重合体、フマル酸モノエステル−アルキルケイ皮酸共重合体、フマル酸モノエステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、マレイン酸モノエステル−ケイ皮酸共重合体、マレイン酸モノエステル−アルキルケイ皮酸共重合体、マレイン酸モノエステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、マレイン酸−ケイ皮酸共重合体、マレイン酸−アルキルケイ皮酸共重合体、マレイン酸−アルコキシケイ皮酸共重合体、(メタ)アクリル酸エステル−フマル酸共重合体、(メタ)アクリル酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体、(メタ)アクリル酸エステル−ケイ皮酸共重合体、(メタ)アクリル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、スチレン−フマル酸共重合体、スチレン−フマル酸モノエステル共重合体、スチレン−ケイ皮酸共重合体、スチレン−アルコキシケイ皮酸共重合体、α−メチルスチレン−フマル酸共重合体、α−メチルスチレン−フマル酸モノエステル共重合体、α−メチルスチレン−ケイ皮酸共重合体、α−メチルスチレン−アルコキシケイ皮酸共重合体、酢酸ビニル−フマル酸共重合体、酢酸ビニル−フマル酸モノエステル共重合体、酢酸ビニル−ケイ皮酸共重合体、酢酸ビニル−アルコキシケイ皮酸共重合体、プロピオン酸ビニル−フマル酸共重合体、プロピオン酸ビニル−フマル酸モノエステル共重合体、プロピオン酸ビニル−ケイ皮酸共重合体、プロピオン酸ビニル−アルコキシケイ皮酸共重合体、(メタ)アクリロニトリル−フマル酸共重合体、(メタ)アクリロニトリル−フマル酸モノエステル共重合体、(メタ)アクリロニトリル−ケイ皮酸共重合体、(メタ)アクリロニトリル−アルコキシケイ皮酸共重合体、メチルビニルエーテル−フマル酸共重合体、メチルビニルエーテル−フマル酸モノエステル共重合体、メチルビニルエーテル−ケイ皮酸共重合体、メチルビニルエーテル−アルコキシケイ皮酸共重合体、エチルビニルエーテル−フマル酸モノエステル共重合体、エチルビニルエーテル−ケイ皮酸共重合体、エチルビニルエーテル−アルコキシケイ皮酸共重合体、ブチルビニルエーテル−フマル酸共重合体、ブチルビニルエーテル−フマル酸モノエステル共重合体、ブチルビニルエーテル−ケイ皮酸共重合体、ブチルビニルエーテル−アルコキシケイ皮酸共重合体、N−メチルマレイミド−フマル酸共重合体、N−メチルマレイミド−フマル酸モノエステル共重合体、N−メチルマレイミド−ケイ皮酸共重合体、N−メチルマレイミド−アルコキシケイ皮酸共重合体、N−シクロヘキシルマレイミド−フマル酸共重合体、N−シクロヘキシルマレイミド−フマル酸モノエステル共重合体、N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸共重合体、N−シクロヘキシルマレイミド−アルコキシケイ皮酸共重合体、N−フェニルマレイミド−フマル酸共重合体、N−フェニルマレイミド−フマル酸モノエステル共重合体、N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸共重合体、N−フェニルマレイミド−アルコキシケイ皮酸共重合体、フマル酸ジエステル−フマル酸共重合体、フマル酸ジエステル−フマル酸モノエステル共重合体、フマル酸ジエステル−ケイ皮酸共重合体、フマル酸ジエステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、ケイ皮酸エステル−フマル酸共重合体、ケイ皮酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体、ケイ皮酸エステル−ケイ皮酸共重合体、ケイ皮酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、メトキシケイ皮酸エステル−フマル酸共重合体、メトキシケイ皮酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体、メトキシケイ皮酸エステル−ケイ皮酸共重合体、メトキシケイ皮酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体、エトキシケイ皮酸エステル−フマル酸共重合体、エトキシケイ皮酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体、エトキシケイ皮酸エステル−ケイ皮酸共重合体、エトキシケイ皮酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体等が挙げられる。 Specific examples of the polymer having a carboxyl group of the present invention include polyfumaric acid, polyfumaric acid monoester, fumaric acid monoester-silicic acid copolymer, fumaric acid monoester-alkyl silicic acid copolymer, and the like. Fumaric acid monoester-alkoxysilicic acid copolymer, maleic acid monoester-silicicicic acid copolymer, maleic acid monoester-alkylsilicicic acid copolymer, maleic acid monoester-alkoxysilicic acid copolymer , Maleic acid-silicic acid copolymer, maleic acid-alkyl silicic acid copolymer, maleic acid-alkoxysilicic acid copolymer, (meth) acrylic acid ester-fumaric acid copolymer, (meth) acrylic Acid ester-Fumarate monoester copolymer, (meth) acrylic acid ester-silicic acid copolymer, (meth) acrylic acid ester-alkoxysilicic acid copolymer, styrene-fumaric acid copolymer, styrene- Fumaric acid monoester copolymer, styrene-silicic acid copolymer, styrene-alkoxysilicic acid copolymer, α-methylstyrene-fumaric acid copolymer, α-methylstyrene-fumaric acid monoester copolymer , Α-Methylstyrene-silicic acid copolymer, α-methylstyrene-alkoxycynic acid copolymer, vinyl acetate-fumaric acid copolymer, vinyl acetate-fumaric acid monoester copolymer, vinyl acetate-Kay Skin acid copolymer, vinyl acetate-alkoxysilicate copolymer, vinyl propionate-fumaric acid copolymer, vinyl propionate-fumaric acid monoester copolymer, vinyl propionate-silicate copolymer, Vinyl propionate-alkoxysilicic acid copolymer, (meth) acrylonitrile-fumaric acid copolymer, (meth) acrylonitrile-fumaric acid monoester copolymer, (meth) acrylonitrile-silicic acid copolymer, (meth) ) Acrylonitrile-alkoxysilicic acid copolymer, methylvinyl ether-fumaric acid copolymer, methylvinyl ether-fumaric acid monoester copolymer, methylvinyl ether-silicic acid copolymer, methylvinyl ether-alkoxysilicic acid copolymer Combined, ethyl vinyl ether-fumaric acid monoester copolymer, ethyl vinyl ether-silicic acid copolymer, ethyl vinyl ether-alkoxysilicic acid copolymer, butyl vinyl ether-fumaric acid copolymer, butyl vinyl ether-fumaric acid monoester Copolymers, butyl vinyl ether-silicic acid copolymers, butyl vinyl ether-a Lucoxykei skin acid copolymer, N-methylmaleimide-fumaric acid copolymer, N-methylmaleimide-fumaric acid monoester copolymer, N-methylmaleimide-caylate copolymer, N-methylmaleimide-alkoxykei Skin acid copolymer, N-cyclohexylmaleimide-fumaric acid copolymer, N-cyclohexylmaleimide-fumaric acid monoester copolymer, N-cyclohexylmaleimide-silicic acid copolymer, N-cyclohexylmaleimide-alkoxycytic skin Acid copolymer, N-phenylmaleimide-fumaric acid copolymer, N-phenylmaleimide-fumaric acid monoester copolymer, N-phenylmaleimide-silicic acid copolymer, N-phenylmaleimide-alkoxycylic acid Copolymer, fumaric acid diester-fumaric acid copolymer, fumaric acid diester-fumaric acid monoester copolymer, fumaric acid diester-silicic acid copolymer, fumaric acid diester-alkoxycynic acid copolymer, Kay Fumaric acid ester-fumaric acid copolymer, silicic acid ester-fumaric acid monoester copolymer, silicic acid ester-caylate copolymer, silicic acid ester-alkoxycylic acid copolymer, methoxykei Fumaric acid ester-fumaric acid copolymer, methoxycinnamic acid ester-fumaric acid monoester copolymer, methoxycinnamic acid ester-silicic acid copolymer, methoxycinamic acid ester-alkoxycylic acid copolymer , Ethoxysilic acid ester-fumaric acid copolymer, ethoxysilic acid ester-fumaric acid monoester copolymer, ethoxysilic acid ester-fumaric acid copolymer, ethoxysilic acid ester-alkoxysilic acid copolymer, etc. Can be mentioned.

本発明の樹脂組成物に含まれる重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位等のフマル酸ジエステル残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル等のケイ皮酸エステル残基単位;メチルケイ皮酸エチル、メチルケイ皮酸プロピル、エチルケイ皮酸エチル等のアルキルケイ皮酸エステル残基単位;メトキシケイ皮酸エチル、メトキシケイ皮酸プロピル、エトキシケイ皮酸エチル等のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。この中でも、高い位相差を発現することから、フマル酸ジエステル残基単位、ケイ皮酸エステル残基単位、アルキルケイ皮酸エステル残基単位、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましい。 The polymer contained in the resin composition of the present invention may contain other monomer residue units as long as it does not exceed the scope of the present invention, and examples of the other monomer residue units include , Styrene residue unit, styrene residue unit such as α-methylstyrene residue unit; (meth) methyl acrylate residue unit, (meth) ethyl acrylate residue unit, (meth) butyl acrylate residue unit (Meta) cinnamic acid ester residue unit such as; vinyl acetate residue unit, vinyl ester residue unit such as vinyl propionate residue unit; acrylonitrile residue unit; methacrylonitrile residue unit; methyl vinyl ether residue unit , Ethylvinyl ether residue unit, vinyl ether residue unit such as butyl vinyl ether residue unit; phenylamic acid diester residue unit such as diethyl humate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit; N-methylmaleimide residue unit, N-substituted maleimide residue units such as N-cyclohexyl maleimide residue unit and N-phenylmaleimide residue unit; cinnamic acid ester residue units such as ethyl silicate and propyl silicate; ethyl methylsilicate, Alkyl cinnamic acid ester residue units such as propyl methyl cinnamic acid and ethyl ethyl cinnamic acid; alkoxy cinnamic acid ester residue units such as ethyl methoxycinnamic acid, propyl methoxycinnamic acid and ethyl ethoxycinnamic acid; ethylene residues One or more selected from olefin residue units such as units and propylene residue units can be mentioned. Among these, fumaric acid diester residue unit, cinnamic acid ester residue unit, alkylcinnamic acid ester residue unit, and alkoxy cinnamic acid ester residue unit are preferable because they exhibit a high phase difference.

本発明の重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30,000〜500,000であることが好ましく、40,000〜400,000であることがさらに好ましい。 Since the polymer of the present invention has excellent mechanical properties, the number average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC) is 30,000 to 500. It is preferably 000, more preferably 40,000-400,000.

本発明の樹脂組成物における一般式(1)で表されるピリジン誘導体とカルボキシル基含有残基単位との比は、高い位相差を発現することから、0.01:99.99〜10:90(モル比)が好ましく、0.1:99.9〜5:95(モル比)がさらに好ましい。ここで、本発明において、「カルボキシル基含有残基単位」とは、カルボキシル基を1個又は2個以上有する任意の残基単位をいうものである。 Since the ratio of the pyridine derivative represented by the general formula (1) to the carboxyl group-containing residue unit in the resin composition of the present invention exhibits a high phase difference, 0.01: 99.99 to 10:90. (Mole ratio) is preferable, and 0.1: 99.9 to 5:95 (molar ratio) is more preferable. Here, in the present invention, the "carboxyl group-containing residue unit" means an arbitrary residue unit having one or two or more carboxyl groups.

本発明の樹脂組成物を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。 When an optical film using the resin composition of the present invention is obtained, it is preferable to use a retardation film because even a thin film has a high out-of-plane retardation and is excellent in optical characteristics.

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。 In the retardation film of the present invention, the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz. It is a retardation film characterized in that the relationship is nx ≦ ny <nz, and by satisfying the above nx ≦ ny <nz, the viewing angle of STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, transflective LCD, etc. It is a retardation film with excellent compensation performance. In general, the three-dimensional refractive index of a film is controlled by stretching the film, which complicates the manufacturing process and quality control. However, the retardation film of the present invention is unstretched and has a refractive index in the film thickness direction. It has been found that it shows a peculiar behavior that is high.

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−100〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましく、−180〜−500nmであることが特に好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で5.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、6nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。
Further, since the retardation film of the present invention is a retardation film having more excellent optical characteristics, the out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is -100 to −. It is preferably 2000 nm, more preferably -100 to −500 nm, and particularly preferably −180 to −500 nm.
Rth = ((nx + ny) /2-nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the relationship between the film thickness and the out-of-plane retardation is preferably 5.5 nm / film thickness (μm) or more in absolute value, and is 6 nm /. The film thickness (μm) or more is more preferable, and 8 nm / film thickness (μm) or more is particularly preferable.

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。 The retardation film of the present invention has good image quality characteristics when used in a liquid crystal display element, and therefore has a light transmittance of 85% or more, more preferably 90% or more. .. Further, the haze (cloudiness) of the retardation film is preferably 2% or less, and more preferably 1% or less.

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。 The method for producing the retardation film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a solution casting method and a melt casting method.

溶液キャスト法は、樹脂組成物を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。 The solution casting method is a method in which a solution in which a resin composition is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. At that time, as a method of casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method and the like are used. In particular, industrially, the most common method is to continuously extrude the dope from the die onto a belt-shaped or drum-shaped support substrate. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and a ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, 100. It is more preferably 10000 cPs.

この際の本発明の樹脂組成物の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは2〜100μm、特に好ましくは3〜50μmである。 At this time, the coating thickness of the resin composition of the present invention is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 2 to 100 μm, and particularly preferably 3 to 50 μm because the film can be easily handled.

また、溶融キャスト法は、樹脂組成物を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。 The melt casting method is a molding method in which a resin composition is melted in an extruder, extruded into a film from a slit of a T-die, and then taken out while being cooled by a roll, air, or the like.

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。 The retardation film of the present invention can be used by peeling from the glass substrate of the base material or another optical film, and can also be used as a laminate with the glass substrate of the base material or another optical film.

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。 Further, the retardation film of the present invention can be laminated with a polarizing plate and used as a circular or elliptical polarizing plate, and can also be laminated with a polarizing element containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. is there. Further, the retardation films of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成する樹脂組成物100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。 The retardation film of the present invention preferably contains an antioxidant during film molding or in order to improve the thermal stability of the retardation film itself. Examples of the antioxidant include a hindered phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination, respectively. Since the antioxidant action is synergistically improved, it is preferable to use a hindered antioxidant and a phosphorus antioxidant in combination. In that case, for example, with respect to 100 parts by weight of the hindered antioxidant. , It is more preferable to mix and use a phosphorus-based antioxidant in an amount of 100 to 500 parts by weight. The amount of the antioxidant added is preferably 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.5 parts by weight, because it has an excellent antioxidant action with respect to 100 parts by weight of the resin composition constituting the retardation film of the present invention. ~ 1 part by weight is more preferable.

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。 Further, as the ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine and benzoate may be blended as required.

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。 The retardation film of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc., as long as the gist of the invention is not exceeded. You may.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適した樹脂組成物を提供することができる。 According to the present invention, optical characteristics such as a large refractive index in the thickness direction, a large in-plane phase difference, and a small wavelength dependence of a film useful as a compensation film or an antireflection film for contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display. It is possible to provide a resin composition suitable for an excellent retardation film.

延伸による屈折率楕円体の変化Changes in refractive index ellipsoid due to stretching

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。 The physical properties shown in the examples were measured by the following methods.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., trade name NDH5000).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
It was measured according to JIS K 7142 (1981 version) using an Abbe refractive index meter (manufactured by Atago).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
<Measurement of film phase difference and three-dimensional refractive index>
The measurement was performed using a fully automatic double refractometer (manufactured by Oji Measuring Instruments, trade name KOBRA-WR).

合成例1(カルボキシル基を有する重合体(メトキシケイ皮酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体:4−メトキシケイ皮酸n−プロピル/フマル酸モノイソプロピル共重合体)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸n−プロピル50g(0.23モル)、フマル酸モノイソプロピル4.0g(0.025モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.34g(0.0019モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、カルボキシル基を有する重合体16.7gを得た(収率:31%)。
Synthesis Example 1 (Synthesis of a polymer having a carboxyl group (methoxysilicate ester-fumaric acid monoester copolymer: 4-methoxysilicate n-propyl / fumaric acid monoisopropyl copolymer) 1)
50 g (0.23 mol) of n-propyl 4-methoxysilicate, 4.0 g (0.025 mol) of monoisopropyl fumarate and tert-butylperoxypivalate 0 as a polymerization initiator in a glass ampol having a capacity of 75 mL. .34 g (0.0019 mol) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 50 ° C. and held for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 16.7 g of a polymer having a carboxyl group (yield: 31%).

得られたカルボキシル基を有する重合体は、数平均分子量は54,000であり、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位/フマル酸モノイソプロピル残基単位=76/24(モル比)であった。 The obtained polymer having a carboxyl group has a number average molecular weight of 54,000, and has an n-propyl residue unit of 4-methoxysilicate crust / monoisopropyl fumarate residue unit = 76/24 (molar ratio). there were.

合成例2(カルボキシル基を有する重合体(フマル酸ジエステル−ケイ皮酸共重合体:フマル酸ジイソプロピル/ケイ皮酸共重合体)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)、ケイ皮酸6.5g(0.04モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.34g(0.0020モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、カルボキシル基を有する重合体19.0gを得た(収率:34%)。
Synthesis Example 2 (Synthesis of a polymer having a carboxyl group (fumaric acid diester-cinnamic acid copolymer: diisopropyl fumarate / cinnamic acid copolymer) 2)
50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate, 6.5 g (0.04 mol) of silicic acid and 0.34 g (0.0020 mol) of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 75 mL. ) Was added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 50 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 19.0 g of a polymer having a carboxyl group (yield: 34%).

得られたカルボキシル基を有する重合体の数平均分子量は121,000であり、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/ケイ皮酸残基単位=90/10(モル%)であった。 The number average molecular weight of the obtained polymer having a carboxyl group was 121,000, and the copolymer composition was diisopropyl fumarate residue unit / cinnamic acid residue unit = 90/10 (mol%).

合成例3(カルボキシル基を有する重合体(メトキシケイ皮酸エステル−フマル酸モノエステル共重合体:4−メチルケイ皮酸エチル/フマル酸モノエチル共重合体)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルに4−メチルケイ皮酸エチル50g(0.26モル)、フマル酸モノエチル2.4g(0.017モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.33g(0.0019モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、カルボキシル基を有する重合体13.6gを得た(収率:26%)。
Synthesis Example 3 (Synthesis of a polymer having a carboxyl group (methoxysilicate ester-fumaric acid monoester copolymer: 4-methylsilicate ethyl silate / monoethyl fumarate copolymer) 3)
50 g (0.26 mol) of ethyl 4-methylsilicate, 2.4 g (0.017 mol) of monoethyl fumarate and 0.33 g (0) of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 75 mL. .0019 mol) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 50 ° C. and held for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 13.6 g of a polymer having a carboxyl group (yield: 26%).

得られたカルボキシル基を有する重合体の数平均分子量は47,000であり、共重合体組成は4−メチルケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸モノエチル残基単位=81/19(モル%)であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained polymer having a carboxyl group is 47,000, and the copolymer composition is 4-methylsilicate ethyl silicate residue unit / monoethyl fumarate residue unit = 81/19 (mol%). I confirmed that there was.

実施例1
合成例1で得られた重合体99重量部及び4,4’−ビピリジン1重量部をメチルイソブチルケトン400重量部に溶解しての樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Example 1
99 parts by weight of the polymer and 1 part by weight of 4,4'-bipyridine obtained in Synthesis Example 1 were dissolved in 400 parts by weight of methylisobutylketone to prepare a resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, and 130 parts by weight. By drying at ° C. for 10 minutes, a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.5%、屈折率1.528であった。 The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.528.

三次元屈折率は、nx=1.5241、ny=1.5241、nz=1.5349であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−216nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は10.8nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.5241, ny = 1.5241, nz = 1.5349, and the obtained film showed a value of nx = ny <nz and a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -216 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 10.8 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。 From these results, the obtained film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane phase difference, and a high out-of-plane phase difference even in a thin film. It was suitable for a retardation film.

実施例2
合成例2で得られた重合体99.5重量部及び4−フェニルピリジン0.5重量部を酢酸ブチルに溶解して525重量部の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、140℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Example 2
99.5 parts by weight of the polymer and 0.5 part by weight of 4-phenylpyridine obtained in Synthesis Example 2 were dissolved in butyl acetate to prepare a resin solution of 525 parts by weight, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. By drying at 140 ° C. for 10 minutes, a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.5%、屈折率1.482であった。 The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.482.

三次元屈折率は、nx=1.4796、ny=1.4796、nz=1.4881であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−170nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.4796, ny = 1.4796, nz = 1.4881, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a large value of the refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at −170 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 8.5 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。 From these results, the obtained film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane phase difference, and a high out-of-plane phase difference even in a thin film. It was suitable for a retardation film.

実施例3
合成例3で得られた重合体98重量部に対して4−(p−トリル)ピリジン2重量部をトルエンに溶解して400重量部の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Example 3
With respect to 98 parts by weight of the polymer obtained in Synthesis Example 3, 2 parts by weight of 4- (p-tolyl) pyridine was dissolved in toluene to obtain 400 parts by weight of a resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. By drying at 130 ° C. for 10 minutes, a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.6%、屈折率1.539であった。 The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.539.

三次元屈折率は、nx=1.5360、ny=1.5360、nz=1.5463であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−206nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は10.3nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.5360, ny = 1.5360, nz = 1.5463, and the obtained film showed a value of nx = ny <nz and a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at −206 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 10.3 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。 From these results, the obtained film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane phase difference, and a high out-of-plane phase difference even in a thin film. It was suitable for a retardation film.

比較例1
合成例1で得られた重合体99重量部及び2,2’−ビピリジン1重量部をメチルイソブチルケトン400重量部に溶解しての樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Comparative Example 1
99 parts by weight of the polymer obtained in Synthesis Example 1 and 1 part by weight of 2,2'-bipyridine were dissolved in 400 parts by weight of methylisobutylketone to prepare a resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, and 130 parts by weight. By drying at ° C. for 10 minutes, a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.6%、屈折率1.528であった。 The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.528.

三次元屈折率は、nx=1.5263、ny=1.5263、nz=1.5306であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−86nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.3nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.5263, ny = 1.5263, nz = 1.5306, and the obtained film had nx = ny <nz, which was a large refractive index in the film thickness direction. However, the out-of-plane phase difference was as small as −86 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was as small as 4.3 nm / film thickness (μm).

比較例2
合成例2で得られた重合体99.5重量部及び2−フェニルピリジン0.5重量部を酢酸ブチルに溶解して525重量部の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、140℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Comparative Example 2
99.5 parts by weight of the polymer and 0.5 part by weight of 2-phenylpyridine obtained in Synthesis Example 2 were dissolved in butyl acetate to prepare a resin solution of 525 parts by weight, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. By drying at 140 ° C. for 10 minutes, a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.5%、屈折率1.482であった。 The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.482.

三次元屈折率は、nx=1.4809、ny=1.4809、nz=1.4856であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−94nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.7nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.4809, ny = 1.4809, nz = 1.4856, and the obtained film had nx = ny <nz, which was a large refractive index in the film thickness direction. However, the out-of-plane phase difference was as small as −94 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was as small as 4.7 nm / film thickness (μm).

比較例3
合成例3で得られた重合体98重量部に対して4−(3−フェニルプロピル)ピリジン2重量部をトルエンに溶解して400重量部の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのカルボキシル基を有する重合体とピリジン誘導体とを含む樹脂組成物を用いたフィルムを得た。
Comparative Example 3
With respect to 98 parts by weight of the polymer obtained in Synthesis Example 3, 2 parts by weight of 4- (3-phenylpropyl) pyridine was dissolved in toluene to obtain 400 parts by weight of a resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. Then, it was dried at 130 ° C. for 10 minutes to obtain a film using a resin composition containing a polymer having a carboxyl group having a thickness of 20 μm and a pyridine derivative.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.6%、屈折率1.507であった。 The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.507.

三次元屈折率は、nx=1.5058、ny=1.5058、nz=1.5097であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−78nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も3.9nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index is nx = 1.5058, ny = 1.5058, nz = 1.5097, and the obtained film shows nx = ny <nz, which means that the refractive index in the film thickness direction is large. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −78 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was as small as 3.9 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜においても高い面外位相差を期待できないものであった。 From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane phase difference was small and a high out-of-plane phase difference could not be expected even in a thin film. Met.

nx;フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ny;nxと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
nz;フィルムの厚み方向の屈折率を示す。
nx; Indicates the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane.
ny; Indicates the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to nx.
nz; Indicates the refractive index in the thickness direction of the film.

Claims (5)

少なくとも一般式(1)で表されるピリジン誘導体と、
フマル酸ジエステル残基単位、ケイ皮酸エステル残基単位、アルキルケイ皮酸エステル残基単位、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位から選択される1種以上の残基単位を含み、かつ、一般式(2)で表されるカルボキシル基を含む残基単位を有する重合体
とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
(ここで、R〜Rは水素を示し、Arはメチル置換もしくは非置換のフェニル基またはメチル置換もしくは非置換のピリジル基のいずれかを示す。)
(ここで、Rは任意の置換基もしくは水素を示す。)
At least the pyridine derivative represented by the general formula (1) and
A general formula containing one or more residue units selected from a fumaric acid diester residue unit, a siliceous ester residue unit, an alkylsilicate ester residue unit, and an alkoxysilicate ester residue unit. A resin composition comprising a polymer having a residue unit containing a carboxyl group represented by (2) .
(Wherein, R 1 to R 4 represents hydrogen, Ar is methyl substituted Moshiku represents any of the unsubstituted phenyl group or a methyl-substituted or unsubstituted pyridyl group.)
(Here, R 5 indicates an arbitrary substituent or hydrogen.)
一般式(2)で表される残基単位が、マレイン酸残基単位、マレイン酸モノエステル残基単位、フマル酸残基単位、フマル酸モノエステル残基単位、ケイ皮酸残基単位、アルキルケイ皮酸残基単位、アルコキシケイ皮酸残基単位から選択されることを特徴とする請求項に記載の樹脂組成物。 The residue unit represented by the general formula (2) is maleic acid residue unit, maleic acid monoester residue unit, fumaric acid residue unit, fumaric acid monoester residue unit, cinnamic acid residue unit, alkyl. The resin composition according to claim 1 , wherein the resin composition is selected from a cinnamic acid residue unit and an alkoxy cinnamic acid residue unit. 一般式(1)で表されるピリジン誘導体とカルボキシル基含有残基単位との比が0.01:99.99〜10:90(モル比)であることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。 The first or second claim is characterized in that the ratio of the pyridine derivative represented by the general formula (1) to the carboxyl group-containing residue unit is 0.01: 99.99 to 10:90 (molar ratio). The resin composition described. 請求項1乃至いずれか一項に記載の樹脂組成物を用いたことを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film using the resin composition according to any one of claims 1 to 3 . フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項に記載の位相差フィルム。 When the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz, the respective relationships are nx ≦ ny <nz. The retardation film according to claim 4 , wherein the film is provided.
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