JP6372319B2 - trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer and retardation film using the same - Google Patents

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本発明は、新規なtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものである。   The present invention relates to a novel trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate ester copolymer and a retardation film using the same, and more specifically, it has a high out-of-plane retardation even in a thin film. The present invention relates to a retardation film, particularly a novel trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer suitable for an optical compensation film for a liquid crystal display element, and a retardation film using the same.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。   A liquid crystal display is widely used as a most important display device in a multimedia society, such as a mobile phone, a computer monitor, a notebook computer, and a television.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。   Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, retardation films play a large role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。   The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like is such that the refractive index in the fast axis direction in the film plane when the film is stretched is nx, the refractive index in the in-plane direction perpendicular to the film is ny, and the film It can be represented by a refractive index ellipsoid where the refractive index in the thickness direction is nz. The fast axis indicates an axial direction having a low refractive index in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。   Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the fast axis direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。   That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。   Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Since polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, it has a problem of stability of phase difference such as phase difference being changed by a slight stress, and a practical problem of low heat resistance, and is not used at present. .

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, resulting in an unprecedented retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertically aligned liquid crystal Useful as a retardation film for compensating viewing angle characteristics of displays (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal displays (IPS-LCD), reflective liquid crystal displays (reflective LCDs), and viewing angle compensation films for deflecting plates Therefore, the market demand is strong for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。   There has been proposed a film manufacturing method in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method (for example, Patent Documents 1 to 3) in which a heat-shrinkable film is bonded to one side or both sides of a polymer film, and the laminate is subjected to a heat stretching treatment to apply a shrinkage force in the film thickness direction of the polymer film. Reference). In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。また、負の光学異方性を有する微粒子を添加する必要のない位相差フィルムとして、特定のα−オレフィン残基単位とN−置換マレイミドからなる共重合体及びアクリロニトリル−スチレン系共重合体からなる光学フィルム用樹脂組成物を用いて得られる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献6参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer such as a maleimide copolymer has been proposed (for example, see Patent Document 5). Further, as a retardation film that does not require the addition of fine particles having negative optical anisotropy, it comprises a copolymer comprising a specific α-olefin residue unit and an N-substituted maleimide, and an acrylonitrile-styrene copolymer. A retardation film obtained by using a resin composition for optical films has been proposed (see, for example, Patent Document 6).

これらとは別に、位相差フィルムの作製の際に、位相差を付与する位相差付与剤としてスチルベンを用いることが提案されている(例えば、特許文献7参照)。   Apart from these, it has been proposed to use stilbene as a phase difference imparting agent for imparting a phase difference when producing a phase difference film (for example, see Patent Document 7).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. In addition, the control of the uniformity of the phase difference and the like is significantly more difficult than the control by the conventional stretching.

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。   When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large, and the phase difference is changed by a slight stress. Furthermore, there is a problem that the wavelength dependence of the phase difference is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

特許文献6で得られるフィルムは、延伸することにより負の複屈性を発現させており、延伸工程の必要のない負の複屈折性を有する位相差フィルムが求められている。   The film obtained by patent document 6 is expressing the negative birefringence by extending | stretching, The retardation film which has the negative birefringence which does not require an extending | stretching process is calculated | required.

特許文献7では、スチルベンを位相差付与剤として用いることについて提案されているが、スチルベンを共重合体における単量体単位として用いることについて何らの記載がないものである。   Patent Document 7 proposes to use stilbene as a phase difference imparting agent, but there is no description about using stilbene as a monomer unit in a copolymer.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平05−297223号公報JP 05-297223 A 特開平05−323120号公報JP 05-323120 A 特開平06−88909号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2004−315788号公報JP 2004-315788 A 特開2006−241197号公報JP 2006-241197 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、N−置換マレイミド及びスチルベンを共重合体における単量体単位とすることで、未延伸で負の複屈折性を発現させる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said subject, The objective is to make negative birefringence unexpanded by making N-substituted maleimide and stilbene into the monomer unit in a copolymer. It is an object of the present invention to provide a polymer and an optical compensation film excellent in retardation characteristics obtained by using the polymer.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer can solve the above problems, and complete the present invention. It came to.

すなわち、本発明は、trans−スチルベン残基単位、N−置換マレイミド残基単位及びケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とする位相差特性及び強度に優れるtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体並びにそれを用いた位相差フィルムに関するものである。   That is, the present invention includes a trans-stilbene-N-substituted maleimide having excellent phase difference characteristics and strength, comprising a trans-stilbene residue unit, an N-substituted maleimide residue unit, and a cinnamate ester residue unit. -A cinnamate ester copolymer and a retardation film using the same.

以下、本発明の位相差フィルムに適したtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体について詳細に説明する。   Hereinafter, the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer suitable for the retardation film of the present invention will be described in detail.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、trans−スチルベン残基単位、一般式(1)で表されるN−置換マレイミド残基単位、及び一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含むtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体である。そして、本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、該trans−スチルベン残基単位及び該N−置換マレイミド残基単位を含んでなることにより、未延伸で負の複屈折性を発現させるものである。また、本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステルは、これら残基単位とともに該ケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることより、位相差フィルムとした際に、負の複屈折性を損なうことなく、実用的な強度を有する位相差フィルムが得られることを特徴とするものである。   The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention includes a trans-stilbene residue unit, an N-substituted maleimide residue unit represented by the general formula (1), and a general formula (2 ) -Trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer containing a cinnamic acid ester residue unit. The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention comprises the trans-stilbene residue unit and the N-substituted maleimide residue unit, so that it is unstretched and negative. The birefringence of this is expressed. In addition, the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate ester of the present invention contains the cinnamate ester residue unit together with these residue units, so that when it is used as a retardation film, it is negative. A retardation film having practical strength can be obtained without impairing the birefringence.

Figure 0006372319
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基、炭素数3〜6の環状アルキル基、または芳香族環を示す。)
Figure 0006372319
(Here, R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an aromatic ring.)

Figure 0006372319
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは0〜5の整数を示す。)
本発明の一般式(1)におけるRは、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、炭素数3〜6の環状アルキル基、または置換基を有していてもよい芳香族環を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、芳香族環としては、例えば、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、高い面外位相差を発現するフィルムが得られることから、シクロヘキシル基、フェニル基が好ましい。
Figure 0006372319
(Here, R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 3 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. A cyclic alkyl group of ˜6, and n represents an integer of 0-5.)
R 1 in the general formula (1) of the present invention may have a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituent. Examples of the linear alkyl group having an aromatic ring and having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the branched alkyl group include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, etc., and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, A cyclohexyl group etc. are mentioned, As an aromatic ring, a phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group etc. are mentioned, for example. Among these, a cyclohexyl group and a phenyl group are preferable because a film exhibiting a high out-of-plane retardation can be obtained.

そして、具体的な一般式(1)で表されるN−置換マレイミド残基単位としては、例えば、N−メチルマレイミド残基単位、N−エチルマレイミド残基単位、N−プロピルマレイミド残基単位、N−ブチルマレイミド残基単位、N−ペンチルマレイミド残基単位、N−ヘキシルマレイミド残基単位、N−イソプロピルマレイミド残基単位、N−イソブチルマレイミド残基単位、N−sec−ブチルマレイミド残基単位、N−tert−ブチルマレイミド残基単位、N−シクロプロピルマレイミド残基単位、N−シクロブチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位、N−2−メチルフェニルマレイミド残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い面外位相差を発現するため、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位が好ましい。   Specific examples of the N-substituted maleimide residue unit represented by the general formula (1) include, for example, an N-methylmaleimide residue unit, an N-ethylmaleimide residue unit, an N-propylmaleimide residue unit, N-butylmaleimide residue unit, N-pentylmaleimide residue unit, N-hexylmaleimide residue unit, N-isopropylmaleimide residue unit, N-isobutylmaleimide residue unit, N-sec-butylmaleimide residue unit, N-tert-butylmaleimide residue unit, N-cyclopropylmaleimide residue unit, N-cyclobutylmaleimide residue unit, N-cyclohexylmaleimide residue unit, N-phenylmaleimide residue unit, N-2-methylphenyl And maleimide residue units. Among these, N-cyclohexylmaleimide residue units and N-phenylmaleimide residue units are preferable in order to develop a high out-of-plane retardation.

本発明において、一般式(2)におけるRは炭素数1〜6の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基等が挙げられ、nは0〜5の整数である。 In the present invention, R 2 in the general formula (2) represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a hexyl group. n is an integer of 0-5.

また、本発明の一般式(2)におけるRは、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソアミル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体のフィルムが高い強度を示すことから、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、イソアミル基、n−へキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルへキシル基が好ましい。 Moreover, R < 3 > in General formula (2) of this invention shows a C1-C12 linear alkyl group, a branched alkyl group, or a C3-C6 cyclic alkyl group, and C1-C12 Examples of the linear alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isoamyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and 2-ethylhexyl group. Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group. Among these, since the film of trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer shows high strength, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, isoamyl group, n- A hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and 2-ethylhexyl group are preferred.

そして、具体的な一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸n−プロピル残基単位、ケイ皮酸n−ブチル残基単位、ケイ皮酸n−ペンチル残基単位、ケイ皮酸イソアミル残基単位、ケイ皮酸n−へキシル残基単位、ケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、ケイ皮酸n−オクチル残基単位、ケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、ケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、
2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が挙げられ、エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピ
ル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−オクチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い強度を示すフィルムが得られることから、ケイ皮酸n−プロピル残基単位、ケイ皮酸n−ブチル残基単位、ケイ皮酸n−ペンチル残基単位、ケイ皮酸イソアミル残基単位、ケイ皮酸n−へキシル残基単位、ケイ皮酸n−ヘプチル残基単位、ケイ皮酸n−オクチル残基単位、ケイ皮酸2−エチルへキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ペンチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−へキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル残基単位が好ましい。
Specific examples of the cinnamate residue unit represented by the general formula (2) include, for example, a methyl cinnamate residue unit, an ethyl cinnamate residue unit, and an n-propyl cinnamate residue. Unit: n-butyl cinnamate residue unit, n-pentyl cinnamate residue unit, isoamyl cinnamate residue unit, n-hexyl cinnamate residue unit, n-heptyl cinnamate residue unit Cinnamate n-octyl residue units, 2-ethylhexyl cinnamate residue units, cyclohexyl cinnamate residue units, methoxycinnamate ester residue units, ethoxycinnamate residue units, and the like. Examples of methoxycinnamate ester residue units include 2-methoxycinnamate methyl residue units, 2-methoxycinnamate ethyl residue units, 2-methoxycinnamate n-propyl residue units, 2- Methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2 -Methoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3 -Methyl methoxycinnamate residue unit, ethyl 3-methoxycinnamate residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-metho Cinnamic acid n-pentyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3- Methoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid unit Ethyl cinnamate residue units, 4-methoxycinnamate n-propyl residue units, 4-methoxycinnamate n-butyl residue units, 4-methoxycinnamate n-pentyl residue units, 4-methoxycinnamate units Isoamyl cinnamate residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 4-methoxy 2-ethylhexyl cinnamate residue unit, 4-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3-dimethoxymethyl cinnamate residue unit, 2,3-dimethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3 -Dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid Isoamyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit 2,2-dimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid Ethyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnax Cinnamate n-octyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamate 2-ethylhexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamate methyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamate Acid n-pliers Residue units, 2,5-dimethoxycinnamic acid isoamyl residue units, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-hexyl residue units, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-heptyl residue units, 2, 5-Dimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid methyl unit Residue units, ethyl 2,6-dimethoxycinnamate residue units, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue units, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue units, 2,6 -Dimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n -Heptyl residue Unit, n-octyl residue unit of 2,6-dimethoxycinnamic acid, 2-ethylhexyl residue unit of 2,6-dimethoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,6-dimethoxycinnamic acid, 3,4-dimethoxy Methyl cinnamate residue unit, 3,4-dimethoxyethyl cinnamate residue unit, 3,4-dimethoxycinnamate n-propyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamate n-butyl residue unit 3,4-dimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 3,4-dimethoxy Cinnamic acid n-heptyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 3,5-dimethoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-dimethoxycinnamate residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5- Dimethoxycinnamate n-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate n-pentyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate isoamyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate n-to Xyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, Cyclohexyl residue unit of 3,5-dimethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, ethyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, 2,3,4 -Trimethoxycinnamic acid n-p Pill residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamate n-pentyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamate Isoamyl cinnamate residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,4 N-octyl residue unit of trimethoxycinnamate, 2-ethylhexyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, 2,3,4 5-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3, 5-trimethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,5- Rimethoxycinnamate n-pentyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,5 -Trimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2 , 3,5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3 , 6-Trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit 2,3,6-trimethoxycinnamic acid isoami Residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,6-trimethoxy Cinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5- Methyl trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,4,5-trimethoxycinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5- N-butyl trimethoxycinnamate residue unit, 2,4-5-trimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,4,5 5-trimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,4,5-to Methoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,4 , 5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6 -Trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2 , 4,6-Trimethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-heptyl residue Unit: 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-oct Residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid Methyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate n-pentyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate isoamyl residue unit, 3,4,5-trimethoxysilicate Cinnamic acid n-hexyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3,4, 5-trimethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 3,4, 5-trimethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxyethyl cinnamate ethyl residue unit, 2, 3,4,5-tetramethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate Acid n-pentyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate isoamyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate n-hexyl residue unit, 2,3 , 4,5-tetramethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxy Cyclohexyl cinnamate residue units, 2,3,4,6-tetramethoxymethyl cinnamate residue units, 2,3,4,6-tetramethoxyethyl cinnamate residue units, 2,3,4, 6-tetramethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate n-pentyl Residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,4,6 -N-heptyl residue unit of tetramethoxycinnamic acid, n-octyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid, 2-ethylhexyl residue of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid Base unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate Hexyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,5,6-tetra Methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit,
2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxy 2-ethylhexyl cinnamate residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, pentamethoxymethyl cinnamate residue unit, pentamethoxyethyl cinnamate residue unit, pentamethoxy N-propyl cinnamic acid residue unit, n-butyl pentamethoxycinnamate residue unit, n-pentyl pentamethoxycinnamic acid residue unit, isoamyl residue unit of pentamethoxycinnamic acid, pentamethoxycinnamic acid n -Hexyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid 2-ethylhexycin Examples thereof include a residue unit and a cyclohexyl residue unit of pentamethoxycinnamate. Examples of the ethoxy cinnamate ester residue unit include a 2-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, a 2-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2 -Ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, 3-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n Propyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-hexyl residue Units, 3-ethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4- Ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-pentyl Residue unit, 4-ethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-heptyl Unit, 4-ethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid methyl residue unit 2,3-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n- Pentyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3- Diethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, , 4-Diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit 2,4-diethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n -Heptyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5- Diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-diet Cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit 2,5-diethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid Cyclohexyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,6-diethoxysilicate Cinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit Unit, cyclohexyl residue unit of 2,6-diethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 3,4-diethoxycinnamic acid, ethyl residue unit of 3,4-diethoxycinnamic acid, n-propyl residue of 3,4-diethoxycinnamic acid Unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n -Hexyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic bar 2-ethylhexyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3,5 -N-hexyl residue unit of diethoxycinnamic acid, n-heptyl residue unit of 3,5-diethoxycinnamic acid, n-octyl residue unit of 3,5-diethoxycinnamic acid, 2-ethylhexyl 3,5-diethoxycinnamic acid Residue unit, cyclohexyl residue unit of 3,5-diethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 2,3,4-triethoxycinnamic acid, 2,3,4-trie Ethyl xycinnamate residue units, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-propyl residue units, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-butyl residue units, 2,3,4 N-pentyl residue unit of triethoxycinnamic acid, isoamyl residue unit of 2,3,4-triethoxycinnamic acid, n-hexyl residue unit of 2,3,4-triethoxycinnamic acid, 2,3 , 4-Triethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit 2,3,4-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2 , 3,5-Triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid isoamyl residue Base unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic leather N-octyl acid residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6-triethoxy Methyl cinnamate residue unit, 2,3,6-triethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,6-triethoxy N-butyl cinnamate residue unit, 2,3,6-triethoxyke Cinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,6- Triethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2, 3,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4 5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, , 4,5-triethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-octyl residue unit Residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid methyl Residue unit, ethyl 2,4,6-triethoxycinnamate residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n -Butyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic Acid n-hexyl residue unit, 2,4,6-triethoxysilicate Cinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,4,6 -Cyclohexyl residue unit of triethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, ethyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, 3,4,5-tri Ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 3,4 , 5-triethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, , 4,5-Triethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxysilicic acid unit N-butyl cinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3 , 4,5-tetraethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic leather Acid n-octyl residue unit, 2,3,4,5-tetraeth Cinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3 4,6-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,4,6- Tetraethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-octyl residue Base unit 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid 2- Ethylhexyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetra Ethoxy cinnamate ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxy cinnamate n-propi
Residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 2,3,5 , 6-Tetraethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-heptyl Residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-octyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 2,3,5 6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid methyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid ethyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n -Butyl residue unit, pentae Xycinnamic acid n-pentyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid isoamyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-hexyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-heptyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid Examples thereof include an n-octyl residue unit, a 2-ethylhexyl pentaethoxycinnamic acid residue unit, and a pentaethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit. Among these, since a film having high strength can be obtained, n-propyl cinnamate residue unit, n-butyl cinnamate residue unit, n-pentyl cinnamate residue unit, isoamyl cinnamate residue Base unit, n-hexyl cinnamate residue unit, n-heptyl cinnamate residue unit, n-octyl cinnamate residue unit, 2-ethylhexyl cinnamate residue unit, 4-methoxysilicate Cinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-pentyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid isoamyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid unit Preference is given to n-hexyl residue units of cinnamate and 2-ethylhexyl residue units of 4-methoxycinnamate.

本発明におけるtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、trans−スチルベン残基単位、一般式(1)で表されるN−置換マレイミド残基単位及び一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含む限り特に制限はないが、薄膜とした際に位相差に優れるフィルムがより容易に得られることから、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−プロピル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−ブチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−ペンチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸イソアミル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−へキシル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−ヘプチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸n−オクチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−ケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ブチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ペンチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸イソアミル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−へキシル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ヘプチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−オクチル共重合体、trans−スチルベン−N−フェニルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−プロピル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−ブチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−ペンチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸イソアミル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−へキシル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−ヘプチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸n−オクチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ブチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ペンチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸イソアミル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−へキシル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−ヘプチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸n−オクチル共重合体、trans−スチルベン−N−シクロヘキシルマレイミド−4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体が好ましい。   The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer in the present invention is a trans-stilbene residue unit, an N-substituted maleimide residue unit represented by the general formula (1), and a general formula (2). As long as it contains a cinnamate residue unit represented by formula (1), a film having excellent retardation when formed into a thin film can be obtained more easily, so that trans-stilbene-N-phenylmaleimide-cinnamic Acid n-propyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-n-butyl cinnamate copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-n-pentyl cinnamate copolymer, trans-stilbene- N-phenylmaleimide-isoamyl cinnamate copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide Cinnamate n-hexyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-cinnamic acid n-heptyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-cinnamic acid n-octyl copolymer, trans -Stilbene-N-phenylmaleimide-cinnamic acid 2-ethylhexyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4 -Methoxycinnamic acid n-butyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxycinnamic acid n-pentyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxycinnamic acid isoamyl Copolymer, trans-stilbene-N-phenylmale Mido-4-methoxycinnamic acid n-hexyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxycinnamic acid n-heptyl copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxy N-octyl cinnamate copolymer, trans-stilbene-N-phenylmaleimide-4-methoxycinnamate 2-ethylhexyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-n-propyl cinnamate copolymer , Trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid n-butyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid n-pentyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic Acid isoamyl copolymer, trans -Stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid n-hexyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid n-heptyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid n-octyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-cinnamic acid 2-ethylhexyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer, trans- Stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamate n-butyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamate n-pentyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmale Do-4-methoxycinnamate isoamyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamic acid n-hexyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamate Acid n-heptyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamate n-octyl copolymer, trans-stilbene-N-cyclohexylmaleimide-4-methoxycinnamate 2-ethylhexyl copolymer Coalescence is preferred.

該trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn−ブチル残基単位、フマル酸ビス(2−エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。   The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer may contain other monomer residue units as long as the scope of the present invention is not exceeded, and other monomer residues. Examples of the base unit include styrene residue units such as styrene residue units and α-methylstyrene residue units; (meth) acrylic acid residue units; (meth) acrylic acid methyl residue units, (meth) acrylic. (Meth) acrylate residue units such as ethyl acid residue units and (meth) acrylate butyl residue units; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residues Group units; methacrylonitrile residue units; vinyl ether residue units such as methyl vinyl ether residue units, ethyl vinyl ether residue units, butyl vinyl ether residue units; Olefin residue units such as ethylene residue units and propylene residue units; Fumarate diester residue units such as di-n-butyl fumarate residue units and bis (2-ethylhexyl) fumarate residue units 1 type or 2 or more types can be mentioned.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れたものとなることから、trans−スチルベン残基単位10〜50モル%、N−置換マレイミド残基単位40〜70モル%及びケイ皮酸エステル1〜40モル%が好ましく、trans−スチルベン残基単位20〜45モル%、N−置換マレイミド残基単位45〜65モル%及びケイ皮酸エステル5〜30モル%がさらに好ましい。   Since the composition of the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention is excellent in retardation characteristics and strength when used as a retardation film, a trans-stilbene residue unit. 10 to 50 mol%, N-substituted maleimide residue unit 40 to 70 mol% and cinnamic acid ester 1 to 40 mol% are preferable, trans-stilbene residue unit 20 to 45 mol%, N-substituted maleimide residue unit 45-65 mol% and cinnamate ester 5-30 mol% are still more preferable.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30000以上であることが好ましく、50000〜500000であることがさらに好ましい。   Since the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate ester copolymer of the present invention has excellent mechanical properties, strength when used as a film, and toughness, gel permeation chromatography ( The number average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained from an elution curve measured by (GPC) is preferably 30,000 or more, and more preferably 50,000 to 500,000.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、該trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、trans−スチルベン、N−置換マレイミド及びケイ皮酸エステルのラジカル重合を行うことにより製造することができる。   As a method for producing the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention, any method can be used as long as the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is obtained. For example, it can be produced by radical polymerization of trans-stilbene, N-substituted maleimide and cinnamic acid ester.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。   For the radical polymerization, any known polymerization method, for example, bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method or emulsion polymerization method can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤などが挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2 Azo initiators such as 1,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), and the like.

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Methanol, ethanol, propanol, butanol, etc. And cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, water, and the like, and mixed solvents thereof.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of a polymerization initiator, and generally it is preferable to carry out in the range of 30-150 degreeC.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を光学フィルムとして用いる場合、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。   When the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention is used as an optical film, it has a high out-of-plane retardation even in a thin film and has excellent optical characteristics. Is preferred.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≒ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸などによって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、該位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。   The retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention has a refractive index in the fast axis direction in the film plane of nx, and a refractive index in the film plane direction orthogonal thereto. Retardation film characterized in that the relationship when the refractive index is ny and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx≈ny <nz. By satisfying nx≈ny <nz, STN -A retardation film excellent in viewing angle compensation performance, such as LCD, IPS-LCD, reflective LCD, and transflective LCD. In general, the control of the three-dimensional refractive index of the film is performed by stretching the film, so the manufacturing process and quality control are complicated. However, the retardation film is unstretched and has a high refractive index in the film thickness direction. It has been found that it exhibits a unique behavior.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate ester copolymer of this invention, For example, it manufactures by methods, such as a solution cast method and a melt cast method can do.

溶液キャスト法は、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。   In the solution casting method, a solution in which a trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like. It is a method of removing and obtaining a film. In this case, as a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, or the like is used. Particularly, industrially, a method of continuously extruding a dope from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is common. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, More preferably, it is -10000 cPs.

この際のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは5〜100μm、特に好ましくは10〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is preferably 1 to 200 μm, more preferably 5 after drying because excellent surface smoothness and optical properties can be obtained. ˜100 μm, particularly preferably 10 to 50 μm.

また、溶融キャスト法は、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。   In the melt casting method, a trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is melted in an extruder, extruded into a film from a slit of a T die, and then cooled with a roll or air. It is a molding method to take up.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。   The retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention can be used after being peeled off from a glass substrate or other optical film as a base material. It can also be used as a laminate with other glass substrates and other optical films.

また、本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該位相差フィルム同士又は他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer of the present invention can be laminated with a polarizing plate and used as a circular or elliptical polarizing plate. It is also possible to form a polarizing plate by laminating with a polarizer containing / iodine or the like. Furthermore, the retardation films can be laminated with each other or with another retardation film.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成するtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体100重量部に対して、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   The retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention is blended with an antioxidant in order to increase the thermal stability of the film or in the retardation film itself. Preferably it is. Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant action improves synergistically, it is preferable to use a hindered antioxidant and a phosphorus antioxidant in combination, and in that case, with respect to 100 parts by weight of the hindered antioxidant More preferably, the phosphorus-based antioxidant is used in a mixture of 100 to 500 parts by weight. Moreover, as an addition amount of the antioxidant, since a high antioxidant effect is obtained, the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate ester copolymer constituting 100 parts by weight of the retardation film is used. 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 1 part by weight.

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。   Further, as the ultraviolet absorber, for example, benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like may be blended as necessary.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。   The retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention does not exceed the gist of the invention, and other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive A complex, an inorganic filler, a pigment, an antistatic agent, an antiblocking agent, a lubricant and the like may be blended.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を提供することができる。   According to the present invention, optical properties such as a contrast film and a viewing angle characteristic compensation film and an antireflection film of a liquid crystal display having a large refractive index in the thickness direction, a large in-plane retardation, and a small wavelength dependency. Can provide a trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer suitable for an excellent retardation film.

本発明のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、薄膜においても高い面外位相差を有し、フィルムの厚み方向の屈折率が大きい等の光学特性に優れる位相差フィルムに適したtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体であり、特に液晶表示素子用の光学補償フィルム用として適したものである。   The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film and has excellent optical characteristics such as a large refractive index in the thickness direction of the film. It is a trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer suitable for a film, and particularly suitable for an optical compensation film for a liquid crystal display device.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-GX270), it was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, trade name C0-8011 (equipped with column GMH HR- H)), tetrahydrofuran was measured as a solvent at 40 ° C. Asked.

<フィルムの三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
<Measurement of three-dimensional refractive index of film>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

実施例1
容量100mlのガラスアンプルにtrans−スチルベン7.5g(0.04モル)、N−シクロヘキシルマレイミド10g(0.06モル)、ケイ皮酸イソアミル3g(0.01モル)、重合溶媒としてトルエン30mlおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.12g(0.0007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、10時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、1リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体16gを得た。
Example 1
In a glass ampule with a capacity of 100 ml, 7.5 g (0.04 mol) of trans-stilbene, 10 g (0.06 mol) of N-cyclohexylmaleimide, 3 g (0.01 mol) of isoamyl cinnamate, 30 ml of toluene and a polymerization solvent 0.12 g (0.0007 mol) of tert-butyl peroxypivalate as an initiator was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and held for 10 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer is taken out from the ampoule, dropped into 1 liter of methanol, precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours, thereby trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester. 16 g of copolymer was obtained.

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は72000であり、H−NMR測定により、共重合体組成はtrans−スチルベン残基単位/N−置換マレイミド残基単位/ケイ皮酸エステル残基単位=38/55/7(モル%)であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer is 72000, and the copolymer composition is determined to be trans-stilbene residue units / N-substituted by 1 H-NMR measurement. It was confirmed that maleimide residue unit / cinnamic acid ester residue unit = 38/55/7 (mol%).

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、110℃で10分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.589、ny=1.589、nz=1.597であり、nx≒ny<nzであった。   The obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is dissolved in toluene, the solution is cast on a glass substrate with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a good film. Obtained. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, nx = 1.589, ny = 1.589, nz = 1.597, and nx≈ny <nz.

実施例2
容量100mlのガラスアンプルにtrans−スチルベン7.5g(0.04モル)、N−フェニルマレイミド10g(0.06モル)、4−メトキシケイ皮酸2−イソアミル3g(0.01モル%)、重合溶媒としてトルエン30mlおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.12g(0.0007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、10時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、2リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体10.6gを得た。
Example 2
In a glass ampule with a capacity of 100 ml, trans-stilbene 7.5 g (0.04 mol), N-phenylmaleimide 10 g (0.06 mol), 4-methoxycinnamate 2-isoamyl 3 g (0.01 mol%), polymerization As a solvent, 30 ml of toluene and 0.12 g (0.0007 mol) of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and held for 10 hours to carry out radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer is taken out from the ampoule, dropped into 2 liters of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours, thereby trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester. 10.6 g of copolymer was obtained.

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は56000であり、H−NMR測定により、共重合体組成はtrans−スチルベン残基単位/N−置換マレイミド残基単位/ケイ皮酸エステル残基単位=37/53/10(モル%)であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is 56000, and the copolymer composition is determined to be trans-stilbene residue units / N-substituted by 1 H-NMR measurement. It was confirmed that maleimide residue unit / cinnamic acid ester residue unit = 37/53/10 (mol%).

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、110℃で10分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.627、ny=1.627、nz=1.634であり、nx≒ny<nzであった。   The obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is dissolved in toluene, the solution is cast on a glass substrate with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a good film. Obtained. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, nx = 1.627, ny = 1.627, nz = 1.634, and nx≈ny <nz.

実施例3
容量100mlのガラスアンプルにtrans−スチルベン5g(0.03モル)、N−シクロヘキシルマレイミド10g(0.06モル)、ケイ皮酸2−エチルヘキシル8g(0.02モル)、重合溶媒としてトルエン30mlおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.12g(0.0007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、10時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、2リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体18gを得た。
Example 3
In a glass ampule with a capacity of 100 ml, trans-stilbene 5 g (0.03 mol), N-cyclohexylmaleimide 10 g (0.06 mol), 2-ethylhexyl cinnamate 8 g (0.02 mol), 30 ml of toluene as a polymerization solvent and polymerization 0.12 g (0.0007 mol) of tert-butyl peroxypivalate as an initiator was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and held for 10 hours to carry out radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer is taken out from the ampoule, dropped into 2 liters of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours, thereby trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester. 18 g of copolymer was obtained.

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は83000であり、H−NMR測定により、共重合体組成はtrans−スチルベン残基単位/N−置換マレイミド残基単位/ケイ皮酸エステル残基単位=24/55/21(モル%)であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is 83,000, and the copolymer composition is determined to be trans-stilbene residue units / N-substituted by 1 H-NMR measurement. It was confirmed that maleimide residue unit / cinnamic acid ester residue unit = 24/55/21 (mol%).

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、110℃で10分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.523、ny=1.523、nz=1.579であり、nx≒ny<nzであった。   The obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer is dissolved in toluene, the solution is cast on a glass substrate with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a good film. Obtained. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, nx = 1.523, ny = 1.523, nz = 1.579, and nx≈ny <nz.

比較例1
容量100mlのガラスアンプルにtrans−スチルベン10g(0.06モル)、N−シクロヘキシルマレイミド10g(0.06モル)、重合溶媒としてトルエン30mlおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.12g(0.0007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、10時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、2リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、trans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体15gを得た。
Comparative Example 1
In a glass ampule with a capacity of 100 ml, 10 g (0.06 mol) of trans-stilbene, 10 g (0.06 mol) of N-cyclohexylmaleimide, 30 ml of toluene as a polymerization solvent and 0.12 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator (0.0007 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and held for 10 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule, dropped into 2 liters of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 15 g of a trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer. Obtained.

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体の数平均分子量は116000であり、H−NMR測定により、共重合体組成はtrans−スチルベン残基単位/N−置換マレイミド残基単位=47/53(モル%)であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer is 116000, and the copolymer composition was determined to be trans-stilbene residue unit / N-substituted maleimide residue unit by 1 H-NMR measurement = It was confirmed to be 47/53 (mol%).

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、110℃で10分乾燥することによりガラス基板上にフィルムを作製した。得られたフィルムはクラックが発生しており、位相差フィルム材料に適さないものであった。   The obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer was dissolved in toluene, the solution was cast on a glass substrate with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to produce a film on the glass substrate. The obtained film had cracks and was not suitable for a retardation film material.

比較例2
容量100mlのガラスアンプルにtrans−スチルベン10g(0.06モル)、N−フェニルマレイミド10g(0.06モル)、重合溶媒としてトルエン30mlおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.12g(0.0007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、10時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、2リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、trans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体13gを得た。
Comparative Example 2
In a glass ampoule with a capacity of 100 ml, 10 g (0.06 mol) of trans-stilbene, 10 g (0.06 mol) of N-phenylmaleimide, 30 ml of toluene as a polymerization solvent and 0.12 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator (0.0007 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and held for 10 hours to carry out radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule, dropped into 2 liters of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 13 g of a trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer. Obtained.

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体の数平均分子量は94000であり、H−NMR測定により、共重合体組成はスチルベン残基単位/N−置換マレイミド残基単位=49/51(モル%)であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer is 94000, and as a result of 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is stilbene residue unit / N-substituted maleimide residue unit = 49 / It was confirmed to be 51 (mol%).

得られたtrans−スチルベン−N−置換マレイミド共重合体をクロロホルムに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、110℃で10分乾燥することによりガラス基板上にフィルムを作製した。得られたフィルムはクラックが発生しており、位相差フィルム材料に適さないものであった。   The obtained trans-stilbene-N-substituted maleimide copolymer was dissolved in chloroform, the solution was cast on a glass substrate with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to produce a film on the glass substrate. The obtained film had cracks and was not suitable for a retardation film material.

本発明は、新規なtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を提供するものであり、該trans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体はフィルム、特に位相差フィルム等としての利用が期待されるものである。   The present invention provides a novel trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer, the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamate copolymer being a film, in particular Use as a retardation film or the like is expected.

Claims (5)

trans−スチルベン残基単位、一般式(1)で表されるN−置換−マレイミド残基単位及び一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。
Figure 0006372319
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基、炭素数3〜6の環状アルキル基、または芳香族環を示す。)
Figure 0006372319
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは0〜5の整数を示す。)
a trans-stilbene residue unit, an N-substituted maleimide residue unit represented by the general formula (1), and a cinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (2) Stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer.
Figure 0006372319
(Here, R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an aromatic ring.)
Figure 0006372319
(Here, R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 3 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. A cyclic alkyl group of ˜6, and n represents an integer of 0-5.)
trans−スチルベン残基単位10〜50モル%、一般式(1)で表されるN−置換−マレイミド残基単位40〜70モル%及び一般式(2)で表されるケイ皮酸エステル残基単位1〜40モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。 trans-stilbene residue units of 10 to 50 mol%, N-substituted maleimide residue units of general formula (1) 40 to 70 mol% and cinnamic acid ester residues of general formula (2) The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic acid ester copolymer according to claim 1, comprising 1 to 40 mol% of units. 標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30000〜500000であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。 The trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer according to claim 1 or 2, wherein the number average molecular weight in terms of standard polystyrene is 30,000 to 500,000. 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のtrans−スチルベン−N−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film using the trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer according to any one of claims 1 to 3. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzであることを特徴とする請求項4に記載の位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx≈ny <nz. The retardation film according to claim 4, wherein the retardation film is provided.
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