JP5625898B2 - Fumaric acid diester resin and retardation film using the same - Google Patents

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本発明は、フマル酸ジエステル系樹脂に関するものであり、より詳しくは薄膜においても高い面外位相差を有し、かつ波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したフマル酸ジエステル系樹脂に関するものである。   The present invention relates to a fumaric acid diester resin, and more specifically, fumaric acid suitable for a retardation film having a high out-of-plane retardation even in a thin film and excellent optical characteristics such as low wavelength dependency. The present invention relates to a diester resin.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下に示すように定義される。   A liquid crystal display is widely used as a most important display device in a multimedia society, such as a mobile phone, a computer monitor, a notebook computer, and a television. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, retardation films play a large role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図1に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。   The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like can be represented by a refractive index ellipsoid shown in FIG. Here, the refractive index in the fast axis direction in the film plane when the film is stretched is represented by nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal thereto is represented by ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is represented by nz. The fast axis indicates an axial direction having a low refractive index in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸となるものであり、正の複屈折とは延伸方向に対して垂直方向が進相軸となるものである。   Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the fast axis.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向に対して垂直方向)。   That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: a direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、位相差の波長依存性が大きいといった光学特性上の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。   Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, so the phase difference changes due to slight stress, the problem of stability of the phase difference, the problem of optical properties such as the large wavelength dependence of the phase difference, and heat resistance However, it is not used at present.

ここで、位相差の波長依存性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比、R450/R550として表すことができる。一般に、芳香族構造の高分子ではこのR450/R550が大きくなる傾向が強く、低波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。   Here, the wavelength dependence of the phase difference means that the phase difference changes depending on the measurement wavelength. The phase difference measured at the wavelength of 450 nm (R450) and the phase difference measured at the wavelength of 550 nm (R550). The ratio can be expressed as R450 / R550. In general, a polymer having an aromatic structure has a strong tendency to increase R450 / R550, and the contrast and viewing angle characteristics in a low wavelength region are deteriorated.

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)などのディスプレイの視野角特性の補償用位相差フィルムや偏光板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, resulting in an unprecedented retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertically aligned liquid crystal As a retardation film for compensating viewing angle characteristics of a display such as a display (VA-LCD), an in-plane alignment type liquid crystal display (IPS-LCD), a reflection type liquid crystal display (reflection LCD), or a viewing angle compensation film of a polarizing plate There is a strong market demand for retardation films that are useful and have negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮フィルムを密着させ、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば特許文献4参照)。   A method for producing a film has been proposed in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a method of applying a shrinkage force in the film thickness direction of the polymer film by applying a heat-stretching treatment to the laminate by heat-stretching the film on one or both sides of the polymer film (see, for example, Patent Documents 1 to 3). It is. In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば特許文献5参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (see, for example, Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また、位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。さらに、ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きく僅かな応力によって位相差が変化することや、波長依存性が大きいといった課題もある。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. In addition, the control of the uniformity of the phase difference and the like is significantly more difficult than the control by the conventional stretching. Further, when polycarbonate is used as the base film, there are problems that the photoelastic coefficient at room temperature is large, the phase difference is changed by a slight stress, and the wavelength dependency is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系樹脂からなるフィルムが提案されている(例えば特許文献6参照)。特許文献6で得られる光学補償フィルムは、ある程度の面外位相差を有しているものの、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。   Moreover, the film which consists of a fumaric acid diester type resin is proposed (for example, refer patent document 6). Although the optical compensation film obtained in Patent Document 6 has a certain amount of out-of-plane retardation, a film having a higher retardation even in a thinner film is required.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開平6−88909号公報JP-A-6-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008−112141号公報JP 2008-112141 A

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜においても高い面外位相差を有し、かつ波長依存性が小さい等の光学特性および位相差フィルムに適した材料を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object thereof is a material suitable for a retardation film having optical characteristics such as a high out-of-plane retardation even in a thin film and a small wavelength dependency. Is to provide.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のフマル酸ジエステル系樹脂が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位、及び所定の一般式で表されるフマル酸ジエステル残基単位を含むことを特徴とするフマル酸ジエステル系樹脂、並びにそれを用いた位相差フィルムである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific fumaric acid diester resin can solve the above problems, and have completed the present invention. That is, the present invention is a fumaric acid diester-based resin comprising a diisopropyl fumarate residue unit, a ditertiary butyl fumarate residue unit, and a fumaric acid diester residue unit represented by a predetermined general formula, And a retardation film using the same.

以下に、本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂は、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位、及び下記一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂である。   The fumaric acid diester resin of the present invention includes a diisopropyl fumarate residue unit, a ditert-butyl fumarate residue unit, and a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (1). It is.

Figure 0005625898
(式中、Aはそれぞれ独立して水素、又は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基若しくは分岐状アルキル基を示す。)
一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジプロピル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジペンチル、フマル酸ジヘキシル、フマル酸ジヘプシル、フマル酸ジオクチル、フマル酸ジノニル、フマル酸ジデシル、フマル酸ジウンデシル、フマル酸ジドデシル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−2−エチルへキシル等が挙げられる。またこれらはフッ素、塩素などのハロゲン基、エーテル基、エステル基またはアミノ基で置換されていてもよい。これらは1種または2種以上含まれていてもよい。
Figure 0005625898
(In the formula, each A independently represents hydrogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)
As the fumarate diester residue unit represented by the general formula (1), for example, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, dipropyl fumarate, dibutyl fumarate, dipentyl fumarate, dihexyl fumarate, diheptyl fumarate, fumaric acid Examples include dioctyl, dinonyl fumarate, didecyl fumarate, diundecyl fumarate, didodecyl fumarate, diisobutyl fumarate, di-2-ethylhexyl fumarate, and the like. These may be substituted with a halogen group such as fluorine or chlorine, an ether group, an ester group or an amino group. One or more of these may be contained.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂に含まれるフマル酸ジイソプロピル残基単位とフマル酸ジターシャリーブチル残基単位と一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位の組成は、特に限定するものではないが、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れるものとなることからフマル酸ジイソプロピル残基単位10〜98モル%、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位1〜45モル%、及び一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位1〜45モル%が好ましく、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度がより優れるものとなることからフマル酸ジイソプロピル残基単位20〜90モル%、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位5〜40モル%、及び一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位5〜40モル%がさらに好ましい。   The composition of the diisopropyl fumarate residue unit, ditertiary butyl fumarate residue unit and the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (1) contained in the fumaric acid diester resin of the present invention is particularly limited. However, since the retardation characteristics and strength when used as a retardation film are excellent, diisopropyl fumarate residue units of 10 to 98 mol%, ditertiary butyl fumarate residue units of 1 to 45 mol%, and 1 to 45 mol% of the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (1) is preferable, and since the retardation property and strength when the retardation film is obtained, the diisopropyl fumarate residue unit 20 ~ 90 mol%, ditertiary butyl fumarate residue units 5 to 40 mol%, and a single fumaric acid diester residue represented by the general formula (1) More preferably 5 to 40 mol%.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位、(メタ)アクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;前記フマル酸ジエステル残基単位以外のフマル酸ジエステル類残基単位等を例示することができ、これらの残基単位は1種でもよく2種以上含んでいてもよい。   The fumaric acid diester resin of the present invention may contain other monomer residue units as long as it does not exceed the scope of the present invention. Examples of other monomer residue units include styrene residues. Styrene residue units such as group units and α-methylstyrene residue units; (meth) acrylic acid residue units; (meth) methyl acrylate residue units, (meth) ethyl acrylate residue units, (meth) (Meth) acrylate residue units such as butyl acrylate residue units; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residue units, (meth) acrylonitrile residues Unit: vinyl ether residue unit such as methyl vinyl ether residue unit, ethyl vinyl ether residue unit, butyl vinyl ether residue unit; N-methylmaleimide residue unit, N-silane N-substituted maleimide residue units such as rohexylmaleimide residue units and N-phenylmaleimide residue units; olefin residue units such as ethylene residue units and propylene residue units; other than the fumarate diester residue units The fumaric acid diester residue unit and the like can be exemplified, and these residue units may be one kind or two or more kinds.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂は、位相差フィルムとしたときの製膜性や位相差特性が優れていることからゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量は50,000〜500,000が好ましく、位相差フィルムとしたときの製膜性や位相差特性がより優れていることから80,000〜400,000がさらに好ましい。   Since the fumaric acid diester resin of the present invention has excellent film forming properties and retardation characteristics when used as a retardation film, it is a standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The converted number average molecular weight is preferably from 50,000 to 500,000, and more preferably from 80,000 to 400,000 because the film forming property and retardation properties when used as a retardation film are more excellent.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂の製造方法としては、例えば、フマル酸ジイソプロピルとフマル酸ジターシャリーブチルと一般式(1)で表されるフマル酸ジエステルをラジカル重合することにより製造できる。   As a manufacturing method of the fumaric acid diester resin of the present invention, for example, it can be manufactured by radical polymerization of diisopropyl fumarate, ditertiary butyl fumarate and the fumaric acid diester represented by the general formula (1).

ラジカル重合は、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれも採用可能である。   For the radical polymerization, for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method and the like can be adopted.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオキサイド、ターシャリーブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ターシャリーブチルパーオキシアセテート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエート、ターシャリーブチルパーオキシピバレート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used in radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, and tertiary oxide. Organic peroxides such as butyl peroxyacetate, tertiary butyl peroxybenzoate, and tertiary butyl peroxypivalate; 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis Examples thereof include azo initiators such as isobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), and the like.

ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   The polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and is generally preferably performed in the range of 30 to 150 ° C.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂を光学フィルムとしたときに、薄膜においても高い面外位相差を有し、かつ波長依存性が小さい等の光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。なお、該位相差フィルムは微粒子を添加する必要のない位相差フィルムである。   When the fumaric acid diester resin of the present invention is used as an optical film, it has a high out-of-plane retardation even in a thin film and is excellent in optical properties such as small wavelength dependence. preferable. The retardation film is a retardation film that does not require addition of fine particles.

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることが好ましい。nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCD、半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸などによって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異的な挙動を示すことを見出している。   In the retardation film of the present invention, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film plane orthogonal thereto is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz. Is preferably nx ≦ ny <nz. By satisfying nx ≦ ny <nz, a retardation film excellent in viewing angle compensation performance such as STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, and transflective LCD can be obtained. In general, since the control of the three-dimensional refractive index of a film is performed by stretching the film and the like, the manufacturing process and quality control are complicated. Has been found to exhibit a specific behavior of high.

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、下記式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−50〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましい。   In addition, since the retardation film of the present invention becomes a retardation film with more excellent optical properties, an out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is −50 to −2000 nm. It is preferable that it is -100--500 nm.

Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(式中、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは、薄膜においても高い面外位相差を有することから、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値で4.7nm/μm以上が好ましく、5〜15nm/μmがさらに好ましい。
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(In the formula, d represents the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) is preferably 4.7 nm / μm or more, 15 nm / μm is more preferable.

位相差の波長依存性は、波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比(R450/R550)として表すことができる。本発明の位相差フィルムでは、R450/550は1.1以下が好ましく、1.08以下がさらに好ましく、1.05以下が特に好ましい。   The wavelength dependence of the phase difference can be expressed as a ratio (R450 / R550) of the phase difference (R450) measured at a wavelength of 450 nm and the phase difference (R550) measured at a wavelength of 550 nm. In the retardation film of the present invention, R450 / 550 is preferably 1.1 or less, more preferably 1.08 or less, and particularly preferably 1.05 or less.

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   The retardation film of the present invention has good image quality characteristics when used in a liquid crystal display element, so that the light transmittance is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. The haze (cloudiness) of the retardation film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が含有していることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独または併用して用いてもよい。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダードフェノール系酸化防止剤100重量部に対してリン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するフマル酸ジエステル系樹脂100重量部に対して、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   The retardation film of the present invention preferably contains an antioxidant during film formation or in order to increase the thermal stability of the retardation film itself. Examples of the antioxidant include hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is especially preferable to mix and use 100-500 weight part of phosphorus antioxidant with respect to 100 weight part of hindered phenolic antioxidant. Moreover, as addition amount of antioxidant, 0.01-10 weight part is preferable with respect to 100 weight part of fumaric-acid diester type resin which comprises the phase difference film of this invention, 0.5-1 weight part is preferable. Further preferred.

本発明の位相差フィルムは、耐光性を高めるために紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等が挙げられる。   The retardation film of the present invention may contain an ultraviolet absorber in order to improve light resistance. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like.

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を逸脱しない範囲において、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等の添加剤を含有してもよい。   The retardation film of the present invention can be added within the scope of the invention without adding other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc. An agent may be contained.

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。   Examples of the method for producing the retardation film of the present invention include methods such as a solution casting method and a melt casting method.

溶液キャスト法は、フマル酸ジエステル系樹脂を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。ドープはフマル酸ジエステル系樹脂の他、必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、その他添加剤を溶媒に溶解したものでもよい。ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際にはドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。また、その際に使用する溶媒としては、フマル酸ジエステル系樹脂が溶解する限り特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。   The solution casting method is a method of obtaining a film by casting a solution in which a fumaric acid diester resin is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as a dope) on a support substrate and then removing the solvent by heating or the like. In addition to the fumaric acid diester resin, the dope may be prepared by dissolving an antioxidant, an ultraviolet absorber, and other additives in a solvent as necessary. As a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, or the like is used. Particularly, industrially, the most common method is to continuously extrude a dope from a die onto a belt-like or drum-like support substrate. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, More preferably, it is 10,000 cPs. In addition, the solvent used in that case is not particularly limited as long as the fumaric acid diester resin is dissolved. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate and acetic acid Examples thereof include esters such as butyl; ethers such as tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as chloroform.

この際のフマル酸ジエステル系樹脂の塗布厚は、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは5〜100μm、特に好ましくは10〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the fumaric acid diester resin is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 5 to 100 μm, and particularly preferably 10 to 50 μm.

また、溶融キャスト法は、フマル酸ジエステル系樹脂を押出機内で溶融し、Tダイなどの狭いスリットダイからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形方法である。この際、ダイ内部の溶融樹脂の流路を最適化し、ダイリップのクリアランスを制御することで高精度のフィルム厚さ制御ができる。   The melt casting method is a molding method in which a fumaric acid diester resin is melted in an extruder and extruded from a narrow slit die such as a T die into a film shape and then cooled and cooled with a roll or air. At this time, the film thickness can be controlled with high accuracy by optimizing the flow path of the molten resin inside the die and controlling the clearance of the die lip.

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。   The retardation film of the present invention can be used by being peeled off from a glass substrate as a base material or another optical film, and can also be used as a laminate with a glass substrate as a base material or another optical film.

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含有する偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film of the present invention can be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, and can be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. It is. Furthermore, the retardation films of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したフマル酸ジエステル系樹脂を提供することができる。   According to the present invention, the refractive index in the thickness direction of a film useful as a compensation film or antireflection film for contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display is large, the out-of-plane retardation is negatively large, and the wavelength dependency is small. A fumaric acid diester resin suitable for a retardation film having excellent optical properties can be provided.

本発明のフマル酸ジエステル系樹脂は、薄膜においても高い面外位相差を有し、フィルムの厚み方向の屈折率が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れる位相差フィルムに適したフマル酸ジエステル系樹脂であり、特に液晶表示素子用の光学補償フィルム材料として適したものである。   The fumaric acid diester resin of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, has a large refractive index in the thickness direction of the film, and is excellent in optical characteristics such as a low wavelength dependency. It is an acid diester resin and is particularly suitable as an optical compensation film material for liquid crystal display elements.

延伸による屈折率楕円体の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the refractive index ellipsoid by extending | stretching.

以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下、実施例の評価・測定に用いた方法を示す。なお、断りのない限り用いた試薬は市販品を用いた。   Hereafter, the method used for evaluation and measurement of an Example is shown. Unless otherwise noted, commercially available reagents were used.

<フマル酸ジエステル類の組成の測定>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Measurement of composition of fumaric acid diesters>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-GX270), it was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis.

<数平均分子量>
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC−8320GPC(カラムSuperHM−Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (trade name HLC-8320GPC (equipped with column SuperHM-H) manufactured by Tosoh Corporation) using tetrahydrofuran as a solvent, it was measured at 40 ° C. and obtained as a standard polystyrene equivalent value.

<透明性の評価>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Evaluation of transparency>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年度版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
Measurement was performed using an Abbe refractometer (manufactured by Atago) in accordance with JIS K 7142 (1981 version).

<フィルムの位相差および三次元屈折率>
全自動複屈折率計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
<Film retardation and three-dimensional refractive index>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

合成例1
攪拌機および温度計を備えた300mLのオートクレーブに、エチレングリコールジメチルエーテル60mL、マレイン酸20g、硫酸4gを仕込んだ後、2−メチルプロピレン51gを圧入し、撹拌しながら40℃で2時間反応を行った。
Synthesis example 1
A 300 mL autoclave equipped with a stirrer and a thermometer was charged with 60 mL of ethylene glycol dimethyl ether, 20 g of maleic acid, and 4 g of sulfuric acid.

上記反応で得られた反応液を中和および水洗することにより得られたマレイン酸ジターシャリーブチルのエチレングリコールジメチルエーテル溶液80mL、およびピペリジン0.3gを、撹拌機、冷却器および温度計を備えた150mLの三つ口に仕込み、撹拌しながら110℃で2時間反応させた。得られた反応液をGC分析した結果、フマル酸ジターシャリーブチルへの異性化率は99%であった。得られた反応液の溶媒を留去したのち昇華を行い、純度99%のフマル酸ジターシャリーブチル22gを得た。   80 mL of ethylene glycol dimethyl ether solution of ditertiary butyl maleate obtained by neutralizing and washing the reaction solution obtained in the above reaction and 0.3 g of piperidine were added to 150 mL equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer. The reaction was carried out at 110 ° C. for 2 hours with stirring. As a result of GC analysis of the obtained reaction liquid, the isomerization rate to ditertiary butyl fumarate was 99%. After distilling off the solvent of the obtained reaction liquid, sublimation was performed to obtain 22 g of ditertiary butyl fumarate having a purity of 99%.

その後、上記と同じ合成を5回行い、純度99%のフマル酸ジターシャリーブチル110gを得た。   Thereafter, the same synthesis as described above was performed 5 times to obtain 110 g of ditertiary butyl fumarate having a purity of 99%.

実施例1
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)、合成例1で得られたフマル酸ジターシャリーブチル1.9g(0.008モル)、フマル酸ジエチル2.8g(0.016モル)、および重合開始剤であるターシャリーブチルパーオキシピバレート0.24g(0.0014モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂48gを得た(収率:88%)。
Example 1
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate, 1.9 g (0.008 mol) of ditertiary butyl fumarate obtained in Synthesis Example 1, and 2.8 g (0.016 mol) of diethyl fumarate ) And 0.24 g (0.0014 mol) of tertiary butyl peroxypivalate which is a polymerization initiator, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 48 g of a fumaric acid diester resin (yield: 88%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は152,000であった。また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=93/3/4であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 152,000. In addition, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 93/3/4.

実施例2
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル10g(0.05モル)、合成例1で得られたフマル酸ジターシャリーブチル26.6g(0.117モル)、フマル酸ジエチル28.7g(0.166モル)、および重合開始剤であるターシャリーブチルパーオキシピバレート1.16g(0.007モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを57℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂50gを得た(収率:77%)。
Example 2
In a glass ampoule with a capacity of 75 mL, 10 g (0.05 mol) of diisopropyl fumarate, 26.6 g (0.117 mol) of ditertiary butyl fumarate obtained in Synthesis Example 1, and 28.7 g (0.166 mol) of diethyl fumarate ), And 1.16 g (0.007 mol) of tertiary butyl peroxypivalate as a polymerization initiator, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 57 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 50 g of a fumaric acid diester resin (yield: 77%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は53,000であった。また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=20/39/41であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 53,000. Further, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 20/39/41.

実施例3
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル35g(0.175モル)、合成例1で得られたフマル酸ジターシャリーブチル25.5g(0.112モル)、フマル酸ジエチル2.6g(0.015モル)、および重合開始剤であるターシャリーブチルパーオキシピバレート0.1g(0.0005モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを35℃の恒温槽に入れ、120時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂38gを得た(収率:60%)。
Example 3
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 35 g (0.175 mol) of diisopropyl fumarate, 25.5 g (0.112 mol) of ditertiary butyl fumarate obtained in Synthesis Example 1, and 2.6 g (0.015 mol) of diethyl fumarate ), And 0.1 g (0.0005 mol) of tertiary butyl peroxypivalate as a polymerization initiator, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 35 ° C. and held for 120 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 38 g of a fumaric acid diester resin (yield: 60%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は402,000であった。また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=61/34/5であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 402,000. In addition, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 61/34/5.

実施例4
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル60g(0.3モル)、合成例1で得られたフマル酸ジターシャリーブチル3g(0.013モル)、フマル酸ジメチル2.9g(0.02モル)、および重合開始剤であるターシャリーブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを47℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂52gを得た(収率:79%)。
Example 4
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 60 g (0.3 mol) of diisopropyl fumarate, 3 g (0.013 mol) of ditertiary butyl fumarate obtained in Synthesis Example 1, 2.9 g (0.02 mol) of dimethyl fumarate, Then, 0.29 g (0.0017 mol) of tertiary butyl peroxypivalate as a polymerization initiator was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 47 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 52 g of a fumaric acid diester resin (yield: 79%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は155,000であった。また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=91/5/4であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 155,000. In addition, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 91/5/4.

実施例5
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル44g(0.220モル)、合成例1で得られたフマル酸ジターシャリーブチル14g(0.061モル)、フマル酸ジノルマルブチル7g(0.031モル)および重合開始剤であるターシャリーブチルパーオキシピバレート0.3g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを45℃の恒温槽に入れ、48時間保持することにより、ラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂51gを得た(収率:78%)。
Example 5
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 44 g (0.220 mol) of diisopropyl fumarate, 14 g (0.061 mol) of ditertiary butyl fumarate obtained in Synthesis Example 1, 7 g (0.031 mol) of dinormal butyl fumarate and Tertiary butyl peroxypivalate 0.3g (0.0017mol) which is a polymerization initiator was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, it was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a 45 ° C. constant temperature bath and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 51 g of a fumaric acid diester resin (yield: 78%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は194,000であった。また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジノルマルブチル残基単位=70/23/7であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 194,000. Further, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / dinormal butyl fumarate residue unit = 70/23/7.

実施例6
実施例1で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み14μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Example 6
The fumaric acid diester resin obtained in Example 1 was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 15% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 14 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.466であった。三次元屈折率はnx=1.4642、ny=1.4642、nz=1.4697であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差(Rth)は−77nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.01と小さい値であった。また、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)は5.5nm/μmであった。   The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.466. The three-dimensional refractive index was nx = 1.642, ny = 1.6422, nz = 1.4697, and nx = ny <nz, indicating a large value of the refractive index in the thickness direction of the film. The out-of-plane retardation (Rth) was as negative as −77 nm, and the retardation ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was as small as 1.01. The out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was 5.5 nm / μm.

これらの結果より、得られた位相差フィルムは、負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。   From these results, the obtained retardation film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane retardation, a small wavelength dependency, and a high surface even in a thin film. It had an external phase difference.

実施例7
実施例2で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して10重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み13μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Example 7
The fumaric acid diester resin obtained in Example 2 was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 10% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 13 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.439であった。三次元屈折率はnx=1.4372、ny=1.4372、nz=1.4426であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差(Rth)は−71nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.01と小さい値であった。また、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値は5.5nm/μmであった。   The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.439. The three-dimensional refractive index was nx = 1.4372, ny = 1.4372, and nz = 1.4426, and nx = ny <nz, indicating a large value of the refractive index in the thickness direction of the film. The out-of-plane phase difference (Rth) was as negative as −71 nm, and the phase difference ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was as small as 1.01. The absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was 5.5 nm / μm.

これらの結果より、得られた位相差フィルムは、負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。   From these results, the obtained retardation film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane retardation, a small wavelength dependency, and a high surface even in a thin film. It had an external phase difference.

実施例8
実施例3で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して10重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み15μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Example 8
The fumaric acid diester resin obtained in Example 3 was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 10% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 15 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.454であった。三次元屈折率はnx=1.4521、ny=1.4521、nz=1.4578であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差(Rth)は−85nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.01と小さい値であった。また、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)は5.7nm/μmであった。   The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.454. The three-dimensional refractive index was nx = 1.4521, ny = 1.4521, and nz = 1.4578, and nx = ny <nz and the value of the refractive index in the thickness direction of the film were large. The out-of-plane retardation (Rth) was as negative as −85 nm, and the retardation ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was as small as 1.01. The out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was 5.7 nm / μm.

これらの結果より、得られた位相差フィルムは、負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。   From these results, the obtained retardation film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane retardation, a small wavelength dependency, and a high surface even in a thin film. It had an external phase difference.

実施例9
実施例4で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み16μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Example 9
The fumaric acid diester resin obtained in Example 4 was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 15% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 16 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.466であった。三次元屈折率はnx=1.4644、ny=1.4644、nz=1.4693であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差(Rth)は−78nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.01と小さい値であった。また、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値は4.9nm/μmであった。
これらの結果より、得られた位相差フィルムは、負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。
The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.466. The three-dimensional refractive index was nx = 1.644, ny = 1.644, nz = 1.4693, and nx = ny <nz, indicating a large value of the refractive index in the thickness direction of the film. Further, the out-of-plane retardation (Rth) was as negative as −78 nm, and the retardation ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was as small as 1.01. The absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was 4.9 nm / μm.
From these results, the obtained retardation film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane retardation, a small wavelength dependency, and a high surface even in a thin film. It had an external phase difference.

実施例10
実施例5で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、120℃で10分乾燥することにより、厚み17μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Example 10
The fumaric acid diester resin obtained in Example 5 was dissolved in methyl isobutyl ketone to give a 15% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 17 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、前光線透過率93%、ヘーズ0.3、屈折率1.467であった。三次元屈折率はnx=1.4652、ny=1.4652、nz=1.4706であり、nx<ny=nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差(Rth)は−92と負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.01と小さい値であった。また、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値は5.4nm/μmであった。   The obtained retardation film had a previous light transmittance of 93%, a haze of 0.3, and a refractive index of 1.467. The three-dimensional refractive indexes were nx = 1.4652, ny = 1.4652, and nz = 1.4706, and nx <ny = nz and a large refractive index in the thickness direction of the film were shown. Further, the out-of-plane phase difference (Rth) was as negative as -92, and the phase difference ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was as small as 1.01. The absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was 5.4 nm / μm.

これらの結果より、得られた位相差フィルムは、負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。   From these results, the obtained retardation film has negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane retardation, a small wavelength dependency, and a high surface even in a thin film. It had an external phase difference.

合成例2
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル64g(0.32モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.52g(0.003モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂57gを得た(収率:89%)。
Synthesis example 2
Into a 75 mL glass ampule, 64 g (0.32 mol) of diisopropyl fumarate and 0.52 g (0.003 mol) of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated. Sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 24 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 57 g of a fumaric acid diester resin (yield: 89%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は115,000であった。   The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 115,000.

また、H−NMR測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=100/0/0であることを確認した。 Further, 1 H-NMR measurement confirmed that the resin composition was diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 100/0/0.

合成例3
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジ−tert−ブチル60g(0.263モル)および重合開始剤である2,2’−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル0.4g(0.002モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを80℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応の終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエステル系樹脂48gを得た(収率:80%)。
Synthesis example 3
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 60 g (0.263 mol) of di-tert-butyl fumarate and 0.4 g (0.002 mol) of 2,2′-azobiscyclohexanecarbonitrile as a polymerization initiator, and replaced with nitrogen. After repeating the depressurization, it was sealed in a reduced pressure state. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 80 ° C. and kept for 24 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 48 g of a fumaric acid diester resin (yield: 80%).

得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は48,000であった。また、H−NMR測定により、フマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジターシャリーブチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=0/100/0であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester resin was 48,000. 1 H-NMR measurement confirmed that diisopropyl fumarate residue unit / ditertiary butyl fumarate residue unit / diethyl fumarate residue unit = 0/100/0.

比較例1
合成例2で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をメチルイソブチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み14μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Comparative Example 1
The fumaric acid diester resin obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness. A retardation film of 14 μm fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.470であった。三次元屈折率はnx=1.4689、ny=1.4689、nz=1.4723であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差(Rth)は−48nmと負に小さく、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値も3.4nm/μmと小さかった。   The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.470. The three-dimensional refractive index was nx = 1.46889, ny = 1.4689, nz = 1.4723, and nx = ny <nz and the refractive index in the thickness direction of the film was large, but the out-of-plane retardation (Rth) was as negative as −48 nm, and the absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was as small as 3.4 nm / μm.

比較例2
合成例3で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をテトラヒドロフランに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、120℃で10分乾燥することにより、厚み14μmのフマル酸ジエステル系樹脂の位相差フィルムを得た。
Comparative Example 2
The fumaric acid diester resin obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in tetrahydrofuran to give a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness of 14 μm. A phase difference film of a fumaric acid diester resin was obtained.

得られた位相差フィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.437であった。三次元屈折率はnx=1.4364、ny=1.4364、nz=1.4381であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差(Rth)は−24nmと負に小さく、面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値も1.7nm/μmと小さかった。   The obtained retardation film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.437. The three-dimensional refractive index was nx = 1.4364, ny = 1.4364, nz = 1.4381, and nx = ny <nz and the refractive index in the thickness direction of the film was large, but the out-of-plane retardation (Rth) was as negative as −24 nm, and the absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (μm) was also as small as 1.7 nm / μm.

nx;フィルム面内の進相軸方向の屈折率
ny;nxと直交するフィルム面内方向の屈折率
nz;フィルムの厚み方向の屈折率
nx: refractive index in the fast axis direction in the film plane ny: refractive index in the film in-plane direction orthogonal to nx nz: refractive index in the film thickness direction

Claims (8)

フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位、及び下記一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位を含むことを特徴とするフマル酸ジエステル系樹脂。
Figure 0005625898
(式中、Aはそれぞれ独立して水素、又は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基若しくは分岐状アルキル基を示す。)
A fumarate diester resin comprising a diisopropyl fumarate residue unit, a ditertiary butyl fumarate residue unit, and a fumarate diester residue unit represented by the following general formula (1):
Figure 0005625898
(In the formula, each A independently represents hydrogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)
フマル酸ジイソプロピル残基単位が10〜98モル%で、フマル酸ジターシャリーブチル残基単位が1〜45モル%で、一般式(1)で表されるフマル酸ジエステル残基単位が1〜45モル%であることを特徴とする請求項1に記載のフマル酸ジエステル系樹脂。 The diisopropyl fumarate residue unit is 10 to 98 mol%, the ditertiary butyl fumarate residue unit is 1 to 45 mol%, and the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (1) is 1 to 45 mol%. The fumaric acid diester resin according to claim 1, wherein 数平均分子量が50,000〜500,000であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフマル酸ジエステル系樹脂。 The number average molecular weight is 50,000-500,000, The fumaric acid diester resin according to claim 1 or 2. 請求項1〜請求項3のいずれかの項に記載のフマル酸ジエステル系樹脂を含有することを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film comprising the fumaric acid diester resin according to any one of claims 1 to 3. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項4に記載の位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx ≦ ny <nz. The retardation film according to claim 4, wherein the retardation film is provided. 下記式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−50〜−2000nmであることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の位相差フィルム。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(式中、dはフィルムの厚みを示す。)
The retardation film according to claim 4 or 5, wherein an out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is -50 to -2000 nm.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(In the formula, d represents the thickness of the film.)
面外位相差(Rth)/フィルム膜厚(μm)の絶対値が4.7nm/μm以上であることを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかの項に記載の位相差フィルム。 The retardation film according to any one of claims 4 to 6, wherein an absolute value of out-of-plane retardation (Rth) / film thickness (µm) is 4.7 nm / µm or more. 波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比(R450/R550)が1.1以下であることを特徴とする請求項4〜請求項7のいずれかの項に記載の位相差フィルム。 The ratio (R450 / R550) of the phase difference (R450) measured at a wavelength of 450 nm to the phase difference (R550) measured at a wavelength of 550 nm is 1.1 or less, and any one of claims 4 to 7 The retardation film as described in the item.
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