JP7047340B2 - Copolymer and retardation film using it - Google Patents

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JP7047340B2 JP2017222844A JP2017222844A JP7047340B2 JP 7047340 B2 JP7047340 B2 JP 7047340B2 JP 2017222844 A JP2017222844 A JP 2017222844A JP 2017222844 A JP2017222844 A JP 2017222844A JP 7047340 B2 JP7047340 B2 JP 7047340B2
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Description

本発明は、新規な共重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムまたは有機EL用円偏光板の位相差フィルムに適した新規な共重合体に関するものである。 The present invention relates to a novel copolymer and a retardation film using the same, and more specifically, a retardation film having a high retardation even in a thin film, particularly an optical compensation film or an organic film for a liquid crystal display element. The present invention relates to a novel copolymer suitable for a retardation film of a circular polarizing plate for EL.


液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、スマートフォン、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。

Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including smartphones, computer monitors, notebook computers, and televisions.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。 Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics, and in particular, retardation films play a major role in improving contrast when viewed from the front or at an angle, and compensating for color tones. Polycarbonate and cyclic polyolefin are used as the conventional retardation film, and all of these polymers have positive birefringence. Here, the positive and negative of birefringence are defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。 The optical anisotropy of a polymer film molecularly oriented by stretching or the like is nx for the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane when the film is stretched, ny for the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to it, and film. It can be represented by a refractive index elliptical body in which the refractive index in the thickness direction of is nz.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。 That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (phase-advancing axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction orthogonal to the stretching axis. Refractive index is small (phase advance axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。 Many macromolecules have positive birefringence. Acrylic resin and polystyrene are examples of polymers having negative birefringence, but acrylic resin has a small retardation and its characteristics as a retardation film are not sufficient. Polystyrene is not currently used because it has a large photoelastic coefficient in the low temperature region, so that the phase difference changes with a slight stress and the phase difference is stable, and the heat resistance is low. ..

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN-LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA-LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS-LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。 A polymer stretched film that exhibits negative double refraction has a high refractive index in the thickness direction of the film, resulting in an unprecedented retardation film. Therefore, for example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertically oriented liquid crystal display. (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc., useful as a retardation film for compensating the viewing angle characteristics and a viewing angle compensating film for deflection plates. There is a strong market demand for retardation films with negative double LCDs.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1~3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。 A method for producing a film in which the refractive index in the thickness direction of the film is increased by using a polymer having positive birefringence has been proposed. One is a treatment method in which a heat-shrinkable film is adhered to one or both sides of a polymer film, the laminate is heat-stretched, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film (for example, Patent Documents 1 to 3). See). Further, a method of uniaxially stretching in the plane while applying an electric field to the polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。 In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (see, for example, Patent Document 5).

しかし、特許文献1~4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。 However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that the productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Further, the control of the uniformity of the phase difference and the like is remarkably difficult as compared with the conventional control by stretching.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。 The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy, and is fine particles from the viewpoint of simplification of manufacturing method and economy. There is a demand for a retardation film that does not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6~12参照)。 Further, a fumaric acid diester copolymer and a film made thereof have been proposed (see, for example, Patent Documents 6 to 12).

特許文献6~12で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diester copolymer and the film made thereof proposed in Patent Documents 6 to 12 have a high phase difference, at present, a film having a high phase difference even in a thinner film is required. There is.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5-297223号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-297223 特開平5-323120号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-323120 特開平6-88909号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-888909 特開2005-156862号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-156862 特開2008-112141号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-112411 特開2012-032784号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-022784 WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 Gazette 特開2008-129465号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-129465 特開2006-193616号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-193616 WO2014/013982号公報WO2014 / 013982A WO2014/084178号公報WO2014 / 084178 Gazette

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜においても高い位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規な共重合体を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a novel copolymer suitable for a retardation film having a high retardation and excellent optical properties even in a thin film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a specific copolymer can solve the above-mentioned problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(2)で表される残基単位Bを含むことを特徴とする共重合体およびそれを用いた位相差フィルムに関するものである。 That is, the present invention is characterized by including a residue unit A represented by the general formula (1) and a residue unit B represented by the general formula (2), and a phase difference using the copolymer. It's about film.

Figure 0007047340000001
Figure 0007047340000001

(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(-C(=O)OX)、アミド基(-C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(-C(=O)X)(ここで、X~Xはそれぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。R~Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(-OX)、エステル基(-C(=O)OX)、アミド基(-C(=O)N(X)(X))、アシル基(-C(=O)X)、アミノ基(-N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(-SOOX12)(ここで、X~Xは、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示し、X~X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示す。)を示す。また、R~Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 1 and R 2 are independently hydrogen (except when both R 1 and R 2 are hydrogen), a cyano group, an ester group (-C (= O) OX 1 ), and the like. An amide group (-C (= O) N (X 2 ) (X 3 )) or an acyl group (-C (= O) X 4 ) (where X 1 to X 3 have 1 carbon atoms independently. It represents a linear alkyl group having 12 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number of carbon atoms. Indicates a branched alkyl group of 1 to 12 or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) R 3 to R 7 are independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and carbon. Branched alkyl group of number 1-12, cyclic group of carbon number 3-14, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, alkoxy group (-OX 5 ), ester group (-C (= O)) OX 6 ), amide group (-C (= O) N (X 7 ) (X 8 )), acyl group (-C (= O) X 9 ), amino group (-N (X 10 ) (X 11 )) ), Or a sulfonic acid group ( -SOOX 12 ) (where, X5 to X8 are independently linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, or Cyclic alkyl groups having 3 to 6 carbon atoms are shown, and X 9 to X 12 are independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. 3 to 6 cyclic alkyl groups are shown.) Further, R 3 to R 7 may form a fused ring structure between adjacent substituents.)

Figure 0007047340000002
Figure 0007047340000002

(ここで、Rはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基を示し、mは5~10の整数を示す。前記m員環複素環残基および前記5員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。)
以下、本発明の位相差フィルムに適した共重合体について詳細に説明する。
(Here, R 8 indicates an m-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms or a 5-membered ring residue containing no heteroatom, and m indicates an integer of 5 to 10. The m-membered ring heterocycle. The ring residue and the 5-membered ring residue may form a fused ring structure with another ring structure.)
Hereinafter, the copolymer suitable for the retardation film of the present invention will be described in detail.

本発明の共重合体は、一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(2)で表される残基単位Bを含むことを特徴とする共重合体である。そして、該共重合体は、該残基単位A及び該残基単位Bを含んでなることにより、より薄膜においても高い位相差を発現することを特徴とする。 The copolymer of the present invention is a copolymer characterized by containing a residue unit A represented by the general formula (1) and a residue unit B represented by the general formula (2). The copolymer is characterized by containing the residue unit A and the residue unit B, thereby exhibiting a high phase difference even in a thinner film.

本発明の一般式(1)におけるR、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(-C(=O)OX)、アミド基(-C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(-C(=O)X)(ここで、X~Xはそれぞれ独立して、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。 R 1 and R 2 in the general formula (1) of the present invention are independently hydrogen (except when both R 1 and R 2 are hydrogen), a cyano group, and an ester group (-C (= O). ) OX 1 ), amide group (-C (= O) N (X 2 ) (X 3 )), or acyl group (-C (= O) X 4 ) (where X 1 to X 3 are independent of each other. A linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms is shown, and X4 is a linear group having 1 to 12 carbon atoms. A cyclic alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms is shown).

~Xにおける炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、X~Xにおける炭素数3~6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、Xにおける炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X1 to X4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isobutyl group and the like, and cyclic groups having 3 to 6 carbon atoms in X1 to X3. Examples of the alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms in X4 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group and a phenyl group. Examples include naphthyl groups.

本発明の一般式(1)におけるRとしては、より高い位相差を発現することから、シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、n-プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn-プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基であることが好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n-プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn-プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ベンゾイル基であることがさらに好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n-プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。 Since R 1 in the general formula (1) of the present invention exhibits a higher phase difference, it may be a cyano group; a methyl ester group, an ethyl ester group, an n-propyl ester group, an isopropyl ester group, an isobutyl ester group, or the like. Ester group; Amid group such as dimethylamide group, diethylamide group, din-propylamide group, diisopropylamide group; preferably acyl group such as acetyl group, propionyl group, benzoyl group, cyano group, methyl ester group, etc. It is more preferably an ethyl ester group, an n-propyl ester group, an isopropyl ester group, an isobutyl ester group, a dimethylamide group, a diethylamide group, a din-propylamide group, a diisopropylamide group, or a benzoyl group, and more preferably a cyano group or a methyl ester. A group, an ethyl ester group, an n-propyl ester group, an isopropyl ester group, and an isobutyl ester group are particularly preferable.

本発明の一般式(1)におけるRとしては、より高い位相差を発現することから、水素;シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、n-プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基であることが好ましく、水素、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n-プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることがさらに好ましく、シアノ基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。 Since R 2 in the general formula (1) of the present invention exhibits a higher phase difference, hydrogen; cyano group; methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, and isobutyl ester group. Etc. are preferable, and hydrogen, cyano group, methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group and isobutyl ester group are more preferable, and cyano group and isobutyl ester group are used. It is particularly preferable to have.

本発明の一般式(1)におけるR~Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~6の環状アルキル基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(-OX)、エステル基(-C(=O)OX)、アミド基(-C(=O)N(X)(X))、アシル基(-C(=O)X)、アミノ基(-N(X10)(X11))、またはスルホニル基(-SOOX12)(ここで、X~Xは、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示し、X~X12はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3~6の環状アルキル基を示す。)を示す。また、R~Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。 R 3 to R 7 in the general formula (1) of the present invention are independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 3 to 6 carbon atoms, respectively. Cyclic alkyl group, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, alkoxy group (-OX 5 ), ester group (-C (= O) OX 6 ), amide group (-C (= O) N ( X 7 ) (X 8 )), acyl group (-C (= O) X 9 ), amino group (-N (X 10 ) (X 11 )), or sulfonyl group (-SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 8 respectively. 12 each independently indicates a hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.) Further, R 3 to R 7 may form a fused ring structure between adjacent substituents.

~Rにおける炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられ、炭素数3~6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 3 to R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include. , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like.

~Rにおけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 3 to R 7 include fluorine, chlorine, bromine and the like.

~X12における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられ、炭素数3~6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X5 to X12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include. , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like.

本発明の一般式(1)におけるR~Rとしては、より高い位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn-プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、スルホン酸基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n-プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基が好ましい。 Since R 3 to R 7 in the general formula (1) of the present invention exhibit a higher phase difference, they have a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group and a sec-butyl group. , Tart-butyl group, isobutyl group, cyclohexyl group, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, hydroxy group, carboxy group, formyl group, cyano group, nitro group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group. , Methyl ester group, Ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, dimethylamide group, diethylamide group, din-propylamide group, diisopropylamide group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, dimethyl Amino group, diethylamino group, din-propylamino group, diisopropylamino group, sulfonic acid group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group and isopropylsulfonyl group are preferable.

具体的な一般式(1)で表される残基単位Aとしては、例えば、α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-メチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-メチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-メチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-エチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-エチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-エチル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-n-プロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-n-プロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-n-プロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-イソプロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-イソプロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-イソプロピル-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-フルオロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-フルオロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-フルオロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-クロロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-クロロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-クロロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-ブロモ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-ブロモ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-ブロモ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-シアノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-シアノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-シアノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-ニトロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-ニトロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-ニトロ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-メトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-メトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-メトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-エトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-エトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-エトキシ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、2-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、3-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、4-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-メチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-メチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-メチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-エチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-エチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-エチル-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-フルオロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-フルオロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-フルオロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-クロロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-クロロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-クロロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-ブロモ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-ブロモ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-ブロモ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-シアノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-シアノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-シアノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-ニトロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-ニトロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-ニトロ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-メトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-メトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-メトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-エトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-エトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-エトキシ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、2-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、3-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、4-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-メチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-メチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-メチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-エチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-エチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-エチル-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-フルオロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-フルオロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-フルオロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-クロロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-クロロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-クロロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-ブロモ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-ブロモ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-ブロモ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-シアノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-シアノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-シアノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-ニトロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-ニトロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-ニトロ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-メトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-メトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-メトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-エトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-エトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-エトキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、2-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、3-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、4-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-メチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-メチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-メチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-エチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-エチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-エチル-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-メチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-メチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-メチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-エチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-エチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-エチル-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-フルオロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-クロロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-ブロモ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-シアノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-ニトロ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-メトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-エトキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-ジメチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4-ジエチルアミノ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、2-メチルベンザルマロノニトリル残基単位、3-メチルベンザルマロノニトリル残基単位、4-メチルベンザルマロノニトリル残基単位、2-エチルベンザルマロノニトリル残基単位、3-エチルベンザルマロノニトリル残基単位、4-エチルベンザルマロノニトリル残基単位、2-フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、3-フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、4-フルオロベンザルマロノニトリル残基単位、2-クロロベンザルマロ
ノニトリル残基単位、3-クロロベンザルマロノニトリル残基単位、4-クロロベンザルマロノニトリル残基単位、2-ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、3-ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、4-ブロモベンザルマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2-シアノベンザルマロノニトリル残基単位、3-シアノベンザルマロノニトリル残基単位、4-シアノベンザルマロノニトリル残基単位、2-ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、3-ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、4-ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、2-メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、3-メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、4-メトキシベンザルマロノニトリル残基単位、2-エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、3-エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、4-エトキシベンザルマロノニトリル残基単位、2-ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、3-ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、4-ジメチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、2-ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、3-ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、4-ジエチルアミノベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、2-メチルシンナモニトリル残基単位、3-メチルシンナモニトリル残基単位、4-メチルシンナモニトリル残基単位、2-エチルシンナモニトリル残基単位、3-エチルシンナモニトリル残基単位、4-エチルシンナモニトリル残基単位、2-フルオロシンナモニトリル残基単位、3-フルオロシンナモニトリル残基単位、4-フルオロシンナモニトリル残基単位、2-クロロシンナモニトリル残基単位、3-クロロシンナモニトリル残基単位、4-クロロシンナモニトリル残基単位、2-ブロモシンナモニトリル残基単位、3-ブロモシンナモニトリル残基単位、4-ブロモシンナモニトリル残基単位、2-メトキシシンナモニトリル残基単位、3-メトキシシンナモニトリル残基単位、4-メトキシシンナモニトリル残基単位、2-エトキシシンナモニトリル残基単位、3-エトキシシンナモニトリル残基単位、4-エトキシシンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、2-メチルカルコン残基単位、3-メチルカルコン残基単位、4-メチルカルコン残基単位、2-エチルカルコン残基単位、3-エチルカルコン残基単位、4-エチルカルコン残基単位、2-メトキシカルコン残基単位、3-メトキシカルコン残基単位、4-メトキシカルコン残基単位、2-エトキシカルコン残基単位、3-エトキシカルコン残基単位、4-エトキシカルコン残基単位、ベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジn-プロピル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、N,N-ジメチルシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチルシンナムアミド残基単位、N,N-ジn-プロピルシンナムアミド残基単位、N,N-ジイソプロピルシンナムアミド残基単位等が挙げられる。
Specific examples of the residue unit A represented by the general formula (1) include α-methyl cyanosilicate residue unit, 2-methyl-α-cyanosilicate methyl residue unit, and 3-methyl-α. -Methyl cyanosilicate residue unit, 4-Methyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 2-Ethyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 3-Ethyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit , 4-Ethyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 2-n-propyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 3-n-propyl-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 4-n -Methyl propyl-α-cyanokei dermatode residue unit, 2-isopropyl-α-Methyl cyanokei rind residue unit, 3-isopropyl-α-Methyl cyanokei dermatode residue unit, 4-isopropyl-α-cyanokei rind acid Methyl residue unit, 2-fluoro-α-cyanosilicate methyl residue unit, 3-fluoro-α-cyanosilicate methyl residue unit, 4-fluoro-α-cyanosilicate methyl residue unit, 2-chloro -Α-Methyl cyanosilicate residue unit, 3-chloro-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 4-Chloro-α-Methyl cyanosilicate residue unit, 2-bromo-α-Methyl cyanosilicate residue Methyl group unit, 3-bromo-α-cyanosilicate methyl residue unit, 4-bromo-α-cyanosilicate methyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanosilicate methyl residue unit, 3-hydroxy-α -Methyl cyanosilicate residue unit, 4-hydroxy-α-methyl cyanosilicate residue unit, 2-cyano-α-methyl cyanosilicate residue unit, 3-cyano-α-methyl cyanosilicate residue unit , 4-Cyano-α-Cyanokei Methyl dermatode residue unit, 2-Nitro-α-Cyanokei Methyl dermatate residue unit, 3-Nitro-α-Cyanokei Methyl dermatate residue unit, 4-Nitro-α-Cyanokei Methyl skin acid residue unit, 2-methoxy-α-cyanokei methyl skin acid residue unit, 3-methoxy-α-cyanokei methyl skin acid residue unit, 4-methoxy-α-cyanokei methyl skin acid residue unit, 2 -Methyl ethoxy-α-cyanokei dermatode residue unit, 3-ethoxy-α-Methyl cyanokei rind residue unit, 4-ethoxy-α-cyanokei dermal acid methyl residue unit, 2-dimethylamino-α-cyanokei rind Methyl Acid Residue Unit, 3-dimethylamino-α-Cyanokei Methyl Skin Acid Residue Unit, 4-dimethylamino-α-Methyl Cyanokei Skin Acid Residue Unit, 2-diethylamino-α- Methyl cyanosilicate residue unit, 3-diethylamino-α-Methyl cyanokei dermal acid residue unit, 4-diethylamino-α-Methyl cyanokei rind residue unit, α-Ethyl cyanokei rind residue unit, 2-Methyl- α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-Methyl-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Methyl-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-Ethyl-α-Ethyl cyanosilicate residue unit Unit, 3-ethyl-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Ethyl-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-Fluoro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-Fluoro-α- Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-fluoro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-Chloro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-Chloro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Chloro-α-cyanokei syrup ethyl residue unit, 2-bromo-α-cyanokei syrup ethyl residue unit, 3-bromo-α-cyanokei syrup ethyl residue unit, 4-bromo-α-cyanokei rind Ethyl acid residue unit, 2-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanokei ethyl acid residue unit, 4-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl residue unit, 2- Ethyl cyano-α-cyanokei dermatate residue unit, 3-cyano-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-cyano-α-Ethyl cyanokei dermatate residue unit, 2-nitro-α-Ethyl cyanokei dermatate Residue unit, 3-nitro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Nitro-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-methoxy-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-methoxy- α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-methoxy-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-ethoxy-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-ethoxy-α-Ethyl cyanosilicate residue unit Unit, 4-ethoxy-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-dimethylamino-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-Dimethylamino-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Dimethylamino -Α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 2-diethylamino-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 3-diethylamino-α-Ethyl cyanosilicate residue unit, 4-Diethylamino-α-Ethyl cyanosilicate residue Group unit, α-cyanosilicate n-propyl residue unit, 2-methyl-α-cyanosilicate n-propyl residue unit, 3 -Methyl-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-methyl-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-ethyl-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-ethyl -Α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-ethyl-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-fluoro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-fluoro-α -Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-fluoro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-chloro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-chloro-α-cyanokei Propyl n-propyl residue unit, 4-chloro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-bromo-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-bromo-α-cyanokei skin acid n-Propyl residue unit, 4-bromo-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanokei skin acid n- Propyl residue unit, 4-hydroxy-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-cyano-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-cyano-α-cyanokei skin acid n-propyl residue Group unit, 4-cyano-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-nitro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-nitro-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit , 4-Nitro-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-methoxy-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-methoxy-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4, -Methyl-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-ethoxy-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-ethoxy-α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-ethoxy -Α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-dimethylamino-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-dimethylamino-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-dimethyl Amino-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 2-diethylamino-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 3-diethylamino-α-cyanokei skin acid n-propyl residue unit, 4-diethylamino- α-Cyanokei skin acid n-propyl residue unit, α-cyanokei skin acid isopropyl residue unit, 2-methyl-α-cyanokei skin acid isopropyl residue unit, 3-methyl- α-Cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-methyl-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-ethyl-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-ethyl-α-cyanosilicate isopropyl residue unit Unit, 4-ethyl-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-fluoro-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-fluoro-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-fluoro-α- Isopropyl cyanosilicate residue unit, 2-chloro-α-isopropyl cyanosilicate residue unit, 3-chloro-α-isopropyl cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-chloro-α-isopropyl cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-bromo-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-bromo-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-bromo-α-cyanosilicate isopropyl acid residue unit, 2-hydroxy-α-cyanokei skin Acid isopropyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl acid residue unit, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl acid residue unit, 2-cyano-α-cyanosilicate isopropyl acid residue unit, 3- Cyano-α-cyanokei isopropyl acid isopropyl residue unit, 4-cyano-α-cyanokei isopropyl acid isopropyl residue unit, 2-nitro-α-cyanokei isopropyl acid isopropyl residue unit, 3-nitro-α-cyanosilicate isopropyl acid isopropyl acid Residue unit, 4-nitro-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-methoxy-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-methoxy-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-methoxy- α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-ethoxy-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-ethoxy-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-ethoxy-α-cyanosilicate isopropyl residue unit Unit, 2-dimethylamino-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-dimethylamino-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-dimethylamino-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 2-diethylamino -Α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 3-diethylamino-α-cyanosilicate isopropyl residue unit, 4-diethylamino-α-cyanokei acid isopropyl residue unit, α-cyanokei acid isobutyl residue unit, 2 -Methyl-α-cyanokei Isobutyl skin acid residue unit, 3-methyl-α-cyanokei Isobutyl skin acid residue unit, 4-methyl-α-cyanokei Isobutyl skin acid residue unit, 2-ethyl-α-cyanokei isobutyl skin acid residue unit, 3-ethyl-α-cyanokei isobutyl skin acid residue unit, 4 -Ethyl-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 2-fluoro-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 3-fluoro-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 4-fluoro-α-cyanokei skin acid Isobutyl residue unit, 2-chloro-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 3-chloro-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 4-chloro-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 2-bromo -Α-Cyanokei syrup isobutyl residue unit, 3-bromo-α-cyanokei syrup isobutyl residue unit, 4-bromo-α-cyanokei syrup isobutyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanokei syrup isobutyl residue Group unit, 3-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 2-cyano-α-cyanosilicate isobutyl residue unit, 3-cyano-α -Isobutyl cyanosilicate residue unit, 4-cyano-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 2-nitro-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 3-nitro-α-isobutyl cyanosilicate residue unit , 4-Nitro-α-Cyanokei Isobutyl syrup residue unit, 2-Methoxy-α-Cyanokei Isobutyl syrup residue unit, 3-Methoxy-α-Cyanokei Isobutyl syrup residue unit, 4-Methoxy-α-Cyanokei Isobutyl skin acid residue unit, 2-ethoxy-α-cyanokei Isobutyl skin acid residue unit, 3-ethoxy-α-cyanokei isobutyl skin acid residue unit, 4-ethoxy-α-cyanokei isobutyl skin acid residue unit, 2 -Dimethylamino-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 3-dimethylamino-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 4-dimethylamino-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 2-diethylamino-α- Isobutyl cyanosilicate residue unit, 3-diethylamino-α-isobutyl cyanosilicate residue unit, 4-diethylamino-α-cyanosilicate isobutyl cyanosilicate residue unit, benzalmarononitrile residue unit, 2-methylbenzalmalono Nitrile residue unit, 3-methylbenzalmalononitrile residue unit, 4-methylbenzalmalononitrile residue unit, 2-ethylbenzalmalononitrile residue unit , 3-Ethylbenzalmalononitrile residue unit, 4-Ethylbenzalmalononitrile residue unit, 2-Fluorobenzalmarononitrile residue unit, 3-Fluorobenzalmalononitrile residue unit, 4-Fluorobenzal Marononitrile residue unit, 2-chlorobenzalmalononitrile residue unit, 3-chlorobenzalmarononitrile residue unit, 4-chlorobenzalmarononitrile residue unit, 2-bromobenzalmalononitrile residue unit, 3-bromobenzalmalononitrile residue unit, 4-bromobenzalmalononitrile residue unit, 2-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzalmalono Nitrile residue unit, 2-cyanobenzalmarononitrile residue unit, 3-cyanobenzalmarononitrile residue unit, 4-cyanobenzalmarononitrile residue unit, 2-nitrobenzalmalononitrile residue unit, 3 -Nitrobenzalmalononitrile residue unit, 4-nitrobenzalmalononitrile residue unit, 2-methoxybenzalmalononitrile residue unit, 3-methoxybenzalmalononitrile residue unit, 4-methoxybenzalmalononitrile residue unit Residual unit, 2-ethoxybenzalmalononitrile residue unit, 3-ethoxybenzalmarononitrile residue unit, 4-ethoxybenzalmalononitrile residue unit, 2-dimethylaminobenzalmalononitrile residue unit, 3 -Dimethylaminobenzalmalononitrile residue unit, 4-dimethylaminobenzalmarononitrile residue unit, 2-diethylaminobenzalmarononitrile residue unit, 3-diethylaminobenzalmarononitrile residue unit, 4-diethylaminobenzal Marononitrile residue unit, cinnamonitrile residue unit, 2-methylcinnamonitrile residue unit, 3-methylcinnamonitrile residue unit, 4-methylcinnamonitrile residue unit, 2-ethylcinnamonitrile residue unit Group unit, 3-ethylcinnamo nitrile residue unit, 4-ethylcinnamo nitrile residue unit, 2-fluorosinnamo nitrile residue unit, 3-fluorosinnamo nitrile residue unit, 4-fluorosinnamo nitrile residue Group unit, 2-chlorocinnamo nitrile residue unit, 3-chlorocinnamo nitrile residue unit, 4-chlorocinnamo nitrile residue unit, 2-bromocinnamo nitrile residue unit, 3-bromocinnamo nitrile residue Group unit, 4-bromocinnamonitrile residue unit, 2- Methoxysinnamo nitrile residue unit, 3-methoxycinnamo nitrile residue unit, 4-methoxysinnamo nitrile residue unit, 2-ethoxycinnamo nitrile residue unit, 3-ethoxysinnamo nitrile residue unit, 4- Ethoxycinnamonitrile residue unit, chalcone residue unit, 2-methylchalcone residue unit, 3-methylcalcon residue unit, 4-methylcalcon residue unit, 2-ethylchalcone residue unit, 3-ethylcarcon residue unit Group unit, 4-Ethylcalcon residue unit, 2-methoxycalcon residue unit, 3-methoxycalcon residue unit, 4-methoxycalcon residue unit, 2-ethoxycalcon residue unit, 3-ethoxycalcon residue unit , 4-ethoxycalcon residue unit, benzylidenemaronate dimethyl residue unit, benzilidenmaronate diethyl residue unit, benzilidenmalate din-propyl residue unit, benzilidenmalate diisopropyl residue unit, N, N-dimethylsin Examples thereof include a namamide residue unit, an N, N-diisopropylcinnamamide residue unit, an N, N-di-n-propylsinnamamide residue unit, an N, N-diisopropylcinnamamide residue unit and the like.

これらの中でも高い位相差を発現することから、α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位等のα-シアノケイ皮酸エステル残基単位;ベンザルマロノニトリル残基単位;ニトロベンザルマロノニトリル残基単位;シンナモニトリル残基単位;カルコン残基単位;2-メトキシカルコン残基単位、3-メトキシカルコン残基単位、4-メトキシカルコン残基単位、2-エトキシカルコン残基単位、3-エトキシカルコン残基単位、4-エトキシカルコン残基単位等のアルコキシカルコン残基単位;ベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジn-プロピル残基単位、ベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位;N,N-ジメチルシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチルシンナムアミド残基単位、N,N-ジn-プロピルシンナムアミド残基単位、N,N-ジイソプロピルシンナムアミド残基単位が好ましく、α-シアノケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位、α-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位等のα-シアノケイ皮酸エステル残基単位;ベンザルマロノニトリル残基単位がさらに好ましい。 Among these, since it exhibits the highest phase difference, α-cyanosilicate methyl residue unit, α-cyanosilicate ethyl residue unit, α-cyanosilicate n-propyl residue unit, α-cyanosilicate isopropyl acid Α-Cyanokei dermic acid ester residue unit such as residue unit, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl residue unit; benzalmarononitrile residue unit; nitrobenzalmarononitrile residue unit; cinnamonitrile residue Group unit; Calcon residue unit; 2-methoxycalcon residue unit, 3-methoxycalcon residue unit, 4-methoxycalcon residue unit, 2-ethoxycalcon residue unit, 3-ethoxycalcon residue unit, 4- Akak chalcone residue unit such as ethoxycarbone residue unit; benzylidene such as benzylidenemaronate dimethyl residue unit, benzilidenmaronate diethyl residue unit, benzilidenmaronate din-propyl residue unit, benzilidenmaronate diisopropyl residue unit, etc. Malonic acid diester residue unit; N, N-dimethylsinnamamide residue unit, N, N-diethylcinnamamide residue unit, N, N-din-propylsinnamamide residue unit, N, N- Diisopropylcinnamamide residue units are preferred, α-cyanokei syrup methyl residue units, α-cyanokei syrup ethyl residue units, α-cyanokei syrup n-propyl residue units, α-cyanokei syrup isopropyl residues Α-Cyanosilicate ester residue units such as units; benzalmarononitrile residue units are more preferred.

本発明の一般式(2)におけるRはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基を示し、mは5~10の整数を示す。前記m員環複素環残基および前記5員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。本発明の一般式(2)におけるRは、より高い位相差が発現することから、ヘテロ原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基であることが好ましく、窒素原子または酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基であることがさらに好ましい。なお、本発明の一般式(2)におけるRに係るヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられるものである。 In the general formula (2) of the present invention, R 8 represents an m-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms or a 5-membered ring residue containing no heteroatom, and m represents an integer of 5 to 10. The m-membered heterocyclic residue and the 5-membered ring residue may form a condensed ring structure with another cyclic structure. Since R8 in the general formula (2) of the present invention develops a higher phase difference, it is preferably a 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms. , A 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing one or more nitrogen or oxygen atoms. Examples of the heteroatom according to R8 in the general formula (2) of the present invention include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.

具体的な一般式(2)で表される残基単位Bとしては、例えば、1-ビニルピロール残基単位、2-ビニルピロール残基単位、1-ビニルインドール残基単位、9-ビニルカルバゾール残基単位、2-ビニルキノリン残基単位、4-ビニルキノリン残基単位、1-ビニルイソキノリン残基単位、2-ビニルピリジン残基単位、3-ビニルピリジン残基単位、4-ビニルピリジン残基単位、1-ビニルイミダゾール残基単位、2-ビニルイミダゾール残基単位、4-ビニルイミダゾール残基単位、5-ビニル-2-ピラゾリン残基単位、2-ビニルピラジン残基単位、ビニル-s-トリアジン残基単位、10-ビニル-9-ヒドロアクリジン残基単位、1-ビニルテトラゾール残基単位、5-ビニルテトラゾール残基単位、N-ビニルピロリドン残基単位、N-ビニル-ε-カプロラクタム残基単位、N-ビニルスクシンイミド残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、N-ビニルサッカリン残基単位、2-ビニルフラン残基単位、3-ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位、2-ビニルチオフェン残基単位、3-ビニルチオフェン残基単位、2-ビニルベンゾチオフェン残基単位、2-ビニルベンゾオキサゾール残基単位、N-ビニルオキサゾリドン残基単位、2-ビニルチアゾール残基単位、2-ビニルベンゾチアゾール残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。 Examples of the residue unit B represented by the specific general formula (2) include 1-vinylpyrol residue unit, 2-vinylpyrol residue unit, 1-vinylindol residue unit, and 9-vinylcarbazole residue. Group unit, 2-vinylquinoline residue unit, 4-vinylquinoline residue unit, 1-vinylisoquinoline residue unit, 2-vinylpyridine residue unit, 3-vinylpyridine residue unit, 4-vinylpyridine residue unit , 1-vinyl imidazole residue unit, 2-vinyl imidazole residue unit, 4-vinyl imidazole residue unit, 5-vinyl-2-pyrazolin residue unit, 2-vinylpyrazine residue unit, vinyl-s-triazine residue Group unit, 10-vinyl-9-hydroacridine residue unit, 1-vinyltetrazole residue unit, 5-vinyltetrazole residue unit, N-vinylpyrrolidone residue unit, N-vinyl-ε-caprolactum residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsaccharin residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 3-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit, 2- Vinylthiophene residue unit, 3-vinylthiophene residue unit, 2-vinylbenzothiophene residue unit, 2-vinylbenzoxazole residue unit, N-vinyloxazolidone residue unit, 2-vinylthiazole residue unit, 2- Examples thereof include vinylbenzothiazole residue units and their substituent additions.

これらの中でも、高い位相差を発現することから、1-ビニルピロール残基単位、2-ビニルピロール残基単位、1-ビニルインドール残基単位、9-ビニルカルバゾール残基単位、2-ビニルキノリン残基単位、4-ビニルキノリン残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、N-ビニルスクシンイミド残基単位、2-ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位が好ましく、9-ビニルカルバゾール残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。 Among these, 1-vinylpyrrole residue unit, 2-vinylpyrrole residue unit, 1-vinylindole residue unit, 9-vinylcarbazole residue unit, 2-vinylquinolin residue unit because of the high phase difference. Group unit, 4-vinylquinoline residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit are preferable, and 9-vinylcarbazole residue is preferable. The group unit and the N-vinylphthalimide residue unit are more preferable.

本発明の共重合体は、一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(2)で表される残基単位Bを含む限り特に制限はないが、薄膜とした際に位相差に優れるフィルムがより容易に得られることから、α-シアノケイ皮酸メチル-1-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-1-ビニルインドール共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-4-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-1-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-2-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-1-ビニルインドール共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-2-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-4-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-2-ビニルフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-1-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-2-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-1-ビニルインドール共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-9-ビニルカルバゾール共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-2-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-4-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-N-ビニルフタルイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-2-ビニルフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-1-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-2-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-1-ビニルインドール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-9-ビニルカルバゾール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-2-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-4-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-N-ビニルフタルイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-2-ビニルフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-1-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルピロール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-1-ビニルインドール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-4-ビニルキノリン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸メチル-1-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-1-ビニルインドール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-4-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルフラン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸メチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸エチル1-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル2-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル1-ビニルインドール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル2-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル4-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチルN-ビニルフタルイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチルN-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル2-ビニルフラン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸エチル2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸n-プロピル1-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル2-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル1-ビニルインドール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル2-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル4-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピルN-ビニルフタルイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピルN-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル2-ビニルフラン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸n-プロピル2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソプロピル1-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル2-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル1-ビニルインドール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル2-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル4-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピルN-ビニルフタルイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピルN-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル2-ビニルフラン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソプロピル2-ビニルベンゾフラン共重合体、α-シアノケイ皮酸イソブチル-1-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルピロール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-1-ビニルインドール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-4-ビニルキノリン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルフラン共重合体、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンザルマロノニトリル-1-ビニルピロール共重合体、ベンザルマロノニトリル-2-ビニルピロール共重合体、ベンザルマロノニトリル-1-ビニルインドール共重合体、ベンザルマロノニトリル-9-ビニルカルバゾール共重合体、ベンザルマロノニトリル-2-ビニルキノリン共重合体、ベンザルマロノニトリル-4-ビニルキノリン共重合体、ベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体、ベンザルマロノニトリル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、ベンザルマロノニトリル-2-ビニルフラン共重合体、ベンザルマロノニトリル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-1-ビニルピロール共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-2-ビニルピロール共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-1-ビニルインドール共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-9-ビニルカルバゾール共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-2-ビニルキノリン共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-4-ビニルキノリン共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-2-ビニルフラン共重合体、4-ニトロベンザルマロノニトリル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、シンナモニトリル-1-ビニルピロール共重合体、シンナモニトリル-2-ビニルピロール共重合体、シンナモニトリル-1-ビニルインドール共重合体、シンナモニトリル-9-ビニルカルバゾール共重合体、シンナモニトリル-2-ビニルキノリン共重合体、シンナモニトリル-4-ビニルキノリン共重合体、シンナモニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体、シンナモニトリル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、シンナモニトリル-2-ビニルフラン共重合体、シンナモニトリル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、カルコン-1-ビニルピロール共重合体、カルコン-2-ビニルピロール共重合体、カルコン-1-ビニルインドール共重合体、カルコン-9-ビニルカルバゾール共重合体、カルコン-2-ビニルキノリン共重合体、カルコン-4-ビニルキノリン共重合体、カルコン-N-ビニルフタルイミド共重合体、カルコン-N-ビニルスクシンイミド共重合体、カルコン-2-ビニルフラン共重合体、カルコン-2-ビニルベンゾフラン共重合体、4-メトキシカルコン-1-ビニルピロール共重合体、4-メトキシカルコン-2-ビニルピロール共重合体、4-メトキシカルコン-1-ビニルインドール共重合体、4-メトキシカルコン-9-ビニルカルバゾール共重合体、4-メトキシカルコン-2-ビニルキノリン共重合体、4-メトキシカルコン-4-ビニルキノリン共重合体、4-メトキシカルコン-N-ビニルフタルイミド共重合体、4-メトキシカルコン-N-ビニルスクシンイミド共重合体、4-メトキシカルコン-2-ビニルフラン共重合体、4-メトキシカルコン-2-ビニルベンゾフラン共重合体、4-エトキシカルコン-1-ビニルピロール共重合体、4-エトキシカルコン-2-ビニルピロール共重合体、4-エトキシカルコン-1-ビニルインドール共重合体、4-エトキシカルコン-9-ビニルカルバゾール共重合体、4-エトキシカルコン-2-ビニルキノリン共重合体、4-エトキシカルコン-4-ビニルキノリン共重合体、4-エトキシカルコン-N-ビニルフタルイミド共重合体、4-エトキシカルコン-N-ビニルスクシンイミド共重合体、4-エトキシカルコン-2-ビニルフラン共重合体、4-エトキシカルコン-2-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-1-ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-2-ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-1-ビニルインドール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-2-ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-4-ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、ベンジリ
デンマロン酸ジメチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-2-ビニルフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジメチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-1-ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-2-ビニルピロール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-1-ビニルインドール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-9-ビニルカルバゾール共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-2-ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-4-ビニルキノリン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-N-ビニルフタルイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-N-ビニルスクシンイミド共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-2-ビニルフラン共重合体、ベンジリデンマロン酸ジエチル-2-ビニルベンゾフラン共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-1-ビニルピロール共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-2-ビニルピロール共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-1-ビニルインドール共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-9-ビニルカルバゾール共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-2-ビニルキノリン共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-4-ビニルキノリン共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-N-ビニルフタルイミド共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-N-ビニルスクシンイミド共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-2-ビニルフラン共重合体、N,N-ジメチルシンナムアミド-2-ビニルベンゾフラン共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-1-ビニルピロール共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-2-ビニルピロール共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-1-ビニルインドール共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-9-ビニルカルバゾール共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-2-ビニルキノリン共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-4-ビニルキノリン共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-N-ビニルフタルイミド共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-N-ビニルスクシンイミド共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-2-ビニルフラン共重合体、N,N-ジエチルシンナムアミド-2-ビニルベンゾフラン共重合体が好ましい。
The copolymer of the present invention is not particularly limited as long as it contains the residue unit A represented by the general formula (1) and the residue unit B represented by the general formula (2). Since a film having excellent phase difference can be obtained more easily, α-cyanosilicate methyl-1-vinylpyrrole copolymer, α-cyanosilicate methyl-2-vinylpyrrole copolymer, α-cyanosilicate methyl-. 1-vinyl indol copolymer, α-cyanosilicate methyl-9-vinylcarbazole copolymer, α-cyanosilicate methyl-2-vinylquinolin copolymer, α-cyanosilicate methyl-4-vinylquinoline Polymer, α-Cyanokei syrup methyl-N-vinylphthalimide copolymer, α-Cyanokei syrup methyl-N-vinylsuccinimide copolymer, α-Cyanokei syrup methyl-2-vinylfuran copolymer, α- Methyl cyanosilicate -2-vinylbenzofuran copolymer, α-Ethyl cyanosilicate -1-vinylpyrrole copolymer, α-Ethyl cyanosilicate-2-vinylpyrrole copolymer, α-Ethyl cyanosilicate- 1-Vinyl indol copolymer, α-Ethyl cyanosilicate-9-vinylcarbazole copolymer, α-Ethyl cyanosilicate -2-vinylquinolin copolymer, α-Ethyl cyanosilicate-4-vinylquinoline Polymer, α-Cyanokei syrup ethyl-N-vinylphthalimide copolymer, α-Cyanokei syrup ethyl-N-vinylsuccinimide copolymer, α-Cyanokei syrup ethyl-2-vinylfuran copolymer, α- Ethyl-2-vinylbenzofuran copolymer of cyanosilicate rind, n-propyl-1-vinylpyrrole copolymer of α-cyanokei rind, n-propyl-2-vinylpyrrole copolymer of α-cyanokei rind, α-cyanokei. N-propyl-1-vinyl indol copolymer of dermal acid, n-propyl-9-vinylcarbazole copolymer of α-cyanokei rind, n-propyl-2-vinylquinolin copolymer of α-cyanokei rind, α- Cyanokei skin acid n-propyl-4-vinylquinoline copolymer, α-cyanokei skin acid n-propyl-N-vinylphthalimide copolymer, α-cyanokei skin acid n-propyl-N-vinylsuccinimide copolymer, α -N-propyl-2-vinylfuran copolymer of cyanosilicate, α-n-propyl-2-vinylbenzofuran copolymer of cyanosilicate, isopropyl-1-vinylpyrrole copolymer of α-cyanosilicate, α- Iso Propyl-2-vinylpyrrole copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-1-vinyl indol copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-9-vinylcarbazole copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-2-vinyl Kinolin copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-4-vinylquinoline copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-N-vinylphthalimide copolymer, α-cyanosilicate isopropyl-N-vinylsuccinimide copolymer, isopropyl-2-vinylfuran copolymer of α-cyanosylate, isopropyl-2-vinylbenzofuran copolymer of α-cyanosilicate, isobutyl-1-vinylpyrrole copolymer of α-cyanosilicate, α-cyanosilicate. Isobutyl-2-vinylpyrrole copolymer, α-cyanosilicate isobutyl-1-vinyl indol copolymer, α-cyanosilicate isobutyl-9-vinylcarbazole copolymer, α-cyanosilicate isobutyl-2-vinyl Kinolin copolymer, α-cyanokei syrup isobutyl-4-vinyl quinoline copolymer, α-cyanokei syrup isobutyl-N-vinylphthalimide copolymer, α-cyanokei syrup isobutyl-N-vinylsuccinimide copolymer, Isobutyl-2-vinylfuran copolymer of α-cyanosylate, isobutyl-2-vinylbenzofuran copolymer of α-cyanosilicate, methyl-1-vinylpyrrole copolymer of α-cyanosilicate, 4-hydroxy-α -Methyl cyanosilicate -2-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-methyl cyanosilicate -1-vinylindole copolymer, 4-hydroxy-α-methyl cyanosilicate-9-vinylcarbazole copolymer. Combined, 4-hydroxy-α-cyanosilicate methyl-2-vinylquinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate methyl-4-vinylquinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate methyl -N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate methyl-N-vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate methyl-2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxy -Α-Methyl cyanosilicate-vinylbenzofuran copolymer, α-Ethyl cyanosilicate 1-vinylpyrrole copolymer, 4-Hydroxy-α-ethyl cyanosilicate 2-vinylpyrrole copolymer, 4- Hydroxy-α-Cyanosilicate Ethyl 1-Cyanosilicate 1- Vinyl indol copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl 9-vinylcarbazole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl 2-vinylquinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate skin Ethyl 4-vinyl quinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate ethyl N-vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxy- α-Ethyl cyanosilicate 2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxy-α-Ethyl cyanosilicate 2-vinylbenzofuran copolymer, α-cyanosilicate n-propyl1-vinylpyrrole copolymer, 4- Hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl 2-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl1-vinylindole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl 9-Vinylcarbazole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl2-vinylquinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl4-vinylquinoline copolymer, 4-. Hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl N-vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl 2-Vinylfuran copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate n-propyl2-vinylbenzofuran copolymer, α-cyanosilicate isopropyl1-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate skin Isopropyl acid 2-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl 1-vinylindol copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl 9-vinylcarbazole copolymer, 4-hydroxy- isopropyl 2-vinylquinoline copolymer of α-cyanosilicate, 4-hydroxy-α-isopropyl4-vinylquinoline copolymer of 4-hydroxy-α-cyanosilicate, isopropyl N-vinylphthalimide copolymer of 4-hydroxy-α-cyanosylate, 4-Hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl N-vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl 2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isopropyl2-vinylbenzofuran Copolymer , Α-Cyanosilicate isobutyl-1-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-2-vinylpyrrole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-1-vinylindol Copolymer, Isobutyl-4-hydroxy-α-cyanokei rind-9-vinylcarbazole copolymer, Isobutyl-2-vinylquinoline 4-hydroxy-α-cyanokei rind, 4-Hydroxy-α-cyanokei rind Isobutyl acid-4-vinylquinoline copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-N-vinylsuccinimide copolymer, 4 -Hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl-2-vinylbenzofuran copolymer, benzalmarononitrile-1-vinylpyrrole copolymer, Bensalmarononitrile-2-vinylpyrrole copolymer, benzalmalononitrile-1-vinyl indol copolymer, benzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, benzalmalononitrile-2-vinylquinoline copolymer weight Combined, benzalmalononitrile-4-vinylquinoline copolymer, benzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, benzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, benzalmalononitrile-2-vinylfuran Copolymer, benzalmarononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 4-nitrobenzalmarononitrile-1-vinylpyrrole copolymer, 4-nitrobenzalmarononitrile-2-vinylpyrrole copolymer, 4 -Nitrobenzalmarononitrile-1-vinyl indol copolymer, 4-nitrobenzalmarononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 4-nitrobenzalmarononitrile-2-vinylquinolin copolymer, 4-nitro Benzalmalononitrile-4-vinylquinoline copolymer, 4-nitrobenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 4-nitrobenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 4-nitrobenzal Marononitrile-2-vinylfuran copolymer, 4-nitrobenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, cinnamonitrile-1-vinylpyrrole copolymer, cinnamonitrile-2-vinylpyro Lu copolymer, cinnamonitrile-1-vinyl indol copolymer, cinnamonitrile-9-vinylcarbazole copolymer, cinnamonitrile-2-vinylquinolin copolymer, cinnamonitrile-4-vinylquinoline Polymers, cinnamonitrile-N-vinylphthalimide copolymers, cinnamonitrile-N-vinylsuccinimide copolymers, cinnamonitrile-2-vinylfuran copolymers, cinnamonitrile-2-vinylbenzofuran copolymers , Calcon-1-vinylpyrrole copolymer, Calcon-2-vinylpyrol copolymer, Calcon-1-vinylindole copolymer, Calcon-9-vinylcarbazole copolymer, Calcon-2-vinylquinoline copolymer , Calcon-4-vinylquinoline copolymer, Calcon-N-vinylphthalimide copolymer, Calcon-N-vinylsuccinimide copolymer, Calcon-2-vinylfuran copolymer, Calcon-2-vinylbenzofuran copolymer , 4-methoxychalcone-1-vinylpyrrole copolymer, 4-methoxychalcone-2-vinylpyrrole copolymer, 4-methoxychalcone-1-vinylindole copolymer, 4-methoxychalcone-9-vinylcarbazole copolymer Polymer, 4-methoxychalcone-2-vinylquinoline copolymer, 4-methoxychalcone-4-vinylquinoline copolymer, 4-methoxychalcone-N-vinylphthalimide copolymer, 4-methoxychalcone-N-vinyl Succinimide copolymer, 4-methoxychalcone-2-vinylfuran copolymer, 4-methoxychalcone-2-vinylbenzofuran copolymer, 4-ethoxychalcone-1-vinylpyrrole copolymer, 4-ethoxychalcone-2 -Vinylpyrrole copolymer, 4-ethoxycalcon-1-vinyl indol copolymer, 4-ethoxycalcon-9-vinylcarbazole copolymer, 4-ethoxycalcon-2-vinylquinolin copolymer, 4-ethoxycalcon -4-vinylquinoline copolymer, 4-ethoxycalcon-N-vinylphthalimide copolymer, 4-ethoxycalcon-N-vinylsuccinimide copolymer, 4-ethoxycalcon-2-vinylfuran copolymer, 4-. Co., Ltd., ethoxycalcon-2-vinylbenzofuran copolymer, dimethyl-1-vinylpyrrole benzilidenmalonate copolymer, dimethyl-2-vinylpyrrole copolymer benzilidenmaronate, dimethyl-1-vinylindolate benzilidenmalate Polymer, dimethyl-9-vinylcarbazole copolymer of benzilidenmalonate, dimethyl-2-vinylquinoline copolymer of benzilidenmalonate, dimethyl-4-vinylquinolin copolymer of benzilidenmalonate, dimethyl-N-vinyl benzilidenmalate Phtalimide copolymer, dimethyl-N-vinylsuccinimide copolymer of benzilidenmalonate, dimethyl-2-vinylfuran copolymer of benzilidenmalonate, dimethyl-2-vinylbenzofuran copolymer of benzilidenmalonate, diethyl-1 benzilidenmalate -Vinylpyrrole copolymer, diethyl-2-vinylpyrrole copolymer, diethyl-1-vinylindole copolymer, benzilidenmalonate diethyl-9-vinylcarbazole copolymer, diethylbendylenemalate -2-Vinyl quinoline copolymer, diethyl-vinyl denominate-vinyl quinoline copolymer, diethyl-N-vinyl phthalimide copolymer of benziliden malonate, diethyl-N-vinyl succinimide copolymer of benziliden malonate, benziliden malon Diethyl-2-vinylfuran acid acid diethyl-2-vinylfuran copolymer, diethyl-2-vinylbenzofuran copolymer, N, N-dimethylsinnumamide-1-vinylpyrrole copolymer, N, N-dimethylsinnamamide- 2-vinylpyrrole copolymer, N, N-dimethylsinnumamide-1-vinylindole copolymer, N, N-dimethylsinnamamide-9-vinylcarbazole copolymer, N, N-dimethylcinnamamide -2-Vinyl quinoline copolymer, N, N-dimethylsinnum amide-4-vinyl quinoline copolymer, N, N-dimethyl cinnamamide-N-vinyl phthalimide copolymer, N, N-dimethyl cinnam Amid-N-vinylsuccinimide copolymer, N, N-dimethylsinnumamide-2-vinylfuran copolymer, N, N-dimethylsinnamamide-2-vinylbenzofuran copolymer, N, N-diethylcin Namamide-1-vinylpyrrole copolymer, N, N-diethylcinnamamide-2-vinylpyrol copolymer, N, N-diethylcinnamamide-1-vinylindole copolymer, N, N-diethyl Shinnamamide-9-vinylcarbazole copolymer, N, N-diethylcinnamamide-2-vinylquinoline copolymer, N, N-diethylcinnamamide-4-vinylquinoli N, N-diethylcinnamamide-N-vinylphthalimide copolymer, N, N-diethylcinnamamide-N-vinylsuccinimide copolymer, N, N-diethylcinnamamide-2- Vinyl furan copolymers and N, N-diethylcinnamamide-2-vinylbenzofuran copolymers are preferred.

本発明の共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α-メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸エステル残基単位;N-メチルマレイミド残基単位、N-シクロヘキシルマレイミド残基単位、N-フェニルマレイミド残基単位等のN-置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位等より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。 The copolymer of the present invention may contain other monomer residue units as long as it does not exceed the scope of the present invention, and the other monomer residue units include, for example, a styrene residue unit. , Α-Methylstyrene residue unit, etc. styrene residue unit; (meth) acrylic acid residue unit; (meth) methyl acrylate residue unit, (meth) ethyl acrylate residue unit, (meth) acrylic acid (Meta) acrylic acid ester residue unit such as butyl residue unit; Vinyl ester residue unit such as vinyl acetate residue unit, propionate vinyl residue unit; Acrylonitrile residue unit; Methaclonitrile residue unit; Methyl Vinyl ether residue units such as vinyl ether residue unit, ethyl vinyl ether residue unit, butyl vinyl ether residue unit; diethyl fumarate residue unit, fumarate ester residue unit; N-methylmaleimide residue unit, N-cyclohexyl maleimide N-substituted maleimide residue unit such as residue unit, N-phenylmaleimide residue unit; one or more selected from olefin residue unit such as ethylene residue unit and propylene residue unit. be able to.

本発明の共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(2)で表される残基単位Bとのモル比A/Bが0.05~6であることが好ましく、0.1~3であることがさらに好ましく、0.18~2であることが特に好ましく、0.25~1であることが最も好ましい。 Since the composition of the copolymer of the present invention has excellent retardation characteristics when used as a retardation film, it is represented by the residue unit A represented by the general formula (1) and the general formula (2). The molar ratio A / B with the residue unit B to be formed is preferably 0.05 to 6, more preferably 0.1 to 3, particularly preferably 0.18 to 2, and 0. Most preferably, it is .25 to 1.

本発明の共重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が3,000~500,000であることが好ましく、5,000~400,000であることがさらに好ましく、10,000~300,000であることが特に好ましい。 Since the copolymer of the present invention has excellent mechanical properties, the number average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC) is 3,000 or more. It is preferably 500,000, more preferably 5,000 to 400,000, and particularly preferably 10,000 to 300,000.

本発明の共重合体の製造方法としては、一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(2)で表される残基単位Bを含む共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。 As a method for producing a copolymer of the present invention, any copolymer can be obtained as long as a copolymer containing a residue unit A represented by the general formula (1) and a residue unit B represented by the general formula (2) can be obtained. It may be produced by a method, for example, it can be produced by performing radical polymerization.

前記ラジカル重合としては公知の重合方法を採用でき、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。 As the radical polymerization, a known polymerization method can be adopted, and for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, and an emulsion polymerization method can be adopted.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-ブチロニトリル)、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-2’-アゾビスイソブチレート、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator for performing radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , T-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane and other organic peroxides; 2,2'-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-butyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2'-azobisisobutyrate, 1,1'-azobis Examples thereof include an azo-based initiator such as (cyclohexane-1-carbonitrile).

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;N,N-ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。 The solvent that can be used when the solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, or emulsion polymerization method is adopted is not particularly limited, and for example, aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene; methanol, ethanol, and the like. Alcohol-based solvents such as propanol and butanol; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; N, N-dimethylformamide; dimethylsulfoxide; isopropyl acetate; water and the like, and mixed solvents thereof are also mentioned.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30~150℃の範囲で行うことが好ましい。 Further, the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and the reaction can be easily controlled. Therefore, the polymerization temperature is generally in the range of 30 to 150 ° C. Is preferable.

本発明の共重合体は、該共重合体を含んでなる光学フィルムとして用いることができる。 The copolymer of the present invention can be used as an optical film containing the copolymer.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。 When the copolymer of the present invention is used as an optical film, the light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more, because the characteristics of image quality are good.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ(曇り度)が2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。 When the copolymer of the present invention is used as an optical film, the haze (fog degree) of the film is preferably 2% or less, and further preferably 1% or less, because the characteristics of image quality are good. preferable.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、位相差フィルムとすることが好ましい。 When the copolymer of the present invention is used as an optical film, it is preferable to use a retardation film because it has excellent retardation characteristics.

一般に液晶ディスプレイ等の位相差フィルムとして用いるとき、長期間にわたって位相差特性が変化しないことが求められる。本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、長期間にわたって位相差特性が変化しないことを特徴とする。すなわち、位相差安定性に優れており、高画質を維持できることから、液晶ディスプレイ等の位相差フィルムとして好適に用いることができるものである。 Generally, when used as a retardation film for a liquid crystal display or the like, it is required that the retardation characteristics do not change for a long period of time. The retardation film using the copolymer of the present invention is characterized in that the retardation characteristics do not change for a long period of time. That is, since it is excellent in retardation stability and can maintain high image quality, it can be suitably used as a retardation film for liquid crystal displays and the like.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzである位相差フィルムとして好適に用いられる。 Since the retardation film using the copolymer of the present invention exhibits a retardation even when unstretched, the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film surface is nx, and the refractive index in the in-plane direction of the film orthogonal to it is nx. It is suitably used as a retardation film in which the relationship between ny and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx ≦ ny <nz.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムとしては、該共重合体のみを用いることもでき、他の重合体と混合した組成物を用いることもできる。このとき、混合する他の重合体としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良い。 As the retardation film using the copolymer of the present invention, only the copolymer can be used, or a composition mixed with other polymers can be used. At this time, the other polymer to be mixed may be a polymer having negative birefringence or a polymer having positive birefringence.

本発明の共重合体を負の複屈折性を有する位相差フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能になることから、膜厚と次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)の絶対値と膜厚の比が、6.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、10nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。 When the copolymer of the present invention is used as a retardation film having negative compound refractive property, it is possible to make a thin film, so that the film thickness and the out-of-plane measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) are obtained. The ratio of the absolute value of the phase difference (Rth) to the film thickness is preferably 6.5 nm / film film thickness (μm) or more, more preferably 8 nm / film film thickness (μm) or more, and 10 nm / film film thickness (μm). The above is particularly preferable.

Rth=((nx+ny)/2-nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。
Rth = ((nx + ny) /2-nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
The method for producing the optical film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a solution casting method and a melt casting method.

溶液キャスト法は、共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、スピンコーター法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10~20,000cPsが好ましく、100~10,000cPsであることがさらに好ましい。 The solution casting method is a method in which a solution in which a copolymer is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. At that time, as a method of spreading the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a spin coater method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method and the like are used. In particular, industrially, the most common method is to continuously extrude the dope from the die onto a belt-shaped or drum-shaped support substrate. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and a ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, and 10 to 20,000 cPs is preferable. , 100 to 10,000 cPs, more preferably.

この際の共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1~200μmが好ましく、さらに好ましくは2~100μm、特に好ましくは3~50μmである。 The coating thickness of the copolymer at this time is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 2 to 100 μm, and particularly preferably 3 to 50 μm because the film can be easily handled.

また、溶融キャスト法は、共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。 The melt casting method is a molding method in which the copolymer is melted in an extruder, extruded into a film from a slit of a T-die, and then taken out while being cooled by a roll, air, or the like.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。また、本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形後に延伸して用いてもよい。 The retardation film using the copolymer of the present invention can be used by peeling from the glass substrate of the base material or another optical film, and can be used as a laminate with the glass substrate of the base material or another optical film. Can also be used. Further, the retardation film using the copolymer of the present invention may be stretched and used after film molding.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の共重合体を用いた位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。 The retardation film using the copolymer of the present invention can be laminated with a polarizing plate and used as a circular or elliptical polarizing plate, and laminated with a polarizing element containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. It is also possible. Further, the retardation films using the copolymer of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100~500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の共重合体を用いた位相差フィルムを構成する共重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01~10重量部が好ましく、0.5~1重量部がさらに好ましい。 It is preferable that the retardation film using the copolymer of the present invention contains an antioxidant at the time of film molding or in order to improve the thermal stability of the retardation film itself. Examples of the antioxidant include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination, respectively. Since the antioxidant effect is synergistically improved, it is preferable to use a hindered antioxidant and a phosphorus-based antioxidant in combination. In that case, for example, with respect to 100 parts by weight of the hindered antioxidant. , It is more preferable to mix and use a phosphorus-based antioxidant in an amount of 100 to 500 parts by weight. The amount of the antioxidant added is 0.01 to 10 parts by weight because it has an excellent antioxidant effect with respect to 100 parts by weight of the copolymer constituting the retardation film using the copolymer of the present invention. Is preferable, and 0.5 to 1 part by weight is more preferable.

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。 Further, as the ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, and benzoate may be blended as needed.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。 The retardation film using the copolymer of the present invention can be used for other polymers, surfactants, polyelectrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, and antiblocking agents, as long as the gist of the present invention is not exceeded. Agents, lubricants and the like may be blended.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルム、有機ELディスプレイの円偏光板用の位相差フィルムや反射防止フィルムに有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きい光学特性に優れた位相差フィルムに適した共重合体を提供することができる。 According to the present invention, it is excellent in optical characteristics having a large refractive index in the thickness direction of a film useful for a compensation film for contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display, a retardation film for a circular polarizing plate of an organic EL display, and an antireflection film. It is possible to provide a copolymer suitable for a retardation film.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。 The various physical properties shown in the examples were measured by the following methods.

<共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM-ECZ400S/L1)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H-NMR)スペクトル分析より求めた。また、H-NMRスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、CHN元素分析により求めた。
<Composition of copolymer>
It was obtained by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectral analysis using a nuclear magnetic resonance measuring device (manufactured by JEOL Ltd., trade name: JNM-ECZ400S / L1). Further, those that were difficult to obtain by 1 H-NMR spectrum analysis were obtained by CHN elemental analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC8320GPC(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランまたはN,N―ジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Measured at 40 ° C. using a gel permeation chromatography (GPC) device (manufactured by Tosoh, trade name HLC8320GPC (equipped with column MHHR-H)) using tetrahydrofuran or N, N-dimethylformamide as a solvent, and standard. It was calculated as a polystyrene conversion value.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
A haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., trade name NDH5000) was used to measure the total light transmittance and haze of the film.

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
It was measured according to JIS K 7142 (1981 version) using an Abbe refractive index meter (manufactured by Atago).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA-WPR)を用いて測定した。
<Measurement of film phase difference and three-dimensional refractive index>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Measuring Instruments, trade name KOBRA-WPR).

実施例1(シンナモニトリル/1-ビニルインドール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにシンナモニトリル5.0g(0.039モル)、1-ビニルインドール5.6g(0.039モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28g(0.00065モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、シンナモニトリル/1-ビニルインドール共重合体5.1gを得た(収率:48%)。
Example 1 (Synthesis of Cinnamonitrile / 1-Vinyl Indole Copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.039 mol) of cinnamonitrile, 5.6 g (0.039 mol) of 1-vinyl indol, and 2,5-dimethyl-2,5-di (1,5-dimethyl-2,5-di) as a polymerization initiator. 0.28 g (0.00065 mol) of 2-ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.1 g of a cinnamonitrile / 1-vinyl indole copolymer (yield: 48). %).

得られたシンナモニトリル/1-ビニルインドール共重合体の数平均分子量は14,000であった。 The number average molecular weight of the obtained cinnamonitrile / 1-vinyl indole copolymer was 14,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はシンナモニトリル残基単位/1-ビニルインドール残基単位=34/66(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.52)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was cinnamonitrile residue unit / 1-vinyl indole residue unit = 34/66 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.52). ) Was confirmed.

実施例2(シンナモニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにシンナモニトリル5.0g(0.039モル)、9-ビニルカルバゾール7.5g(0.039モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28g(0.00065モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、シンナモニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体8.0gを得た(収率:64%)。
Example 2 (Synthesis of Cinnamonitrile / 9-Vinylcarbazole Copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.039 mol) of cinnamonitrile, 7.5 g (0.039 mol) of 9-vinylcarbazole and the polymerization initiator 2,5-dimethyl-2,5-di ( 0.28 g (0.00065 mol) of 2-ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ample was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 8.0 g of a cinnamonitrile / 9-vinylcarbazole copolymer (yield: 64). %).

得られたシンナモニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は25,000であった。 The number average molecular weight of the obtained cinnamonitrile / 9-vinylcarbazole copolymer was 25,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はシンナモニトリル残基単位/9-ビニルカルバゾール残基単位=38/62(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.61)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement showed that the copolymer composition was cinnamonitrile residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 38/62 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.61). ) Was confirmed.

実施例3(α-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸メチル5.0g(0.027モル)、9-ビニルカルバゾール5.2g(0.027モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.19g(0.00044モル)およびトルエン1.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体6.9gを得た(収率:68%)。
Example 3 (Synthesis of Methyl α-cyanocinnamic acid / 9-vinylcarbazole copolymer)
Methyl α-cyanosilicate 5.0 g (0.027 mol), 9-vinylcarbazole 5.2 g (0.027 mol), polymerization initiator 2,5-dimethyl-2,5 in a glass ampoule with a capacity of 50 mL. -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.19 g (0.00044 mol)) and toluene (1.0 g) were added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 24 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 6.9 g of a methyl α-cyanosilicate / 9-vinylcarbazole copolymer (yield). Rate: 68%).

得られたα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は33,000であった。 The number average molecular weight of the obtained methyl / 9-vinylcarbazole copolymer of α-cyanocinnamic acid was 33,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸メチル残基単位/9-ビニルカルバゾール残基単位=29/71(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.41)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-cyanosilicate methyl residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 29/71 (mol%) (residue unit A / residue unit B = It was confirmed that it was 0.41).

実施例4(α-シアノケイ皮酸メチル/N-ビニルスクシンイミド共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸メチル5.0g(0.027モル)、N-ビニルスクシンイミド3.4g(0.027モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.19g(0.00044モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、N,N―ジメチルホルムアミド25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸メチル/N-ビニルスクシンイミド共重合体4.5gを得た(収率:54%)。
Example 4 (Synthesis of Methyl α-cyanocinnamic acid / N-vinylsuccinimide copolymer)
5.0 g (0.027 mol) of methyl α-cyanosilicate, 3.4 g (0.027 mol) of N-vinylsuccinimide and 2,5-dimethyl-2,5 as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.19 g (0.00044 mol)) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of N, N-dimethylformamide. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 4.5 g of a methyl α-cyanosilicate / N-vinylsuccinimide copolymer (yield). Rate: 54%).

得られたα-シアノケイ皮酸メチル/N-ビニルスクシンイミド共重合体の数平均分子量は21,000であった。 The number average molecular weight of the obtained methyl / N-vinylsuccinimide copolymer of α-cyanocinnamic acid was 21,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸メチル残基単位/N-ビニルスクシンイミド残基単位=42/58(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.72)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-cyanosilicate methyl residue unit / N-vinylsuccinimide residue unit = 42/58 (mol%) (residue unit A / residue unit B = It was confirmed that it was 0.72).

実施例5(α-シアノケイ皮酸エチル/N-ビニルフタルイミド共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸エチル5.0g(0.025モル)、N-ビニルフタルイミド4.3g(0.025モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)およびトルエン1.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、2時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、N,N―ジメチルホルムアミド25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸エチル/N-ビニルフタルイミド共重合体6.7gを得た(収率:72%)。
Example 5 (Synthesis of α-Ethyl cyanocinnamic acid / N-vinylphthalimide copolymer)
5.0 g (0.025 mol) of ethyl α-cyanosilicate, 4.3 g (0.025 mol) of N-vinylphthalimide, and 2,5-dimethyl-2,5 as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.18 g (0.00042 mol)) and toluene (1.0 g) were added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was carried out by placing this ampoule in a constant temperature bath at 62 ° C. and holding it for 2 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of N, N-dimethylformamide. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 6.7 g of an α-cyanosilicate ethyl / N-vinylphthalimide copolymer (yield). Rate: 72%).

得られたα-シアノケイ皮酸エチル/N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は25,000であった。 The number average molecular weight of the obtained ethyl α-cyanocinnamic acid / N-vinylphthalimide copolymer was 25,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸エチル残基単位/N-ビニルフタルイミド残基単位=44/56(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.79)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-cyanosilicate ethyl residue unit / N-vinylphthalimide residue unit = 44/56 (mol%) (residue unit A / residue unit B = It was confirmed that it was 0.79).

実施例6(α-シアノケイ皮酸エチル/2-ビニルベンゾフラン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸エチル5.0g(0.025モル)、2-ビニルベンゾフラン3.6g(0.025モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸エチル/2-ビニルベンゾフラン共重合体3.9gを得た(収率:45%)。
Example 6 (Synthesis of α-Ethyl cyanocinnamic acid / 2-vinylbenzofuran copolymer)
5.0 g (0.025 mol) of ethyl α-cyanosilicate, 3.6 g (0.025 mol) of 2-vinylbenzofuran and 2,5-dimethyl-2,5 as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.18 g (0.00042 mol)) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 3.9 g of the ethyl α-cyanosilicate / 2-vinylbenzofuran copolymer (yield). Rate: 45%).

得られたα-シアノケイ皮酸エチル/2-ビニルベンゾフラン共重合体の数平均分子量は17,000であった。 The number average molecular weight of the obtained ethyl α-cyanocinnamic acid / 2-vinylbenzofuran copolymer was 17,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸エチル残基単位/2-ビニルベンゾフラン残基単位=32/68(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.47)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-ethyl cyanosilicate residue unit / 2-vinylbenzofuran residue unit = 32/68 (mol%) (residue unit A / residue unit B = It was confirmed that it was 0.47).

実施例7(α-シアノケイ皮酸n-プロピル/2-ビニルキノリン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸n-プロピル5.0g(0.023モル)、2-ビニルキノリン3.6g(0.023モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17g(0.00039モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのn-ヘキサン中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸n-プロピル/2-ビニルキノリン共重合体4.2gを得た(収率:49%)。
Example 7 (Synthesis of α-cyanocinnamic acid n-propyl / 2-vinylquinoline copolymer)
5.0 g (0.023 mol) of α-cyanosilicate n-propyl acid, 3.6 g (0.023 mol) of 2-vinylquinoline and 2,5-dimethyl-2, which is a polymerization initiator, in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. , 5-Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.17 g (0.00039 mol)) was added, and after repeated nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of n-hexane to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 4.2 g of the α-cyanosilicate n-propyl / 2-vinylquinoline copolymer. Obtained (yield: 49%).

得られたα-シアノケイ皮酸n-プロピル/2-ビニルキノリン共重合体の数平均分子量は21,000であった。 The number average molecular weight of the obtained α-cyanocinnamic acid n-propyl / 2-vinylquinoline copolymer was 21,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸n-プロピル残基単位/2-ビニルキノリン残基単位=30/70(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.43)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-cyanosilicate n-propyl residue unit / 2-vinylquinoline residue unit = 30/70 (mol%) (residue unit A / residue unit). It was confirmed that B = 0.43).

実施例8(ベンザルマロノニトリル/N-ビニルフタルイミド共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにベンザルマロノニトリル5.0g(0.032モル)、N-ビニルフタルイミド5.5g(0.032モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.23g(0.00053モル)およびトルエン1.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、N,N―ジメチルホルムアミド25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、ベンザルマロノニトリル/N-ビニルフタルイミド共重合体7.6gを得た(収率:72%)。
Example 8 (Synthesis of benzalmalononitrile / N-vinylphthalimide copolymer)
5.0 g (0.032 mol) of benzalmarononitrile, 5.5 g (0.032 mol) of N-vinylphthalimide, and 2,5-dimethyl-2,5-di, which is a polymerization initiator, in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. 0.23 g (0.00053 mol) of (2-ethylhexanoylperoxy) hexane and 1.0 g of toluene were added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 24 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of N, N-dimethylformamide. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 7.6 g of a benzalmarononitrile / N-vinylphthalimide copolymer (yield:). 72%).

得られたベンザルマロノニトリル/N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は24,000であった。 The number average molecular weight of the obtained benzalmalononitrile / N-vinylphthalimide copolymer was 24,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はベンザルマロノニトリル残基単位/N-ビニルフタルイミド残基単位=32/68(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.47)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was benzalmalononitrile residue unit / N-vinylphthalimide residue unit = 32/68 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0. It was confirmed that it was 47).

実施例9(ベンザルマロノニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにベンザルマロノニトリル5.0g(0.032モル)、9-ビニルカルバゾール6.2g(0.032モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.23g(0.00053モル)およびトルエン1.2gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、6時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、ベンザルマロノニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体5.9gを得た(収率:53%)。
Example 9 (Synthesis of benzalmarononitrile / 9-vinylcarbazole copolymer)
5.0 g (0.032 mol) of benzalmarononitrile, 6.2 g (0.032 mol) of 9-vinylcarbazole, and 2,5-dimethyl-2,5-di, which is a polymerization initiator, in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. 0.23 g (0.00053 mol) of (2-ethylhexanoylperoxy) hexane and 1.2 g of toluene were added, and after repeated nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 6 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.9 g of a benzalmarononitrile / 9-vinylcarbazole copolymer (yield:). 53%).

得られたベンザルマロノニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は90,000であった。 The number average molecular weight of the obtained benzalmarononitrile / 9-vinylcarbazole copolymer was 90,000.

また、CHN元素分析により、共重合体組成はベンザルマロノニトリル残基単位/9-ビニルカルバゾール残基単位=43/57(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.75)であることを確認した。 Further, by CHN elemental analysis, the copolymer composition was benzalmarononitrile residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 43/57 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.75). I confirmed that.

実施例10(4-ニトロベンザルマロノニトリル/2-ビニルベンゾフラン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルに4-ニトロベンザルマロノニトリル5.0g(0.025モル)、2-ビニルベンゾフラン3.6g(0.025モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)およびN,N―ジメチルホルムアミド5.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4-ニトロベンザルマロノニトリル/2-ビニルベンゾフラン共重合体3.9gを得た(収率:45%)。
Example 10 (Synthesis of 4-Nitrobenzalmarononitrile / 2-Vinylbenzofuran Copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.025 mol) of 4-nitrobenzalmarononitrile, 3.6 g (0.025 mol) of 2-vinylbenzofuran, and 2,5-dimethyl-2, which is a polymerization initiator, 0.18 g (0.00042 mol) of 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane and 5.0 g of N, N-dimethylformamide were added, and the mixture was sealed under reduced pressure after repeated nitrogen substitution and depressurization. .. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 3.9 g of a 4-nitrobenzalmarononitrile / 2-vinylbenzofuran copolymer (3.9 g). Yield: 45%).

得られた4-ニトロベンザルマロノニトリル/2-ビニルベンゾフラン共重合体の数平均分子量は26,000であった。 The number average molecular weight of the obtained 4-nitrobenzalmarononitrile / 2-vinylbenzofuran copolymer was 26,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成は4-ニトロベンザルマロノニトリル残基単位/2-ビニルベンゾフラン残基単位=33/67(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.49)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was 4-nitrobenzalmarononitrile residue unit / 2-vinylbenzofuran residue unit = 33/67 (mol%) (residue unit A / residue unit B). = 0.49) was confirmed.

実施例11(N,N-ジエチルシンナムアミド/2-ビニルフラン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにN,N-ジエチルシンナムアミド5.0g(0.025モル)、2-ビニルフラン2.4g(0.025モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、N,N-ジエチルシンナムアミド/2-ビニルフラン共重合体3.7gを得た(収率:50%)。
Example 11 (Synthesis of N, N-diethylcinnamamide / 2-vinylfuran copolymer)
5.0 g (0.025 mol) of N, N-diethylcinnamamide, 2.4 g (0.025 mol) of 2-vinylfuran and 2,5-dimethyl-2, which is a polymerization initiator, in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. , 5-Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.18 g (0.00042 mol)) was added, and after repeated nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 3.7 g of an N, N-diethylcinnamamide / 2-vinylfuran copolymer. (Yield: 50%).

得られたN,N-ジエチルシンナムアミド/2-ビニルフラン共重合体の数平均分子量は8,000であった。 The number average molecular weight of the obtained N, N-diethylcinnamamide / 2-vinylfuran copolymer was 8,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はN,N-ジエチルシンナムアミド残基単位/2-ビニルフラン残基単位=31/69(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.45)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was N, N-diethylcinnumamide residue unit / 2-vinylfuran residue unit = 31/69 (mol%) (residue unit A / residue unit). It was confirmed that B = 0.45).

実施例12(カルコン/2-ビニルキノリン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにカルコン5.0g(0.024モル)、2-ビニルキノリン3.7g(0.024モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17g(0.00039モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのn-ヘキサン中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、カルコン/2-ビニルキノリン共重合体4.1gを得た(収率:47%)。
Example 12 (Synthesis of Chalcone / 2-Vinyl Quinoline Copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.024 mol) of calcon, 3.7 g (0.024 mol) of 2-vinylquinoline and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-di (2-), which is a polymerization initiator. 0.17 g (0.00039 mol) of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of n-hexane to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 4.1 g of a chalcone / 2-vinylquinoline copolymer (yield: 47). %).

得られたカルコン/2-ビニルキノリン共重合体の数平均分子量は9,000であった。 The number average molecular weight of the obtained chalcone / 2-vinylquinoline copolymer was 9,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はカルコン残基単位/2-ビニルキノリン残基単位=29/71(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.41)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement showed that the copolymer composition was chalcone residue unit / 2-vinylquinoline residue unit = 29/71 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.41). I confirmed that there was.

実施例13(α-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸メチル5.0g(0.027モル)、9-ビニルカルバゾール5.2g(0.027モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.39g(0.00091モル)およびトルエン1.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体7.1gを得た(収率:70%)。
Example 13 (Synthesis of Methyl α-cyanocinnamic acid / 9-vinylcarbazole copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.027 mol) of methyl α-cyanosilicate, 5.2 g (0.027 mol) of 9-vinylcarbazole, and 2,5-dimethyl-2,5 as a polymerization initiator. -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane 0.39 g (0.00091 mol) and toluene 1.0 g were added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 24 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 7.1 g of a methyl α-cyanosilicate / 9-vinylcarbazole copolymer (yield). Rate: 70%).

得られたα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は15,000であった。 The number average molecular weight of the obtained methyl / 9-vinylcarbazole copolymer of α-cyanocinnamic acid was 15,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸メチル残基単位/9-ビニルカルバゾール残基単位=31/69(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.45)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-cyanosilicate methyl residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 31/69 (mol%) (residue unit A / residue unit B = It was confirmed that it was 0.45).

実施例14(4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルに4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル5.0g(0.020モル)、9-ビニルカルバゾール3.9g(0.020モル)、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.14g(0.00033モル)およびテトラヒドロフラン8.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール/水=80/20(体積%/体積%)混合溶媒中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル/9-ビニルカルバゾール共重合体7.5gを得た(収率:84%)。
Example 14 (Synthesis of 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl / 9-vinylcarbazole copolymer)
5.0 g (0.020 mol) of isobutyl 4-hydroxy-α-cyanosilicate, 3.9 g (0.020 mol) of 9-vinylcarbazole, and 2,5-dimethyl as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. 0.14 g (0.00033 mol) of -2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane and 8.0 g of tetrahydrofuran were added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of a mixed solvent of methanol / water = 80/20 (% by volume /% by volume) to precipitate, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 4-hydroxy-α-cyanokei. 7.5 g of isobutyl skin acid / 9-vinylcarbazole copolymer was obtained (yield: 84%).

得られた4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル/9-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は16,000であった。 The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl / 9-vinylcarbazole copolymer was 16,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成は4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル残基単位/9-ビニルカルバゾール残基単位=46/54(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.85)であることを確認した。
合成例1(シンナモニトリル/スチレン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにシンナモニトリル5.0g(0.039モル)、スチレン4.1g(0.039モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28g(0.00065モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、シンナモニトリル/スチレン共重合体5.4gを得た(収率:59%)。
In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 46/54 (mol%) (residue unit A / residue). It was confirmed that the basic unit B = 0.85).
Synthesis Example 1 (Synthesis of Cinnamonitrile / Styrene Copolymer)
5.0 g (0.039 mol) of cinnamonitrile, 4.1 g (0.039 mol) of styrene and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethyl) as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. Hexanoylperoxy) 0.28 g (0.00065 mol) of hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ample was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.4 g of a cinnamonitrile / styrene copolymer (yield: 59%).

得られたシンナモニトリル/スチレン共重合体の数平均分子量は46,000であった。 The number average molecular weight of the obtained cinnamonitrile / styrene copolymer was 46,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はシンナモニトリル残基単位/スチレン残基単位=27/73(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.37)であることを確認した。 Further, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is cinnamonitrile residue unit / styrene residue unit = 27/73 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.37). It was confirmed.

合成例2(α-シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα-シアノケイ皮酸エチル5.0g(0.025モル)、アクリル酸メチル2.2g(0.026モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体2.5gを得た(収率:35%)。
Synthesis Example 2 (Synthesis of α-ethyl cyanocinnamic acid / methyl acrylate copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.025 mol) of ethyl α-cyanocinnamic acid, 2.2 g (0.026 mol) of methyl acrylate, and 2,5-dimethyl-2,5-, which is a polymerization initiator. Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.18 g (0.00042 mol)) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 2.5 g of an α-ethyl cyanosilicate / methyl acrylate copolymer (yield). : 35%).

得られたα-シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は13,000であった。 The number average molecular weight of the obtained ethyl α-cyanocinnamic acid / methyl acrylate copolymer was 13,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はα-シアノケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸メチル残基単位=11/89(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.12)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement revealed that the copolymer composition was α-ethyl cyanosilicate residue unit / methyl acrylate residue unit = 11/89 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0). It was confirmed that it was .12).

合成例3(ベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにベンザルマロノニトリル5.0g(0.032モル)、スチレン3.3g(0.032モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.23g(0.00053モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、ベンザルマロノニトリル/スチレン共重体5.8gを得た(収率:70%)。
Synthesis Example 3 (Synthesis of benzalmarononitrile / styrene copolymer)
5.0 g (0.032 mol) of benzalmalononitrile, 3.3 g (0.032 mol) of styrene and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-di (2-)) as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. 0.23 g (0.00053 mol) of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.8 g of a benzalmarononitrile / styrene copolymer (yield: 70%).

得られたベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体の数平均分子量は93,000であった。 The number average molecular weight of the obtained benzalmarononitrile / styrene copolymer was 93,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はベンザルマロノニトリル残基単位/スチレン残基単位=36/64(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.56)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement showed that the copolymer composition was benzalmarononitrile residue unit / styrene residue unit = 36/64 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.56). I confirmed that there was.

合成例4(アクリロニトリル/1-ビニルインドール重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにアクリロニトリル2.5g(0.047モル)、1-ビニルインドール6.7g(0.047モル)および重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.34g(0.00079モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、アクリロニトリル/1-ビニルインドール共重体4.9gを得た(収率:53%)。
Synthesis Example 4 (Synthesis of acrylonitrile / 1-vinyl indole polymer)
2.5 g (0.047 mol) of acrylonitrile, 6.7 g (0.047 mol) of 1-vinyl indol and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-di (2-)) as a polymerization initiator in a glass ampoule having a capacity of 50 mL. 0.34 g (0.00079 mol) of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise to 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 4.9 g of an acrylonitrile / 1-vinyl indole copolymer (yield: 53%).

得られたアクリロニトリル/1-ビニルインドール共重合体の数平均分子量は12,000であった。 The number average molecular weight of the obtained acrylonitrile / 1-vinyl indole copolymer was 12,000.

また、H-NMR測定により、共重合体組成はアクリロニトリル残基単位/1-ビニルインドール残基単位=31/69(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.45)であることを確認した。 In addition, 1 H-NMR measurement showed that the copolymer composition was acrylonitrile residue unit / 1-vinyl indole residue unit = 31/69 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.45). I confirmed that there was.

実施例15
実施例1で得られたシンナモニトリル/1-ビニルインドール共重合体をシクロペンタノンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み10.1μmのシンナモニトリル/1-ビニルインドール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 15
The cinnamonitrile / 1-vinyl indol copolymer obtained in Example 1 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 35% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 60 ° C. for 60 minutes. By doing so, a film using a cinnamonitrile / 1-vinyl indol copolymer having a thickness of 10.1 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.6%、屈折率1.648であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.648.

三次元屈折率は、nx=1.6421、ny=1.6421、nz=1.6588であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-169nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は16.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6421, ny = 1.6421, nz = 1.6588, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -169 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 16.7 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例16
実施例2で得られたシンナモニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み8.8μmのシンナモニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 16
The cinnamonitrile / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Example 2 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 60 ° C. for 60 minutes. By doing so, a film using a cinnamonitrile / 9-vinylcarbazole copolymer having a thickness of 8.8 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.5%、屈折率1.655であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.655.

三次元屈折率は、nx=1.6445、ny=1.6445、nz=1.6774であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-290nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は32.9nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6445, ny = 1.6445, nz = 1.6774, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -290 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 32.9 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例17
実施例3で得られたα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体をシクロペンタノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み12.2μmのα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 17
The α-cyanosilicate methyl / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Example 3 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 20% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater and at 130 ° C. By drying for 10 minutes, a film using an α-cyanosilicate methyl / 9-vinylcarbazole copolymer having a thickness of 12.2 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.6%、屈折率1.653であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.653.

三次元屈折率は、nx=1.6432、ny=1.6432、nz=1.6740であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-376nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は30.8nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.642, ny = 1.6432, nz = 1.6740, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -376 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 30.8 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例18
実施例4で得られたα-シアノケイ皮酸メチル/N-ビニルスクシンイミド共重合体をN,N―ジメチルホルムアミドに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で3時間真空乾燥することにより、厚み10.5μmのα-シアノケイ皮酸メチル/N-ビニルスクシンイミド共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 18
The α-cyanosilicate methyl / N-vinylsuccinimide copolymer obtained in Example 4 was dissolved in N, N-dimethylformamide to prepare a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater. By vacuum drying at 60 ° C. for 3 hours, a film using an α-cyanosilicate methyl / N-vinylsuccinimide copolymer having a thickness of 10.5 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率89%、ヘーズ0.4%、屈折率1.575であった。 The obtained film had a total light transmittance of 89%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.575.

三次元屈折率は、nx=1.5679、ny=1.5679、nz=1.5881であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-212nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は20.2nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.5679, ny = 1.5679, nz = 1.5881, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was -212 nm, which was negatively large. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 20.2 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例19
実施例5で得られたα-シアノケイ皮酸エチル/N-ビニルフタルイミド共重合体をN,N―ジメチルホルムアミドに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で3時間真空乾燥することにより、厚み9.2μmのα-シアノケイ皮酸エチル/N-ビニルフタルイミド共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 19
The α-cyanosilicate ethyl / N-vinylphthalimide copolymer obtained in Example 5 was dissolved in N, N-dimethylformamide to prepare a 20% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater. By vacuum drying at 60 ° C. for 3 hours, a film using an α-cyanosilicate ethyl / N-vinylphthalimide copolymer having a thickness of 9.2 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.6%、屈折率1.613であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.613.

三次元屈折率は、nx=1.6042、ny=1.6042、nz=1.6310であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-247nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は26.8nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6042, ny = 1.6042, nz = 1.6310, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was -247 nm, which was negatively large. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 26.8 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例20
実施例6で得られたα-シアノケイ皮酸エチル/2-ビニルベンゾフラン共重合体をトルエンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み8.8μmのα-シアノケイ皮酸エチル/2-ビニルベンゾフラン共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 20
The α-cyanosilicate ethyl / 2-vinylbenzofuran copolymer obtained in Example 6 was dissolved in toluene to prepare a 35% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater and at 60 ° C. for 60 minutes. By drying, a film using an α-ethyl cyanosilicate / 2-vinylbenzofuran copolymer having a thickness of 8.8 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.3%、屈折率1.634であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.634.

三次元屈折率は、nx=1.6294、ny=1.6294、nz=1.6438であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-127nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は14.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6294, ny = 1.6294, nz = 1.6438, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was -127 nm, which was negatively large. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 14.4 nm / film thickness (μm).

また、1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 Further, when the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例21
実施例7で得られたα-シアノケイ皮酸n-プロピル/2-ビニルキノリン共重合体をシクロペンタノンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み11.0μmのα-シアノケイ皮酸n-プロピル/2-ビニルキノリン共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 21
The α-cyanosilicate n-propyl / 2-vinylquinoline copolymer obtained in Example 7 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 35% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater, and 100. By drying at ° C. for 10 minutes, a film using an α-cyanosilicate n-propyl / 2-vinylquinoline copolymer having a thickness of 11.0 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.3%、屈折率1.635であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.635.

三次元屈折率は、nx=1.6291、ny=1.6291、nz=1.6464であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-190nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は17.3nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6291, ny = 1.6291, nz = 1.6464, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -190 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 17.3 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例22
実施例8で得られたベンザルマロノニトリル/N-ビニルフタルイミド共重合体をN,N-ジメチルホルムアミドに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で3時間真空乾燥することにより、厚み12.6μmのベンザルマロノニトリル/N-ビニルフタルイミド共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 22
The benzalmarononitrile / N-vinylphthalimide copolymer obtained in Example 8 was dissolved in N, N-dimethylformamide to prepare a 20% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater at 60 ° C. By vacuum drying in 12.6 μm, a film using a benzalmarononitrile / N-vinylphthalimide copolymer having a thickness of 12.6 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.5%、屈折率1.638であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.638.

三次元屈折率は、nx=1.6301、ny=1.6301、nz=1.6535あり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-295nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は23.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6301, ny = 1.6301, nz = 1.6535, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -295 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 23.4 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例23
実施例9で得られたベンザルマロノニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体をテトラヒドロフランに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み11.8μmのベンザルマロノニトリル/9-ビニルカルバゾール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 23
The benzalmarononitrile / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Example 9 is dissolved in tetrahydrofuran to obtain a 20% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 130 ° C. for 10 minutes. As a result, a film using a benzalmarononitrile / 9-vinylcarbazole copolymer having a thickness of 11.8 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.4%、屈折率1.652であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.652.

三次元屈折率は、nx=1.6410、ny=1.6410、nz=1.6732であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-380nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は32.2nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6410, ny = 1.6410, nz = 1.6732, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at 380 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 32.2 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例24
実施例10で得られた4-ニトロベンザルマロノニトリル/2-ビニルベンゾフラン共重合体をメチルエチルケトンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み9.8μmの4-ニトロベンザルマロノニトリル/2-ビニルベンゾフラン共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 24
The 4-nitrobenzalmarononitrile / 2-vinylbenzofuran copolymer obtained in Example 10 was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a 35% by weight resin solution, cast on a glass substrate by a coater, and 60 at 60 ° C. By drying for a minute, a film using a 4-nitrobenzalmarononitrile / 2-vinylbenzofuran copolymer having a thickness of 9.8 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.5%、屈折率1.642であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.642.

三次元屈折率は、nx=1.6357、ny=1.6357、nz=1.6550であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-189nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は19.3nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6357, ny = 1.6357, nz = 1.6550, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -189 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 19.3 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例25
実施例11で得られたN,N-ジエチルシンナムアミド/2-ビニルフラン共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み12.2μmのN,N-ジエチルシンナムアミド/2-ビニルフラン共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 25
The N, N-diethylcinnamamide / 2-vinylfuran copolymer obtained in Example 11 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater to make 100%. By drying at ° C. for 10 minutes, a film using an N, N-diethylcinnamamide / 2-vinylfuran copolymer having a thickness of 12.2 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率89%、ヘーズ0.5%、屈折率1.577であった。 The obtained film had a total light transmittance of 89%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.577.

三次元屈折率は、nx=1.5741、ny=1.5741、nz=1.5837であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-117nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.5741, ny = 1.5741, nz = 1.5837, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was -117 nm, which was negatively large. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 9.6 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例26
実施例12で得られたカルコン/2-ビニルキノリン共重合体をシクロペンタノンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み7.9μmのカルコン/2-ビニルキノリン共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 26
The chalcone / 2-vinylquinoline copolymer obtained in Example 12 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 35% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes. A film using a chalcone / 2-vinylquinolin copolymer having a thickness of 7.9 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.6%、屈折率1.651であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.651.

三次元屈折率は、nx=1.6476、ny=1.6476、nz=1.6568であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-73nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.2nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6476, ny = 1.6476, nz = 1.6568, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at −73 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 9.2 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例27
実施例13で得られたα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み11.9μmのα-シアノケイ皮酸メチル/9-ビニルカルバゾール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 27
The α-cyanosilicate methyl / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Example 13 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater and at 130 ° C. By drying for 10 minutes, a film using an α-cyanosilicate methyl / 9-vinylcarbazole copolymer having a thickness of 11.9 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.3%、屈折率1.650であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.650.

三次元屈折率は、nx=1.6431、ny=1.6431、nz=1.6650であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-261nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は21.9nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6431, ny = 1.6431, nz = 1.6650, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -261 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 21.9 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

実施例28
実施例14で得られた4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル/9-ビニルカルバゾール共重合体を酢酸エチルに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み12.4μmの4-ヒドロキシ-α-シアノケイ皮酸イソブチル/9-ビニルカルバゾール共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 28
The 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Example 14 was dissolved in ethyl acetate to prepare a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater. By drying at 100 ° C. for 10 minutes, a film using a 4-hydroxy-α-cyanosilicate isobutyl / 9-vinylcarbazole copolymer having a thickness of 12.4 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.5%、屈折率1.613であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.613.

三次元屈折率は、nx=1.6060、ny=1.6060、nz=1.6270であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-260nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は21.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6060, ny = 1.6060, nz = 1.6270, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was negatively large at -260 nm. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 21.0 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。 When the film was measured one month later, the out-of-plane phase difference was maintained and the film was excellent in stability.

比較例1
合成例1で得られたシンナモニトリル/スチレン共重合体をメチルエチルケトンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み12.5μmのフィルムを得た。
Comparative Example 1
The cinnamonitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a thickness. A 12.5 μm film was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.5%、屈折率1.604であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.604.

三次元屈折率は、nx=1.6021、ny=1.6021、nz=1.6065であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは-55nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.4nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index is nx = 1.6021, ny = 1.6021, nz = 1.6065, and the obtained film shows nx = ny <nz, which means that the refractive index in the thickness direction of the film is large. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −55 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was as small as 4.4 nm / film film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。 From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small and the thin film was inferior in phase difference characteristics.

比較例2
合成例2で得られたα-シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み9.5μmのフィルムを得た。
Comparative Example 2
The α-ethyl cyanosilicate / methyl acrylate copolymer obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in cyclopentanone to prepare a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate by a coater, and 10 at 100 ° C. By drying for a minute, a film having a thickness of 9.5 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.3%、屈折率1.597であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.597.

三次元屈折率は、nx=1.5951、ny=1.5951、nz=1.6001であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは-48nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も5.0nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index is nx = 1.5951, ny = 1.5951, nz = 1.601, and the obtained film shows nx = ny <nz, which means that the refractive index in the thickness direction of the film is large. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −48 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was as small as 5.0 nm / film film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。 From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small and the thin film was inferior in phase difference characteristics.

比較例3
合成例3で得られたベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体をメチルエチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み9.1μmのフィルムを得た。
Comparative Example 3
The benzalmalononitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a 20% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes. A film having a thickness of 9.1 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.5%、屈折率1.623であった。 The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.623.

三次元屈折率は、nx=1.6213、ny=1.6213、nz=1.6270であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは-52nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も5.7nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index is nx = 1.6213, ny = 1.6213, nz = 1.6270, and the obtained film shows nx = ny <nz, which means that the refractive index in the thickness direction of the film is large. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −52 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was as small as 5.7 nm / film film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。 From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane phase difference was small and the thin film was inferior in phase difference characteristics.

比較例4
合成例4で得られたアクリロニトリル/1-ビニルインドール共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み8.3μmのフィルムを得た。
Comparative Example 4
The acrylonitrile / 1-vinyl indole copolymer obtained in Synthesis Example 4 is dissolved in cyclopentanone to prepare a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes. To obtain a film having a thickness of 8.3 μm.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.4%、屈折率1.630であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.630.

三次元屈折率は、nx=1.6291、ny=1.6291、nz=1.6331であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは-33nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.0nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。 The three-dimensional refractive index is nx = 1.6291, ny = 1.6291, nz = 1.6331, and the obtained film shows nx = ny <nz, which means that the refractive index in the thickness direction of the film is large. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −33 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was as small as 4.0 nm / film film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。 From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane phase difference was small and the thin film was inferior in phase difference characteristics.

比較例5
ポリ(9-ビニルカルバゾール)(数平均分子量264,000、東京化成製)をシクロペンタノンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み13.2μmのポリ(9-ビニルカルバゾール)を用いたフィルムを得た。
Comparative Example 5
Poly (9-vinylcarbazole) (number average molecular weight 264,000, manufactured by Tokyo Kasei) was dissolved in cyclopentanone to make a 15% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater and at 100 ° C. for 10 minutes. By drying, a film using poly (9-vinylcarbazole) having a thickness of 13.2 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.6%、屈折率1.685であった。 The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.685.

三次元屈折率は、nx=1.6785、ny=1.6785、nz=1.6990であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは-271nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は20.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。 The three-dimensional refractive index was nx = 1.6785, ny = 1.6785, nz = 1.6990, and the obtained film showed nx = ny <nz, which is a value having a large refractive index in the thickness direction of the film. .. The out-of-plane phase difference Rth was -271 nm, which was negatively large. The ratio of the absolute value of the out-of-plane phase difference to the film thickness was 20.5 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有していた。しかし、5日後に再度同フィルムの測定をしたところ、三次元屈折率は、nx=1.6849、ny=1.6849、nz=1.6866であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは-22nm、面外位相差の絶対値と膜厚の比は1.7nm/フィルム膜厚(μm)と大きく低下しており、安定性に難があるため位相差フィルムに適したものではなかった。 From these results, the obtained film had negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large out-of-plane phase difference, and a high out-of-plane phase difference even in a thin film. However, when the film was measured again 5 days later, the three-dimensional refractive index was nx = 1.6849, ny = 1.6849, nz = 1.6866, and nx = ny <nz in the thickness direction of the film. However, the out-of-plane retardation Rth was -22 nm, and the ratio of the absolute value of the out-of-plane retardation to the film thickness was 1.7 nm / film film thickness (μm). It was not suitable for retardation film because of its poor stability.

Claims (6)

一般式(1)で表される残基単位Aおよび
1-ビニルピロール残基単位、2-ビニルピロール残基単位、1-ビニルインドール残基単位、9-ビニルカルバゾール残基単位、1-ビニルイミダゾール残基単位、2-ビニルイミダゾール残基単位、4-ビニルイミダゾール残基単位、5-ビニル-2-ピラゾリン残基単位、1-ビニルテトラゾール残基単位、5-ビニルテトラゾール残基単位、N-ビニルスクシンイミド残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位又はN-ビニルサッカリン残基単位(以下、一般式(2)で表される残基単位Bという)、
のみからなることを特徴とする共重合体。
Figure 0007047340000003
はそれぞれ独立して水素(ただし、R が共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(-C(=O)OX)、(ここで、Xは炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基を示す。)を示し、R、Rの少なくとも1つはシアノ基である。R~Rはそれぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、ニトロ基を示す。)
Residue unit A represented by the general formula (1), 1-vinylpyrrole residue unit, 2-vinylpyrrole residue unit, 1-vinylindole residue unit, 9-vinylcarbazole residue unit, 1-vinylimidazole Residue unit, 2-vinyl imidazole residue unit, 4-vinyl imidazole residue unit, 5-vinyl-2-pyrazolin residue unit, 1-vinyltetrazole residue unit, 5-vinyltetrazole residue unit, N-vinyl Succinimide residue unit, N-vinylphthalimide residue unit or N-vinylsaccharin residue unit (hereinafter referred to as residue unit B represented by the general formula (2)),
A copolymer characterized by consisting only of.
Figure 0007047340000003
( R 1 and R 2 are independently hydrogen (except when both R 1 and R 2 are hydrogen), cyano group, ester group (-C (= O) OX 1 ), (here. , X 1 indicates a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms.), And at least one of R 1 and R 2 is a cyano group. ~ R 7 independently represent hydrogen, hydroxy group, and nitro group, respectively.)
一般式(1)で表される残基単位Aがα-シアノケイ皮酸エステル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、ニトロベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位からなる群より選択される1種以上であることを特徴とする請求項1に記載の共重合体。 The group in which the residue unit A represented by the general formula (1) consists of an α-cyanosilicate ester residue unit, a benzalmarononitrile residue unit, a nitrobenzalmarononitrile residue unit, and a cinnamonitrile residue unit. The copolymer according to claim 1, wherein the copolymer is one or more selected from the above. 一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(2)で表される残基単位Bとのモル比A/Bが0.05~6の範囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の共重合体。 A claim characterized in that the molar ratio A / B of the residue unit A represented by the general formula (1) and the residue unit B represented by the general formula (2) is in the range of 0.05 to 6. The copolymer according to claim 1 or 2. 標準ポリスチレン換算の数平均分子量が3,000~500,000であることを特徴とする請求項1~請求項3のいずれかに記載の共重合体。 The copolymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the number average molecular weight in terms of standard polystyrene is 3,000 to 500,000. 請求項1~請求項4のいずれかに記載の共重合体を含んでなることを特徴とする光学フィルム。 An optical film comprising the copolymer according to any one of claims 1 to 4. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項5に記載の光学フィルムを用いた位相差フィルム。 When the refractive index in the phase-advancing axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the in-plane direction perpendicular to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz, the respective relationships are nx≤ny <nz. The retardation film using the optical film according to claim 5, characterized in that it is present.
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