JP7192933B2 - Polymer, method for producing the same, and optical film using the same - Google Patents

Polymer, method for producing the same, and optical film using the same Download PDF

Info

Publication number
JP7192933B2
JP7192933B2 JP2021140727A JP2021140727A JP7192933B2 JP 7192933 B2 JP7192933 B2 JP 7192933B2 JP 2021140727 A JP2021140727 A JP 2021140727A JP 2021140727 A JP2021140727 A JP 2021140727A JP 7192933 B2 JP7192933 B2 JP 7192933B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cyano
residue unit
hydroxycinnamate
butyl
residue
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021140727A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022001640A (en
Inventor
靖芳 藤井
早希 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2021140727A priority Critical patent/JP7192933B2/en
Publication of JP2022001640A publication Critical patent/JP2022001640A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7192933B2 publication Critical patent/JP7192933B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、新規な重合体及びそれの製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する光学フィルム、特に液晶表示素子用及び有機EL用の光学補償フィルムに適した新規な重合体及びその製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel polymer, a method for producing the same, and an optical film using the same. The present invention relates to a novel polymer suitable for an optical compensation film for EL, a method for producing the same, and an optical film using the same.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。 Liquid crystal displays are widely used in mobile phones, computer monitors, notebook computers, and televisions as the most important display devices in the multimedia society.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。 Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, retardation films play a major role in improving contrast when viewed from the front or obliquely and in compensating for color tone. As conventional retardation films, polycarbonate and cyclic polyolefin are used, and both of these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the positive and negative of birefringence are defined as follows.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。 The optical anisotropy of a polymer film molecularly oriented by stretching or the like is defined by nx as the refractive index in the fast axis direction in the plane of the film when the film is stretched, ny as the refractive index in the in-plane direction of the film perpendicular to it, and can be represented by a refractive index ellipsoid where nz is the refractive index in the thickness direction. Note that the fast axis refers to an axial direction in which the refractive index is low in the plane of the film.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。 Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence means the fast axis direction is the direction perpendicular to the stretching direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。 That is, in uniaxial stretching of a polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in uniaxial stretching of a polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。 Many polymers have positive birefringence. Polymers having negative birefringence include acrylic resin and polystyrene, but acrylic resin has a small retardation and does not have sufficient properties as a retardation film. Polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, so it is not used at present due to the stability of the phase difference, such as a change in the phase difference with a small amount of stress, and the practical problem of low heat resistance. .

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN-LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA-LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS-LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。 A stretched polymer film that exhibits negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, making it an unprecedented retardation film. Useful as a retardation film for compensating the viewing angle characteristics of displays such as displays (VA-LCD), in-plane alignment liquid crystal displays (IPS-LCD), reflective liquid crystal displays (reflective LCD), and viewing angle compensation films for polarizing plates. , and there is a strong market demand for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1~3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。 A method for producing a film in which the refractive index in the thickness direction of the film is increased by using a polymer having positive birefringence has been proposed. One is a treatment method in which a heat-shrinkable film is adhered to one or both sides of a polymer film, the laminate is heated and stretched, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film (for example, Patent Documents 1 to 3). ). A method of uniaxially stretching a polymer film in-plane while applying an electric field has also been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。 In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer such as a maleimide copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 5).

しかし、特許文献1~4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。 However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem of poor productivity due to the extremely complicated manufacturing process. Also, the control of the uniformity of the retardation is much more difficult than the conventional control by stretching.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。また、ディスプレイの用途拡大に伴い、より耐熱性の高い位相差フィルムが求められている。 The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film exhibiting negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. There is a demand for a retardation film that does not require the addition of Further, with the expansion of display applications, there is a demand for a retardation film with higher heat resistance.

また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献6~12参照)。 In addition, fumaric acid diester copolymers and retardation films made thereof have been proposed (see, for example, Patent Documents 6 to 12).

特許文献6~12で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diester-based copolymers proposed in Patent Documents 6 to 12 and films made thereof have a high retardation, there is currently a demand for a film having a high retardation even in a thinner film. there is

さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型位相差フィルム材料が提案されており(例えば、特許文献13及び14参照)、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。 Furthermore, a single film type retardation film material has been proposed by combining a positive birefringent material and a negative birefringent material (see, for example, Patent Documents 13 and 14), and achieves higher optical properties. Therefore, there is a need for polymer materials exhibiting negative birefringence that can be composited.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平05-297223号公報JP-A-05-297223 特開平05-323120号公報JP-A-05-323120 特開平06-88909号公報JP-A-06-88909 特開2005-156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008-112141号公報JP 2008-112141 A 特開2012-032784号公報JP 2012-032784 A WO2012/005120号公報WO2012/005120 特開2008-129465号公報JP 2008-129465 A 特開2006-193616号公報JP 2006-193616 A WO2014/013982号公報WO2014/013982 WO2014/084178号公報WO2014/084178 WO2014/196552号公報WO2014/196552 WO2016/060115号公報WO2016/060115

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、特定の構造の単量体単位とすることで、負の複屈折性を発現させる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性及び異種ポリマーとの相溶性に優れた複合化が容易な重合体及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a polymer exhibiting negative birefringence by using a monomer unit having a specific structure, and a polymer obtained by using the same. An object of the present invention is to provide a polymer which is excellent in retardation properties and compatibility with different types of polymers and which can be easily combined, and an optical film comprising the same.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, have found that a specific copolymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機酸を含まず、一般式(1)で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする重合体及びその製造法並びにそれを用いた光学フィルムに関するものである。 That is, the present invention provides a polymer which does not contain an organic acid containing a bismethide group or a bismethidate and contains a monomer residue unit represented by the general formula (1), a method for producing the polymer, and It relates to an optical film using it.

Figure 0007192933000001
Figure 0007192933000001

(ここで、Rはシアノ基であり、Rはシアノ基、エステル基(-C(=O)OXまたはアミド基(-C(=O)N(X)(X)(ここで、Xは、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基を示し、X~Xは、それぞれ炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基)を示し、Rは水素を示し、R~Rはそれぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基を示す。)
以下、本発明の光学補償フィルムに適した重合体について詳細に説明する。
(Here, R 1 is a cyano group, R 2 is a cyano group, an ester group (-C(=O)OX 1 or an amide group (-C(=O)N(X 4 )(X 5 ) (here X 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and X 4 to X 5 each represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. , a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms), R 3 represents hydrogen, R 4 to R 8 each independently represent hydrogen, a hydroxy group, a carboxy group, or a sulfoxy group, and R 4 to R 8 shows a hydroxy group.)
Polymers suitable for the optical compensation film of the present invention are described in detail below.

本発明の重合体は、一般式(1)で表される単量体残基単位を含む重合体である。そして、本発明の重合体は、一般式(1)で表される単量体残基単位を含んでなることにより、負の複屈折性及び異種ポリマーとの相溶性を発現させるものである。 The polymer of the present invention is a polymer containing a monomer residue unit represented by general formula (1). The polymer of the present invention exhibits negative birefringence and compatibility with different polymers by containing the monomer residue unit represented by the general formula (1).

本発明の一般式(1)におけるRはシアノ基であり、Rはシアノ基、エステル基(-C(=O)OXまたはアミド基(-C(=O)N(X)(X)(ここで、Xは、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基を示し、X~Xは、それぞれ炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基)を示し、Rは水素を示し、R~Rはそれぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基を示す。 R 1 in the general formula (1) of the present invention is a cyano group, R 2 is a cyano group, an ester group (-C(=O)OX 1 or an amide group (-C(=O)N(X 4 ) ( X 5 ) (here, X 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and X 4 to X 5 each represent a a linear alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms), R 3 represents hydrogen, R 4 to R 8 each independently represent hydrogen, a hydroxy group, a carboxy group, or a sulfoxy group, At least one of R 4 to R 8 represents a hydroxy group.

1、,Xにおける炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms in X 1 , X 4 and X 5 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and isobutyl group. Examples of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms include , for example, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group and the like.

本発明の一般式(1)におけるRは、水素を示す。 R 3 in the general formula (1) of the present invention represents hydrogen.

本発明の一般式(1)におけるR~Rはそれぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基を示す。 R 4 to R 8 in general formula (1) of the present invention each independently represent hydrogen, a hydroxy group, a carboxy group or a sulfoxy group, and at least one of R 4 to R 8 represents a hydroxy group.

そして、具体的な一般式(1)で表される単量体残基単位としては、例えば、2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、3-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2-カルボキシシンナモニトリル残基単位、3-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2-カルボキシシンナモニトリル残基単位、3-カルボキシシンナモニトリル残基単位、4-カルボキシシンナモニトリル残基単位、4-スルホキシシンナモニトリル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、2-カルボキシケイ皮酸残基単位、3-カルボキシケイ皮酸残基単位、4-カルボキシケイ皮酸残基単位、4-スルホキシケイ皮酸残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-スルホキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、2-カルボキシシンナムアミド残基単位、3-カルボキシシンナムアミド残基単位、4-カルボキシシンナムアミド残基単位、4-スルホキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-2-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-3-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-スルホキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル2-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル3-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-スルホキシシンナムアミド残基単位、2-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、2-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、3-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-スルホキシ-β-メチルスチレン残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジカルボ
キシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位等が挙げられる。
Specific monomer residue units represented by general formula (1) include, for example, 2-hydroxy-α,β,β-trifluorostyrene residue units, 3-hydroxy-α,β, β-trifluorostyrene residue unit, 4-hydroxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 2-carboxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 3-carboxy-α,β , β-trifluorostyrene residue unit, 4-carboxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 4-sulfoxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 2,3-dihydroxy- α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 2,4-dihydroxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit, 3,4-dihydroxy-α,β,β-trifluorostyrene residue unit , 2-hydroxycinnamonitrile residue unit, 3-hydroxycinnamonitrile residue unit, 4-hydroxycinnamonitrile residue unit, 2-carboxycinnamonitrile residue unit, 3-hydroxycinnamonitrile residue unit , 4-hydroxycinnamonitrile residue unit, 2-carboxycinnamonitrile residue unit, 3-carboxycinnamonitrile residue unit, 4-carboxycinnamonitrile residue unit, 4-sulfoxycinnamonitrile residue unit, 2-hydroxycinnamic acid residue unit, 3-hydroxycinnamic acid residue unit, 4-hydroxycinnamic acid residue unit, 2-carboxycinnamic acid residue unit, 3-carboxycinnamic acid residue unit, 4-carboxycinnamic acid residue unit, 4-sulfoxycinnamic acid residue unit, methyl 2-hydroxycinnamate residue unit, methyl 3-hydroxycinnamate residue unit, methyl 4-hydroxycinnamate residue unit, methyl 2-carboxycinnamate residue unit, methyl 3-carboxycinnamate residue unit, methyl 4-carboxycinnamate residue unit, methyl 4-sulfoxycinnamate residue unit, 2-hydroxy ethyl cinnamate residue unit, ethyl 3-hydroxycinnamate residue unit, ethyl 4-hydroxycinnamate residue unit, ethyl 2-carboxycinnamate residue unit, ethyl 3-carboxycinnamate residue unit, ethyl 4-carboxycinnamate residue unit, ethyl 4-sulfoxycinnamate residue unit, propyl 2-hydroxycinnamate residue unit, propyl 3-hydroxycinnamate residue unit, 4-hydroxycinnamate propyl acid residue unit, 2-propyl carboxycinnamate residue unit, 3-carboxy propyl residue unit propyl imilate residue unit, propyl 4-carboxycinnamate residue unit, propyl 4-sulfoxycinnamate residue unit, 4-sulfoxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene residue unit, 2,3-dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene residue unit, 2,4-dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene residue unit, 3,4- Dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene residue unit, 2-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 3-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit , 4-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 2-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 3-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 4 -hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 2-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 3-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 4-carboxy -β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, 4-sulfoxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene residue unit, β-(2-hydroxy-1-naphthyl)acrylic acid residue unit, β-(3 -hydroxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β-(4-hydroxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β-(2-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β-( 3-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β-(4-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl) acrylic acid residue unit, β- (2-hydroxy-1-naphthyl)methyl acrylate residue unit, β-(3-hydroxy-1-naphthyl)methyl acrylate residue unit, β-(4-hydroxy-1-naphthyl)methyl acrylate residue unit, β-(2-carboxy-1-naphthyl) methyl acrylate residue unit, β-(3-carboxy-1-naphthyl) methyl acrylate residue unit, β-(4-carboxy-1-naphthyl) acrylic methyl acid residue unit, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl)methyl acrylate residue unit, β-(2-hydroxy-1-naphthyl)ethyl acrylate residue unit, β-(3-hydroxy-1 -naphthyl)ethyl acrylate residue unit, β-(4-hydroxy-1-naphthyl)ethyl acrylate residue unit , β-(2-carboxy-1-naphthyl) ethyl acrylate residue unit, β-(3-carboxy-1-naphthyl) ethyl acrylate residue unit, β-(4-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid ethyl residue unit, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl)ethyl acrylate residue unit, β-(2-hydroxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(3-hydroxy-1- naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(4-hydroxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(2-carboxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(3- Carboxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(4-carboxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl)propyl acrylate residue unit, 2 - hydroxycinnamamide residue unit, 3-hydroxycinnamamide residue unit, 4-hydroxycinnamamide residue unit, 2-carboxycinnamamide residue unit, 3-carboxycinnamamide residue unit, 4 -Carboxycinnamamide residue unit, 4-sulfoxycinnamamide residue unit, N,N-dimethyl-2-hydroxycinnamamide residue unit, N,N-dimethyl-3-hydroxycinnamamide residue unit , N,N-dimethyl-4-hydroxycinnamamide residue unit, N,N-dimethyl-2-carboxycinnamamide residue unit, N,N-dimethyl-3-carboxycinnamamide residue unit, N , N-dimethyl-4-carboxycinnamamide residue unit, N,N-dimethyl-4-sulfoxycinnamamide residue unit, N,N-diethyl 2-hydroxycinnamamide residue unit, N,N- diethyl 3-hydroxycinnamamide residue unit, N,N-diethyl 4-hydroxycinnamamide residue unit, N,N-diethyl 2-carboxycinnamamide residue unit, N,N-diethyl 3-carboxycinnamamide namamide residue unit, N,N-diethyl 4-carboxycinnamamide residue unit, N,N-diethyl 4-sulfoxycinnamamide residue unit, 2-hydroxy-β-methylstyrene residue unit, 3- Hydroxy-β-methylstyrene residue unit, 4-hydroxy-β-methylstyrene residue unit, 2-carboxy-β-methylstyrene residue unit, 3-carboxy-β-methylstyrene residue unit, 4-carboxy- β-methylstyrene residue unit, 4 - sulfoxy-β-methylstyrene residue unit, 2-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue group unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2-carboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3-carboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-carboxy benzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,4-dicarboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-sulfoxy benzylidenemalononitrile residue unit, dimethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue Group unit, dimethyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit , dimethyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2 , 3-dihydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2-carboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 3 -Carboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 4-carboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2,4-dicarbo Diethyl xybenzylidene malonate residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidene diethyl malonate residue unit, 4-sulfoxybenzylidene diethyl malonate residue unit, 2-hydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 3-hydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 4-hydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, dipropyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, 2-hydroxybenzylidenemalonic acid Diisopropyl residue unit, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue group unit, diisopropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, 2 ,3-dicarboxybenzylidenemalonate diisopropyl residue unit, 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate diisopropyl residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate diisopropyl residue unit, 4-sulfoxybenzylidenemalonate diisopropyl residue group unit, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2 ,4-dihydroxybenzylidenemalonate dibutyl residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate dibutyl residue unit, dibutyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit , dibutyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 2-carboxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 3-carboxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 4-carboxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 2,3- diisobutyl dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, Di-sec-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalonic acid disec-butyl residue unit, disec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, disec-butyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, disec-butyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, 2 ,4-dicarboxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 4-sulfoxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 2- hydroxybenzylidemma di-tert-butyl ronate residue unit, di-tert-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, 3-carboxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, 4-carboxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, 2,4-di Carboxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, 4-sulfoxybenzylidenemalonate di-tert-butyl residue unit, α-cyano-2- hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid residue unit, α-Cyano-3-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid methyl acid residue unit, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-2-carboxycinnamate residue unit , α-cyano-3-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-4-carboxymethyl cinnamate residue unit, α-cyano-4-sulfoxymethyl cinnamate residue unit, α-cyano-2 -ethyl hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, ethyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate residue unit, α -propyl cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-2- Carbo propyl xycinnamate residue unit, propyl alpha-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, propyl cyano-4-carboxycinnamate residue unit, propyl alpha-cyano-4-sulfoxycinnamate residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano -2-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic isopropyl acid residue unit, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit , α-cyano-2-butyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano-3-butyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano-4-butyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano- Butyl 4-sulfoxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α- Cyano-4-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamate sec-butyl residue unit, α -cyano-4-carboxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit, α - tert-butyl cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, tert-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, tert-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid tert-butyl alpha-cyano-4-carboxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid (2 -methoxyethyl) residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α- Cyano-2-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid (2 -methoxyethyl) residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, and the like.

一般式(1)で表される残基単位のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジスルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸te
rt-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位が好ましく、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位がさらに好ましい。これらの残基単位は1種でもよいし2種以上含んでいてもよい。
Among the residue units represented by the general formula (1), 2-hydroxybenzylidenemalononitrile residue units and 3-hydroxybenzylidene are used to exhibit higher negative retardation and higher compatibility with different polymers. malononitrile residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2-carboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3-carboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-carboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,4-di Carboxybenzylidene malononitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidene malononitrile residue unit, 4-sulfoxybenzylidene malononitrile residue unit, 2,3-disulfoxybenzylidene malononitrile residue unit, 2-hydroxybenzylidene dimethyl malonate residue unit, dimethyl 3-hydroxybenzylidene malonate residue unit, dimethyl 4-hydroxybenzylidene malonate residue unit, dimethyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, dimethyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit , dimethyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, 4-sulfoxybenzylidenemalonic acid dimethyl residue unit, diethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit , 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2-carboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 3-carboxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 4 - Diethyl carboxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit , 4-sulfoxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 2-hydroxybenzylidenemalonate dipropyl residue unit, 3-hydroxybenzylidenemalonate dipropyl residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalonate dipropyl residue unit, 2,3- dipropyl dihydroxybenzylidene malonate residue unit, dipropyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate residue unit, dipropyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate residue unit, dipropyl 2-carboxybenzylidene malonate residue unit, 3-carboxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 4-carboxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidene malonate dipropyl residue unit, 2,4-dicarboxybenzylidene dipropyl malonate residue unit, 3,4- Dipropyl dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalonic acid diisopropyl residue unit, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2-carboxybenzylidenemalonic acid diisopropyl residue unit, diisopropyl 3-carboxybenzylidene malonate residue unit, diisopropyl 4-carboxybenzylidene malonate residue unit, diisopropyl 2,3-dicarboxybenzylidene malonate residue unit, 2,4-dicarboxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, diisopropyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue group unit, 4-hydroxybenzylidenemalonate dibutyl residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate dibutyl Butyl residue unit, dibutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue Group unit, dibutyl 4-carboxybenzylidene malonate residue unit, dibutyl 2,3-dicarboxybenzylidene malonate residue unit, dibutyl 2,4-dicarboxybenzylidene malonate residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidene malonate dibutyl acid residue unit, dibutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit , diisobutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2-carboxybenzylidenemalonate residue unit , diisobutyl 3-carboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 4-carboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit , 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 4-sulfoxybenzylidenemalonate diisobutyl residue unit, 2-hydroxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 3-hydroxybenzylidenemalonate disec- Butyl residue unit, di-sec-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit , 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 2-carboxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 3-carboxybenzylidenemalonate disec-butyl residue unit, 4-carboxybenzylidenemalonate di-sec-butyl acid residue unit, 2,3-dicarboxybenzylidene di-sec-butyl malonate residue unit, 2,4-dicarboxybenzylidene di-sec-butyl malonate residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidene di-sec-butyl malonate residue unit, 4-sulfoxybenzylidene di-sec-butyl malonate residue unit, di-tert-butyl 2-hydroxybenzylidene malonate residue unit, di-tert-butyl 3-hydroxybenzylidene malonate residue group unit, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 3 , 4-dihydroxybenzylidene malonate di-tert-butyl residue unit, 2-carboxybenzylidene malonate di-tert-butyl residue unit, 3-carboxybenzylidene malonate di-tert-butyl residue unit, 4-carboxybenzylidene malonate di-tert-butyl residue unit tert-butyl residue unit, di-tert-butyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate residue unit, 3,4-dicarboxybenzylidenemalonic acid Di-tert-butyl residue unit, di-tert-butyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit , α-cyano-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-carboxy cinnamic acid residue unit, α-cyano-2-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano- methyl 2-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic methyl acid residue unit, methyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate residue residue unit, α-Cyano-2-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-2 -ethyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano-3-ethyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano-4-ethyl carboxycinnamate residue unit, α-cyano-2-su ethyl sulphoxycinnamate residue unit, α-cyano-3-ethyl sulfoxycinnamate residue unit, α-cyano-4-ethyl sulfoxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit , α-cyano-3-hydroxycinnamate propyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate propyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamate propyl residue unit, α-cyano- propyl 3-carboxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-Cyano-3-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-2- Butyl hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-2-carboxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate residue unit, α- cyano-2-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-2-carboxy isobutyl cinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue Group unit, sec-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid s ec-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid te
rt-butyl residue unit, tert-butyl α-cyano-3-carboxycinnamate residue unit, tert-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano -4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid (2- methoxyethyl) residue units, α-cyano-4-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue units, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue units are preferred, and 2- Hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, dimethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dimethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2,3 -dihydroxybenzylidenemalonate dimethyl residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate dimethyl residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate dimethyl residue unit, 2-hydroxybenzylidenemalonate diethyl residue unit, 3-hydroxy diethyl benzylidenemalonate residue unit, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diethyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 3,4-dihydroxy diethyl benzylidenemalonate residue unit, dipropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dipropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2-hydroxy diisopropyl droxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2,4-dihydroxy diisopropyl benzylidenemalonate residue unit, diisopropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, dibutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, diisobutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, disec-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, disec-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit sec-butyl residue unit, di-sec-butyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-sec-3,4-dihydroxybenzylidenemalonate butyl residue unit, di-tert-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate residue unit, 2,3 -di-tert-butyl dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, di-tert-butyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate residue unit, α-cyano-2 -Hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid residue unit , α-cyano- 3-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid residue unit, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-4-hydroxy methyl cinnamate residue unit, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue group unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate propyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate propyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate propyl residue unit, α- Cyano-2-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-2-hydroxy Butyl cinnamate residue unit, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue group unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α-Cyano-3-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate sec-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit , α-cyano-3-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate tert-butyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate (2-methoxyethyl ) residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, and α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit are more preferable. One or more of these residue units may be included.

本発明の一般式(1)で表される単量体残基単位を含む重合体は、良好な光学特性を発
現するため、さらに一般式(3)~一般式(4)で表される少なくとも1以上の単量体残基単位を含むことが好ましい。
Since the polymer containing the monomer residue unit represented by the general formula (1) of the present invention exhibits good optical properties, it further comprises at least It preferably contains one or more monomeric residue units.

Figure 0007192933000002
Figure 0007192933000002

(ここで、R17~R19は水素を示す。また、R20~R27はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX43)、エステル基(-C(=O)OX44または-CO(=O)-X45)、アミド基(-C(=O)N(X46)(X47)または-NX48C(=O)X49)、アシル基(-C(=O)X50)またはアミノ基(-N(X51)(X52))(ここで、X43~X45は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X46~X52は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R20~R27は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R20とR26およびR21とR27は同一原子で環構造を形成していてもよい。) (Here, R 17 to R 19 represent hydrogen. Further, R 20 to R 27 each independently represent hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Alkyl group, cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group ( -OX43 ), ester group (-C(=O) OX44 or -CO( =O)-X 45 ), amide group (-C(=O)N(X 46 )(X 47 ) or -NX 48 C(=O)X 49 ), acyl group (-C(=O)X 50 ) or an amino group (—N(X 51 )(X 52 )) (where X 43 to X 45 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched chain having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and each of X 46 to X 52 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) In addition, adjacent substituents of R 20 to R 27 may form a condensed ring structure, and R 20 and R 26 and R 21 may form a condensed ring structure. and R 27 may form a ring structure with the same atom.)

Figure 0007192933000003
Figure 0007192933000003

(ここで、R28~R30は水素を示す。また、R31~R34はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX63)、エステル基(-C(=O)OX64または-CO(=O)-X65)、アミド基(-C(=O)N(X66)(X67)または-NX68C(=O)X69)、アシル基(-C(=O)X70)またはアミノ基(-N(X71)(X72))(ここで、X63~X65は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X66~X72は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R31~R34は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R31とR32およびR33とR34は同一原子で環構造を形成していてもよい。)
本発明の一般式(3)におけるR17~R19は、水素を示す。
(Here, R 28 to R 30 represent hydrogen. Further, R 31 to R 34 each independently represent hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Alkyl group, cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group (-OX 63 ), ester group (-C(=O)OX 64 or -CO( =O)-X 65 ), amide group (-C(=O)N(X 66 )(X 67 ) or -NX 68 C(=O)X 69 ), acyl group (-C(=O)X 70 ) or an amino group (—N(X 71 )(X 72 )) (where X 63 to X 65 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and each of X 66 to X 72 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) In addition, adjacent substituents of R 31 to R 34 may form a condensed ring structure, and R 31 and R 32 and R 33 may form a condensed ring structure. and R 34 may form a ring structure with the same atom.)
R 17 to R 19 in general formula (3) of the present invention represent hydrogen.

また、本発明における一般式(3)におけるR20~R27はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX43)、エステル基(-C(=O)OX44または-CO(=O)-X45)、アミド基(-C(=O)N(X46)(X47)または-NX48C(=O)X49)、アシル基(-C(=O)X50)またはアミノ基(-N(X51)(X52))(ここで、X43~X45は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X46~X52は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R20~R27は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R20とR26およびR21とR27は同一原子で環構造を形成していてもよい。 Further, R 20 to R 27 in the general formula (3) in the present invention are each independently hydrogen, halogen, linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 3 to 14 cyclic groups, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, carboxy groups, thiol groups, alkoxy groups ( -OX43 ), ester groups (-C(=O) OX44 or -CO(=O)-X 45 ), amide group (-C(=O)N(X 46 )(X 47 ) or -NX 48 C(=O)X 49 ), acyl group (-C(=O)X 50 ) or amino group ( —N(X 51 )(X 52 )) (where X 43 to X 45 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or represents a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and each of X 46 to X 52 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a 3 to 14 cyclic groups). Adjacent substituents of R 20 to R 27 may form a condensed ring structure, and R 20 and R 26 and R 21 and R 27 may form a ring structure with the same atom.

20~R27におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。 Halogen in R 20 to R 27 includes, for example, fluorine, chlorine, bromine, etc. Examples of linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, Linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group and hexyl group can be mentioned. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Examples include branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as butyl group, and examples of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentanyl group, phenyl cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms such as groups, naphthyl groups, anthryl groups, furyl groups, pyranyl groups, pyrrolyl groups, imidazolyl groups, pyridyl groups, indolyl groups, carbazolyl groups, etc. Specific alkoxy groups include: Examples include a methoxy group, an ethoxy group, and the like. Specific ester groups include, for example, a methyloxycarbonyl group, an ethyloxycarbonyl group, an acetoxy group, a propoxy group, and the like. Specific amide groups include Examples include dimethylamide group, diethylamide group and the like. Specific acyl groups include acetyl group, propionyl group, benzoyl group and the like. Specific amino groups include dimethylamino group and diethylamino group. etc.

36~X52における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms in X 36 to X 52 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and isobutyl group. Examples of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms include Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group and the like.

そして、具体的な一般式(3)で表される単量体残基単位としては、例えば、N-ビニルインドール残基単位、N-メチル-3-ビニルインドール残基単位等のインドール類残基単位、N-ビニルカルバゾール残基単位、3-メチル-N-ビニルカルバゾール、3-クロロ-N-ビニルカルバゾール等のN-ビニルカルバゾール類残基単位等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、N-ビニルカルバゾール類残基単位が好ましく、N-ビニルカルバゾールがさらに好ましい。 Specific monomer residue units represented by general formula (3) include, for example, indole residues such as N-vinylindole residue units and N-methyl-3-vinylindole residue units. units, N-vinylcarbazole residue units, N-vinylcarbazole residue units such as 3-methyl-N-vinylcarbazole, 3-chloro-N-vinylcarbazole, and the like. Among these, N-vinylcarbazole residue units are preferred, and N-vinylcarbazole is more preferred, in order to exhibit higher negative retardation and higher compatibility with different polymers.

本発明における一般式(4)におけるR28~R30は、水素を示す。 R 28 to R 30 in general formula (4) in the present invention represent hydrogen.

また、本発明における一般式(4)におけるR31~R34はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX63)、エステル基(-C(=O)OX64または-CO(=O)-X65)、アミド基(-C(=O)N(X66)(X67)または-NX68C(=O)X69)、アシル基(-C(=O)X70)またはアミノ基(-N(X71)(X72))(ここで、X63~X65は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X66~X72は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R31~R34は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R31とR32およびR33とR34は同一原子で環構造を形成していてもよい。 Further, R 31 to R 34 in the general formula (4) in the present invention are each independently hydrogen, halogen, linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 3 to 14 cyclic groups, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, carboxy groups, thiol groups, alkoxy groups (-OX 63 ), ester groups (-C(=O)OX 64 or -CO(=O)-X 65 ), amide group (-C(=O)N(X 66 )(X 67 ) or -NX 68 C(=O)X 69 ), acyl group (-C(=O)X 70 ) or amino group ( —N(X 71 )(X 72 )) (where X 63 to X 65 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or represents a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and each of X 66 to X 72 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a 3 to 14 cyclic groups). Adjacent substituents of R 31 to R 34 may form a condensed ring structure, and R 31 and R 32 and R 33 and R 34 may form a ring structure with the same atom.

31~R34におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。 Halogen in R 31 to R 34 includes, for example, fluorine, chlorine, bromine and the like, and examples of linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, Linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group and hexyl group can be mentioned. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Examples include branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as butyl group, and examples of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentanyl group, phenyl cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms such as groups, naphthyl groups, anthryl groups, furyl groups, pyranyl groups, pyrrolyl groups, imidazolyl groups, pyridyl groups, indolyl groups, carbazolyl groups, etc. Specific alkoxy groups include: Examples include a methoxy group, an ethoxy group, and the like. Specific ester groups include, for example, a methyloxycarbonyl group, an ethyloxycarbonyl group, an acetoxy group, a propoxy group, and the like. Specific amide groups include Examples include dimethylamide group, diethylamide group and the like. Specific acyl groups include acetyl group, propionyl group, benzoyl group and the like. Specific amino groups include dimethylamino group and diethylamino group. etc.

53~X72における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms in X 53 to X 72 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and isobutyl group. Examples of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms include Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group and the like.

そして、具体的な一般式(4)で表される単量体残基単位としては、例えば、N-ビニルスクシンイミド残基単位等のN-ビニルスクシンイミド類残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、4-メチルフタルイミド残基単位、4-クロロメチルフタルイミド残基単位、4-ニトロフタルイミド残基単位等のN-ビニルフタルイミド類残基単位、N-ビニル2,3-ナフタレンジカルボキシイミド残基単位、N-ビニル1,8-ナフタレンジカルボキシイミド残基単位等のN-ビニルナフタレンジカルボキシイミド類等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、N-ビニルフタルイミド類残基単位が好ましく、N-ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。 Specific monomer residue units represented by general formula (4) include, for example, N-vinylsuccinimide residue units such as N-vinylsuccinimide residue units, and N-vinylphthalimide residue units. , 4-methylphthalimide residue unit, 4-chloromethylphthalimide residue unit, N-vinylphthalimide residue units such as 4-nitrophthalimide residue unit, N-vinyl 2,3-naphthalene dicarboximide residue unit , N-vinyl naphthalenedicarboximides such as N-vinyl 1,8-naphthalenedicarboximide residue units. Among these, N-vinylphthalimide residue units are preferred, and N-vinylphthalimide residue units are more preferred, in order to exhibit higher negative retardation and higher compatibility with different polymers.

本発明の重合体の製造方法について特に制限はないが、例えば、一般式(5)で表される単量体を重合する製造方法が挙げられる。 The method for producing the polymer of the present invention is not particularly limited, but for example, a production method of polymerizing a monomer represented by general formula (5) can be mentioned.

Figure 0007192933000004
Figure 0007192933000004

(ここで、Rはシアノ基であり、Rはシアノ基、エステル基(-C(=O)OXまたはアミド基(-C(=O)N(X)(X)(ここで、Xは、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基を示し、X~Xは、それぞれ炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基)を示し、Rは水素を示し、R~Rはそれぞれ独立して水素、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基を示す。)
本発明の一般式(5)における具体的な単量体としては、例えば、2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2-ヒドロキシシンナモニトリル、3-ヒドロキシシンナモニトリル、4-ヒドロキシシンナモニトリル、2-カルボキシシンナモニトリル、3-ヒドロキシシンナモニトリル、4-ヒドロキシシンナモニトリル、2-カルボキシシンナモニトリル、3-カルボキシシンナモニトリル、4-カルボキシシンナモニトリル、4-スルホキシシンナモニトリル、2-ヒドロキシケイ皮酸、3-ヒドロキシケイ皮酸、4-ヒドロキシケイ皮酸、2-カルボキシケイ皮酸、3-カルボキシケイ皮酸、4-カルボキシケイ皮酸、2-スルホキシケイ皮酸、3-スルホキシケイ皮酸、4-スルホキシケイ皮酸、2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、2-カルボキシケイ皮酸メチル、3-カルボキシケイ皮酸メチル、4-カルボキシケイ皮酸メチル、4-スルホキシケイ皮酸メチル、2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、2-カルボキシケイ皮酸エチル、3-カルボキシケイ皮酸エチル、4-カルボキシケイ皮酸エチル、4-スルホキシケイ皮酸エチル、2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、2-カルボキシケイ皮酸プロピル、3-カルボキシケイ皮酸プロピル、4-カルボキシケイ皮酸プロピル、4-スルホキシケイ皮酸プロピル、2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-スルホキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、2-ヒドロキシシンナムアミド、3-ヒドロキシシンナムアミド、4-ヒドロキシシンナムアミド、2-カルボキシシンナムアミド、3-カルボキシシンナムアミド、4-カルボキシシンナムアミド、2-スルホキシシンナムアミド、3-スルホキシシンナムアミド、4-スルホキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-2-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-3-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-2-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-3-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-スルホキシシンナムアミド、N,N-ジエチル2-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル3-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル2-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル3-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-スルホキシシンナムアミド、2-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、3-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、4-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、2-カルボキシ-β-メチルスチレン、3-カルボキシ-β-メチルスチレン、4-カルボキシ-β-メチルスチレン、2-スルホキシ-β-メチルスチレン、3-スルホキシ-β-メチルスチレン、4-スルホキシ-β-メチルスチレン、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4
-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)等が挙げられる。
(Here, R 1 is a cyano group, R 2 is a cyano group, an ester group (-C(=O)OX 1 or an amide group (-C(=O)N(X 4 )(X 5 ) (here X 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and X 4 to X 5 each represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. , a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms), R 3 represents hydrogen, R 4 to R 8 each independently represent hydrogen, a hydroxy group, a carboxy group, or a sulfoxy group, and R 4 to R 8 shows a hydroxy group.)
Specific monomers in general formula (5) of the present invention include, for example, 2-hydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 3-hydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 4- Hydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 2-carboxy-α,β,β-trifluorostyrene, 3-carboxy-α,β,β-trifluorostyrene, 4-carboxy-α,β,β- trifluorostyrene, 4-sulfoxy-α,β,β-trifluorostyrene, 2,3-dihydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 2,4-dihydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 3,4-dihydroxy-α,β,β-trifluorostyrene, 2-hydroxycinnamonitrile, 3-hydroxycinnamonitrile, 4-hydroxycinnamonitrile, 2-carboxycinnamonitrile, 3-hydroxycinnamonitrile , 4-hydroxycinnamonitrile, 2-carboxycinnamonitrile, 3-carboxycinnamonitrile, 4-carboxycinnamonitrile, 4-sulfoxycinnamonitrile, 2-hydroxycinnamic acid, 3-hydroxycinnamonitrile , 4-hydroxycinnamic acid, 2-carboxycinnamic acid, 3-carboxycinnamic acid, 4-carboxycinnamic acid, 2-sulfoxycinnamic acid, 3-sulfoxycinnamic acid, 4-sulfoxycinnamic acid, 2-hydroxy methyl cinnamate, methyl 3-hydroxycinnamate, methyl 4-hydroxycinnamate, methyl 2-carboxycinnamate, methyl 3-carboxycinnamate, methyl 4-carboxycinnamate, 4-sulfoxycinnamic acid methyl, ethyl 2-hydroxycinnamate, ethyl 3-hydroxycinnamate, ethyl 4-hydroxycinnamate, ethyl 2-carboxycinnamate, ethyl 3-carboxycinnamate, ethyl 4-carboxycinnamate, 4-ethyl sulfoxycinnamate, propyl 2-hydroxycinnamate, propyl 3-hydroxycinnamate, propyl 4-hydroxycinnamate, propyl 2-carboxycinnamate, propyl 3-carboxycinnamate, 4-carboxy Propyl cinnamate, Propyl 4-sulfoxycinnamate, 2-hydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 3-hydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 4- Hydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 2-carboxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene Lunaphthalene, 3-carboxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 4-carboxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 4-sulfoxy-α,β,β-tri Fluoro-1-vinylnaphthalene, 2,3-dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 2,4-dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 3,4 -dihydroxy-α,β,β-trifluoro-1-vinylnaphthalene, 2-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 3-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 4-hydroxy-β-cyano -1-vinylnaphthalene, 2-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 3-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 4-hydroxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 2-carboxy-β -cyano-1-vinylnaphthalene, 3-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 4-carboxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, 4-sulfoxy-β-cyano-1-vinylnaphthalene, β-( 2-hydroxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(3-hydroxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(4-hydroxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(2-carboxy-1-naphthyl) Acrylic acid, β-(3-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(4-carboxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(2-sulfoxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(3- Sulfoxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl) acrylic acid, β-(2-hydroxy-1-naphthyl) methyl acrylate, β-(3-hydroxy-1-naphthyl) acrylic methyl acid, β-(4-hydroxy-1-naphthyl)methyl acrylate, β-(2-carboxy-1-naphthyl)methyl acrylate, β-(3-carboxy-1-naphthyl)methyl acrylate, β- (4-Carboxy-1-naphthyl) methyl acrylate, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl) methyl acrylate, β-(2-hydroxy-1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(3-hydroxy- 1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(4-hydroxy-1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(2-carboxy-1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(3-carboxy-1-naphthyl) acrylic ethyl acetate, β- (4-carboxy-1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl) ethyl acrylate, β-(2-hydroxy-1-naphthyl) propyl acrylate, β-(3-hydroxy- 1-naphthyl)propyl acrylate, β-(4-hydroxy-1-naphthyl)propyl acrylate, β-(2-carboxy-1-naphthyl)propyl acrylate, β-(3-carboxy-1-naphthyl)acryl propyl acid, β-(4-carboxy-1-naphthyl)propyl acrylate, β-(4-sulfoxy-1-naphthyl)propyl acrylate, 2-hydroxycinnamamide, 3-hydroxycinnamamide, 4-hydroxy Cinnamamide, 2-carboxycinnamamide, 3-carboxycinnamamide, 4-carboxycinnamamide, 2-sulfoxycinnamamide, 3-sulfoxycinnamamide, 4-sulfoxycinnamamide, N,N- dimethyl-2-hydroxycinnamamide, N,N-dimethyl-3-hydroxycinnamamide, N,N-dimethyl-4-hydroxycinnamamide, N,N-dimethyl-2-carboxycinnamamide, N, N-dimethyl-3-carboxycinnamamide, N,N-dimethyl-4-carboxycinnamamide, N,N-dimethyl-4-sulfoxycinnamamide, N,N-diethyl 2-hydroxycinnamamide, N , N-diethyl 3-hydroxycinnamamide, N,N-diethyl 4-hydroxycinnamamide, N,N-diethyl 2-carboxycinnamamide, N,N-diethyl 3-carboxycinnamamide, N,N -diethyl 4-carboxycinnamamide, N,N-diethyl 4-sulfoxycinnamamide, 2-hydroxy-β-methylstyrene, 3-hydroxy-β-methylstyrene, 4-hydroxy-β-methylstyrene, 2- Carboxy-β-methylstyrene, 3-carboxy-β-methylstyrene, 4-carboxy-β-methylstyrene, 2-sulfoxy-β-methylstyrene, 3-sulfoxy-β-methylstyrene, 4-sulfoxy-β-methyl Styrene, 2-hydroxybenzylidenemalononitrile, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 3,4-dihydroxybenzylide 2-carboxybenzylidenemalononitrile, 2-carboxybenzylidenemalononitrile, 3-carboxybenzylidenemalononitrile, 4-carboxybenzylidenemalononitrile, 2,3-dicarboxybenzylidenemalononitrile, 2,4-dicarboxybenzylidenemalononitrile, 3,4-dicarboxybenzylidenemalononitrile Carboxybenzylidene malononitrile, 4-sulfoxybenzylidene malononitrile, dimethyl 2-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 3-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 4-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, 2,4 -dimethyl dihydroxybenzylidene malonate, dimethyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, dimethyl 2-carboxybenzylidene malonate, dimethyl 3-carboxybenzylidene malonate, dimethyl 4-carboxybenzylidene malonate, 2,3-dicarboxybenzylidene malonate Dimethyl, dimethyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate, dimethyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, dimethyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, diethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, 4 - diethyl hydroxybenzylidene malonate, diethyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, diethyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate, diethyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, diethyl 2-carboxybenzylidene malonate, 3-carboxybenzylidene malonate diethyl acid, diethyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate, diethyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate, diethyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, 4-sulfoxybenzylidenemalonate diethyl acid, dipropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, 3,4 -dipropyl dihydroxybenzylidene malonate, dipropyl 2-carboxybenzylidene malonate, dipropyl 3-carboxybenzylidene malonate, dipropyl 4-carboxybenzylidene malonate, 2,3-dicarboxybe dipropyl benzylidenemalonate, dipropyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate, dipropyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, dipropyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, 3-hydroxybenzylidenemalonate diisopropyl acid, diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2-carboxybenzylidenemalonate, 3 -diisopropyl carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, 4- Diisopropyl sulfoxybenzylidenemalonate, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate , dibutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2-carboxybenzylidenemalonate, dibutyl 3-carboxybenzylidenemalonate, dibutyl 4-carboxybenzylidenemalonate, dibutyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate, 2,4- dibutyl dicarboxybenzylidenemalonate, dibutyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, dibutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate , diisobutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2-carboxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3-carboxybenzylidenemalonate, 4-carboxy diisobutyl benzylidenemalonate, diisobutyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate, 2,4-dicarboxybe diisobutyl benzylidenemalonate, diisobutyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, disec-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, disec-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, 4
- di-sec-butyl hydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, 2 -di-sec-butyl carboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 3-carboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 4-carboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 2,3-dicarboxybenzylidenemalonate, 2,4- di-sec-butyl dicarboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, 3-hydroxy Di-tert-butyl benzylidene malonate, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate, 3,4-dihydroxy Di-tert-butyl benzylidene malonate, di-tert-butyl 2-carboxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 3-carboxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 4-carboxybenzylidene malonate, 2,3-dicarboxybenzylidene malonate Di-tert-butyl, di-tert-butyl 2,4-dicarboxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 3,4-dicarboxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, α-cyano-2 - hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-2-carboxycinnamic acid, α-cyano-3-carboxycinnamic acid, α-Cyano-4-carboxycinnamic acid, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4 - methyl hydroxycinnamate, methyl α-cyano-2-carboxycinnamate, methyl α-cyano-3-carboxycinnamate, methyl α-cyano-4-carboxycinnamate, α-cyano-4-sulfoxycinnamate methyl formate, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxy ethyl cinnamate, ethyl α-cyano-2-carboxycinnamate, ethyl α-cyano-3-carboxycinnamate, ethyl α-cyano-4-carboxycinnamate, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid ethyl, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-2-carboxycinnamate, propyl α-cyano-3-carboxycinnamate, propyl α-cyano-4-carboxycinnamate, propyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, isopropyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α-cyano Isopropyl-3-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-2-carboxycinnamate, Isopropyl α-cyano-3-carboxycinnamate, α-cyano-4 -isopropyl carboxycinnamate, isopropyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamate Butyl cinnamate, butyl α-cyano-2-carboxycinnamate, butyl α-cyano-3-carboxycinnamate, butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate , isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α -isobutyl cyano-3-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, sec-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α- Sec-butyl cyano-3-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α-cyano-3-carboxycinnamic acid sec-butyl, sec-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, tert-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α-cyano-3 - tert-butyl hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate , tert-butyl α-cyano-3-carboxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, α-cyano-2-hydroxycinnamate Amic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-2-carboxy Cinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-3-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4- sulfoxycinnamic acid (2-methoxyethyl) and the like.

一般式(5)で表される単量体のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)が好ましく、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベン
ジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)がさらに好ましい。これらの単量体を重合することにより、脱保護等の後反応を行うことなく重合体を得ることができる。
Among the monomers represented by general formula (5), 2-hydroxybenzylidenemalononitrile, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile, and 4-hydroxybenzylidenemalononitrile, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 2-carboxybenzylidenemalononitrile, 3-carboxybenzylidenemalononitrile, 4- Carboxybenzylidene malononitrile, 4-sulfoxybenzylidene malononitrile, dimethyl 2-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 3-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 4-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, 2,4 -dimethyl dihydroxybenzylidene malonate, dimethyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, dimethyl 2-carboxybenzylidene malonate, dimethyl 3-carboxybenzylidene malonate, dimethyl 4-carboxybenzylidene malonate, 2,3-dicarboxybenzylidene malonate Dimethyl, dimethyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, diethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, 2,4-dihydroxy Diethyl benzylidenemalonate, diethyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diethyl 2-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 3-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, 2- dipropyl hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate Dipropyl, 2-carboxybenzylidenemalonate dipropyl, 3-carboxybenzylidenemalonate dipropyl, 4-carboxybenzylidenemalonate dipropyl, 4-sulfoxybenzylidenemalonate dipropyl, 2-hydroxy Diisopropyl cybenzylidenemalonate, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate Diisopropyl, diisopropyl 2-carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3-carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate , dibutyl 4-hydroxybenzylidene malonate, dibutyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, dibutyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate, dibutyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, dibutyl 2-carboxybenzylidene malonate, 3-carboxy Dibutyl benzylidenemalonate, dibutyl 4-carboxybenzylidenemalonate, dibutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, 2,3- diisobutyl dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2-carboxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3-carboxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, disec-butyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, disec-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, disec-butyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, 2,3-dihydroxybenzylidenemalonic acid di-sec-butyl, di-sec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 2-carboxybenzylidenemalonate, di-3-carboxybenzylidenemalonate sec-butyl, di-sec-butyl 4-carboxybenzylidenemalonate, di-sec-butyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, 2 - di-tert-butyl hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 3-hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, 2,4-dihydroxy Di-tert-butyl benzylidenemalonate, di-tert-butyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 2-carboxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 3-carboxybenzylidenemalonate, di-tert-butyl 4-carboxybenzylidenemalonate tert-butyl, di-tert-butyl 4-sulfoxybenzylidenemalonate, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, α - cyano-2-carboxycinnamic acid, α-cyano-3-carboxycinnamic acid, α-cyano-4-carboxycinnamic acid, α-cyano-2-sulfoxycinnamic acid, α-cyano-3-sulfoxycinnamic acid, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α- methyl cyano-2-carboxycinnamate, methyl α-cyano-3-carboxycinnamate, methyl α-cyano-4-carboxycinnamate, methyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, α-cyano-2 -ethyl hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α-cyano-3-carboxy ethyl cinnamate, ethyl α-cyano-4-carboxycinnamate, ethyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid propyl, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-2-carboxycinnamate, propyl α-cyano-3-carboxycinnamate, propyl α-cyano-4-carboxycinnamate, Propyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, Isopropyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano -2-carboxycinnamate isopropyl, α-cyano-3-carboxycinnamic isopropyl acid, isopropyl α-cyano-4-carboxycinnamate, isopropyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, Butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, Butyl α-cyano-2-carboxycinnamate, Butyl α-cyano-3-carboxycinnamate, Butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, α- Butyl cyano-4-sulfoxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano-2 -isobutyl carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, α-cyano-2-hydroxycinnamate sec-butyl cinnamate, sec-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α- sec-butyl cyano-3-carboxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, tert α-cyano-2-hydroxycinnamate -butyl, tert-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α-cyano-3 - tert-butyl carboxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-carboxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-sulfoxycinnamate, α-cyano-2-hydroxycinnamate (2-methoxy ethyl), α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-2-carboxycinnamic acid (2- methoxyethyl), α-cyano-3-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-carboxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid (2- methoxyethyl) is preferred, 2-hydroxybenzylidenemalononitrile, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile, 2,3-dihydro Xybenzylidene malononitrile, 2,4-dihydroxybenzylidene malononitrile, 3,4-dihydroxybenzylidene malononitrile, dimethyl 2-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 3-hydroxybenzylidene malonate, dimethyl 4-hydroxybenzylidene malonate, 2,3 dimethyl-dihydroxybenzylidenemalonate, dimethyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dimethyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diethyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate , diethyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diethyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diethyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, 4-hydroxy Dipropyl benzylidenemalonate, dipropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dipropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate , diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, 3-hydroxy Dibutyl benzylidenemalonate, dibutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, dibutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2-hydroxybenzylidenemalonate , diisobutyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2,3-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 2,4-dihydroxybenzylidenemalonate, diisobutyl 3,4-dihydroxybenzylidenemalonate, 2-hydroxy di-sec-butyl benzylidenemalonate, di-sec-butyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, 4- di-sec-butyl hydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 2,4-dihydroxybenzylidene malonate, di-sec-butyl 3,4-dihydroxybenzylidene malonate, 2- Di-tert-butyl hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 3-hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 4-hydroxybenzylidene malonate, di-tert-butyl 2,3-dihydroxybenzylidene malonate, 2,4-dihydroxybenzylidene Di-tert-butyl malonate, 3,4-dihydroxybenzylidene Di-tert-butyl malonate, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid, α-cyano-4-hydroxysilicone Amic acid, α-cyano-2-carboxycinnamic acid, α-cyano-3-carboxycinnamic acid, α-cyano-4-carboxycinnamic acid, α-cyano-2-sulfoxycinnamic acid, α-cyano- 3-sulfoxycinnamic acid, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, Propyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, Propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, Isopropyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α- isopropyl cyano-4-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano- isobutyl 2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α-cyano- sec-butyl 3-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, tert- α-cyano-3-hydroxycinnamate Butyl, tert-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano-2 -hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) are more preferable. By polymerizing these monomers, a polymer can be obtained without post-reaction such as deprotection.

該重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α-メチルスチレン残基単位等のα-置換スチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn-ブチル残基単位、フマル酸ビス(2-エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。 The polymer may contain other monomeric residue units as long as they do not exceed the scope of the present invention. Other monomeric residue units include, for example, α-methylstyrene residue units α-substituted styrene residue units such as; (meth) acrylic acid residue units; methyl (meth) acrylate residue units, ethyl (meth) acrylate residue units, butyl (meth) acrylate residue units, etc. Acrylonitrile residue unit; methacrylonitrile residue unit; ethylene residue unit, olefin residue unit such as propylene residue unit; di-n-butyl fumarate residue unit, One or more selected from fumaric acid diester residue units such as bis(2-ethylhexyl) fumarate residue units can be used.

本発明の重合体の組成は、光学補償フィルムとしたときの位相差特性がより優れたものとなることから、一般式(1)で表される単量体残基単位5~55モル%及び一般式(3)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位45~95モル%が好ましく、一般式(1)で表される単量体残基単位20~50モル%及び一般式(3)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位50~80モル%がさらに好ましく、一般式(1)で表される単量体残基単位30~45モル%及び一般式(3)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位55~70モル%が特に好ましい。 Since the composition of the polymer of the present invention has better retardation characteristics when it is made into an optical compensation film, the monomer residue units represented by the general formula (1) are 5 to 55 mol% and 45 to 95 mol% of the monomer residue units represented by any of the general formulas (3) to (4) are preferable, and 20 to 50 mol% of the monomer residue units represented by the general formula (1) And more preferably 50 to 80 mol% of the monomer residue units represented by any of the general formulas (3) to (4), and 30 to 45 monomer residue units represented by the general formula (1) mol % and 55 to 70 mol % of the monomer residue units represented by any of the general formulas (3) to (4) are particularly preferred.

本発明の重合体は、フィルムとした際の耐熱性がより優れたものとなることから、ガラス転移点が100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがさらに好ましく、150℃以上であることが特に好ましい。 Since the polymer of the present invention has better heat resistance when made into a film, the glass transition point is preferably 100° C. or higher, more preferably 120° C. or higher, and 150° C. or higher. is particularly preferred.

本発明の重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が5000~500000であることが好ましく、8000~400000であることがさらに好ましく、10000~300000であることが特に好ましい。 The polymer of the present invention has excellent mechanical properties, strength when formed into a film, and toughness. The number average molecular weight is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 8,000 to 400,000, and particularly preferably 10,000 to 300,000.

本発明の重合体の具体的な製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、一般式(5)で表される単量体のラジカル重合を行うことにより製造することができる。 As a specific method for producing the polymer of the present invention, any method may be used as long as the copolymer can be obtained, for example, production by radical polymerization of the monomer represented by the general formula (5) can do.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。 Any of known polymerization methods such as bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization can be employed for the radical polymerization.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-ブチロニトリル)、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)等のアゾ系開始剤などが挙げられる。 Examples of polymerization initiators for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide and dicumyl peroxide. , t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxybenzoate and other organic peroxides; 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2-butyronitrile), 2 , 2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile) and other azo initiators.

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。 Solvents that can be used in the solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, and emulsion polymerization method are not particularly limited, and examples include aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; dimethylformamide;

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30~150℃の範囲で行うことが好ましい。 The polymerization temperature for radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and is generally preferably in the range of 30 to 150°C.

本発明の重合体は、光学フィルムとして用いることができる。 The polymer of the invention can be used as an optical film.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、ヘーズが2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, the haze is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, in order to improve image quality.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、全光線透過率が85%以上であることが好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, it preferably has a total light transmittance of 85% or more in order to improve image quality characteristics.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、光学補償フィルム(位相差フィルム)とすることが好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, it is preferably used as an optical compensation film (retardation film) because it has excellent retardation properties.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzである光学補償フィルムとして用いられる。 Since the optical compensation film using the polymer of the present invention exhibits retardation even when not stretched, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, and the refractive index in the film in-plane direction perpendicular to it is ny , as an optical compensation film having a relationship of nx≈ny<nz, where nz is the refractive index in the thickness direction of the film.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムとしては、該重合体のみを用いることもできるだけでなく、他の重合体と混合した組成物とすることに好適である。このとき、混合する他の重合体としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良い。 As an optical compensation film using the polymer of the present invention, it is possible to use the polymer alone, and it is suitable to prepare a composition in which it is mixed with other polymers. At this time, the other polymer to be mixed may be a polymer having negative birefringence or a polymer having positive birefringence.

本発明の重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能となるため、下記式(A)で示される面外位相差(Rth)と膜厚との比(Rth/膜厚)が絶対値で6以上(nm/μm)であることが好ましく、8以上であることがさらに好ましく、9以上であることが特に好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical compensation film having negative birefringence, the film thickness can be reduced. The absolute value of Rth/film thickness) is preferably 6 or more (nm/μm), more preferably 8 or more, and particularly preferably 9 or more.

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (A)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
本発明において、重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、三次元屈折率を独立に制御できることから、nx<nzまたはny<nzの少なくともいずれかとなることが好ましい。
Rth=[(nx+ny)/2−nz]×d (A)
(Wherein, nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz represents the out-of-plane refractive index of the film, and d represents the film thickness.)
In the present invention, when a polymer is used as an optical compensation film having negative birefringence, it is preferable that at least one of nx<nz or ny<nz is satisfied because the three-dimensional refractive index can be controlled independently.

本発明の共重合体を用いた光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。 The method for producing the optical film using the copolymer of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be produced by a solution casting method, a melt casting method, or the like.

溶液キャスト法は、該重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10~20000cPsが好ましく、100~10000cPsであることがさらに好ましい。 The solution casting method is a method in which a solution of the polymer dissolved in a solvent (hereinafter referred to as dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. As a method for casting the dope onto the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, or the like is used. In particular, industrially, it is common to continuously extrude the dope from a die onto a belt-shaped or drum-shaped support substrate. Examples of supporting substrates that can be used include glass substrates, metal substrates such as stainless steel and ferrotype, and films such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness. More preferably ~10000 cPs.

この際の該重合体を用いたフィルムの塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後1~200μmが好ましく、さらに好ましくは5~100μmであり、特に好ましくは10~50μmである。 At this time, the coating thickness of the film using the polymer is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 5 to 100 μm, particularly preferably 10 μm, because excellent surface smoothness and optical properties can be obtained. ~50 μm.

また、溶融キャスト法は、該重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。 The melt casting method is a molding method in which the polymer is melted in an extruder, extruded into a film form through a slit of a T-die, and then taken off while being cooled by rolls or air.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can be used by peeling from the base glass substrate or other optical film, and can also be used as a laminate with the base glass substrate or other optical film. can be used.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、延伸して使用することもできる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can also be used after being stretched.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該光学補償フィルム同士又は他の光学補償フィルムと積層することもできる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can be laminated with a polarizing plate and used as a circular or elliptical polarizing plate, and can be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol/iodine or the like to form a polarizing plate. is also possible. Further, the optical compensation films can be laminated together or with another optical compensation film.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100~500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成する重合体100重量部に対して、0.01~10重量部が好ましく、0.5~1重量部がさらに好ましい。 An optical compensation film using the polymer of the present invention is preferably blended with an antioxidant during film formation or for enhancing the thermal stability of the retardation film itself. Examples of the antioxidant include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. Then, since the antioxidant action is synergistically improved, it is preferable to use a combination of a hindered antioxidant and a phosphorus antioxidant. , and a phosphorus-based antioxidant in an amount of 100 to 500 parts by weight. Further, the amount of the antioxidant added is preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer constituting the retardation film, since a high antioxidant effect can be obtained, and 0.5 ~1 part by weight is more preferred.

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。 Moreover, as an ultraviolet absorber, for example, benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate, etc. may be blended as needed.

本発明の重合体を用いた光学フィルムは、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。 The optical film using the polymer of the present invention may contain other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, and the like. .

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルムに適した重合体を提供することができる。 According to the present invention, the refractive index in the thickness direction of the film, which is useful as a compensation film or antireflection film for contrast and viewing angle characteristics of liquid crystal displays, is large, in-plane retardation is large, and optical properties such as small wavelength dependence It is possible to provide a polymer suitable for an optical compensation film excellent in

本発明の重合体は、位相差特性及び相溶性に優れる光学補償フィルムに適した重合体であり、特に液晶表示素子用及び有機EL用の光学補償フィルム用として適したものである。 The polymer of the present invention is a polymer suitable for optical compensation films excellent in retardation properties and compatibility, and particularly suitable for optical compensation films for liquid crystal display devices and organic EL devices.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。 Various physical properties shown in the examples were measured by the following methods.

<重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM-ECZ400S)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H-NMR)スペクトル分析より求めた。また、H-NMRスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、CHN元素分析より求めた。
<Polymer composition>
It was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) using a nuclear magnetic resonance spectrometer (manufactured by JEOL, trade name JNM-ECZ400S). Those that were difficult to determine by 1 H-NMR spectrum analysis were determined by CHN elemental analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC-8320GPC(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランまたはN,N-ジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレンまたはプルラン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) device (manufactured by Tosoh, trade name HLC-8320GPC (equipped with column GMH HR -H)), tetrahydrofuran or N,N-dimethylformamide was used as a solvent, and measurement was performed at 40°C. and converted to standard polystyrene or pullulan.

<フィルムの三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA-WPR)を用いて測定した。
<Measurement of three-dimensional refractive index of film>
It was measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name KOBRA-WPR).

実施例1
容量50mlのガラスアンプルにα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル5.0g、N-ビニルカルバゾール4.4g、重合溶媒としてテトラヒドロフラン8.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、500ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体7.7gを得た。(収率82%)
得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は22000であり、共重合体組成はα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位/N-ビニルカルバゾール残基単位=42/58(モル%)であることを確認した。
Example 1
5.0 g of ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 4.4 g of N-vinylcarbazole, 8.5 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent, and 2,5-dimethyl-2, which is a polymerization initiator, are placed in a 50 ml glass ampoule. 0.17 g of 5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane was added, and after purging with nitrogen, the reactor was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 62° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 500 ml of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain ethyl-N α-cyano-4-hydroxycinnamate. - 7.7 g of a vinylcarbazole copolymer were obtained. (Yield 82%)
The resulting α-cyano-4-hydroxycinnamate-ethyl-N-vinylcarbazole copolymer had a number-average molecular weight of 22,000 and a copolymer composition of α-cyano-4-hydroxycinnamate-ethyl residue units. /N-vinylcarbazole residue unit = 42/58 (mol%).

得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体をテトラヒドロフランに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.4%、全光線透過率87%の良好なフィルム(膜厚15.2μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.681、ny=1.681、nz=1.704であり、Rth/膜厚=-23.0(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。 The obtained ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate-N-vinylcarbazole copolymer was dissolved in tetrahydrofuran, the solution was coated on a glass substrate with a spin coater, and vacuum-dried at 60° C. for 10 hours. A good film (thickness: 15.2 µm) having a haze of 0.4% and a total light transmittance of 87% was obtained. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, it was nx = 1.681, ny = 1.681, nz = 1.704, and Rth/film thickness = -23.0 (nm/μm). and expressed a high negative phase difference.

得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体0.5gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.5gをテトラヒドロフラン10gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.7%の良好なフィルムとなることから、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。 0.5 g of the obtained ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate-N-vinylcarbazole copolymer and 0.5 g of polymethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., number average molecular weight: 270000) were dissolved in 10 g of tetrahydrofuran, The solution was coated on a glass substrate with a spin coater and vacuum-dried at 60° C. for 10 hours to form a good film with a haze of 0.7%. The vinylcarbazole copolymer was a polymer with excellent compatibility.

実施例2
容量50mlのガラスアンプルに4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル5.0g、2-ビニルナフタレン4.5g、重合溶媒としてテトラヒドロフラン10gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.21gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、500ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体6.2gを得た。(収率65%)
得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は12000であり、共重合体組成は4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位/2-ビニルナフタレン残基単位=43/57(モル%)であることを確認した。
Example 2
5.0 g of 4-hydroxybenzalmalononitrile, 4.5 g of 2-vinylnaphthalene, 10 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent and 2,5-dimethyl-2,5-di(2- 0.21 g of ethylhexanoylperoxy)hexane was put into the reactor, and after purging with nitrogen, the reactor was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 62° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 500 ml of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to give 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer. 6.2 g of polymer were obtained. (Yield 65%)
The obtained 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer had a number average molecular weight of 12,000, and the composition of the copolymer was 4-hydroxybenzalononitrile residue units/2-vinylnaphthalene residue units. = 43/57 (mol%).

得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体0.5gおよびポリエチレングリコール(東京化成製、数平均分子量3000)0.5gをテトラヒドロフラン4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.4%、全光線透過率86%の良好なフィルム(膜厚12.4μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.634、ny=1.633、nz=1.668であり、Rth/膜厚=-34.3(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。 0.5 g of the resulting 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer and 0.5 g of polyethylene glycol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., number average molecular weight: 3000) were dissolved in 4 g of tetrahydrofuran, and the solution was spread on a glass substrate. A good film (thickness: 12.4 µm) having a haze of 0.4% and a total light transmittance of 86% was obtained by spin coating and vacuum drying at 60°C for 10 hours. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, it was nx = 1.634, ny = 1.633, nz = 1.668, and Rth/film thickness = -34.3 (nm/μm). and expressed a high negative phase difference.

得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体0.8gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.2gをシクロヘキサノン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、100℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.8%の良好なフィルムとなることから、4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。 0.8 g of the resulting 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer and 0.2 g of polymethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., number average molecular weight: 270000) were dissolved in 9 g of cyclohexanone, and the solution was applied to a glass substrate. A good film with a haze of 0.8% was obtained by coating with a spin coater on top and vacuum drying at 100 ° C. for 10 hours. It was a polymer excellent in

実施例3
容量50mlのガラスアンプルに4-カルボキシベンザルマロノニトリル5.3g、N-ビニルフタルイミド4.7g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド12.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.19gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体4.5gを得た。(収率45%)
得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は13000であり、共重合体組成は4-カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位/N-ビニルフタルイミド共重合体残基単位=35/65(モル%)であることを確認した。
Example 3
5.3 g of 4-carboxybenzalmalononitrile, 4.7 g of N-vinylphthalimide, 12.5 g of N,N-dimethylformamide as a polymerization solvent and 2,5-dimethyl-2 as a polymerization initiator were placed in a 50 ml glass ampoule. , 5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane (0.19 g) was added, and after purging with nitrogen, the inside was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing the glass ampoule in a constant temperature bath at 62° C. and holding it for 48 hours. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 200 ml of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain 4-carboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer. 4.5 g of polymer were obtained. (Yield 45%)
The resulting 4-carboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer had a number average molecular weight of 13,000 and a copolymer composition of 4-carboxybenzalmalononitrile residue units/N-vinylphthalimide copolymer. It was confirmed that the residue unit = 35/65 (mol%).

得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体をN,N-ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で180分真空乾燥することによりヘーズ0.5%、全光線透過率87%の良好なフィルム(膜厚13.0μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.626、ny=1.626、nz=1.647であり、Rth/膜厚=-21.1(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。 The resulting 4-carboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer was dissolved in N,N-dimethylformamide, the solution was spin-coated on a glass substrate, and the haze was removed by vacuum drying at 60°C for 180 minutes. A good film (thickness: 13.0 μm) with a total light transmittance of 87% was obtained. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, it was nx = 1.626, ny = 1.626, nz = 1.647, and Rth/film thickness = -21.1 (nm/μm). and expressed a high negative phase difference.

得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体0.7gとポリ酢酸ビニル(Aldrich製、数平均分子量53000)0.3gをN,N-ジメチルホルムアミド4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.8%の良好なフィルムとなることから、4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。 0.7 g of the resulting 4-carboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer and 0.3 g of polyvinyl acetate (manufactured by Aldrich, number average molecular weight 53000) were dissolved in 4 g of N,N-dimethylformamide to form a solution. was coated on a glass substrate with a spin coater and vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to form a good film with a haze of 0.8%. was a polymer with excellent compatibility.

実施例4
容量50mlのガラスアンプルにN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド6.1g、2-ビニルナフタレン8.9g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド10.0gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、N,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体3.3gを得た。(収率33%)
得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は10000であり、共重合体組成はN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド残基単位/2-ビニルナフタレン共重合体残基単位=29/71(モル%)であることを確認した。
Example 4
6.1 g of N,N-dimethyl-4-sulfoxy-α-cyanocinnamicamide, 8.9 g of 2-vinylnaphthalene, 10.0 g of N,N-dimethylformamide as a polymerization solvent, and a polymerization initiator were added to a 50-ml glass ampoule. 0.28 g of a certain 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane was put thereinto, purged with nitrogen, and then sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 62° C. and held for 48 hours to carry out radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 200 ml of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain N,N-dimethyl-4-sulfoxy-α-cyanosilicate. 3.3 g of a amide-2-vinyl naphthalene copolymer was obtained. (Yield 33%)
The resulting N,N-dimethyl-4-sulfoxy-α-cyanocinamide-2-vinylnaphthalene copolymer had a number average molecular weight of 10,000 and a copolymer composition of N,N-dimethyl-4-sulfoxy- It was confirmed that α-cyanocinamide residue units/2-vinylnaphthalene copolymer residue units=29/71 (mol %).

得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体をN,N-ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.5%、全光線透過率86%の良好なフィルム(膜厚9.7μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.633、ny=1.634、nz=1.652であり、Rth/膜厚=-18.5(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。 The resulting N,N-dimethyl-4-sulfoxy-α-cyanocinamide-2-vinylnaphthalene copolymer was dissolved in N,N-dimethylformamide, and the solution was spin-coated on a glass substrate and heated at 60°C. A good film (thickness: 9.7 µm) having a haze of 0.5% and a total light transmittance of 86% was obtained by vacuum drying for 10 hours. When the three-dimensional refractive index of the obtained film was measured, it was nx = 1.633, ny = 1.634, nz = 1.652, and Rth/film thickness = -18.5 (nm/μm). and expressed a high negative phase difference.

得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体0.8gとエチルセルロース(ダウ・ケミカル製エトセルスタンダード100、数平均分子量55000)0.3gをテトラヒドロフラン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.9%の良好なフィルムとなることから、N,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。 0.8 g of the resulting N,N-dimethyl-4-sulfoxy-α-cyanocinamide-2-vinylnaphthalene copolymer and 0.3 g of ethyl cellulose (Ethocel Standard 100 manufactured by Dow Chemical Co., number average molecular weight 55000) were combined. Dissolve in 9 g of tetrahydrofuran, apply the solution on a glass substrate with a spin coater, and vacuum dry at 60° C. for 10 hours to obtain a good film with a haze of 0.9%. The sulfoxy-α-cyanocinamide-2-vinylnaphthalene copolymer was a polymer with excellent compatibility.

比較例1
ポリ(N-ビニルカルバゾール)(Aldrich製、数平均分子量35000)0.5gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.5gをテトラヒドロフラン10gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ86.6%の不良なフィルムとなることから、ポリ(N-ビニルカルバゾール)は相溶性に劣るポリマーであった。
Comparative example 1
Poly(N-vinylcarbazole) (manufactured by Aldrich, number average molecular weight 35,000) 0.5 g and polymethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Kasei, number average molecular weight 270,000) 0.5 g were dissolved in 10 g of tetrahydrofuran, and the solution was placed on a glass substrate. Poly(N-vinylcarbazole) was a poorly compatible polymer, since coating with a spin coater and vacuum drying at 60° C. for 10 hours resulted in a poor film with a haze of 86.6%.

比較例2
ポリ(2-ビニルナフタレン)(Aldrich製、数平均分子量50000)0.8gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.2gをシクロヘキサノン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、100℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ90.3%の不良なフィルムとなることから、ポリ(2-ビニルナフタレン)は相溶性に劣るポリマーであった。
Comparative example 2
Poly(2-vinylnaphthalene) (manufactured by Aldrich, number average molecular weight 50,000) 0.8 g and polymethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Kasei, number average molecular weight 270,000) 0.2 g were dissolved in cyclohexanone 9 g, and the solution was placed on a glass substrate. Poly(2-vinylnaphthalene) was a poorly compatible polymer, since coating with a spin coater and vacuum drying at 100° C. for 10 hours resulted in a poor film with a haze of 90.3%.

比較例3
容量50mlのガラスアンプルにメタクリロニトリル2.8g、N-ビニルフタルイミド7.2g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド12.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.30gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、18時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、メタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体7.8gを得た。(収率78%)
得られたメタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は21000であることを確認した。
Comparative example 3
2.8 g of methacrylonitrile, 7.2 g of N-vinylphthalimide, 12.5 g of N,N-dimethylformamide as a polymerization solvent and 2,5-dimethyl-2,5-dimethylformamide as a polymerization initiator were placed in a 50 ml glass ampoule. 0.30 g of (2-ethylhexanoylperoxy)hexane was added, and after purging with nitrogen, the flask was sealed under reduced pressure. The glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 62° C. and held for 18 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 200 ml of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a methacrylonitrile-N-vinylphthalimide copolymer7. 8 g was obtained. (Yield 78%)
The obtained methacrylonitrile-N-vinylphthalimide copolymer was confirmed to have a number average molecular weight of 21,000.

得られたメタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体0.7gとポリ酢酸ビニル(Aldrich製、数平均分子量53000)0.3gをN,N-ジメチルホルムアミド4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ92.1%の不良なフィルムとなることから、メタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に劣るポリマーであった。 0.7 g of the obtained methacrylonitrile-N-vinylphthalimide copolymer and 0.3 g of polyvinyl acetate (manufactured by Aldrich, number average molecular weight 53000) were dissolved in 4 g of N,N-dimethylformamide, and the solution was spread on a glass substrate. was coated with a spin coater and vacuum-dried at 60°C for 10 hours to form a poor film with a haze of 92.1%. rice field.

本発明は、新規な重合体を提供するものであり、該重合体はフィルム、特に光学補償フィルム等としての利用が期待されるものである。 The present invention provides a novel polymer, which is expected to be used as a film, especially an optical compensation film.

Claims (4)

ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機を含まず、
2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位及び4-カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位からなる群から選ばれる1種以上の残基単位(以下、「(1)残基単位」という)及び
N-ビニルカルバゾール残基単位、3-メチル-N-ビニルカルバゾール残基単位、3-クロロ-N-ビニルカルバゾール残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、4-メチルフタルイミド残基単位、4-クロロメチルフタルイミド残基単位及び4-ニトロフタルイミド残基単位からなる群から選ばれる1種以上の残基単位(以下、「(2)残基単位」という)のみからなることを特徴とする重合体。
does not contain organic groups containing bismethide acid groups or bismethide salts;
2-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4- hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-sulfoxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-sulfoxycinnamic acid residue unit, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, methyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, α -ethyl cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-3- propyl hydroxycinnamate residue unit, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, isopropyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, isopropyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α -butyl cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-4- isobutyl hydroxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, sec-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-4-hydroxy sec-butyl cinnamate residue unit, tert-butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate residue unit, tert-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-4- tert-butyl hydroxycinnamate residue position, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid one or more residue units selected from the group consisting of mic acid (2-methoxyethyl) residue units and 4-carboxybenzalmalononitrile residue units (hereinafter referred to as "(1) residue units") and
N-vinylcarbazole residue unit, 3-methyl-N-vinylcarbazole residue unit, 3-chloro-N-vinylcarbazole residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, 4-methylphthalimide residue unit, 4- A polymer comprising only one or more residue units selected from the group consisting of chloromethylphthalimide residue units and 4-nitrophthalimide residue units (hereinafter referred to as "(2) residue units"). .
(1)残基単位5~55モル%、および(2)残基単位95~45モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載の重合体。 The polymer of claim 1 comprising (1) 5 to 55 mol % of residue units and (2) 95 to 45 mol % of residue units. 2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)及びは4-カルボキシベンザルマロノニトリルからなる群から選ばれる1種以上の単量体を重合してなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の重合体の製造方法。 2-hydroxybenzylidenemalononitrile, 3-hydroxybenzylidenemalononitrile, 4-hydroxybenzylidenemalononitrile, 2,3-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 2,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile, 3,4-dihydroxybenzylidenemalononitrile, α- Cyano-2-hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, α-cyano-3-hydroxy Methyl cinnamate, methyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl acetate, propyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-2-hydroxycinnamate , isopropyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α -butyl cyano-4-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano -sec-butyl 2-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, sec-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, tert α-cyano-2-hydroxycinnamate -butyl, tert-butyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, tert-butyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano-2-hydroxycinnamate (2-methoxyethyl), α- One or more selected from the group consisting of cyano-3-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl), α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (2-methoxyethyl) and 4-carboxybenzalmalononitrile 3. The method for producing a polymer according to claim 1, wherein the polymer is obtained by polymerizing a monomer. 請求項1または請求項2に記載の重合体を含んでなることを特徴とする光学フィルム。 3. An optical film comprising the polymer according to claim 1 or 2.
JP2021140727A 2017-07-13 2021-08-31 Polymer, method for producing the same, and optical film using the same Active JP7192933B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021140727A JP7192933B2 (en) 2017-07-13 2021-08-31 Polymer, method for producing the same, and optical film using the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137230A JP7087295B2 (en) 2017-07-13 2017-07-13 Polymers, methods for producing them, and optical films using them.
JP2021140727A JP7192933B2 (en) 2017-07-13 2021-08-31 Polymer, method for producing the same, and optical film using the same

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017137230A Division JP7087295B2 (en) 2016-12-07 2017-07-13 Polymers, methods for producing them, and optical films using them.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022001640A JP2022001640A (en) 2022-01-06
JP7192933B2 true JP7192933B2 (en) 2022-12-20

Family

ID=65355028

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017137230A Active JP7087295B2 (en) 2016-12-07 2017-07-13 Polymers, methods for producing them, and optical films using them.
JP2021140727A Active JP7192933B2 (en) 2017-07-13 2021-08-31 Polymer, method for producing the same, and optical film using the same

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017137230A Active JP7087295B2 (en) 2016-12-07 2017-07-13 Polymers, methods for producing them, and optical films using them.

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP7087295B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113429695B (en) * 2021-06-09 2022-10-25 华南理工大学 Polarizing film protective film and preparation method and application thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012092089A (en) 2010-09-28 2012-05-17 Central Glass Co Ltd Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5320334A (en) * 1976-08-10 1978-02-24 Mitsubishi Chem Ind Photosensitive material for electrophotography
JPS592038A (en) * 1982-06-29 1984-01-07 Fujitsu Ltd Negative type resist composition
JP2774114B2 (en) * 1988-11-09 1998-07-09 保治 大塚 Non-birefringent material

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012092089A (en) 2010-09-28 2012-05-17 Central Glass Co Ltd Antibacterial agent and substrate surface treatment method using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP7087295B2 (en) 2022-06-21
JP2022001640A (en) 2022-01-06
JP2019019184A (en) 2019-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5830949B2 (en) Fumaric acid diester resin for retardation film and retardation film comprising the same
JP5245109B2 (en) Optical film
WO2014013982A1 (en) (diisopropyl fumarate)-(cinnamic acid derivative) copolymer, and phase difference film produced using same
JP5407159B2 (en) Optical compensation film and manufacturing method thereof
JP5740971B2 (en) Fumaric acid diester resin and retardation film using the same
WO2018105561A1 (en) Copolymer and optical film using same
JP7192933B2 (en) Polymer, method for producing the same, and optical film using the same
JP2009156908A (en) Optical compensation film
JP5343360B2 (en) Optical compensation film
JP5831174B2 (en) Fumaric acid diester resin for retardation film and retardation film comprising the same
JP6372319B2 (en) trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer and retardation film using the same
JP2019172867A (en) Copolymer and optical film using the same
JP7293650B2 (en) Polymer and optical film using the same
JP7047340B2 (en) Copolymer and retardation film using it
JP7235096B2 (en) Copolymer and retardation film using the same
JP6515503B2 (en) Fumaric acid diester-alkoxycinnamic acid ester copolymer and retardation film using the same
JP7233158B2 (en) N-(substituted phenyl) maleimide-based copolymer and retardation film using the same
JP6603998B2 (en) Fumaric acid diester-alkoxycinnamic acid ester copolymer and method for producing the same
JP6015838B2 (en) Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using the same
JP5920085B2 (en) Diisopropyl fumarate-cinnamate copolymer and retardation film using the same
JP5983300B2 (en) Diisopropyl fumarate-cinnamic acid copolymer and retardation film using the same
JP6759617B2 (en) Resin composition
JP6557985B2 (en) Alkoxycinnamic ester copolymer and process for producing the same
JP6693109B2 (en) Fumarate-alkoxycinnamic acid copolymer and retardation film using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210831

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221121

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7192933

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151