JP2019172867A - Copolymer and optical film using the same - Google Patents

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Abstract

To provide a novel copolymer that is expected to be an optical film excellent in retardation characteristics such as having a high retardation even in a thin film state, and an optical film using the copolymer.SOLUTION: The copolymer comprises: a unit A having a benzene ring residue unit and a polar group (a cyano group, an ester group, an amide group or an acyl group) residue unit; a unit B having an m-membered heterocyclic residue containing at least one hetero atom or a five-membered ring residue or a six-membered ring residue containing no hetero atoms; and an alkyl (meth)acrylate unit C having a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規な共重合体及びそれを用いた光学フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する光学フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムまたは有機EL用円偏光板の位相差フィルムに適した新規な共重合体に関するものである。   The present invention relates to a novel copolymer and an optical film using the same, and more specifically, an optical film having a high retardation even in a thin film, particularly an optical compensation film for a liquid crystal display element or an organic EL use. The present invention relates to a novel copolymer suitable for a retardation film for a circularly polarizing plate.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、スマートフォン、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。   Liquid crystal displays are widely used as smartphones, computer monitors, laptop computers, and televisions as the most important display devices in the multimedia society.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。   Many optical films are used for improving the display characteristics of the liquid crystal display. In particular, the retardation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。   The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like is such that the refractive index in the fast axis direction in the film plane when the film is stretched is nx, the refractive index in the in-plane direction perpendicular to the film is ny, and the film It can be represented by a refractive index ellipsoid where the refractive index in the thickness direction is nz.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。   That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。   Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Since polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, it has a problem of stability of phase difference such as phase difference being changed by a slight stress, and a practical problem of low heat resistance, and is not used at present. .

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film and becomes an unprecedented retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertical alignment liquid crystal display (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc., useful as a retardation film for compensating viewing angle characteristics and a viewing angle compensation film for a deflection plate There is a strong market demand for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。   A method for producing a film has been proposed in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method (for example, Patent Documents 1 to 3) in which a heat-shrinkable film is bonded to one side or both sides of a polymer film, and the laminate is subjected to a heat stretching treatment to apply a shrinkage force in the film thickness direction of the polymer film. Reference). In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (for example, see Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Also, the control of the uniformity of the phase difference and the like is extremely difficult as compared with the conventional control by stretching.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜12参照)。   Moreover, the fumaric acid diester type | system | group copolymer and the film consisting thereof are proposed (for example, refer patent documents 6-12).

特許文献6〜12で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。   Although the fumaric acid diester copolymer proposed in Patent Documents 6 to 12 and a film comprising the same have a high retardation, a film having a high retardation even in a thin film is required at present. Yes.

さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型光学補償フィルム材料が提案されており(例えば、特許文献13及び14参照)、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。   Furthermore, a single-film optical compensation film material by combining a positive birefringent material and a negative birefringent material has been proposed (see, for example, Patent Documents 13 and 14), and achieves higher performance optical characteristics. Therefore, there is a need for a polymer material exhibiting negative birefringence that can be combined.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開平6−88909号公報JP-A-6-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008−112141号公報JP 2008-112141 A 特開2012−032784号公報JP 2012-032784 A WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 特開2008−129465号公報JP 2008-129465 A 特開2006-193616号公報JP 2006-193616 A WO2014/013982号公報WO2014 / 013982 WO2014/084178号公報WO2014 / 084178 WO2014/196552号公報WO2014 / 196552 WO2016/060115号公報WO2016 / 060115

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜においても高い位相差を有する光学特性に優れた光学フィルムに適した新規な共重合体、及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。また、本発明は、光学特性に優れ、かつ、異種ポリマーとの複合化が容易な共重合体、及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a novel copolymer suitable for an optical film having a high retardation even in a thin film and an optical film comprising the same. There is to do. Another object of the present invention is to provide a copolymer that has excellent optical properties and can be easily combined with a different polymer, and an optical film comprising the same.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have found that a specific copolymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式(1)で表される残基単位A、一般式(2)で表される残基単位Bおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含むことを特徴とする共重合体に関するものである。   That is, the present invention includes a residue unit A represented by the general formula (1), a residue unit B represented by the general formula (2), and a residue unit C represented by the general formula (3). The present invention relates to a copolymer characterized by

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 each independently represents 1 carbon atom) 12 linear alkyl group, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, X 4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms R 3 to R 7 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro , A cyano group, an alkoxy group (-OX 5), an ester group (-C (= O) OX 6 ), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8)), an acyl group (-C (═O) X 9 ), an amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or a sulfonic acid group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent 1 carbon atom) Represents a linear alkyl group having ˜12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 12 are each independently hydrogen, 1 to 12 carbon atoms. A straight-chain alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.), Wherein at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group or a carboxy group It is shown. in addition, R 3 to R 7 may form a fused ring structure adjacent substituents It may be.)

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、Rはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基もしくは6員環残基を示し(ただし、Rがヘテロ原子を含まない6員環残基のとき、一般式(1)におけるR〜Rのいずれか1以上がヒドロキシ基を示す。)、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基、前記5員環残基、および前記6員環残基は縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 8 represents an m-membered heterocyclic residue containing one or more heteroatoms, or a 5-membered or 6-membered ring residue not containing a heteroatom (provided that R 8 contains a heteroatom) In the case of no 6-membered ring residue, at least one of R 3 to R 7 in the general formula (1) represents a hydroxy group.), M represents an integer of 5 to 10. The m-membered ring heterocyclic residue The group, the 5-membered ring residue, and the 6-membered ring residue may form a condensed ring structure.)

Figure 2019172867
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(ここで、R、R10はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
以下、本発明の光学フィルムに適した共重合体について詳細に説明する。
(Here, R 9 and R 10 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. Show.)
Hereinafter, the copolymer suitable for the optical film of the present invention will be described in detail.

本発明の共重合体は、一般式(1)で表される残基単位A、一般式(2)で表される残基単位Bおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含むことを特徴とする共重合体である。そして、該共重合体は、該残基単位A、該残基単位Bおよび該残基単位Cを含んでなることにより、より薄膜においても高い位相差を発現することを特徴とする。   The copolymer of the present invention comprises a residue unit A represented by the general formula (1), a residue unit B represented by the general formula (2), and a residue unit C represented by the general formula (3). It is a copolymer characterized by including. The copolymer comprises the residue unit A, the residue unit B, and the residue unit C, and thus exhibits a higher retardation even in a thin film.

Figure 2019172867
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(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 each independently represents 1 carbon atom) 12 linear alkyl group, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, X 4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms R 3 to R 7 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro , A cyano group, an alkoxy group (-OX 5), an ester group (-C (= O) OX 6 ), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8)), an acyl group (-C (═O) X 9 ), an amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or a sulfonic acid group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent 1 carbon atom) Represents a linear alkyl group having ˜12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 12 are each independently hydrogen, 1 to 12 carbon atoms. A straight-chain alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.), Wherein at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group or a carboxy group It is shown. in addition, R 3 to R 7 may form a fused ring structure adjacent substituents It may be.)

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、Rはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基もしくは6員環残基を示し(ただし、Rがヘテロ原子を含まない6員環残基のとき、一般式(1)におけるR〜Rのいずれか1以上がヒドロキシ基を示す。)、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基、前記5員環残基、および前記6員環残基は縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 8 represents an m-membered heterocyclic residue containing one or more heteroatoms, or a 5-membered or 6-membered ring residue not containing a heteroatom (provided that R 8 contains a heteroatom) In the case of no 6-membered ring residue, at least one of R 3 to R 7 in the general formula (1) represents a hydroxy group.), M represents an integer of 5 to 10. The m-membered ring heterocyclic residue The group, the 5-membered ring residue, and the 6-membered ring residue may form a condensed ring structure.)

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、R、R10はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
本発明の一般式(1)におけるR、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。
(Here, R 9 and R 10 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. Show.)
In the general formula (1) of the present invention, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O ) OX 1 ), an amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 are each independently And a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 4 is a linear chain having 1 to 12 carbon atoms. An alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms).

〜Xにおける炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、X〜Xにおける炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、Xにおける炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 1 to X 4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and cyclic groups having 3 to 6 carbon atoms in X 1 to X 3 . Examples of the alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms in X 4 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, A naphthyl group etc. are mentioned.

本発明の一般式(1)におけるRとしては、より高い位相差を発現することから、シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基であることが好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ベンゾイル基であることがさらに好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。 R 1 in the general formula (1) of the present invention expresses a higher phase difference, and therefore includes a cyano group; a methyl ester group, an ethyl ester group, an n-propyl ester group, an isopropyl ester group, an isobutyl ester group, and the like. Ester group; amide group such as dimethylamide group, diethylamide group, di-n-propylamide group, diisopropylamide group; preferably an acyl group such as acetyl group, propionyl group, benzoyl group, cyano group, methyl ester group, More preferably, they are ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, isobutyl ester group, dimethylamide group, diethylamide group, di-n-propylamide group, diisopropylamide group, benzoyl group, cyano group, methyl ester Group, ethyl ester group, n-pro Particularly preferred are a pill ester group, an isopropyl ester group and an isobutyl ester group.

本発明の一般式(1)におけるRとしては、より高い位相差を発現することから、水素;シアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基であることが好ましく、水素、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基であることがさらに好ましく、シアノ基、イソブチルエステル基であることが特に好ましい。 R 2 in the general formula (1) of the present invention expresses a higher phase difference, so that hydrogen; cyano group; methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, isobutyl ester group It is preferably an ester group such as hydrogen, cyano group, methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, isobutyl ester group, and more preferably a cyano group or isobutyl ester group. It is particularly preferred.

本発明の一般式(1)におけるR〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状アルキル基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホニル基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して、水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。 R 3 to R 7 in the general formula (1) of the present invention are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 14 carbon atoms. Cyclic alkyl group, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, alkoxy group (—OX 5 ), ester group (—C (═O) OX 6 ), amide group (—C (═O) N ( X 7 ) (X 8 )), acyl group (—C (═O) X 9 ), amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or sulfonyl group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 8 12 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms), and at least one of R 3 to R 7 represents a hydroxy group or a carboxy group. R 3 to R 7 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.

〜Rにおける炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 3 to R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 14 carbon atoms include , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like.

〜Rにおけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 3 to R 7 include fluorine, chlorine, bromine and the like.

〜X12における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 5 to X 12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like.

本発明では、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示すことで、良好な相溶性を発現し、異種ポリマーとの複合化が容易なものとなる。 In the present invention, when at least one of R 3 to R 7 represents a hydroxy group or a carboxy group, good compatibility is exhibited, and complexing with a different polymer becomes easy.

本発明の一般式(1)におけるR〜Rとしては、より高い位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、スルホン酸基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基が好ましい。 As R < 3 > -R < 7 > in General formula (1) of this invention, since a higher phase difference is expressed, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group Tert-butyl group, isobutyl group, cyclohexyl group, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, hydroxy group, carboxy group, formyl group, cyano group, nitro group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group , Methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, dimethylamide group, diethylamide group, di-n-propylamide group, diisopropylamide group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, dimethyl group Amino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropyl Arylamino group, a sulfonic acid group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n- propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group.

具体的な一般式(1)で表される残基単位Aとしては、例えば、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシ−ケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、3−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2−カルボキシシンナモニトリル残基単位、3−カルボキシシンナモニトリル残基単位、4−カルボキシシンナモニトリル残基単位、2−ヒドロキシカルコン残基単位、3−ヒドロキシカルコン残基単位、4−ヒドロキシカルコン残基単位、2−カルボキシカルコン残基単位、3−カルボキシカルコン残基単位、4−カルボキシカルコン残基単位、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、N,N−ジメチル−2−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジメチル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジメチル−2−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジメチル−3−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジメチル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−2−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−3−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−2−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−3−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−2−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−3−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−2−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−3−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−2−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−3−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位等が挙げられる。本発明において、一般式(1)で表される残基単位Aは1種含まれていても良いし、複数種含まれていても良い。   Specific examples of the residue unit A represented by the general formula (1) include an α-cyano-2-hydroxycinnamate methyl residue unit and an α-cyano-3-hydroxycinnamate methyl residue unit. Α-cyano-4-hydroxy-methyl cinnamate residue unit, α-cyano-2,3-dihydroxymethyl cinnamate residue unit, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamate methyl residue unit Α-cyano-2-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano- 2,3-dicarboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate methyl residue unit , Α-Cyano-3-carbox 2-hydroxymethylcinnamate residue units, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamate methyl residue units, α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamate methyl residue units, α-Cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue Group unit, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate residue unit, ethyl α-cyano-2,3-dihydroxycinnamate residue unit, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-2-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, α-si Ethyl 4-carboxycinnamate residue units, α-cyano-2,3-dicarboxyethyl cinnamate residue units, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate ethyl residue units, 3 -Hydroxy-α-cyano-2-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamic leather unit Ethyl acid residue unit, α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-4- Carboxy-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano 4-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-2,3-dihydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamic acid n-propyl residue unit Α-cyano-2-carboxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid n-propyl residue unit Unit, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-2-carboxy- 3-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamic acid n- Single propyl residue , Α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-4-carboxy 2-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-4- Isopropyl hydroxycinnamate residue unit, α-cyano-2,3-dihydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-2-carboxy Isopropyl cinnamate residue unit, α-cyano-3-carboxy isopropyl cinnamate residue unit, α-cyano-4-carboxy cinnamate isopropyl residue Position, isopropyl residue unit of α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate, isopropyl residue unit of α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate, α-cyano-2-carboxy-3-hydroxysilicate Isopropyl cinnamate residue unit, α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4 -Isopropyl carboxy-3-hydroxycinnamate residue unit, isopropyl residue α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid residue, isopropyl residue α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamic acid Unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α- Ano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-2,3-dihydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano 2-carboxycarboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-3-carboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate isobutyl residue unit, α-cyano-2,3- Isobutyl dicarboxycinnamate residue unit, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano 3-carboxy-2-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano- -Carboxy-3-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit Unit, 2-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3, 4-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 3-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxyl Benzalmalononitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzalmalonito Residue unit, 2-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3-carboxy-2-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3-carboxy-4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxy-4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carboxy-2-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2-hydroxycinnamo Nitrile residue unit, 3-hydroxycinnamonitrile residue unit, 4-hydroxycinnamonitrile residue unit, 2-carboxycinnamonitrile residue unit, 3-carboxycinnamonitrile residue unit, 4-carboxycinnamo Nitrile residue unit, 2-hydroxychalcone residue unit, 3-hydride Xychalcone residue unit, 4-hydroxychalcone residue unit, 2-carboxychalcone residue unit, 3-carboxychalcone residue unit, 4-carboxychalcone residue unit, 2-hydroxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, 3- Hydroxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, 4-hydroxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, 2-carboxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, 3-carboxybenzylidene malonate dimethyl residue unit, 4-carboxybenzylidene malonate dimethyl residue Group unit, diethyl 2-hydroxybenzylidene malonate residue unit, diethyl 3-hydroxybenzylidene malonate residue unit, diethyl 4-hydroxybenzylidene malonate residue unit, 2-carboxybenzylidene malonate diethyl residue unit Position, diethyl 3-carboxybenzylidene malonate residue unit, diethyl 4-carboxybenzylidene malonate residue unit, 2-hydroxybenzylidene malonate di-n-propyl residue unit, 3-hydroxybenzylidene malonate di-n-propyl residue Unit, 4-hydroxybenzylidene malonate di n-propyl residue unit, 2-carboxybenzylidene malonate di n-propyl residue unit, 3-carboxybenzylidene malonate di n-propyl residue unit, 4-carboxybenzylidene malonate Di-n-propyl residue unit, 2-hydroxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, 3-hydroxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, 4-hydroxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, 2-carboxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit Sopropyl residue unit, 3-carboxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, 4-carboxybenzylidene malonate diisopropyl residue unit, N, N-dimethyl-2-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-dimethyl-3 -Hydroxycinnamamide residue unit, N, N-dimethyl-4-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-dimethyl-2-carboxycinnamamide residue unit, N, N-dimethyl-3-carboxy Cinnamamide residue unit, N, N-dimethyl-4-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-2-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-3-hydroxycinnam Amide residue unit, N, N-diethyl-4-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-2-carboxyl Boxicinnamamide residue unit, N, N-diethyl-3-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-4-carboxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-2 -Hydroxycinnamamide residue units, N, N-di-n-propyl-3-hydroxycinnamamide residue units, N, N-din-propyl-4-hydroxycinnamamide residue units, N, N -Di-n-propyl-2-carboxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-3-carboxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-4-carboxycinnamamide residue unit Residue unit, N, N-di-n-propyl-2-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-3-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl -4- Hydroxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-2-carboxycinnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-3-carboxycinnamamide residue unit, N, N- Di-n-propyl-4-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl-2-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl-3-hydroxycinnamamide residue unit, N, N -Diisopropyl-4-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl-2-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl-3-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl Examples include -4-carboxycinnamamide residue units. In this invention, 1 type of residue units A represented by General formula (1) may be contained, and multiple types may be contained.

これらの中でも高い位相差及び異種ポリマーとの高い相溶性を発現することから、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2,4−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα−シアノ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα−シアノ−カルボキシケイ皮酸エステル残基単位;α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα−シアノ−カルボキシ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位等のヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位;4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位等のカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位;2−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位等のカルボキシ−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位;ヒドロキシシンナモニトリル残基単位;カルボキシシンナモニトリル残基単位;ヒドロキシカルコン残基単位;カルボキシカルコン残基単位;ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位;カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のカルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位;N,N−ジメチル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−4−ヒドロキシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド残基単位等のN,N−ジアルキルヒドロキシシンナムアミド残基単位;N,N−ジメチル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジエチル−4−カルボキシンナムアミド残基単位、N,N−ジn−プロピル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N−ジイソプロピル−4−カルボキシシンナムアミド残基単位等のN,N−ジアルキルカルボキシキシシンナムアミド残基単位が好ましく、α−シアノ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、α−シアノ−カルボキシケイ皮酸エステル残基単位;カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位がさらに好ましい。   Among these, since high retardation and high compatibility with different polymers are expressed, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyanoethyl residues such as α-cyano-3-hydroxycinnamate residue units, α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl residue units, α-cyano-2,4-dihydroxycinnamate methyl residue units, and the like. Cyano-hydroxycinnamic acid ester residue unit; α-cyano-4-carboxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-2,3-di Α-cyano-carboxycinnamic acid ester residue units such as methyl carboxycinnamate residue units and ethyl α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate residue units; α-cyano-2-carboxy-3 − Α-cyano-carboxy-hydroxycinnamic acid ester residue units such as methyl droxycinnamate residue units and ethyl α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate residue units; 4-hydroxybenzalmalononitrile Residual unit, hydroxybenzalmalononitrile residue unit such as 2,3-dihydroxy-benzalmalononitrile residue unit; 4-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile residue Carboxybenzalmalononitrile residue unit such as 2-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit; Carboxy-hydroxybenzalmalononitrile residue unit such as 2-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit; Hydroxycinnamonitrile residue unit; Namonitrile residue unit; hydroxychalcone residue unit; Hydroxybenzylidenemalonic acid diesters such as hydroxybenzylidenemalonate dimethyl residue units, hydroxybenzylidenemalonate diethyl residue units, hydroxybenzylidenemalonate di-n-propyl residue units, hydroxybenzylidenemalonate diisopropyl residue units Residue units: carboxybenzylidene malonate dimethyl residue units, carboxybenzylidene malonate diethyl residue units, carboxybenzylidene malonate di-n-propyl residue units, carboxybenzylidene malonate diisopropyl residue units, etc. Group unit; N, N-dimethyl-4-hydroxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-4-hydroxynamamide residue unit, N, N-di-n-pro N, N-dialkylhydroxycinnamamide residue units such as ru-4-hydroxycinnamamide residue units, N, N-diisopropyl-4-hydroxycinnamamide residue units; N, N-dimethyl-4- Carboxycinnamamide residue unit, N, N-diethyl-4-carboxynnamamide residue unit, N, N-di-n-propyl-4-carboxycinnamamide residue unit, N, N-diisopropyl-4- N, N-dialkylcarboxyxycinnamamide residue units such as carboxycinnamamide residue units are preferred, α-cyano-hydroxycinnamate residue units; hydroxybenzalmalononitrile residue units, α-cyano- Carboxycinnamic acid ester residue unit; carboxybenzalmalononitrile residue unit, hydroxybenzylidenemalo Diester residue units, more preferably carboxymethyl benzylidene malonic acid diester residue units.

本発明の一般式(2)におけるRはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基もしくは6員環残基を示し(ただし、Rがヘテロ原子を含まない6員環残基のとき、一般式(1)におけるR〜Rのいずれか1以上がヒドロキシ基を示す。)、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基、前記5員環残基、および前記6員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。 R 8 in the general formula (2) of the present invention represents an m-membered heterocyclic residue containing one or more heteroatoms, or a 5-membered or 6-membered cyclic residue containing no heteroatoms (provided that R 8 When is a 6-membered ring residue containing no hetero atom, any one or more of R 3 to R 7 in the general formula (1) represent a hydroxy group.), M represents an integer of 5 to 10. The m-membered heterocyclic residue, the 5-membered ring residue, and the 6-membered ring residue may form a condensed ring structure with another cyclic structure.

本発明の一般式(2)におけるRは、より高い位相差が発現することから、ヘテロ原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基であることが好ましく、窒素原子または酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基であることがさらに好ましい。ここで、本発明の一般式(2)におけるRが前記m員環複素環残基であるときのヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられるものである。また、Rがヘテロ原子を含まない6員環残基である場合、一般式(1)におけるR〜Rのいずれか1以上がヒドロキシ基である共重合体は、本発明に係る効果を奏し、本発明に含まれるものである。 R 8 in the general formula (2) of the present invention is preferably a 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms because a higher phase difference is expressed. More preferably, it is a 5-membered heterocyclic residue or a 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms. Here, examples of the hetero atom when R 8 in the general formula (2) of the present invention is the m-membered heterocyclic residue include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. When R 8 is a 6-membered ring residue containing no hetero atom, the copolymer in which any one or more of R 3 to R 7 in the general formula (1) is a hydroxy group is an effect according to the present invention. Are included in the present invention.

具体的な一般式(2)で表される残基単位Bとしては、例えば、1−ビニルピロール残基単位、2−ビニルピロール残基単位、1−ビニルインドール残基単位、9−ビニルカルバゾール残基単位、2−ビニルキノリン残基単位、4−ビニルキノリン残基単位、1−ビニルイソキノリン残基単位、2−ビニルピリジン残基単位、3−ビニルピリジン残基単位、4−ビニルピリジン残基単位、1−ビニルイミダゾール残基単位、2−ビニルイミダゾール残基単位、4−ビニルイミダゾール残基単位、5−ビニル−2−ピラゾリン残基単位、2−ビニルピラジン残基単位、ビニル−s−トリアジン残基単位、10−ビニル−9−ヒドロアクリジン残基単位、1−ビニルテトラゾール残基単位、5−ビニルテトラゾール残基単位、N−ビニルピロリドン残基単位、N−ビニル−ε−カプロラクタム残基単位、N−ビニルスクシンイミド残基単位、N−ビニルフタルイミド残基単位、N−ビニルサッカリン残基単位、2−ビニルフラン残基単位、3−ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位、2−ビニルチオフェン残基単位、3−ビニルチオフェン残基単位、2−ビニルベンゾチオフェン残基単位、2−ビニルベンゾオキサゾール残基単位、N−ビニルオキサゾリドン残基単位、2−ビニルチアゾール残基単位、2−ビニルベンゾチアゾール残基単位、スチレン残基単位、2−ビニルナフタレン残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。本発明において、一般式(2)で表される残基単位Bは1種含まれていても良いし、複数種含まれていても良い。   Specific examples of the residue unit B represented by the general formula (2) include a 1-vinylpyrrole residue unit, a 2-vinylpyrrole residue unit, a 1-vinylindole residue unit, and a 9-vinylcarbazole residue. Base unit, 2-vinylquinoline residue unit, 4-vinylquinoline residue unit, 1-vinylisoquinoline residue unit, 2-vinylpyridine residue unit, 3-vinylpyridine residue unit, 4-vinylpyridine residue unit 1-vinylimidazole residue unit, 2-vinylimidazole residue unit, 4-vinylimidazole residue unit, 5-vinyl-2-pyrazoline residue unit, 2-vinylpyrazine residue unit, vinyl-s-triazine residue Group unit, 10-vinyl-9-hydroacridine residue unit, 1-vinyltetrazole residue unit, 5-vinyltetrazole residue unit, N-vinylpyrrolide Residue unit, N-vinyl-ε-caprolactam residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsaccharin residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 3-vinyl Furan residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit, 2-vinylthiophene residue unit, 3-vinylthiophene residue unit, 2-vinylbenzothiophene residue unit, 2-vinylbenzoxazole residue unit, N-vinyl Examples thereof include an oxazolidone residue unit, a 2-vinylthiazole residue unit, a 2-vinylbenzothiazole residue unit, a styrene residue unit, a 2-vinylnaphthalene residue unit, and a substituent adduct thereof. In this invention, 1 type of residue units B represented by General formula (2) may be contained, and multiple types may be contained.

これらの中でも、高い位相差を発現することから、1−ビニルピロール残基単位、2−ビニルピロール残基単位、1−ビニルインドール残基単位、9−ビニルカルバゾール残基単位、2−ビニルキノリン残基単位、4−ビニルキノリン残基単位、N−ビニルフタルイミド残基単位、N−ビニルスクシンイミド残基単位、2−ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位、スチレン残基単位、2−ビニルナフタレン残基単位が好ましく、9−ビニルカルバゾール残基単位、N−ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。   Among these, since a high phase difference is expressed, a 1-vinylpyrrole residue unit, a 2-vinylpyrrole residue unit, a 1-vinylindole residue unit, a 9-vinylcarbazole residue unit, a 2-vinylquinoline residue Group unit, 4-vinylquinoline residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit, styrene residue unit, 2- A vinylnaphthalene residue unit is preferable, and a 9-vinylcarbazole residue unit and an N-vinylphthalimide residue unit are more preferable.

本発明の一般式(3)におけるR、R10はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。 R 9 and R 10 in the general formula (3) of the present invention are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 6 carbon atoms. Of the cyclic alkyl group.

、R10における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 9 and R 10 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like.

本発明の一般式(3)におけるR、R10としては、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が良好となることから、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、3−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基、ネオへキシル基が好ましく、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基がさらに好ましい。 In the general formula (3) of the present invention, R 9 and R 10 are the ratios Re (450) / Re between the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm and the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm. Since (550) is good, hydrogen, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, isobutyl group, pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, 3 -Pentyl group, neopentyl group, hexyl group, isohexyl group, neohexyl group are preferable, hydrogen, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, isobutyl group are Further preferred.

具体的な一般式(3)で表される残基単位Cとしては、例えば、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、2−エチルアクリル酸残基単位、2−プロピルアクリル酸残基単位、2−イソプロピルアクリル酸残基単位、2−ペンチルアクリル酸残基単位、2−ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸sec−ブチル残基単位、アクリル酸ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸sec−ペンチル残基単位、アクリル酸3−ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec−ブチル残基単位、メタクリル酸ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸sec−ペンチル残基単位、メタクリル酸3−ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、2−エチルアクリル酸メチル残基単位、2−エチルアクリル酸エチル残基単位、2−エチルアクリル酸プロピル残基単位、2−エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、2−エチルアクリル酸ブチル残基単位、2−エチルアクリル酸イソブチル残基単位、2−エチルアクリル酸sec−ブチル残基単位等が挙げられる。   Specific examples of the residue unit C represented by the general formula (3) include an acrylic acid residue unit, a methacrylic acid residue unit, a 2-ethylacrylic acid residue unit, and a 2-propylacrylic acid residue unit. 2-isopropyl acrylate residue unit, 2-pentyl acrylate residue unit, 2-hexyl acrylate residue unit, methyl acrylate residue unit, ethyl acrylate residue unit, propyl acrylate residue unit, acrylic Isopropyl residue unit, butyl acrylate residue unit, isobutyl acrylate residue unit, sec-butyl acrylate residue unit, pentyl acrylate residue unit, isopentyl acrylate residue unit, sec-pentyl acrylate residue Unit, 3-pentyl acrylate residue unit, neopentyl acrylate residue unit, hexyl acrylate residue unit, isoacrylate acrylate Xylyl residue unit, neohexyl acrylate residue unit, methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit, propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, butyl methacrylate residue unit, methacryl Isobutyl residue unit, sec-butyl methacrylate unit, pentyl methacrylate unit, isopentyl methacrylate unit, sec-pentyl methacrylate unit, 3-pentyl methacrylate unit, neopentyl methacrylate Residue unit, hexyl methacrylate residue unit, isohexyl methacrylate residue unit, neohexyl methacrylate residue unit, methyl 2-ethyl acrylate residue unit, ethyl 2-ethyl acrylate residue unit, 2-ethyl acrylate residue unit, 2-ethyl acrylate Propyl residue unit, 2-ethyl butyl acrylate residue unit, 2-ethyl acrylate, isobutyl residue unit, and 2-ethyl acrylate sec- butyl residue unit and the like.

このなかでも、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が良好となることから、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸sec−ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec−ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec−ブチル残基単位が好ましく、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec−ブチル残基単位がさらに好ましい。   Among these, since the ratio Re (450) / Re (550) between the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm and the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm is good, methyl acrylate Residue unit, ethyl acrylate residue unit, propyl acrylate residue unit, isopropyl acrylate residue unit, butyl acrylate residue unit, isobutyl acrylate residue unit, sec-butyl acrylate residue unit, methacrylic acid Methyl residue unit, ethyl methacrylate residue unit, propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, sec-butyl methacrylate residue unit, methacryl Acid methyl residue units, ethyl methacrylate residue units, propyl methacrylate residue units, Isopropyl crylate residue units, butyl methacrylate residue units, isobutyl methacrylate residue units, sec-butyl methacrylate residue units are preferred, methyl methacrylate residue units, ethyl methacrylate residue units, propyl methacrylate residue More preferred are a base unit, an isopropyl methacrylate residue unit, a butyl methacrylate residue unit, an isobutyl methacrylate residue unit, and a sec-butyl methacrylate residue unit.

本発明の共重合体は、一般式(1)で表される残基単位A、一般式(2)で表される残基単位Bおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含む限り特に制限はないが、良好な相溶性を発現し、異種ポリマーとの複合化を容易にするのにより好適なものとなることから、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体が好ましい。   The copolymer of the present invention comprises a residue unit A represented by the general formula (1), a residue unit B represented by the general formula (2), and a residue unit C represented by the general formula (3). Although it is not particularly limited as long as it is included, it exhibits favorable compatibility and is more suitable for facilitating complexation with a different polymer, so that α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-styrene- Acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid Ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylsuccin Imido-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylphthalimide-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinyl furan- Acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-styrene-acrylic acid ester copolymer, 2- Hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole -Acrylate ester copolymer, 2-hydride Xibenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran -Acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α -Cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano -3-Hydroxycinnamic ester-9-vini Rucarbazole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylphthalimide -Acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylfuran-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran-acrylic Acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-styrene-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile -1-vinylindole-acrylic acid ester 3-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile- N-vinylphthalimide-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran-acrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran-acrylic acid ester copolymer 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano- 4-hydroxycinnamic acid esthetic 1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester N-vinylsuccinimide-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylphthalimide-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2- Vinylfuran-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene-acrylic acid ester copolymer 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-acrylic Rylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxy Benzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide-acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran- Acrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran-acrylic acid ester copolymer, 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxy -Α-cyano Cinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid Acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester -N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylfuran-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2 -Vinylbenzofuran-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxyben Lumalononitrile-styrene-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer Polymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile -N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran-methacrylic acid ester copolymer, 2-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran- Tacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer , Α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, α- Cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylfuran-methacrylic acid Acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-styrene-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxy Benzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole- Methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxy Sibenzalmalononitrile-2-vinylfuran-methacrylic acid ester copolymer, 3-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester— Styrene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole- Methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide-methacrylic acid Ester copolymer, α-cyano-4-hydroxysil Acid ester-N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylfuran-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester 2-vinylbenzofuran-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-N- Vinyl succinimi -Methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide-methacrylic acid ester copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran-methacrylic acid ester copolymer, 4- Hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran-methacrylate copolymer is preferred.

また、本発明の共重合体としては、良好な光学特性を発現するため、一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含み、さらに残基単位Bが、一般式(4)および/または一般式(5)で表される残基単位であることが好ましい。   Further, the copolymer of the present invention includes a residue unit A represented by the general formula (1) and a residue unit C represented by the general formula (3) in order to express good optical properties, Furthermore, the residue unit B is preferably a residue unit represented by the general formula (4) and / or the general formula (5).

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、R11〜R18はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX13)、エステル基(−C(=O)OX14または−CO(=O)−X15)、アミド基(−C(=O)N(X16)(X17)または−NX18C(=O)X19)、アシル基(−C(=O)X20)またはアミノ基(−N(X21)(X22))(ここで、X13〜X15は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X16〜X22は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R11〜R18は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R11とR17およびR12とR18は同一原子で環構造を形成していてもよい。) (Here, R 11 to R 18 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, A cyano group, a nitro group, a hydroxy group, a carboxy group, a thiol group, an alkoxy group (—OX 13 ), an ester group (—C (═O) OX 14 or —CO (═O) —X 15 ), an amide group (— C (═O) N (X 16 ) (X 17 ) or —NX 18 C (═O) X 19 ), acyl group (—C (═O) X 20 ) or amino group (—N (X 21 ) ( X 22 )) (where X 13 to X 15 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. X 16 to X 22 each independently represent hydrogen or carbon number A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.), And R 11 to R 18 are adjacent to each other. And a condensed ring structure may be formed, and R 11 and R 17 and R 12 and R 18 may form a ring structure with the same atom.)

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、R19〜R22はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX23)、エステル基(−C(=O)OX24または−CO(=O)−X25)、アミド基(−C(=O)N(X26)(X27)または−NX28C(=O)X29)、アシル基(−C(=O)X30)またはアミノ基(−N(X31)(X32))(ここで、X23〜X25は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X26〜X32は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R19〜R22は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R19とR20およびR21とR22は同一原子であって環構造を形成していてもよい。)
本発明における一般式(4)におけるR11〜R18はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX13)、エステル基(−C(=O)OX14または−CO(=O)−X15)、アミド基(−C(=O)N(X16)(X17)または−NX18C(=O)X19)、アシル基(−C(=O)X20)またはアミノ基(−N(X21)(X22))(ここで、X13〜X15は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X16〜X22は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R11〜R18は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R11とR17およびR12とR18は同一原子であって環構造を形成していてもよい。
(Here, R 19 to R 22 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group (—OX 23 ), ester group (—C (═O) OX 24 or —CO (═O) —X 25 ), amide group (— C (═O) N (X 26 ) (X 27 ) or —NX 28 C (═O) X 29 ), acyl group (—C (═O) X 30 ) or amino group (—N (X 31 ) ( X 32 )) (where X 23 to X 25 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. X 26 to X 32 each independently represent hydrogen or carbon number. A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 19 to R 22 are adjacent to each other. And a condensed ring structure may be formed, and R 19 and R 20 and R 21 and R 22 may be the same atom and may form a ring structure.)
R 11 to R 18 in the general formula (4) in the present invention are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 14 cyclic groups, cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group (—OX 13 ), ester group (—C (═O) OX 14 or —CO (═O) —X 15 ) , An amide group (—C (═O) N (X 16 ) (X 17 ) or —NX 18 C (═O) X 19 ), an acyl group (—C (═O) X 20 ) or an amino group (—N (X 21 ) (X 22 )) (where X 13 to X 15 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or the number of carbon atoms. 3 to 14 cyclic groups, X 16 to X 22 are Each independently represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms). R 11 to R 18 may form a condensed ring structure with adjacent substituents, and R 11 and R 17 and R 12 and R 18 may be the same atom and may form a ring structure. .

11〜R18におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3〜14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 11 to R 18 include fluorine, chlorine, bromine and the like, and examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Examples thereof include linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group and hexyl group. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Examples thereof include branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as a butyl group. Examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentanyl group, and a phenyl group. Group, naphthyl group, anthryl group, furyl group, pyranyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, indolyl group, carbazolyl group Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group, and specific ester groups include, for example, a methyloxycarbonyl group, ethyloxy group, and the like. Examples include carbonyl group, acetoxy group, propoxy group, and the like. Specific examples of the amide group include dimethylamide group and diethylamide group. Specific examples of the acyl group include acetyl group, propionyl group, and the like. A benzoyl group etc. are mentioned, As a specific amino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, etc. are mentioned.

13〜X22における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 13 to X 22 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

そして、具体的な一般式(4)で表される残基単位としては、例えば、N−ビニルインドール残基単位、N−メチル−3−ビニルインドール残基単位等のインドール類残基単位;9−ビニルカルバゾール残基単位、3−メチル−N−ビニルカルバゾール、3−クロロ−N−ビニルカルバゾール等の9−ビニルカルバゾール類残基単位等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、9−ビニルカルバゾール類残基単位が好ましく、9−ビニルカルバゾール残基単位がさらに好ましい。   Specific examples of the residue unit represented by the general formula (4) include indole residue units such as an N-vinylindole residue unit and an N-methyl-3-vinylindole residue unit; 9 Examples include 9-vinylcarbazole residue units such as -vinylcarbazole residue units, 3-methyl-N-vinylcarbazole, and 3-chloro-N-vinylcarbazole. Among these, a 9-vinylcarbazole residue unit is preferable, and a 9-vinylcarbazole residue unit is more preferable in order to develop a higher negative retardation and higher compatibility with different polymers.

本発明における一般式(5)におけるR19〜R22はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX23)、エステル基(−C(=O)OX24または−CO(=O)−X25)、アミド基(−C(=O)N(X26)(X27)または−NX28C(=O)X29)、アシル基(−C(=O)X30)またはアミノ基(−N(X31)(X32))(ここで、X23〜X25は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X26〜X32は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R19〜R22は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R19とR20およびR21とR22は同一原子であって環構造を形成していてもよい。 R 19 to R 22 in the general formula (5) in the present invention are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 14 cyclic groups, cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group (—OX 23 ), ester group (—C (═O) OX 24 or —CO (═O) —X 25 ) An amide group (—C (═O) N (X 26 ) (X 27 ) or —NX 28 C (═O) X 29 ), an acyl group (—C (═O) X 30 ) or an amino group (—N (X 31 ) (X 32 )) (where X 23 to X 25 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or the number of carbon atoms. 3 to 14 cyclic groups, X 26 to X 32 are Each independently represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms). R 19 to R 22 may form a condensed ring structure with adjacent substituents, and R 19 and R 20 and R 21 and R 22 may be the same atom to form a ring structure. .

19〜R22におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3〜14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 19 to R 22 include fluorine, chlorine, bromine and the like, and examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Examples thereof include linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group and hexyl group. Examples of branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Examples thereof include branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as a butyl group. Examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentanyl group, and a phenyl group. Group, naphthyl group, anthryl group, furyl group, pyranyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, indolyl group, carbazolyl group Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group, and specific ester groups include, for example, a methyloxycarbonyl group, ethyloxy group, and the like. Examples include carbonyl group, acetoxy group, propoxy group, and the like. Specific examples of the amide group include dimethylamide group and diethylamide group. Specific examples of the acyl group include acetyl group, propionyl group, and the like. A benzoyl group etc. are mentioned, As a specific amino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, etc. are mentioned.

23〜X32における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 23 to X 32, for example, mentioned a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl and the like Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

そして、具体的な一般式(5)で表される残基単位としては、例えば、N−ビニルスクシンイミド残基単位等のN−ビニルスクシンイミド類残基単位;N−ビニルフタルイミド残基単位、4−メチルフタルイミド残基単位、4−クロロメチルフタルイミド残基単位、4−ニトロフタルイミド残基単位等のN−ビニルフタルイミド類残基単位;N−ビニル2,3−ナフタレンジカルボキシイミド残基単位、N−ビニル1,8−ナフタレンジカルボキシイミド残基単位等のN−ビニルナフタレンジカルボキシイミド類等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、N−ビニルフタルイミド類残基単位が好ましく、N−ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。   Specific examples of the residue unit represented by the general formula (5) include N-vinylsuccinimide residue units such as N-vinylsuccinimide residue units; N-vinylphthalimide residue units, 4- N-vinylphthalimide residue units such as methylphthalimide residue units, 4-chloromethylphthalimide residue units, 4-nitrophthalimide residue units; N-vinyl 2,3-naphthalenedicarboximide residue units, N- Examples thereof include N-vinylnaphthalenedicarboximides such as vinyl 1,8-naphthalenedicarboximide residue units. Among these, N-vinylphthalimide residue units are preferable, and N-vinylphthalimide residue units are more preferable in order to express higher negative retardation and higher compatibility with different polymers.

本発明の共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α−メチルスチレン残基単位、trans−スチルベン等のスチレン類残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸エステル残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位等より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。   The copolymer of the present invention may contain other monomer residue units as long as the scope of the present invention is not exceeded. Examples of other monomer residue units include α-methylstyrene. Residue units, styrene residue units such as trans-stilbene; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residue units; methacrylonitrile residue units; methyl vinyl ether Residue units, vinyl ether residue units such as ethyl vinyl ether residue units, butyl vinyl ether residue units; diethyl fumarate residue units, fumarate ester residue units; N-methylmaleimide residue units, N-cyclohexylmaleimide residues N-substituted maleimide residue units such as group units and N-phenylmaleimide residue units; ethylene residue units, propylene residue units, etc. Mention may be made of one or more members selected from olefins residue unit and the like.

本発明の共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(2)で表される残基単位Bとのモル比A/Bが0.05〜6であることが好ましく、0.1〜3であることがさらに好ましく、0.18〜2であることが特に好ましく、0.25〜1であることが最も好ましい。   Since the composition of the copolymer of the present invention has excellent retardation characteristics when used as a retardation film, it is represented by the residue unit A represented by the general formula (1) and the general formula (2). The molar ratio A / B to the residue unit B is preferably 0.05 to 6, more preferably 0.1 to 3, particularly preferably 0.18 to 2, Most preferred is 25-1.

本発明の共重合体の組成は、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が良好となることから、一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(3)で表される残基単位Cとのモル比A/Cが0.02〜50であることが好ましく、0.1〜25であることがさらに好ましく、0.25〜20であることが特に好ましく、0.5〜15であることが最も好ましい。   The composition of the copolymer of the present invention has a good ratio Re (450) / Re (550) between the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm and the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm. Therefore, the molar ratio A / C between the residue unit A represented by the general formula (1) and the residue unit C represented by the general formula (3) is preferably 0.02 to 50, More preferably, it is 0.1-25, It is especially preferable that it is 0.25-20, It is most preferable that it is 0.5-15.

本発明の共重合体のうち、残基単位Bが一般式(4)で表される残基単位以外の残基単位Bである共重合体については、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が3,000〜500,000であることが好ましく、5,000〜400,000であることがさらに好ましく、10,000〜300,000であることが特に好ましい。本発明の共重合体のうち、残基単位Bが一般式(4)で表される残基単位である共重合体については、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準プルラン換算の数平均分子量が3,000〜500,000であることが好ましく、5,000〜400,000であることがさらに好ましく、10,000〜300,000であることが特に好ましい。   Among the copolymers of the present invention, the copolymer in which the residue unit B is a residue unit B other than the residue unit represented by the general formula (4) is excellent in mechanical properties. The number average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 3,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 400,000. More preferred is 10,000 to 300,000. Among the copolymers of the present invention, the copolymer in which the residue unit B is the residue unit represented by the general formula (4) is excellent in mechanical properties, and therefore gel permeation. The number average molecular weight in terms of standard pullulan obtained from an elution curve measured by chromatography (GPC) is preferably 3,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 400,000. 000 to 300,000 is particularly preferable.

本発明の共重合体のガラス転移温度は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、150℃以上であることが好ましく、170℃以上であることがさらに好ましく、180℃以上であることが特に好ましい。   The glass transition temperature of the copolymer of the present invention is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher, since the phase difference characteristics when the retardation film is obtained are excellent. It is especially preferable that it is 180 degreeC or more.

本発明の重合体の製造方法について特に制限はないが、例えば、一般式(6)で表される単量体を用いて重合する製造方法が挙げられる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of the polymer of this invention, For example, the manufacturing method superposed | polymerized using the monomer represented by General formula (6) is mentioned.

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
本発明の一般式(6)における具体的な単量体としては、例えば、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−4−ヒドロキシ−ケイ皮酸メチル、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸エチル、3−ヒドロキシ−α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸n−プロピル、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−2,3−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3,4−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−2−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−2,3−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3,4−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−2−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−3−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−4−カルボキシ−3−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−2−カルボキシ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−4−カルボキシ−2−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル、2−カルボキシベンザルマロノニトリル、3−カルボキシベンザルマロノニトリル、4−カルボキシベンザルマロノニトリル、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル、2−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、3−カルボキシ−2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、3−カルボキシ−4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、2−カルボキシ−4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、4−カルボキシ−2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル、2−ヒドロキシシンナモニトリル、3−ヒドロキシシンナモニトリル、4−ヒドロキシシンナモニトリル、2−カルボキシシンナモニトリル、3−カルボキシシンナモニトリル、4−カルボキシシンナモニトリル、2−ヒドロキシカルコン、3−ヒドロキシカルコン、4−ヒドロキシカルコン、2−カルボキシカルコン、3−カルボキシカルコン、4−カルボキシカルコン、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジn−プロピル、2−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、N,N−ジメチル−2−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジメチル−4−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジメチル−2−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジメチル−3−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジメチル−4−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−2−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−3−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−4−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−2−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−3−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジエチル−4−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−2−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−3−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−4−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−2−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−3−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジn−プロピル−4−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−2−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−3−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−4−ヒドロキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−2−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−3−カルボキシシンナムアミド、N,N−ジイソプロピル−4−カルボキシシンナムアミド等が挙げられる。これらの単量体を重合することにより、脱保護等の煩雑な後反応を行うことなく重合体を得ることができる。
(Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 each independently represents 1 carbon atom) 12 linear alkyl group, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, X 4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms R 3 to R 7 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro , A cyano group, an alkoxy group (-OX 5), an ester group (-C (= O) OX 6 ), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8)), an acyl group (-C (═O) X 9 ), an amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or a sulfonic acid group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent 1 carbon atom) Represents a linear alkyl group having ˜12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 12 are each independently hydrogen, 1 to 12 carbon atoms. A straight-chain alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.), Wherein at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group or a carboxy group It is shown. in addition, R 3 to R 7 may form a fused ring structure adjacent substituents It may be.)
Specific monomers in the general formula (6) of the present invention include, for example, methyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, α-cyano-4- Hydroxy-methyl cinnamate, methyl α-cyano-2,3-dihydroxycinnamate, methyl α-cyano-3,4-dihydroxycinnamate, methyl α-cyano-2-carboxycinnamate, α-cyano -3-methyl carboxycinnamate, methyl α-cyano-4-carboxycinnamate, methyl α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate, methyl α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate , Α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamic acid methyl, α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamic acid methyl, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamic acid , Methyl α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamate, methyl α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-2,3-dihydroxycinnamate, α-cyano-3,4-dihydroxycinnamate ethyl, α-cyano-2-carboxycinnamate ethyl, α-cyano-3-carboxycinnamate ethyl, α-cyano-4-carboxycinnamate ethyl, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamic acid ethyl, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamic acid ethyl, 3-hydroxy-α-cyano-2-carboxycinnamic acid , Ethyl α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamate, α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid ethyl, α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamic acid ethyl, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid n-propyl, α-cyano- N-propyl 3-hydroxycinnamate, n-propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, n-propyl α-cyano-2,3-dihydroxycinnamate, α-cyano-3,4-dihydroxycin N-propyl cinnamate, n-propyl α-cyano-2-carboxycinnamate, n-propyl α-cyano-3-carboxycinnamate, α-cyano-4-carboxycinnamic hide n-propyl, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamic acid n-propyl, α-cyano-3,4-dicarboxycinnamic acid n-propyl, α-cyano-2-carboxy-3-hydroxysilicic acid N-propyl cinnamate, n-propyl α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamate, n-propyl α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamate, α-cyano-4-carboxy- 3-hydroxycinnamic acid n-propyl, α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamic acid n-propyl, α-cyano-4-carboxy-2-hydroxycinnamic acid n-propyl, α-cyano- Isopropyl 2-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano-2,3-di Isopropyl droxycinnamate, isopropyl α-cyano-3,4-dihydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-2-carboxycinnamate, isopropyl α-cyano-3-carboxycinnamate, α-cyano-4-carboxy Isopropyl cinnamate, isopropyl α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate, isopropyl α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate, isopropyl α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate , Α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamic acid isopropyl, α-cyano-3-carboxy-4-hydroxycinnamic acid isopropyl, α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamic acid isopropyl, α -Isocyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamate, α-cyano-4-ca Isopropyl ruboxoxy-2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano- Isobutyl 2,3-dihydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3,4-dihydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-carboxycinnamate, α- Isobutyl cyano-4-carboxycinnamate, isobutyl α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate, isobutyl α-cyano-3,4-dicarboxycinnamate, α-cyano-2-carboxy-3- Isobutyl hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-3-carboxy-2-hydroxycinnamate, α-cyano-3-cal Isobutyl xyl-4-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-4-carboxy-3-hydroxycinnamate, isobutyl α-cyano-2-carboxy-4-hydroxycinnamate, α-cyano-4-carboxy- Isobutyl 2-hydroxycinnamate, 2-hydroxybenzalmalononitrile, 3-hydroxybenzalmalononitrile, 4-hydroxybenzalmalononitrile, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile, 3,4-dihydroxybenzalmalonono Nitrile, 2-carboxybenzalmalononitrile, 3-carboxybenzalmalononitrile, 4-carboxybenzalmalononitrile, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile, 2- Carboxy-3-hydroxybenzal Malononitrile, 3-carboxy-2-hydroxybenzalmalononitrile, 3-carboxy-4-hydroxybenzalmalononitrile, 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile, 2-carboxy-4-hydroxybenzalmalononitrile, 4-carboxy-2-hydroxybenzalmalononitrile, 2-hydroxycinnamonitrile, 3-hydroxycinnamonitrile, 4-hydroxycinnamonitrile, 2-carboxycinnamonitrile, 3-carboxycinnamonitrile, 4-carboxy Cinnamonitrile, 2-hydroxychalcone, 3-hydroxychalcone, 4-hydroxychalcone, 2-carboxychalcone, 3-carboxychalcone, 4-carboxychalcone, dimethyl-2-hydroxybenzylidenemalonate, -Dimethylhydroxybenzylidenemalonate, dimethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, 2-carboxybenzylidenemalonate dimethyl, 3-carboxybenzylidenemalonate dimethyl, 4-carboxybenzylidenemalonate dimethyl, 2-hydroxybenzylidenemalonate, 3-hydroxy Diethyl benzylidenemalonate, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate, diethyl 2-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 3-carboxybenzylidenemalonate, diethyl 4-carboxybenzylidenemalonate, di-n-propyl-2-hydroxybenzylidenemalonate, 3- Hydroxybenzylidenemalonate di n-propyl, 4-hydroxybenzylidenemalonate din-propyl, 2-carboxybenzylidenemalon Di-n-propyl, di-n-propyl 3-carboxybenzylidenemalonate, di-n-propyl 4-carboxybenzylidenemalonate, diisopropyl 2-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 3-hydroxybenzylidenemalonate, diisopropyl 4-hydroxybenzylidenemalonate 2-carboxybenzylidenemalonate diisopropyl, 3-carboxybenzylidenemalonate diisopropyl, 4-carboxybenzylidenemalonate diisopropyl, N, N-dimethyl-2-hydroxycinnamamide, N, N-dimethyl-3-hydroxycinnamamide N, N-dimethyl-4-hydroxycinnamamide, N, N-dimethyl-2-carboxycinnamamide, N, N-dimethyl-3-carboxycinnamamide, N, N-di Methyl-4-carboxycinnamamide, N, N-diethyl-2-hydroxycinnamamide, N, N-diethyl-3-hydroxycinnamamide, N, N-diethyl-4-hydroxycinnamamide, N, N-diethyl-2-carboxycinnamamide, N, N-diethyl-3-carboxycinnamamide, N, N-diethyl-4-carboxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-2-hydroxycin Namamide, N, N-Di-n-propyl-3-hydroxycinnamamide, N, N-Di-n-propyl-4-hydroxycinnamamide, N, N-Di-n-propyl-2-carboxycinnamamide N, N-di-n-propyl-3-carboxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-4-carboxycinnamamide, N, N-din-amide Pyr-2-hydroxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-3-hydroxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-4-hydroxycinnamamide, N, N-di-n-propyl- 2-carboxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-3-carboxycinnamamide, N, N-di-n-propyl-4-carboxycinnamamide, N, N-diisopropyl-2-hydroxycinnam Amide, N, N-diisopropyl-3-hydroxycinnamamide, N, N-diisopropyl-4-hydroxycinnamamide, N, N-diisopropyl-2-carboxycinnamamide, N, N-diisopropyl-3-carboxy Examples thereof include cinnamamide and N, N-diisopropyl-4-carboxycinnamamide. By polymerizing these monomers, a polymer can be obtained without performing complicated post-reactions such as deprotection.

本発明の共重合体の具体的な製造方法としては、一般式(1)で表される残基単位A、一般式(2)で表される残基単位Bおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含む共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。   Specific production methods of the copolymer of the present invention include a residue unit A represented by the general formula (1), a residue unit B represented by the general formula (2), and a general formula (3). As long as the copolymer containing the residue unit C is obtained, it may be produced by any method, for example, by radical polymerization.

前記ラジカル重合としては公知の重合方法を採用でき、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。   As the radical polymerization, a known polymerization method can be employed. For example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, and an emulsion polymerization method can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2′-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis And azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile).

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;N,N−ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used when employ | adopting solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, and emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; methanol, ethanol, Alcohol solvents such as propanol and butanol; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; N, N-dimethylformamide; dimethyl sulfoxide; isopropyl acetate; water and the like.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, since the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator and the control of the reaction is easy, it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. It is preferable.

本発明の共重合体は、該共重合体を含んでなる光学フィルムとして用いることができる。   The copolymer of the present invention can be used as an optical film comprising the copolymer.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。   When the copolymer of the present invention is used as an optical film, the light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more, since image quality characteristics are good.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ(曇り度)が2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   When the copolymer of the present invention is used as an optical film, since the image quality is good, the haze (cloudiness) of the film is preferably 2% or less, and more preferably 1% or less. preferable.

本発明の共重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、位相差フィルムとすることが好ましい。   When the copolymer of the present invention is used as an optical film, it is preferable to use a retardation film because it has excellent retardation characteristics.

一般に液晶ディスプレイ等の位相差フィルムとして用いるとき、長期間にわたって位相差特性が変化しないことが求められる。本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、長期間にわたって位相差特性が変化しないことを特徴とする。すなわち、位相差安定性に優れており、高画質を維持できることから、液晶ディスプレイ等の位相差フィルムとして好適に用いることができるものである。   In general, when used as a retardation film for a liquid crystal display or the like, it is required that the retardation characteristics do not change over a long period of time. The retardation film using the copolymer of the present invention is characterized in that the retardation characteristics do not change over a long period of time. That is, since it is excellent in retardation stability and can maintain high image quality, it can be suitably used as a retardation film for liquid crystal displays and the like.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzである位相差フィルムとして好適に用いられる。   Since the retardation film using the copolymer of the present invention exhibits retardation even when unstretched, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, and the refractive index in the film in-plane direction perpendicular thereto is set. It is preferably used as a retardation film in which ny is a relationship of nx≈ny <nz when the refractive index in the thickness direction of the film is nz.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムとしては、該共重合体のみを用いることもでき、他の重合体と混合した組成物を用いることもできる。このとき、混合する他の重合体としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良い。   As the retardation film using the copolymer of the present invention, only the copolymer can be used, or a composition mixed with another polymer can be used. At this time, the other polymer to be mixed may be a polymer having negative birefringence or a polymer having positive birefringence.

本発明の共重合体を負の複屈折性を有する位相差フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能になることから、膜厚と次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)の絶対値と膜厚の比が、6.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、10nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。   When the copolymer of the present invention is used as a retardation film having negative birefringence, the film thickness can be reduced, so that the film thickness and the out-of-plane measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) The ratio of the absolute value of the retardation (Rth) to the film thickness is preferably 6.5 nm / film thickness (μm) or more, more preferably 8 nm / film thickness (μm) or more, and 10 nm / film thickness (μm). The above is particularly preferable.

Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the optical film of this invention, For example, methods, such as a solution cast method and a melt cast method, are mentioned.

溶液キャスト法は、共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、スピンコーター法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20,000cPsが好ましく、100〜10,000cPsであることがさらに好ましい。   The solution casting method is a method in which a solution obtained by dissolving a copolymer in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. In this case, as a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a spin coater method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. Particularly, industrially, a method in which a dope is continuously extruded from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is the most common. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20,000 cPs. 100 to 10,000 cPs is more preferable.

この際の共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは2〜100μm、特に好ましくは3〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the copolymer is preferably 1 to 200 μm, more preferably 2 to 100 μm, and particularly preferably 3 to 50 μm after drying because the film can be easily handled.

また、溶融キャスト法は、共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。   The melt casting method is a molding method in which a copolymer is melted in an extruder and extruded from a slit of a T die into a film shape and then cooled and cooled with a roll or air.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。また、本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形後に延伸して用いてもよい。   The retardation film using the copolymer of the present invention can be peeled off from the base glass substrate and other optical films and used as a laminate with the base glass substrate and other optical films. Can also be used. Moreover, the retardation film using the copolymer of the present invention may be stretched after film formation.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の共重合体を用いた位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film using the copolymer of the present invention can be laminated with a polarizing plate and used as a circular or elliptical polarizing plate, and laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. It is also possible. Furthermore, it can also laminate | stack with retardation films using the copolymer of this invention, or other retardation films.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の共重合体を用いた位相差フィルムを構成する共重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   In the retardation film using the copolymer of the present invention, an antioxidant is preferably blended in order to increase the thermal stability of the retardation film itself or during film formation. Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is preferable to use together a hindered antioxidant and phosphorus antioxidant, and in that case, for example with respect to 100 weight part of hindered antioxidant More preferably, the phosphorus-based antioxidant is used in a mixture of 100 to 500 parts by weight. In addition, the addition amount of the antioxidant is 0.01 to 10 parts by weight because it has an excellent antioxidant effect with respect to 100 parts by weight of the copolymer constituting the retardation film using the copolymer of the present invention. Is preferably 0.5 to 1 part by weight.

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。   Moreover, as an ultraviolet absorber, you may mix | blend ultraviolet absorbers, such as benzotriazole, a benzophenone, a triazine, a benzoate, as needed.

本発明の共重合体を用いた位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。   The retardation film using the copolymer of the present invention is within the range not exceeding the gist of the invention, other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking. You may mix | blend an agent, a lubricant, etc.

本発明の共重合体は、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルム、有機ELディスプレイの円偏光板用の位相差フィルムや反射防止フィルムに有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きい光学特性に優れた位相差フィルムに適したものである。   The copolymer of the present invention is an optical film having a large refractive index in the thickness direction of a film useful for a compensation film for contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display, a retardation film for a circularly polarizing plate of an organic EL display or an antireflection film. It is suitable for a retardation film having excellent characteristics.

本発明の共重合体は、正の固有複屈折を有する樹脂を含有した樹脂組成物および該樹脂組成物を用いてなる光学補償フィルムとして好適に用いることができるものである。   The copolymer of the present invention can be suitably used as a resin composition containing a resin having a positive intrinsic birefringence and an optical compensation film using the resin composition.

本発明において、該正の固有複屈折を有する樹脂としては、該樹脂を用いて位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られる限り特に制限はなく、例えば、セルロース系樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン等が挙げられ、より位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られることから、セルロース系樹脂が好ましい。   In the present invention, the resin having positive intrinsic birefringence is not particularly limited as long as an optical compensation film having excellent retardation characteristics can be obtained using the resin. For example, cellulose resin, polycarbonate, cyclic polyolefin, polyethylene , Polypropylene, polyester, polyimide, polyamide, polyurethane and the like, and a cellulose-based resin is preferable because an optical compensation film having more excellent retardation characteristics can be obtained.

本発明において、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロース系樹脂が用いられる場合、光学補償フィルムとした際に位相差特性および透明性により優れ、かつ面内位相差Reが大きく、更に延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式(7)で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。   In the present invention, when a cellulosic resin is used as a resin having positive intrinsic birefringence, when it is used as an optical compensation film, it is excellent in retardation characteristics and transparency, has a large in-plane retardation Re, and has a stretch processability. Therefore, it is preferably a cellulose resin represented by the following general formula (7).

Figure 2019172867
Figure 2019172867

(式中、R23〜R25はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、またはアシル基(−C(=O)X33)(ここで、X33は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。)
ここで、一般式(7)で示されるセルロース系樹脂は、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の2位、3位および6位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。
(Wherein R 23 to R 25 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, or acyl. Group (—C (═O) X 33 ) (where X 33 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms) ).)
Here, the cellulose resin represented by the general formula (7) is a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and some or all of the hydroxyl groups at the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose unit. Is a polymer substituted.

23〜R25における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 23 to R 25 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

33における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 33, for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl, and the like, carbon Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group. , Cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group and the like.

本発明の一般式(7)におけるR23〜R25としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、イソブチリル基、tert−ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が好ましい。 Examples of R 23 to R 25 in the general formula (7) of the present invention include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an isobutyl group. , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, isobutyryl group, tert-butyryl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group And a naphthoyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group are preferable because solubility and compatibility are further improved.

本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、2位、3位および6位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合(100%の置換は置換度3)を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは1.5〜3.0であり、さらに好ましくは1.8〜2.8である。   The substitution degree of substitution through the oxygen atom of the hydroxyl group of cellulose in the cellulose resin of the present invention is the ratio of substitution of the hydroxyl group of cellulose for each of the 2-position, 3-position and 6-position (100% substitution) Means the degree of substitution 3), and the degree of substitution is preferably 1.5 to 3.0, more preferably 1.8 to 2.8 from the viewpoint of solubility, compatibility and stretch processability. .

具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。   Specific examples of the cellulose resin of the present invention include methyl cellulose, ethyl cellulose, triacetyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and the like. Since a compensation film is obtained, ethyl cellulose, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable.

本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1,000〜1,000,000であることが好ましく、5,000〜200,000であることがさらに好ましい。   Since the cellulose resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The converted number average molecular weight (Mn) is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 5,000 to 200,000.

本発明の樹脂組成物は、本発明の共重合体と正の固有複屈折を有する樹脂とをブレンドすることによって得られるものであり、光学補償フィルムとして用いるとき、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、本発明の共重合体が負の複屈折を示し、かつ、本発明の共重合体と、正の固有複屈折を有する樹脂が優れた相溶性を示すことから、これらをブレンドして得られる本発明に係る樹脂組成物を用いるとき、実用的な透明性を有し、かつ位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができるものである。   The resin composition of the present invention is obtained by blending the copolymer of the present invention and a resin having positive intrinsic birefringence, and when used as an optical compensation film, the optical compensation film has a target position. It is characterized by exhibiting phase difference characteristics. That is, the copolymer of the present invention exhibits negative birefringence, and the copolymer of the present invention and a resin having positive intrinsic birefringence exhibit excellent compatibility. When the resin composition according to the present invention is used, an optical compensation film having practical transparency and excellent retardation characteristics can be obtained.

本発明の樹脂組成物における本発明の共重合体と正の固有複屈折を有する樹脂の組成の割合は、光学補償フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、本発明の共重合体1〜90重量%および正の固有複屈折を有する樹脂99〜10重量%であることが好ましい。さらに好ましくは本発明の共重合体10〜85重量%および正の固有複屈折を有する樹脂90〜15重量%であり、特に好ましくは本発明の共重合体20〜80重量%および正の固有複屈折を有する樹脂80〜20重量%である。   Since the proportion of the composition of the copolymer of the present invention and the resin having positive intrinsic birefringence in the resin composition of the present invention is suitable for controlling the retardation when used as an optical compensation film, the copolymer of the present invention It is preferably 1 to 90% by weight and 99 to 10% by weight of a resin having positive intrinsic birefringence. More preferred is 10 to 85% by weight of the copolymer of the present invention and 90 to 15% by weight of a resin having positive intrinsic birefringence, and particularly preferred is 20 to 80% by weight of the copolymer of the present invention and positive intrinsic birefringence. The resin having refraction is 80 to 20% by weight.

ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤;ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。   As a blending method, methods such as melt blending and solution blending can be used. The melt blending method is a method of manufacturing by melting and kneading a resin by heating. The solution blending method is a method in which a resin is dissolved in a solvent and blended. Solvents used for solution blending include, for example, chlorinated solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; ethyl acetate, An ester solvent such as butyl acetate; an alcohol solvent such as methanol, ethanol, or propanol; an ether solvent such as dioxane or tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, or the like can be used. Each resin and additive can be dissolved in a solvent and then blended. The powder, pellets, etc. of each resin can be kneaded and then dissolved in the solvent.

本発明の樹脂組成物は、光学補償フィルムとする際の熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、2種以上を組み合わせてもよい。   The resin composition of the present invention may contain an antioxidant in order to improve the thermal stability when making an optical compensation film. Antioxidants include, for example, hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, amine antioxidants, hydroxylamine antioxidants, vitamin E series An antioxidant, other antioxidants, etc. are mentioned, and these antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物は、光学補償フィルムとする際の耐候性を高めるためヒンダードアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等が挙げられる。   The resin composition of the present invention may contain a hindered amine light stabilizer or an ultraviolet absorber in order to enhance the weather resistance when making an optical compensation film. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like.

本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、光学補償フィルムとする際の機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レターデーション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーなども用いられる。   The resin composition of the present invention is an object for improving mechanical properties, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, reducing water vapor permeability, adjusting retardation, etc., when a compound known as a plasticizer is used as an optical compensation film. The plasticizer may be, for example, a phosphate ester or a carboxylic acid ester. Acrylic polymers are also used.

リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることが出来る。   Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, phenyl diphenyl phosphate, and the like.

カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリセロールエステル、アルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることができる。フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等が挙げられ、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。また、脂肪酸エステルとしては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル等が挙げられ、グリセロールエステルとしては、例えば、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等が挙げられ、アルキルフタリルアルキルグリコレートとしては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来る。これら可塑剤は単独でもよく、2種以上混合して使用してもよい。   Examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid ester, citric acid ester, fatty acid ester, glycerol ester, and alkylphthalyl alkyl glycolate. Examples of the phthalate ester include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, dioctyl phthalate, and diethyl hexyl phthalate. Examples of the citrate ester include acetyl triethyl citrate and acetyl tributyl citrate. . Examples of the fatty acid ester include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and the like, and examples of the glycerol ester include triacetin, trimethylolpropane tribenzoate, and the like. Examples of the rate include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, ethyl phthalate Methyl methacrylate, ethyl phthalyl propyl glycolate, propyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl Phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalate Examples include rumethyl glycolate and octyl phthalyl ethyl glycolate. These plasticizers may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物は、光学補償フィルムとする際の位相差を調整する目的で、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を含有していてもよい。位相差を調整する目的で使用される添加剤の下記式(A)で示される複屈折Δnについては、特に制限はないが、より光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは0.05以上であり、さらに好ましくは0.05〜0.5、特に好ましくは0.1〜0.5である。添加剤のΔnは分子軌道計算によって求めることができる。   The resin composition of the present invention may contain an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle for the purpose of adjusting the phase difference in forming an optical compensation film. The birefringence Δn represented by the following formula (A) of the additive used for the purpose of adjusting the phase difference is not particularly limited, but is preferably 0 because it becomes an optical compensation film with more excellent optical characteristics. 0.05 or more, more preferably 0.05 to 0.5, and particularly preferably 0.1 to 0.5. The Δn of the additive can be obtained by molecular orbital calculation.

Δn=nx−ny (A)
(式中、nxは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示し、nyは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示す。)
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、該添加剤において、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは1〜12個であり、さらに好ましくは1〜8個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、5員環、6員環、7員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、1,3,5−トリアジン環等が挙げられる。
Δn = nx−ny (A)
(In the formula, nx represents the refractive index in the slow axis direction of the additive molecule, and ny represents the refractive index in the fast axis direction of the additive molecule.)
When an additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle is contained in the resin composition of the present invention, the number of the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle in the molecule in the additive Although there is no restriction | limiting in particular, Since it becomes an optical compensation film excellent in the optical characteristic, Preferably it is 1-12 pieces, More preferably, it is 1-8 pieces. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a 5-membered ring, a 6-membered ring, a 7-membered ring, or a condensed ring composed of two or more aromatic rings. Examples of the aromatic heterocycle include a furan ring. Thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, 1,3,5-triazine ring and the like.

芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられる。   The aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxylic acid residue, an amino group, and an imino group. Amide group, imide group, cyano group, nitro group, sulfonyl group, sulfonic acid residue, phosphonyl group, phosphonic acid residue and the like.

本発明で用いられる芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤としては、例えば、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)等のリン酸エステル系化合物;ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジノルマルオクチルフタレート、2−エチルヘキシルフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル系化合物;トリブチルトリメリテート、トリ−ノルマルヘキシルトリメリテート、トリ(2−エチルヘキシル)トリメリテート、トリ−ノルマルオクチルトリメリテート、トリ−イソクチルトリメリテート、トリ−イソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル系化合物;トリ(2−エチルヘキシル)ピロメリテート、テトラブチルピロメリテート、テトラ−ノルマルヘキシルピロメリテート、テトラ(2−エチルヘキシル)ピロメリテート、テトラ−ノルマルオクチルピロメリテート、テトラ−イソクチルピロメリテート、テトラ−イソデシルピロメリテート等のピロメリット酸エステル系化合物;安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、パラオキシ安息香酸エチル等の安息香酸エステル系化合物;フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート等のサリチル酸エステル系化合物;メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系化合物;2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物;2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、N−ベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド系化合物、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられ、より位相差特性に優れた光学補償フィルムが得られるため、トリクレジルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが好ましく、これらは必要に応じて1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle used in the present invention include tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, triphenyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, Phosphate ester compounds such as bisphenol A bis (diphenyl phosphate); dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dinormal octyl phthalate, 2-ethylhexyl phthalate, diisooctyl phthalate, dicapryl phthalate, dinonyl phthalate, diisononyl Phthalate compounds such as phthalate, didecyl phthalate, diisodecyl phthalate; tributyl trimellitate, tri-normal hex Trimellitic acid ester-based compounds such as rutrimellitate, tri (2-ethylhexyl) trimellitate, tri-normal octyl trimellitate, tri-isoctyl trimellitate, tri-isodecyl trimellitate; tri (2-ethylhexyl) pyromellitate, Pyromellitic acid such as tetrabutyl pyromellitate, tetra-normal hexyl pyromellitate, tetra (2-ethylhexyl) pyromellitate, tetra-normal octyl pyromellitate, tetra-isooctyl pyromellitate, tetra-isodecyl pyromellitate Ester compounds; benzoic acid ester compounds such as ethyl benzoate, isopropyl benzoate, ethyl paraoxybenzoate; phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, p-tert-butylphenol Salicylic acid ester compounds such as rusalicylate; Glycolic acid ester compounds such as methylphthalylethyl glycolate, ethylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate; 2- (2′-hydroxy-5′-t- Benzotriazole compounds such as butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole; 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′- Benzophenone compounds such as dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, N-benzenesulfone Sulfons such as amides Mido compounds, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl)- Triazine compounds such as 1,3,5-triazine and the like are mentioned, and since an optical compensation film having more excellent retardation characteristics can be obtained, tricresyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, 2-hydroxy-4-methoxy Benzophenone and 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone are preferred, and these may be one or more as required. It can be used in combination.

本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、光学特性及び機械的特性の観点から、好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤の割合は0.01〜30重量%であり、さらに好ましくは0.01〜20重量%、特に好ましくは0.01〜15重量%である。   When the resin composition of the present invention contains an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, it is preferably an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle from the viewpoint of optical properties and mechanical properties. The ratio of the additive having a ring is 0.01 to 30% by weight, more preferably 0.01 to 20% by weight, and particularly preferably 0.01 to 15% by weight.

本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。   The resin composition of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like within the scope of the invention. May be.

本発明の光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが5〜200μmであることが好ましく、5〜150μmがさらに好ましく、5〜120μmが特に好ましい。   The thickness of the optical compensation film of the present invention is preferably from 5 to 200 μm, more preferably from 5 to 150 μm, particularly preferably from 5 to 120 μm, from the viewpoints of handleability of the film and suitability for thinning of the optical member. .

本発明の光学補償フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。   Since the optical compensation film of the present invention has good image quality characteristics, the light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.

本発明の光学補償フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ(曇り度)が2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   Since the optical compensation film of the present invention has good image quality characteristics, the haze (cloudiness) of the film is preferably 2% or less, and more preferably 1% or less.

本発明の光学補償フィルムの位相差特性は、下記式(b)で示される面内位相差(Re)が好ましくは50〜500nm、さらに好ましくは100〜450nm、特に好ましくは100〜400nmであって、下記式(c)で示されるNz係数が好ましくは0≦Nz≦1.1、さらに好ましくは0.30≦Nz≦0.65、特に好ましくは0.35≦Nz≦0.60であるものが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計(AXOMETRICS製、商品名AxoScan)を用い、測定波長589nmの条件で測定されるものである。   The retardation property of the optical compensation film of the present invention is preferably such that the in-plane retardation (Re) represented by the following formula (b) is 50 to 500 nm, more preferably 100 to 450 nm, and particularly preferably 100 to 400 nm. The Nz coefficient represented by the following formula (c) is preferably 0 ≦ Nz ≦ 1.1, more preferably 0.30 ≦ Nz ≦ 0.65, and particularly preferably 0.35 ≦ Nz ≦ 0.60 Is preferred. The phase difference characteristic at this time is measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by AXOMETRICS, trade name: AxoScan) under a measurement wavelength of 589 nm.

これらは、従来の光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性である。   These are retardation characteristics that are difficult to develop with conventional optical compensation films.

Re=(nx−ny)×d (b)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (c)
(式中、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、450nmにおけるレターデーションと550nmにおけるレターデーションの比Re(450)/Re(550)が好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.10であり、さらに好ましくは0.70<Re(450)/Re(550)<1.02であり、特に好ましくは0.75<Re(450)/Re(550)<1.00である。
Re = (nx−ny) × d (b)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (c)
(Where nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). D indicates the film thickness.)
As the wavelength dispersion characteristic of the optical compensation film of the present invention, the ratio Re (450) / Re (550) of the retardation at 450 nm to the retardation at 550 nm is preferably 0.60 <Re (450) in order to suppress color misregistration. /Re(550)<1.10, more preferably 0.70 <Re (450) / Re (550) <1.02, and particularly preferably 0.75 <Re (450) / Re (550). ) <1.00.

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。   As a method for producing the optical compensation film of the present invention, any method may be used as long as the optical compensation film of the present invention can be produced. An optical film excellent in optical properties, heat resistance, surface properties, and the like can be obtained. Therefore, it is preferable to manufacture by a solution casting method. Here, the solution casting method is a method of obtaining an optical film by casting a resin solution (generally referred to as a dope) on a support substrate and then evaporating the solvent by heating. As a casting method, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. In general, a method of continuously extruding is used. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate. In order to industrially continuously form a substrate having high surface properties and optical homogeneity, a metal substrate having a mirror-finished surface is preferably used. In the solution casting method, the viscosity of the resin solution is an extremely important factor when producing an optical compensation film with excellent thickness accuracy and surface smoothness. The viscosity of the resin solution is the resin concentration, molecular weight, and type of solvent. It depends on.

本発明の光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては、特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100〜10000cps、さらに好ましくは300〜5000cps、特に好ましくは500〜3000cpsである。   The viscosity of the resin solution when producing the optical compensation film of the present invention can be adjusted by the molecular weight of the polymer, the concentration of the polymer, and the type of solvent. The viscosity of the resin solution is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000 cps, more preferably 300 to 5000 cps, and particularly preferably 500 to 3000 cps in order to make film coating easier.

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、一般式(1)で示される残基単位A、一般式(2)で示される残基単位Bおよび一般式(3)で示される残基単位Cを有する樹脂、ならびに正の固有複屈折を有する樹脂を含む樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。   Examples of the method for producing the optical compensation film of the present invention include a residue unit A represented by the general formula (1), a residue unit B represented by the general formula (2), and a residue represented by the general formula (3). A resin composition containing a resin having unit C and a resin having positive intrinsic birefringence is dissolved in a solvent, and the resulting resin solution is cast on a substrate, dried, and then peeled off from the substrate. .

本発明では、樹脂組成物に含まれる樹脂の濃度、樹脂の分子量、溶媒の種類、成膜乾燥温度によって面外位相差(Rth)を制御することができる。   In the present invention, the out-of-plane retardation (Rth) can be controlled by the concentration of the resin contained in the resin composition, the molecular weight of the resin, the type of solvent, and the film-forming drying temperature.

本発明の光学補償フィルムは、面内位相差(Re)を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。   The optical compensation film of the present invention is preferably uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched to develop in-plane retardation (Re). As a method for stretching the optical compensation film, it is possible to use a longitudinal uniaxial stretching method by roll stretching, a transverse uniaxial stretching method by tenter stretching, an unbalanced sequential biaxial stretching method or an unbalanced simultaneous biaxial stretching method by a combination thereof. it can. Moreover, in this invention, a phase difference characteristic can be expressed, without using the special extending | stretching method which extends | stretches under the effect | action of the shrinkage force of a heat-shrinkable film.

延伸する際のフィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、10〜200μmが好ましく、30〜150μmがさらに好ましく、30〜120μmが特に好ましい。   The thickness of the film at the time of stretching is preferably from 10 to 200 μm, more preferably from 30 to 150 μm, particularly preferably from 30 to 120 μm, from the viewpoint of ease of stretching treatment and suitability for thinning of the optical member.

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは50〜200℃、さらに好ましくは100〜180℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましく、幅方向には1.0〜1.2倍が好ましく、1.0〜1.1倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差(Re)を制御することができる。   The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., because good retardation characteristics can be obtained. The stretching ratio of uniaxial stretching is preferably 1.05 to 3.5 times, and more preferably 1.1 to 3.0 times because good retardation characteristics can be obtained. Since the stretch ratio of unbalanced biaxial stretching can provide good retardation characteristics, 1.05 to 3.5 times are preferable in the length direction, 1.1 to 3.0 times are more preferable, and the width direction 1.0 to 1.2 times is preferable, and 1.0 to 1.1 times is more preferable. The in-plane retardation (Re) can be controlled by the stretching temperature and the stretching ratio.

本発明の光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。   The optical compensation film of the present invention can be laminated with a film containing another resin as necessary. Examples of other resins include polyether sulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluorine resin, polyimide, and the like. It is also possible to laminate a hard coat layer or a gas barrier layer.

本発明の共重合体は、位相差特性に優れる光学フィルムに適した共重合体であり、特に液晶表示素子用及び有機EL用の光学補償フィルム用として適したものである。   The copolymer of the present invention is a copolymer suitable for an optical film having excellent retardation characteristics, and is particularly suitable for an optical compensation film for liquid crystal display elements and organic EL.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−ECZ400S/L1)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。また、H−NMRスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、CHN元素分析により求めた。
<Composition of copolymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-ECZ400S / L1), it was obtained by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis. Moreover, what was difficult to obtain | require by < 1 > H-NMR spectrum analysis was calculated | required by CHN elemental analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC8320GPC(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランまたはN,N―ジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレンまたは標準プルラン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (trade name HLC8320GPC (equipped with column GMHHR-H) manufactured by Tosoh Corporation) using tetrahydrofuran or N, N-dimethylformamide as a solvent at 40 ° C., standard It calculated | required as a polystyrene or a standard pullulan conversion value.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
An Abbe refractometer (manufactured by Atago) was used and measured according to JIS K 7142 (1981 version).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WPR)を用いて測定した。
<Measurement of retardation and three-dimensional refractive index of film>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

<ガラス転移温度の測定>
示差走査熱量計(SII製、商品名DSC6220)を用いて測定した。
<Measurement of glass transition temperature>
It measured using the differential scanning calorimeter (The product made by SII, brand name DSC6220).

実施例1(α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル2.84g(0.0229モル)、9−ビニルカルバゾール6.31g(0.0327モル)、アクリル酸メチル0.84g(0.0098モル)、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.20g(0.00044モル)およびテトラヒドロフラン10gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体9.1gを得た(収率:91%)。
Example 1 (Synthesis of isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer)
In a glass ampoule having a capacity of 50 mL, 2.84 g (0.0229 mol) of isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 6.31 g (0.0327 mol) of 9-vinylcarbazole, 0.84 g of methyl acrylate (0. 0098 mol), 0.25-g (0.00044 mol) of 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, which is a polymerization initiator, and 10 g of tetrahydrofuran were added, and nitrogen substitution and depressurization were performed. After repeating the above, it was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer. The compound 9.1g was obtained (yield: 91%).

得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で16,000であった。   The number average molecular weight of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer was 16,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位/9−ビニルカルバゾール残基単位/アクリル酸メチル残基単位=30/56/14(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.54、残基単位A/C=2.14)であることを確認した。 Moreover, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit / methyl acrylate residue unit = 30/56/14 ( Mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.54, residue unit A / C = 2.14).

得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体のガラス転移温度は、220℃以上であった。   The glass transition temperature of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer was 220 ° C. or higher.

実施例2(2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルに2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル2.02g(0.0098モル)、N−ビニルフタルイミド5.68g(0.0328モル)、メタクリル酸メチル2.30g(0.0230モル)、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.20g(0.00044モル)およびテトラヒドロフラン10gを入れ、を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体7.2gを得た(収率:72%)。
Example 2 (Synthesis of 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer)
In a glass ampule with a capacity of 50 mL, 2.02 g (0.0098 mol) of 2-hydroxybenzylidenemalononitrile, 5.68 g (0.0328 mol) of N-vinylphthalimide, 2.30 g (0.0230 mol) of methyl methacrylate, polymerization Add 2,0-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.20 g, 0.00044 mol) and 10 g of tetrahydrofuran as initiators, and repeat nitrogen substitution and depressurization. After that, it was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 7.2 g of 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer. Obtained (yield: 72%).

得られた2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で14,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer was 14,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位/N−ビニルフタルイミド残基単位/メタクリル酸メチル残基単位=13/51/36(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.25、残基単位A/残基単位C=0.36)であることを確認した。 The copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 2-hydroxybenzylidenemalononitrile residue unit / N-vinylphthalimide residue unit / methyl methacrylate residue unit = 13/51/36 (mol%) (residual Group unit A / residue unit B = 0.25, residue unit A / residue unit C = 0.36).

得られた2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体のガラス転移温度は、220℃以上であった。   The glass transition temperature of the obtained 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer was 220 ° C. or higher.

実施例3(α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル6.29g(0.0256モル)、N−ビニルスクシンイミド3.41g(0.0272モル)、アクリル酸2−エチルヘキシル0.30g(0.0016モル)、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.167g(0.00036モル)およびテトラヒドロフラン10gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体3.8gを得た(収率:38%)。
Example 3 (Synthesis of methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer)
Α-Cyano-4-carboxycinnamate methyl 6.29 g (0.0256 mol), N-vinylsuccinimide 3.41 g (0.0272 mol), 2-ethylhexyl acrylate 0.30 g (50 mL glass ampule) 0.0016 mol), 0.167 g (0.00036 mol) of 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, which is a polymerization initiator, and 10 g of tetrahydrofuran, and nitrogen substitution. After repeating the depressurization, it was sealed in a reduced pressure state. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 24 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate. 3.8 g of copolymer was obtained (yield: 38%).

得られたα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で10,000であった。   The number average molecular weight of the obtained methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer was 10,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位/N−ビニルスクシンイミド残基単位/アクリル酸2−エチルヘキシル残基単位=41/55/4(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.75、残基単位A/残基単位C=10.3)であることを確認した。 Further, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was α-cyano-4-carboxycinnamate methyl residue unit / N-vinylsuccinimide residue unit / 2-ethylhexyl acrylate residue unit = 41/55 / 4 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.75, residue unit A / residue unit C = 10.3).

得られたα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体のガラス転移温度は、220℃以上であった。   The glass transition temperature of the obtained methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer was 220 ° C. or higher.

実施例4(α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル1.94g(0.0157モル)、9−ビニルカルバゾール6.05g(0.0313モル)、アクリル酸イソブチル2.01g(0.0157モル)、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.192g(0.00042モル)およびテトラヒドロフラン10gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体8.6gを得た(収率:86%)。
Example 4 (Synthesis of α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer)
In a glass ampoule having a capacity of 50 mL, 1.94 g (0.0157 mol) of isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 6.05 g (0.0313 mol) of 9-vinylcarbazole, 2.01 g of isobutyl acrylate (0. 0,157 mol), 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane 0.192 g (0.00042 mol) and 10 g of tetrahydrofuran as polymerization initiators, and nitrogen substitution and depressurization After repeating the above, it was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer. The compound 8.6g was obtained (yield: 86%).

得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で14,000であった。   The number average molecular weight of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer was 14,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位/9−ビニルカルバゾール残基単位/アクリル酸イソブチル残基単位=24/51/25(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.47、残基単位A/残基単位C=0.96)であることを確認した。 Further, the copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit / isobutyl acrylate residue unit = 24/51/25 ( Mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.47, residue unit A / residue unit C = 0.96).

得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体のガラス転移温度は、190℃であった。   The glass transition temperature of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer was 190 ° C.

実施例5(4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルに4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル2.32g(0.0088モル)、N−ビニルフタルイミド5.06g(0.0292モル)、メタクリル酸プロピル2.62g(0.0205モル)、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.179g(0.00039モル)およびテトラヒドロフラン10gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、2時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体6.7gを得た(収率:67%)。
Example 5 (Synthesis of 4-hydroxybenzylidenemalonate diethyl / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate 2.32 g (0.0088 mol), N-vinylphthalimide 5.06 g (0.0292 mol), propyl methacrylate 2.62 g (0.0205 mol), After adding 0.179 g (0.00039 mol) of 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, which is a polymerization initiator, and 10 g of tetrahydrofuran, repeating nitrogen substitution and depressurization. Sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and held for 2 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to give 6.7 g of 4-hydroxybenzylidene malonate / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer. (Yield: 67%) was obtained.

得られた4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体の数平均分子量は、標準プルラン換算で21,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxybenzylidene malonate diethyl / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer was 21,000 in terms of standard pullulan.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位/N−ビニルフタルイミド残基単位/メタクリル酸プロピル残基単位=12/48/40(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.25、残基単位A/残基単位C=0.30)であることを確認した。 Moreover, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was 4-hydroxybenzylidene malonate diethyl residue unit / N-vinylphthalimide residue unit / propyl methacrylate residue unit = 12/48/40 (mol%) ( Residue unit A / residue unit B = 0.25, residue unit A / residue unit C = 0.30).

得られた4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体のガラス転移温度は、220℃以上であった。   The glass transition temperature of the obtained 4-hydroxybenzylidenemalonate diethyl / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer was 220 ° C. or higher.

合成例1(シンナモニトリル/スチレン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにシンナモニトリル5.0g(0.039モル)、スチレン4.1g(0.039モル)および重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28g(0.00065モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、シンナモニトリル/スチレン共重合体5.4gを得た(収率:59%)。
Synthesis Example 1 (Synthesis of cinnamonitrile / styrene copolymer)
In a glass ampoule having a capacity of 50 mL, 5.0 g (0.039 mol) of cinnamonitrile, 4.1 g (0.039 mol) of styrene and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethyl) which is a polymerization initiator Hexanoylperoxy) hexane (0.28 g, 0.00065 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.4 g of a cinnamonitrile / styrene copolymer (yield: 59%).

得られたシンナモニトリル/スチレン共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で46,000であった。   The number average molecular weight of the obtained cinnamonitrile / styrene copolymer was 46,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はシンナモニトリル残基単位/スチレン残基単位=27/73(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.37)であることを確認した。 Moreover, the copolymer composition is a cinnamonitrile residue unit / styrene residue unit = 27/73 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.37) by 1 H-NMR measurement. It was confirmed.

合成例2(α−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにα−シアノケイ皮酸エチル5.0g(0.025モル)、アクリル酸メチル2.2g(0.026モル)および重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18g(0.00042モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、α−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体2.5gを得た(収率:35%)。
Synthesis Example 2 (Synthesis of ethyl α-cyanocinnamate / methyl acrylate copolymer)
A glass ampoule with a capacity of 50 mL was charged with 5.0 g (0.025 mol) of ethyl α-cyanocinnamate, 2.2 g (0.026 mol) of methyl acrylate and 2,5-dimethyl-2,5-polymerization initiator. Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.18 g, 0.00042 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 2.5 g of α-ethyl cyanocinnamate / methyl acrylate copolymer (yield). : 35%).

得られたα−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で13,000であった。   The number average molecular weight of the obtained α-cyanoethyl cinnamate / methyl acrylate copolymer was 13,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はα−シアノケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸メチル残基単位=11/89(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.12)であることを確認した。 Further, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was α-cyanocinnamate ethyl residue unit / methyl acrylate residue unit = 11/89 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0. .12).

合成例3(ベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにベンザルマロノニトリル5.0g(0.032モル)、スチレン3.3g(0.032モル)および重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.23g(0.00053モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、ベンザルマロノニトリル/スチレン共重体5.8gを得た(収率:70%)。
Synthesis Example 3 (Synthesis of benzalmalononitrile / styrene copolymer)
A glass ampoule having a capacity of 50 mL was charged with 5.0 g (0.032 mol) of benzalmalononitrile, 3.3 g (0.032 mol) of styrene and 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane (0.23 g, 0.00053 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.8 g of benzalmalononitrile / styrene copolymer (yield: 70%).

得られたベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で93,000であった。   The number average molecular weight of the obtained benzalmalononitrile / styrene copolymer was 93,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はベンザルマロノニトリル残基単位/スチレン残基単位=36/64(モル%)(残基単位A/残基単位B=0.56)であることを確認した。 Further, by 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was benzalmalononitrile residue unit / styrene residue unit = 36/64 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 0.56). I confirmed that there was.

合成例4(メタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール重合体の合成)
容量50mLのガラスアンプルにメタクリル酸メチル3.4g(0.034モル)、9−ビニルカルバゾール6.6g(0.034モル)、テトラヒドロフラン4.5gおよび重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.24g(0.00052モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、メタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール共重体9.6gを得た(収率:96%)。
Synthesis Example 4 (Synthesis of methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole polymer)
In a glass ampule having a capacity of 50 mL, 3.4 g (0.034 mol) of methyl methacrylate, 6.6 g (0.034 mol) of 9-vinylcarbazole, 4.5 g of tetrahydrofuran, and 2,5-dimethyl-2 which is a polymerization initiator , 5-Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (0.24 g, 0.00052 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 60 ° C. for 10 hours to obtain 9.6 g of methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole copolymer (yield: 96% ).

得られたメタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール共重体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で10,000であった。   The number average molecular weight of the obtained methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole copolymer was 10,000 in terms of standard polystyrene.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はメタクリル酸メチル残基単位/9−ビニルカルバゾール残基単位=52/48(モル%)(残基単位A/残基単位B=1.08)であることを確認した。 The copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be a methyl methacrylate residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 52/48 (mol%) (residue unit A / residue unit B = 1.08. ) Confirmed.

得られたメタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール共重体のガラス転移温度は、148℃であった。   The resulting methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole copolymer had a glass transition temperature of 148 ° C.

実施例6
実施例1で得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体をシクロペンタノンに溶解して35重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で60分乾燥することにより、厚み10.5μmのα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 6
The isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer obtained in Example 1 was dissolved in cyclopentanone to give a 35% by weight resin solution, and a glass substrate was formed by a coater. Casting on top and drying at 100 ° C. for 60 minutes, a film using a 10.5 μm-thick α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer is obtained. It was.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.3%、屈折率1.621であった。   The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.3% and a refractive index of 1.621.

三次元屈折率は、nx=1.6159、ny=1.6159、nz=1.6326であり、得られたフィルムはnx≒ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−175nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は16.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.6159, ny = 1.6159, nz = 1.6326, and the obtained film exhibited a large value of refractive index in the thickness direction of nx≈ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −175 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 16.7 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。   When the film was measured after one month, it was a film having excellent out-of-plane retardation and excellent stability.

実施例7
実施例2で得られた2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で60分乾燥することにより、厚み9.2μmの2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 7
The 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer obtained in Example 2 was dissolved in cyclopentanone to form a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater. By drying at 100 ° C. for 60 minutes, a film using a 9.2 μm-thick 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率89%、ヘーズ0.5%、屈折率1.584であった。   The obtained film had a total light transmittance of 89%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.584.

三次元屈折率は、nx=1.5757、ny=1.5757、nz=1.6007であり、得られたフィルムはnx≒ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−230nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は25.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.5757, ny = 1.5757, and nz = 1.607, and the obtained film exhibited a large value of refractive index in the thickness direction of nx≈ny <nz. . Further, the out-of-plane phase difference Rth was as negative as −230 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 25.0 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。   When the film was measured after one month, it was a film having excellent out-of-plane retardation and excellent stability.

実施例8
実施例3で得られたα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体をシクロペンタノンに溶解して25重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み11.4μmのα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 8
The methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer obtained in Example 3 was dissolved in cyclopentanone to obtain a 25% by weight resin solution. By casting on a glass substrate and drying at 130 ° C. for 10 minutes, a 11.4 μm thick α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer is used. Film was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.4%、屈折率1.569であった。   The obtained film had a total light transmittance of 90%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.569.

三次元屈折率は、nx=1.5653、ny=1.5653、nz=1.5753であり、得られたフィルムはnx≒ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−125nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は11.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.653, ny = 1.6533, nz = 1.5753, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx≈ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −125 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 11.0 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。   When the film was measured after one month, it was a film having excellent out-of-plane retardation and excellent stability.

実施例9
実施例4で得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体を酢酸エチルに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分間乾燥することにより、厚み12.1μmのα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 9
The α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer obtained in Example 4 was dissolved in ethyl acetate to give a 30% by weight resin solution, which was coated on a glass substrate by a coater. And a film using an α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer having a thickness of 12.1 μm was obtained by drying at 100 ° C. for 10 minutes. .

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.6%、屈折率1.605であった。   The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.605.

三次元屈折率は、nx=1.5997、ny=1.5997、nz=1.6161であり、得られたフィルムはnx≒ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−198nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は16.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5997, ny = 1.5997, nz = 1.6161, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx≈ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as -198 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 16.4 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。   When the film was measured after one month, it was a film having excellent out-of-plane retardation and excellent stability.

実施例10
実施例5で得られた4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体を酢酸ブチルに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、80℃で1時間乾燥することにより、厚み9.8μmの4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 10
The 4-hydroxybenzylidenemalonate diethyl / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer obtained in Example 5 was dissolved in butyl acetate to give a 20% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate by a coater. By drying at 80 ° C. for 1 hour, a film using a 9.8 μm thick 4-hydroxybenzylidene malonate diethyl / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率89%、ヘーズ0.5%、屈折率1.569であった。   The obtained film had a total light transmittance of 89%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.569.

三次元屈折率は、nx=1.5636、ny=1.5636、nz=1.5792であり、得られたフィルムはnx≒ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−152nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は15.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5636, ny = 1.5636, nz = 1.5792, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx≈ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −152 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 15.5 nm / film thickness (μm).

1か月後に同フィルムの測定をしたところ、面外位相差を維持しており、安定性に優れたフィルムであった。   When the film was measured after one month, it was a film having excellent out-of-plane retardation and excellent stability.

実施例11(α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの作製)
実施例1で得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)8.0gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後155℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:80重量%、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸メチル共重合体:20重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、155℃で1.5倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 11 (Production of Optical Compensation Film Using Resin Composition Containing α-Cyano-4-hydroxycinnamate Isobutyl / 9-Vinylcarbazole / Methyl Acrylate Copolymer)
2.0 g of α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazole / methyl acrylate copolymer obtained in Example 1 and ethyl cellulose (made by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence ETHOCEL standard 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 8.0 g was toluene / ethyl acetate = 4 / After dissolving in 6 (weight ratio) solution to give a 15% by weight resin solution and pouring on a polyethylene terephthalate film with a coater and drying in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and 155 ° C., a film with a width of 150 mm is obtained. (Ethylcellulose: 80% by weight, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazo And methyl acrylate copolymer: 20% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 155 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2019172867
Figure 2019172867

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例12(2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの作製)
実施例2で得られた2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後160℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、2−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸メチル共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、145℃で1.8倍に一軸延伸した(延伸後の厚み60μm)。
Example 12 (Preparation of optical compensation film using resin composition containing 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer)
2.0 g of 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / methyl methacrylate copolymer obtained in Example 2 and ethyl cellulose (ETHOCEL standard manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence ) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g in toluene / ethyl acetate = 4/6 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved and poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 40 ° C. and two stages at 160 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 83% by weight) 2-hydroxybenzylidenemalononitrile / N-vinylphthalimide / Methacrylic acid methyl copolymer: 17 wt%). The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.8 times at 145 ° C. (thickness after stretching 60 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例13(α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの作製)
実施例3で得られたα−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体3.5g、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート(分子量Mn=75,000、アセチル基=5モル%、プロピオニル基=80モル%、全置換度DS=2.55)10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:74重量%、α−シアノ−4−カルボキシケイ皮酸メチル/N−ビニルスクシンイミド/アクリル酸2−エチルヘキシル共重合体:26重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.7倍に一軸延伸した(延伸後の厚み55μm)。
Example 13 (Preparation of optical compensation film using resin composition containing methyl α-cyano-4-carboxycinnamate / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer)
3.5 g of α-cyano-4-carboxycinnamate methyl / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer obtained in Example 3 and cellulose acetate propionate as a resin having positive intrinsic birefringence (Molecular weight Mn = 75,000, acetyl group = 5 mol%, propionyl group = 80 mol%, total substitution degree DS = 2.55) 10 g was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution to obtain 15 It was made into a weight% resin solution, poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then at 150 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 74% by weight, α-cyano -4-Carboxycinnamate methyl / N-vinylsuccinimide / 2-ethylhexyl acrylate copolymer: 2 6% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.7 times at 140 ° C. (thickness after stretching 55 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例14(α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの作製)
実施例4で得られたα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体2.5g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)7.5gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後160℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:75重量%、α−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール/アクリル酸イソブチル共重合体:25重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、155℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み45μm)。
Example 14 (Production of optical compensation film using resin composition containing α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer)
2.5 g of α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinylcarbazole / isobutyl acrylate copolymer obtained in Example 4 and ethyl cellulose (made by Dow Chemical Company) as a resin having positive intrinsic birefringence ETHOCEL standard 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 7.5 g of toluene / ethyl acetate = 6 / After dissolving in a 4 (weight ratio) solution to give a 15% by weight resin solution, it was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and 160 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm. (Ethyl cellulose: 75% by weight, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate / 9-vinyl cal Vazole / isobutyl acrylate copolymer: 25% by weight). The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 155 ° C. (thickness after stretching: 45 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例15(4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの作製)
実施例5で得られた4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後160℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル/N−ビニルフタルイミド/メタクリル酸プロピル共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、150℃で1.7倍に一軸延伸した(延伸後の厚み55μm)。
Example 15 (Production of optical compensation film using resin composition containing diethyl 4-hydroxybenzylidenemalonate / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer)
2.0 g of 4-hydroxybenzylidenemalonate / N-vinylphthalimide / propyl methacrylate copolymer obtained in Example 5 and ethyl cellulose (ETHOCEL manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence standard) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g in toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved into a polyethylene terephthalate film using a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and 160 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight). %, 4-hydroxybenzylidene malonate diethyl / N-vinylphthaly De / propyl methacrylate copolymer: 17 wt%). The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.7 times at 150 ° C. (thickness after stretching 55 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

比較例1
合成例1で得られたシンナモニトリル/スチレン共重合体をメチルエチルケトンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、60℃で60分乾燥することにより、厚み12.5μmのフィルムを得た。
Comparative Example 1
The cinnamonitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in methyl ethyl ketone to form a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a thickness. A film of 12.5 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.5%、屈折率1.604であった。   The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.604.

三次元屈折率は、nx=1.6021、ny=1.6021、nz=1.6065であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−55nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.4nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.6021, ny = 1.6021, nz = 1.6605, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −55 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 4.4 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small and the thin film was inferior in retardation characteristics.

比較例2
合成例2で得られたα−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み9.5μmのフィルムを得た。
Comparative Example 2
The α-cyanocyanocinnamate / methyl acrylate copolymer obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in cyclopentanone to give a 30% by weight resin solution, which was cast on a glass substrate with a coater, and 10% at 100 ° C. A film having a thickness of 9.5 μm was obtained by partial drying.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.3%、屈折率1.597であった。   The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.3%, and a refractive index of 1.597.

三次元屈折率は、nx=1.5951、ny=1.5951、nz=1.6001であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−48nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も5.0nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.951, ny = 1.951, nz = 1.6001, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −48 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 5.0 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small and the thin film was inferior in retardation characteristics.

比較例3
合成例3で得られたベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体をメチルエチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み9.1μmのフィルムを得た。
Comparative Example 3
By dissolving the benzalmalononitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 3 in methyl ethyl ketone to form a 20% by weight resin solution, casting it on a glass substrate with a coater, and drying at 100 ° C. for 10 minutes, A film having a thickness of 9.1 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率88%、ヘーズ0.5%、屈折率1.623であった。   The obtained film had a total light transmittance of 88%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.623.

三次元屈折率は、nx=1.6213、ny=1.6213、nz=1.6270であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−52nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も5.7nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.6213, ny = 1.6213, nz = 1.6270, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −52 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 5.7 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small and the thin film was inferior in retardation characteristics.

比較例4
合成例4で得られたメタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール重合体をシクロペンタノンに溶解して30重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み10.3μmのフィルムを得た。
Comparative Example 4
The methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole polymer obtained in Synthesis Example 4 is dissolved in cyclopentanone to give a 30% by weight resin solution, cast on a glass substrate with a coater, and dried at 130 ° C. for 10 minutes. As a result, a film having a thickness of 10.3 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.4%、屈折率1.562であった。   The obtained film had a total light transmittance of 90%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.562.

三次元屈折率は、nx=1.5610、ny=1.5610、nz=1.5651であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が小さい値を示すものであったり、面外位相差Rthは−43nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も4.2nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5610, ny = 1.5610, nz = 1.5651, and the obtained film has a small refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. The out-of-plane retardation Rth was as small as −43 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 4.2 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が小さく、面外位相差が小さく、薄膜において位相差特性に劣るものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence, the refractive index in the thickness direction was small, the out-of-plane retardation was small, and the retardation property was inferior in the thin film.

比較例5
ポリ(9−ビニルカルバゾール)(数平均分子量264,000、東京化成製)をシクロペンタノンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりガラス基板上に流延し、100℃で10分乾燥することにより、厚み13.2μmのポリ(9−ビニルカルバゾール)を用いたフィルムを得た。
Comparative Example 5
Poly (9-vinylcarbazole) (number average molecular weight 264,000, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) is dissolved in cyclopentanone to form a 15% by weight resin solution, which is cast on a glass substrate with a coater, and at 100 ° C. for 10 minutes. By drying, a film using poly (9-vinylcarbazole) having a thickness of 13.2 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率87%、ヘーズ0.6%、屈折率1.685であった。   The obtained film had a total light transmittance of 87%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.685.

三次元屈折率は、nx=1.6785、ny=1.6785、nz=1.6990であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−271nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は20.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.6785, ny = 1.6785, nz = 1.6990, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −271 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 20.5 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有していた。しかし、5日後に再度同フィルムの測定をしたところ、三次元屈折率は、nx=1.6849、ny=1.6849、nz=1.6866であり、nx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−22nm、面外位相差の絶対値と膜厚の比は1.7nm/フィルム膜厚(μm)と大きく低下しており、安定性に難があるため位相差フィルムに適したものではなかった。   From these results, the obtained film had a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. However, when the same film was measured again after 5 days, the three-dimensional refractive index was nx = 1.6849, ny = 1.68849, nz = 1.6866, and nx = ny <nz and the film thickness direction. The out-of-plane retardation Rth was −22 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was greatly reduced to 1.7 nm / film thickness (μm). In addition, because of the difficulty in stability, it was not suitable for a retardation film.

比較例6
合成例1で得られたシンナモニトリル/スチレン共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後160℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、シンナモニトリル/スチレン共重合体:17重量%)。
Comparative Example 6
2.0 g of cinnamonitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 1, ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence, molecular weight Mn = 55,000, 10 g of molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) is dissolved in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution to obtain a 15% by weight resin solution. The film was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then at 160 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight, cinnamonitrile / styrene copolymer: 17% by weight).

得られたフィルムは光線透過率58%、ヘーズ89%であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。   The obtained film had a light transmittance of 58% and a haze of 89%, was inferior in optical properties, and was not suitable for a retardation film.

比較例7
合成例2で得られたα−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、α−シアノケイ皮酸エチル/アクリル酸メチル共重合体:17重量%)。
Comparative Example 7
2.0 g of the α-cyanoethyl cinnamate / methyl acrylate copolymer obtained in Synthesis Example 2, ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co.) as the resin having positive intrinsic birefringence, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g was dissolved in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution to give 15 weight. % Resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then at 150 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight, α-cyanosilicate skin Ethyl acetate / methyl acrylate copolymer: 17% by weight).

得られたフィルムは光線透過率36%、ヘーズ72%であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。   The obtained film had a light transmittance of 36% and a haze of 72%, was inferior in optical properties, and was not suitable for a retardation film.

比較例8
合成例3で得られたベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート(分子量Mn=75,000、アセチル基=5モル%、プロピオニル基=80モル%、全置換度DS=2.55)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、ベンザルマロノニトリル/スチレン共重合体:17重量%)。
Comparative Example 8
2.0 g of benzalmalononitrile / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 3, cellulose acetate propionate (molecular weight Mn = 75,000, acetyl group = 5 mol%, propionyl) as a resin having positive intrinsic birefringence Group = 80 mol%, total substitution degree DS = 2.55) 10 g was dissolved in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution to form a 15 wt% resin solution, which was then poured onto a polyethylene terephthalate film by a coater. After drying at a drying temperature of 40 ° C. and two steps at 150 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 83 wt%, benzalmalononitrile / styrene copolymer: 17 wt%).

得られたフィルムは光線透過率62%、ヘーズ91%であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。   The obtained film had a light transmittance of 62% and a haze of 91%, was inferior in optical properties, and was not suitable for a retardation film.

比較例9
合成例4で得られたメタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、メタクリル酸メチル/9−ビニルカルバゾール共重合体:17重量%)。
Comparative Example 9
2.0 g of the methyl methacrylate / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Synthesis Example 4, ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company) as a resin having positive intrinsic birefringence, molecular weight Mn = 55 , 1,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g was dissolved in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution to obtain 15 wt% A resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then at 150 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight, methyl methacrylate / 9- Vinylcarbazole copolymer: 17% by weight).

得られたフィルムは光線透過率45%、ヘーズ66%であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。   The obtained film had a light transmittance of 45% and a haze of 66%, inferior optical properties, and was not suitable for a retardation film.

Claims (11)

一般式(1)で表される残基単位A、一般式(2)で表される残基単位Bおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含むことを特徴とする共重合体。
Figure 2019172867
(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
Figure 2019172867
(ここで、Rはヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基もしくは6員環残基を示し(ただし、Rがヘテロ原子を含まない6員環残基のとき、一般式(1)におけるR〜Rのいずれか1以上がヒドロキシ基を示す。)、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基、前記5員環残基、および前記6員環残基は縮合環構造を形成してもよい。)
Figure 2019172867
(ここで、R、R10はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
Residue unit A represented by general formula (1), residue unit B represented by general formula (2) and residue unit C represented by general formula (3) Coalescence.
Figure 2019172867
(Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 each independently represents 1 carbon atom) 12 linear alkyl group, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, X 4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms R 3 to R 7 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro , A cyano group, an alkoxy group (-OX 5), an ester group (-C (= O) OX 6 ), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8)), an acyl group (-C (═O) X 9 ), an amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or a sulfonic acid group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent 1 carbon atom) Represents a linear alkyl group having ˜12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 12 are each independently hydrogen, 1 to 12 carbon atoms. A straight-chain alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.), Wherein at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group or a carboxy group It is shown. in addition, R 3 to R 7 may form a fused ring structure adjacent substituents It may be.)
Figure 2019172867
(Here, R 8 represents an m-membered heterocyclic residue containing one or more heteroatoms, or a 5-membered or 6-membered ring residue not containing a heteroatom (provided that R 8 contains a heteroatom) In the case of no 6-membered ring residue, at least one of R 3 to R 7 in the general formula (1) represents a hydroxy group.), M represents an integer of 5 to 10. The m-membered ring heterocyclic residue The group, the 5-membered ring residue, and the 6-membered ring residue may form a condensed ring structure.)
Figure 2019172867
(Here, R 9 and R 10 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. Show.)
およびRがそれぞれ独立してシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択されることを特徴とする請求項1に記載の共重合体。 The copolymer according to claim 1, wherein R 1 and R 2 are each independently selected from the group consisting of a cyano group, an ester group, an amide group, and an acyl group. 一般式(1)で表される残基単位Aおよび一般式(3)で表される残基単位Cを含み、さらに残基単位Bが、一般式(4)および/または一般式(5)で表される残基単位であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の共重合体。
Figure 2019172867
(ここで、R11〜R18はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX13)、エステル基(−C(=O)OX14または−CO(=O)−X15)、アミド基(−C(=O)N(X16)(X17)または−NX18C(=O)X19)、アシル基(−C(=O)X20)またはアミノ基(−N(X21)(X22))(ここで、X13〜X15は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X16〜X22は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R11〜R18は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R11とR117およびR12とR18は同一原子であって環構造を形成していてもよい。)
Figure 2019172867
(ここで、R19〜R22はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(−OX23)、エステル基(−C(=O)OX24または−CO(=O)−X25)、アミド基(−C(=O)N(X26)(X27)または−NX28C(=O)X29)、アシル基(−C(=O)X30)またはアミノ基(−N(X31)(X32))(ここで、X23〜X25は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X26〜X32は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R19〜R22は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R19とR20およびR2122は同一原子であって環構造を形成していてもよい。)
Residue unit A represented by general formula (1) and residue unit C represented by general formula (3) are further included, and residue unit B is further represented by general formula (4) and / or general formula (5). The copolymer according to claim 1, wherein the copolymer is a residue unit represented by the formula:
Figure 2019172867
(Here, R 11 to R 18 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, A cyano group, a nitro group, a hydroxy group, a carboxy group, a thiol group, an alkoxy group (—OX 13 ), an ester group (—C (═O) OX 14 or —CO (═O) —X 15 ), an amide group (— C (═O) N (X 16 ) (X 17 ) or —NX 18 C (═O) X 19 ), acyl group (—C (═O) X 20 ) or amino group (—N (X 21 ) ( X 22 )) (where X 13 to X 15 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. X 16 to X 22 each independently represent hydrogen or carbon number A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.), And R 11 to R 18 are adjacent to each other. And a condensed ring structure may be formed, and R 11 and R 117 and R 12 and R 18 may be the same atom to form a ring structure.)
Figure 2019172867
(Here, R 19 to R 22 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, thiol group, alkoxy group (—OX 23 ), ester group (—C (═O) OX 24 or —CO (═O) —X 25 ), amide group (— C (═O) N (X 26 ) (X 27 ) or —NX 28 C (═O) X 29 ), acyl group (—C (═O) X 30 ) or amino group (—N (X 31 ) ( X 32 )) (where X 23 to X 25 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. X 26 to X 32 each independently represent hydrogen or carbon number. A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 19 to R 22 are adjacent to each other. And a condensed ring structure may be formed, and R 19 and R 20 and R 21 and 22 may be the same atom to form a ring structure.)
一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(2)で表される残基単位Bのモル比A/Bが0.05〜6の範囲であり、一般式(1)で表される残基単位Aと一般式(3)で表される残基単位Cのモル比A/Cが0.02〜50の範囲であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の共重合体。 The molar ratio A / B of the residue unit A represented by the general formula (1) and the residue unit B represented by the general formula (2) is in the range of 0.05 to 6, and the general formula (1) The molar ratio A / C of the residue unit A and the residue unit C represented by the general formula (3) is in the range of 0.02 to 50. The copolymer in any one. 残基単位Bが一般式(4)以外の残基単位Bであるときの標準ポリスチレン換算または残基単位Bが一般式(4)で表される残基単位であるときの標準プルラン換算の数平均分子量が3,000〜500,000であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の共重合体。 Standard polystyrene conversion when the residue unit B is a residue unit B other than the general formula (4) or standard pullulan conversion number when the residue unit B is a residue unit represented by the general formula (4) The copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the average molecular weight is 3,000 to 500,000. ガラス転移温度が150℃以上であることを特徴とする請求項1〜請求項5にいずれかに記載の共重合体。 The copolymer according to any one of claims 1 to 5, wherein the glass transition temperature is 150 ° C or higher. 一般式(6)で表される単量体を用いて重合することを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載の共重合体の製造方法。
Figure 2019172867
(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Xは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X))、アシル基(−C(=O)X)、アミノ基(−N(X10)(X11))、またはスルホン酸基(−SOOX12)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、X〜X12はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)を示し、少なくともR〜Rの1以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
The method for producing a copolymer according to any one of claims 1 to 6, wherein polymerization is performed using a monomer represented by the general formula (6).
Figure 2019172867
(Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 )), or an acyl group (—C (═O) X 4 ) (where X 1 to X 3 each independently represents 1 carbon atom) 12 linear alkyl group, branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, X 4 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms R 3 to R 7 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro , A cyano group, an alkoxy group (-OX 5), an ester group (-C (= O) OX 6 ), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8)), an acyl group (-C (═O) X 9 ), an amino group (—N (X 10 ) (X 11 )), or a sulfonic acid group (—SOOX 12 ) (where X 5 to X 8 each independently represent 1 carbon atom) Represents a linear alkyl group having ˜12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and X 9 to X 12 are each independently hydrogen, 1 to 12 carbon atoms. A straight-chain alkyl group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.), Wherein at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group or a carboxy group It is shown. in addition, R 3 to R 7 may form a fused ring structure adjacent substituents It may be.)
請求項1〜請求項6のいずれかに記載の共重合体を含んでなることを特徴とする光学フィルム。 An optical film comprising the copolymer according to any one of claims 1 to 6. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzであることを特徴とする請求項8に記載の光学フィルムを用いた位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction perpendicular thereto is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx≈ny <nz. A retardation film using the optical film according to claim 8. 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の共重合体、および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。 A resin composition comprising the copolymer according to claim 1 and a resin having positive intrinsic birefringence. 請求項10に記載の樹脂組成物を用いてなり、下記式(b)で示される面内位相差(Re)が50〜500nmで、下記式(c)で示されるNz係数が0≦Nz≦1.1であり、かつ、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が0.60<Re(450)/Re(550)<1.10であることを特徴とする光学補償フィルム。
Re=(nx−ny)×d (b)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (c)
(式中、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
An in-plane retardation (Re) represented by the following formula (b) is 50 to 500 nm, and an Nz coefficient represented by the following formula (c) is 0 ≦ Nz ≦. 1.1, and the ratio Re (450) / Re (550) of the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 450 nm to the in-plane retardation (Re) at a light wavelength of 550 nm is 0.60 <Re An optical compensation film, wherein (450) / Re (550) <1.10.
Re = (nx−ny) × d (b)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (c)
(Where nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). D indicates the film thickness.)
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