JP2017165794A - Resin composition and optical compensation film prepared therewith - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having excellent phase difference properties and an optical compensation film prepared therewith.SOLUTION: The present invention provides a resin composition comprising a cellulose resin 30-85 wt.%, a fumarate-cinnamate copolymer resin 5-65 wt.%, and a phosphorous compound represented by formula (1) and/or formula (2) 1-20 wt.%.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、位相差特性に優れた液晶ディスプレイ用に好適な樹脂組成物、およびそれを用いた光学補償フィルムに関する。   The present invention relates to a resin composition and an optical compensation film using the same, and more particularly to a resin composition suitable for a liquid crystal display excellent in retardation characteristics and an optical compensation film using the same.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。   Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including cellular phones, computer monitors, laptop computers, and televisions. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, the optical compensation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely.

液晶ディスプレイには、垂直配向型(VA−LCD)、面内配向型液晶(IPS−LCD)、スーパーツイストネマチック型液晶(STN−LCD)、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。   There are many liquid crystal displays such as vertical alignment type (VA-LCD), in-plane alignment type liquid crystal (IPS-LCD), super twist nematic type liquid crystal (STN-LCD), reflection type liquid crystal display, and transflective type liquid crystal display. There is a method, and an optical compensation film suitable for the display is required.

従来の光学補償フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロースフィルムなどのセルロース系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコールとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。   As a conventional optical compensation film, a stretched film made of cellulose resin, polycarbonate, cyclic polyolefin, or the like is used. In particular, a film made of a cellulose-based resin such as a triacetyl cellulose film is widely used because it has good adhesion to polyvinyl alcohol as a polarizer.

しかしながら、セルロース系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロース系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロース系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの3次元屈折率は、nx≧ny>nzであり、それ以外の3次元屈折率、例えば、nx>nz>nyや、nx=nz>nyなどの3次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり、屈折率(位相差値)の制御も困難である(例えば、特許文献1〜3参照)。   However, an optical compensation film made of a cellulose resin has several problems. For example, a cellulose resin film is processed into an optical compensation film having retardation values suitable for various displays by adjusting stretching conditions, but the three-dimensional film obtained by uniaxial or biaxial stretching of the cellulose resin film. In order to produce an optical compensation film having a refractive index of nx ≧ ny> nz and other three-dimensional refractive indexes, for example, a three-dimensional refractive index such as nx> nz> ny or nx = nz> ny. Requires a special stretching method such as bonding a heat-shrinkable film to one or both sides of the film, heat-stretching the laminate, and applying a shrinkage force in the thickness direction of the polymer film, and a refractive index ( It is also difficult to control the phase difference value (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

ここで、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示す。   Here, nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). .

また、セルロース系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロース系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に40nm程度の面外位相差(Rth)を有するため、IPSモードの液晶ディスプレイなどではカラーシフトが起こるなどの問題がある。ここで、面外位相差(Rth)は以下の式で示される位相差値である。   Cellulosic resin films are generally produced by a solvent casting method. Since a cellulose resin film formed by a casting method has an out-of-plane retardation (Rth) of about 40 nm in the film thickness direction, IPS mode liquid crystal There are problems such as color shift in displays. Here, the out-of-plane phase difference (Rth) is a phase difference value represented by the following equation.

Rth=[(nx+ny)/2−nz]×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献4参照)。
Rth = [(nx + ny) / 2−nz] × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, nz is the refractive index outside the film plane (thickness direction), d Indicates film thickness.)
Moreover, the retardation film which consists of a fumarate-type resin is proposed (for example, refer patent document 4).

しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの3次元屈折率は、nz>ny>nxであり、nx>nz>nyや、nx=nz>nyなどの3次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。   However, the stretched film made of a fumarate ester resin has a three-dimensional refractive index of nz> ny> nx, and an optical compensation film having a three-dimensional refractive index such as nx> nz> ny or nx = nz> ny. In order to obtain it, lamination with another optical compensation film or the like is necessary.

そこで、上記3次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている(例えば、特許文献5〜特許文献7参照)。   Then, as an optical compensation film which shows the said three-dimensional refractive index, the resin composition and the optical compensation film using the same are proposed (for example, refer patent document 5-patent document 7).

特許文献5〜特許文献7は上記3次元屈折率を示すものの、上記3次元屈折率を示し、かつ、位相差の発現が大きくより薄膜な光学補償フィルムが求められている。   Although Patent Documents 5 to 7 show the above-mentioned three-dimensional refractive index, there is a demand for an optical compensation film that exhibits the above-mentioned three-dimensional refractive index and has a large retardation and a thinner film.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開2008−64817号公報JP 2008-64817 A 特開2013−28741号公報JP 2013-28741 A 特開2014−125609号公報JP 2014-125609 A 特開2014−125610号公報JP 2014-125610 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相差特性に優れた樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムを提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said subject, The objective is to provide the resin composition excellent in retardation characteristics, and an optical compensation film using the same.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムが、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an optical compensation film using a specific resin composition can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、セルロース系樹脂30〜85重量%、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂5〜65重量%、ならびに下記一般式(1)で示されるリン系化合物および/または下記一般式(2)で示されるリン系化合物1〜20重量%を含有する樹脂組成物、ならびにそれを用いた光学補償フィルムである。   That is, the present invention relates to a cellulose resin of 30 to 85% by weight, a fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin containing 5 to 65% by weight of a fumaric acid ester residue unit and a cinnamic acid ester residue unit, and A resin composition containing 1 to 20% by weight of a phosphorus compound represented by the general formula (1) and / or a phosphorus compound represented by the following general formula (2), and an optical compensation film using the resin composition.

Figure 2017165794
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(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。) (Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a phenyl group or a cumyl group.)

Figure 2017165794
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(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。)
以下、本発明について詳細に説明する。
(In the formula, R 4 , R 5 and R 6 each independently represents hydrogen or an alkyl group.)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の樹脂組成物は、セルロース系樹脂30〜85重量%、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂5〜65重量%、ならびに下記一般式(1)で示されるリン系化合物および/または下記一般式(2)で示されるリン系化合物1〜20重量%を含有する。   The resin composition of the present invention comprises a cellulose resin 30 to 85% by weight, a fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin 5 to 65% by weight containing a fumaric acid ester residue unit and a cinnamic acid ester residue unit, And 1 to 20% by weight of a phosphorus compound represented by the following general formula (1) and / or a phosphorus compound represented by the following general formula (2).

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。) (Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a phenyl group or a cumyl group.)

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。)
本発明の樹脂組成物はセルロース系樹脂とフマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂とを含有することにより、光学補償フィルムとして用いる際に該光学補償フィルムがnx>nz>nyや、nx=nz>nyなどの3次元屈折率を示すものである。
(In the formula, R 4 , R 5 and R 6 each independently represents hydrogen or an alkyl group.)
The resin composition of the present invention contains a cellulose resin and a fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin containing a fumaric acid ester residue unit and a cinnamic acid ester residue unit, thereby being used as an optical compensation film. In this case, the optical compensation film exhibits a three-dimensional refractive index such as nx>nz> ny and nx = nz> ny.

本発明において、セルロース系樹脂としては特に制限はないが、光学補償フィルムとした際にフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂との相溶性により優れ、かつ面内位相差Reが大きく、更に延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式(3)で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。   In the present invention, the cellulose-based resin is not particularly limited, but when used as an optical compensation film, it is excellent in compatibility with a fumarate-cinnamate copolymer resin and has a large in-plane retardation Re. Since it becomes what is excellent in extending | stretching workability, it is preferable that it is a cellulose resin shown by following General formula (3).

Figure 2017165794
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(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素または炭素数1〜10の置換基を示す。)
ここで、一般式(3)で示されるセルロース系樹脂は、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の2位、3位および6位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。
(In formula, R < 7 >, R <8> , R < 9 > shows hydrogen or a C1-C10 substituent each independently.)
Here, the cellulose resin represented by the general formula (3) is a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and part or all of hydroxyl groups at the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose unit. Is a polymer substituted.

一般式(3)で示されるセルロース系樹脂は、溶解性、相溶性の点から、水素または炭素数1〜10の置換基を有するものである。炭素数1〜10の置換基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、イソブチリル基、t−ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシロキシ基、オクチロキシ基、デカノキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、シクロヘキロキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基、ナフトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、シアノエチル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、アミノエチル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。   The cellulose resin represented by the general formula (3) has hydrogen or a substituent having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of solubility and compatibility. Examples of the substituent having 1 to 10 carbon atoms include acetyl group, propionyl group, butyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, octanoyl group, decanoyl group, isobutyryl group, t-butyryl group, cyclohexanoyl group, Benzoyl, naphthoyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy, octyloxy, decanoxy, isobutoxy, t-butoxy, cyclohexoxy, phenoxy, benzyloxy, naphthoxy, hydroxymethyl Group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, hydroxybutyl group, cyanoethyl group, carboxymethyl group, carboxyethyl group, aminoethyl group and the like. Among these, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a methoxy group, and an ethoxy group are preferable because the solubility and compatibility are further improved.

本発明のセルロース系樹脂における置換基は1種類だけでもよいし、2種類以上の置換基を有していてもよい。   The cellulose-based resin of the present invention may have only one type of substituent, or may have two or more types of substituents.

本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、2位、3位および6位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合(100%の置換は置換度3)を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは1.5〜3.0であり、さらに好ましくは1.8〜2.8である。   The substitution degree of substitution through the oxygen atom of the hydroxyl group of cellulose in the cellulose resin of the present invention is the ratio of substitution of the hydroxyl group of cellulose for each of the 2-position, 3-position and 6-position (100% substitution) Means the degree of substitution 3), and the degree of substitution is preferably 1.5 to 3.0, more preferably 1.8 to 2.8 from the viewpoint of solubility, compatibility and stretch processability. .

具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。   Specific examples of the cellulose resin of the present invention include methyl cellulose, ethyl cellulose, triacetyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and the like. Since a compensation film is obtained, ethyl cellulose, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable.

本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×10〜1×10であることが好ましく、5×10〜2×10であることがさらに好ましい。 Since the cellulose resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The converted number average molecular weight (Mn) is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 6 , more preferably 5 × 10 3 to 2 × 10 5 .

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂は、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むものである。本発明において、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂がフマル酸エステル残基単位を含まないとき、セルロース系樹脂との相溶性に劣るものとなり、ケイ皮酸エステル残基単位を含まないとき、位相差特性に劣るものとなる。   The fumaric acid ester-cinnamate copolymer resin of the present invention includes a fumaric acid ester residue unit and a cinnamic acid ester residue unit. In the present invention, when the fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin does not contain a fumaric acid ester residue unit, the compatibility with the cellulosic resin is inferior and does not contain a cinnamic acid ester residue unit. The phase difference characteristics are inferior.

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂はフマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むものであれば特に制限がないが、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られるため、下記一般式(4)で示されるフマル酸ジエステル残基単位1〜65モル%、下記一般式(5)で示されるフマル酸モノエステル残基単位1〜30モル%および下記一般式(6)で示されるケイ皮酸エステル残基単位98〜5モル%を含むものであることが好ましい。   The fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin of the present invention is not particularly limited as long as it contains a fumaric acid ester residue unit and a cinnamic acid ester residue unit, but is excellent in retardation characteristics and transparency. Since an optical compensation film is obtained, 1 to 65 mol% of a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4), 1 to 30 mol% of a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (5) And it is preferable that the cinnamate ester unit represented by the following general formula (6) contains 98 to 5 mol%.

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R10、R11はそれぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基を示す。) (In formula, R < 10 >, R < 11 > shows a C1-C12 alkyl group each independently.)

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R12は炭素数1〜12のアルキル基を示す。) (In the formula, R 12 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R13、R14はそれぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基を示す。)
一般式(4)におけるフマル酸ジエステル残基単位のR10、R11はそれぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
(In formula, R < 13 >, R < 14 > shows a C1-C12 alkyl group each independently.)
R 10 and R 11 of the fumaric acid diester residue unit in the general formula (4) are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n- Examples include butyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. It is done.

具体的な一般式(4)で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジ−n−プロピル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−n−ブチル残基、フマル酸ジ−s−ブチル残基、フマル酸ジ−t−ブチル残基、フマル酸ジ−n−ペンチル残基、フマル酸ジ−s−ペンチル残基、フマル酸ジ−t−ペンチル残基、フマル酸ジ−n−ヘキシル残基、フマル酸ジ−s−ヘキシル残基、フマル酸ジ−t−ヘキシル残基、フマル酸ジ−2−エチルヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−t−ブチル残基が好ましい。   Specific examples of the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (4) include dimethyl fumarate residue, diethyl fumarate residue, di-n-propyl fumarate residue, diisopropyl fumarate residue, Di-n-butyl fumarate residue, di-s-butyl fumarate residue, di-t-butyl fumarate residue, di-n-pentyl fumarate residue, di-s-pentyl fumarate residue, Di-t-pentyl fumarate residue, di-n-hexyl fumarate residue, di-s-hexyl fumarate residue, di-t-hexyl fumarate residue, di-2-ethylhexyl fumarate, fumaric acid Examples include dicyclopropyl residue, dicyclopentyl fumarate residue, dicyclohexyl fumarate residue and the like. Of these, diethyl fumarate residue, diisopropyl fumarate residue, and di-t-butyl fumarate residue are preferable because of excellent compatibility and retardation characteristics.

一般式(5)におけるフマル酸モノエステル残基単位のR12は炭素数1〜12のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 12 of the fumaric acid monoester residue unit in the general formula (5) is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl. Group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

具体的な一般式(5)で示されるフマル酸モノエステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノ−n−プロピル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ−n−ブチル残基、フマル酸モノ−s−ブチル残基、フマル酸モノ−t−ブチル残基、フマル酸モノ−n−ペンチル残基、フマル酸モノ−s−ペンチル残基、フマル酸モノ−t−ペンチル残基、フマル酸モノ−n−ヘキシル残基、フマル酸モノ−s−ヘキシル残基、フマル酸モノ−t−ヘキシル残基、フマル酸モノ−2−エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル残基、フマル酸モノシクロペンチル残基、フマル酸モノシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ−n−プロピル残基、フマル酸モノ−n−ブチル残基、フマル酸モノ−2−エチルヘキシル残基が好ましい。   Specific examples of the fumaric acid monoester residue unit represented by the general formula (5) include a monomethyl fumarate residue, a monoethyl fumarate residue, a mono-n-propyl fumarate residue, and a monoisopropyl fumarate residue. Group, mono-n-butyl fumarate residue, mono-s-butyl fumarate residue, mono-t-butyl fumarate residue, mono-n-pentyl fumarate residue, mono-s-pentyl fumarate residue Group, mono-t-pentyl fumarate residue, mono-n-hexyl fumarate residue, mono-s-hexyl fumarate residue, mono-t-hexyl fumarate residue, mono-2-ethylhexyl fumarate, Examples thereof include a monocyclopropyl fumarate residue, a monocyclopentyl fumarate residue, a monocyclohexyl fumarate residue and the like. Among these, since it is excellent in compatibility and retardation characteristics, monoethyl fumarate residue, monoisopropyl fumarate residue, mono-n-propyl fumarate residue, mono-n-butyl fumarate residue, fumaric acid Mono-2-ethylhexyl residues are preferred.

一般式(6)におけるケイ皮酸エステル残基単位のR13、R14は炭素数1〜12のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 13 and R 14 in the cinnamic acid ester residue unit in the general formula (6) are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, Examples thereof include s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

具体的な一般式(6)で示されるケイ皮酸エステル残基としては、例えば、4-メトキシケイ皮酸メチル残基、4-メトキシケイ皮酸エチル残基、4-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-メトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-メトキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-エトキシケイ皮酸メチル残基、4-エトキシケイ皮酸エチル残基、4-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-エトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-エトキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-イソプロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-n‐プロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-n‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-sec‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、4-tert‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-メトキシケイ皮酸メチル残基、3-メトキシケイ皮酸エチル残基、3-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-メトキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-メトキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-エトキシケイ皮酸メチル残基、3-エトキシケイ皮酸エチル残基、3-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-エトキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-エトキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-イソプロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-n‐プロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-n‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-sec‐ブトキシケイ皮酸3−エチルヘキシル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、3-tert‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-メトキシケイ皮酸メチル残基、2-メトキシケイ皮酸エチル残基、2-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-メトキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-メトキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-エトキシケイ皮酸メチル残基、2-エトキシケイ皮酸エチル残基、2-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-エトキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-エトキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-エトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-イソプロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-n‐プロポキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-n‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-sec‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸n−プロピル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸n−ブチル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸sec−ブチル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸tert−ブチル残基、2-tert‐ブトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、4−メトキシケイ皮酸メチル残基、4−メトキシケイ皮酸エチル残基、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基が好ましい。   Specific examples of the cinnamate residue represented by the general formula (6) include 4-methoxycinnamate methyl residue, 4-methoxycinnamate ethyl residue, and 4-methoxycinnamate isopropyl residue. A group, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue, 4-methoxy cinnamate 2-ethylhexyl residue, 4-ethoxy cinnamate methyl residue, 4-ethoxy cinnamate ethyl residue, 4-ethoxy cinnamate isopropyl residue, 4-ethoxy cinnamate n-propyl residue, 4-ethoxycinnamic acid n-butyl residue, 4-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue, 4-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue, 4-ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 4-isopropoxy Methyl cinnamate residue, 4-isopropoxycinnamic acid ethyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid isopropyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid n-propyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid n -Butyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid sec-butyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid tert-butyl residue, 4-isopropoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 4-n-propoxycin Methyl cinnamate residue, 4-n-propoxycinnamate ethyl residue, 4-n-propoxycinnamate isopropyl residue, 4-n-propoxycinnamate n-propyl residue, 4-n-propoxycin Cinnamate n-butyl residue, 4-n-propoxycinnamate sec-butyl residue, 4-n-propoxycinnamate tert-butyl residue, 4-n-propoxycinnamate 2-ethylhexyl residue, 4- -Methyl butoxycinnamic acid residue, 4-n-butoxycinnamic acid ethyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid isopropyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid n-propyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid residue n-butyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid sec-butyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid tert-butyl residue, 4-n-butoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 4-sec-butoxysilicate Methyl cinnamate residue, 4-sec-butoxycinnamate ethyl residue, 4-sec-butoxycinnamate isopropyl residue, 4-sec-butoxycinnamate n-propyl residue, 4-sec-butoxycinnamate n- Butyl residue, 4-sec-butoxycinnamic acid sec-butyl residue, 4-sec-butoxycinnamic acid tert-butyl residue, 4-sec-butoxycinnamic acid 2-ethylhexyl Residue, 4-tert-butoxycinnamic acid methyl residue, 4-tert-butoxycinnamic acid ethyl residue, 4-tert-butoxycinnamic acid isopropyl residue, 4-tert-butoxycinnamic acid n-propyl residue, 4-tert-Butoxycinnamic acid n-butyl residue, 4-tert-Butoxycinnamic acid sec-Butyl residue, 4-tert-Butoxycinnamic acid tert-Butyl residue, 4-tert-Butoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue 3-methyl cinnamate residues, 3-methoxy ethyl cinnamate residues, 3-methoxy cinnamate ethyl residues, 3-methoxy cinnamate isopropyl residues, 3-methoxy cinnamate n-propyl residues, 3-methoxy cinnamate n-butyl residue, 3-methoxycinnamic acid sec-butyl residue, 3-methoxycinnamic acid tert-butyl residue, 3-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue 3-methyl ethoxycinnamate residue, 3-ethoxyethyl cinnamate residue, 3-ethoxy cinnamate isopropyl residue, 3-ethoxycinnamic acid n-propyl residue, 3-ethoxycinnamic acid n-butyl residue 3-Ethoxycinnamic acid sec-Butyl residue, 3-Ethoxycinnamic acid tert-Butyl residue, 3-Ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 3-Isopropoxycinnamic acid methyl residue, 3-Isopropoxysilicate Ethyl cinnamate residue, 3-isopropoxycinnamate isopropyl residue, 3-isopropoxycinnamate n-propyl residue, 3-isopropoxycinnamate n-butyl residue, 3-isopropoxycinnamate sec-butyl residue, 3-isopropoxycinnamate tert-butyl residue, 3-isopropoxycinnamate 2-ethylhexyl residue, 3-n-propoxycinnamate methyl Groups, 3-n-propoxycinnamic acid ethyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid isopropyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid n-propyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid n- Butyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid sec-butyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid tert-butyl residue, 3-n-propoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 3-n- Butoxycinnamate methyl residue, 3-n-butoxycinnamate ethyl residue, 3-n-butoxycinnamate isopropyl residue, 3-n-butoxycinnamate n-propyl residue, 3-n-butoxycinnamate n -Butyl residue, 3-n-butoxycinnamate sec-butyl residue, 3-n-butoxycinnamate tert-butyl residue, 3-n-butoxycinnamate 2-ethylhexyl residue, 3-sec-butoxycinnamate Methyl acid residue 3-sec-butoxycinnamate ethyl residue, 3-sec-butoxycinnamate isopropyl residue, 3-sec-butoxycinnamate n-propyl residue, 3-sec-butoxycinnamate n-butyl residue, 3 -sec-butoxycinnamate sec-butyl residue, 3-sec-butoxycinnamate tert-butyl residue, 3-sec-butoxycinnamate 3-ethylhexyl residue, 3-tert-butoxycinnamate methyl residue, 3 -tert-butoxycinnamate ethyl residue, 3-tert-butoxycinnamate isopropyl residue, 3-tert-butoxycinnamate n-propyl residue, 3-tert-butoxycinnamate n-butyl residue, 3-tert -Butoxycinnamic acid sec-butyl residue, 3-tert-butoxycinnamic acid tert-butyl residue, 3-tert-butoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 2-methoxymethylcinnamate residue, 2-methoxyethylcinnamate residue, 2-methoxyisopropylcinnamate residue, 2-methoxycinnamate n-propyl residue, 2- Methoxycinnamic acid n-butyl residue, 2-methoxycinnamic acid sec-butyl residue, 2-methoxycinnamic acid tert-butyl residue, 2-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 2-ethoxycinnamic leather Acid methyl residue, 2-ethoxycinnamic acid ethyl residue, 2-ethoxycinnamic acid isopropyl residue, 2-ethoxycinnamic acid n-propyl residue, 2-ethoxycinnamic acid n-butyl residue, 2-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue, 2-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue, 2-ethoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid methyl residue, 2-isopropoxycinnamic leather Ethyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid isopropyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid n-propyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid n-butyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid sec- Butyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid tert-butyl residue, 2-isopropoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 2-n-propoxycinnamic acid methyl residue, 2-n-propoxycinnamic acid Ethyl residue, 2-n-propoxycinnamate isopropyl residue, 2-n-propoxycinnamate n-propyl residue, 2-n-propoxycinnamate n-butyl residue, 2-n-propoxycin Cinnamic acid sec-butyl residue, 2-n-propoxycinnamic acid tert-butyl residue, 2-n-propoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 2-n-butoxycinnamic acid methyl residue, 2-n -Butoki Ethyl cinnamate residue, 2-n-butoxy cinnamate isopropyl residue, 2-n-butoxy cinnamate n-propyl residue, 2-n-butoxy cinnamate n-butyl residue, 2-n-butoxy cinnamate residue Acid sec-butyl residue, 2-n-butoxycinnamate tert-butyl residue, 2-n-butoxycinnamate 2-ethylhexyl residue, 2-sec-butoxycinnamate methyl residue, 2-sec-butoxycinnamate Ethyl acid residue, 2-sec-butoxycinnamic acid isopropyl residue, 2-sec-butoxycinnamic acid n-propyl residue, 2-sec-butoxycinnamic acid n-butyl residue, 2-sec-butoxycinnamic acid sec -Butyl residue, 2-sec-butoxycinnamate tert-butyl residue, 2-sec-butoxycinnamate 2-ethylhexyl residue, 2-tert-butoxycinnamate methyl A group, 2-tert-butoxycinnamate ethyl residue, 2-tert-butoxycinnamate isopropyl residue, 2-tert-butoxycinnamate n-propyl residue, 2-tert-butoxycinnamate n-butyl residue, Examples include 2-tert-butoxycinnamic acid sec-butyl residue, 2-tert-butoxycinnamic acid tert-butyl residue, 2-tert-butoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, and the like. Among these, since it is excellent in compatibility and retardation properties, 4-methoxycinnamate methyl residue, 4-methoxycinnamate ethyl residue, 4-methoxycinnamate n-propyl residue, 4-methoxy A 2-ethylhexyl cinnamate residue is preferred.

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×10〜5×10であることが好ましく、5×10〜2×10であることがさらに好ましい。 Since the fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin of the present invention is particularly excellent in mechanical properties and excellent in moldability during film formation, it is obtained by gel permeation chromatography (GPC). The number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene obtained from the measured elution curve is preferably 1 × 10 3 to 5 × 10 6 , and more preferably 5 × 10 3 to 2 × 10 5 .

本発明の樹脂組成物は下記一般式(1)で示されるリン系化合物および/または下記一般式(2)で示されるリン系化合物を含有することで、位相差特性に優れることを特徴とする。   The resin composition of the present invention is excellent in retardation characteristics by containing a phosphorus compound represented by the following general formula (1) and / or a phosphorus compound represented by the following general formula (2). .

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。) (Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a phenyl group or a cumyl group.)

Figure 2017165794
Figure 2017165794

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。)
本発明の一般式(1)で表わされるリン系化合物のR、R、Rはそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示し、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
(In the formula, R 4 , R 5 and R 6 each independently represents hydrogen or an alkyl group.)
In the phosphorus compound represented by the general formula (1) of the present invention, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a phenyl group, or a cumyl group. Examples of the alkyl group include, for example, methyl Group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group , Cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

具体的な一般式(1)で示されるリン系化合物としては、例えば、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4'−n−ブチリデンビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)ジホスファイト等が挙げられる。これらの中でも位相差特性に優れることから、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトが好ましい。   Specific examples of the phosphorus compound represented by the general formula (1) include di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4,6-tri-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-dic (Milphenyl) pentaerythritol diphosphite, tetra (tridecyl) isopropylidene diphenol diphosphite, tetra (tridecyl) -4,4′-n-butylidenebis (2-t-butyl-5-methylphenol) diphosphite, etc. It is done. Among these, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite and bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite are excellent in retardation characteristics. Phosphites are preferred.

本発明の一般式(2)で表わされるリン系化合物のR、R、Rはそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示し、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 In the phosphorus compound represented by the general formula (2) of the present invention, R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent hydrogen or an alkyl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl Group, cyclohexyl group and the like.

具体的な一般式(2)で示されるリン系化合物としては、例えば、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられ、これらの中でも位相差特性に優れることから、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトが好ましい。   Specific examples of the phosphorus compound represented by the general formula (2) include tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di). -Tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4 -Di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di) -Tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3 3′-biphenylene diphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphospho Bis (2,6-di-n-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2, 6-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite and the like. Among these, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4 is excellent because of excellent retardation characteristics. '-Biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenyl Njihosuhonaito is preferable.

本発明において、セルロース系樹脂とフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂とリン系化合物との組成の割合は、位相差性能の制御が可能でより優れた位相差を発現させることが可能となることから、セルロース系樹脂30〜85重量%、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂5〜65重量%、およびリン系化合物1〜20重量%であり、好ましくは、セルロース系樹脂30〜80重量%、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂10〜60重量%、およびリン系化合物1〜15重量%であり、さらに好ましくは、セルロース系樹脂40〜80重量%、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂20〜60重量%、およびリン系化合物1〜10重量%である。   In the present invention, the ratio of the composition of the cellulose resin, the fumaric acid ester-cinnamate copolymer resin and the phosphorus compound can control the phase difference performance and can exhibit a more excellent phase difference. Therefore, the cellulose-based resin is 30 to 85% by weight, the fumaric acid ester-cinnamate copolymer resin is 5 to 65% by weight, and the phosphorus compound is 1 to 20% by weight. 80% by weight, 10 to 60% by weight of a fumaric acid ester-cinnamate copolymer resin, and 1 to 15% by weight of a phosphorus compound, more preferably 40 to 80% by weight of a cellulose resin, fumaric acid ester The cinnamate copolymer resin is 20 to 60% by weight and the phosphorus compound is 1 to 10% by weight.

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、一般式(4)および一般式(5)で示される残基単位を有する単量体、場合によっては一般式(4)および一般式(5)で示される残基単位を有する単量体、ならびにこれと共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。この際の共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン類;アクリル酸;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類;メタクリル酸;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなどのメタクリル酸エステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;アクリロニトリル;メタクリロニトリル;N―メチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミドなどのN−置換マレイミド類;エチレン、プロピレンなどのオレフィン類;ビニルピロリドン;ビニルピリジン等の1種または2種以上を挙げることができる。   The fumarate-cinnamate copolymer resin of the present invention may be produced by any method as long as the resin is obtained. For example, a monomer having a residue unit represented by general formula (4) or general formula (5), or a monomer having a residue unit represented by general formula (4) or general formula (5) in some cases , And a monomer copolymerizable therewith, and can be produced by radical polymerization. Examples of the copolymerizable monomer at this time include styrenes such as styrene and α-methylstyrene; acrylic acid; acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, and butyl acrylate; methacrylic acid; Methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate and butyl methacrylate; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Acrylonitrile; Methacrylonitrile; N-methylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide N-substituted maleimides such as; olefins such as ethylene and propylene; vinyl pyrrolidone; one or more of vinyl pyridine and the like.

ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。   As the radical polymerization method, for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method and the like can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)などのアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, and dicumyl peroxide. Organic peroxides such as 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2 Azo initiators such as 1,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), and the like.

そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒;シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method or precipitation polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Alcohol solvents, such as methanol, ethanol, propyl alcohol, and butyl alcohol; Cyclohexane, Examples thereof include dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, and a mixed solvent thereof.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of a polymerization initiator, and generally it is preferable to carry out in the range of 30-150 degreeC.

本発明の光学補償フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。   The optical compensation film of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like within the scope of the invention. May be.

本発明の光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが5〜200μmであることが好ましく、5〜150μmがさらに好ましく、5〜120μmが特に好ましい。   The thickness of the optical compensation film of the present invention is preferably from 5 to 200 μm, more preferably from 5 to 150 μm, particularly preferably from 5 to 120 μm, from the viewpoints of handleability of the film and suitability for thinning of the optical member. .

本発明の光学補償フィルムの位相差特性は、ディスプレイの表示特性としてより優れたものとなることから、下記式(a)で示される面内位相差(Re)が50〜300nmで、下記式(b)で示されるNz係数が0.35<Nz<0.65であることが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名KOBRA−21ADH)を用い、測定波長589nmの条件で測定されるものである。   Since the retardation characteristics of the optical compensation film of the present invention are more excellent as display characteristics of the display, the in-plane retardation (Re) represented by the following formula (a) is 50 to 300 nm, and the following formula ( It is preferable that the Nz coefficient indicated by b) is 0.35 <Nz <0.65. The phase difference characteristics at this time are measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., trade name KOBRA-21ADH) under a measurement wavelength of 589 nm.

Re=(nx−ny)×d (a)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (b)
(式中、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
本発明において、面内位相差(Re)が好ましくは60〜300nm、さらに好ましくは70〜280nmであって、Nz係数が好ましくは0.35〜0.65、さらに好ましくは0.45〜0.55である。
Re = (nx−ny) × d (a)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (b)
(Where nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). D indicates the film thickness.)
In the present invention, the in-plane retardation (Re) is preferably 60 to 300 nm, more preferably 70 to 280 nm, and the Nz coefficient is preferably 0.35 to 0.65, and more preferably 0.45 to 0.4. 55.

これらは、一般的な光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。   These have retardation characteristics that are difficult to develop with a general optical compensation film.

本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、450nmにおけるレターデーションと550nmにおけるレターデーションの比Re(450)/Re(550)が好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.10であり、さらに好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.05であり、特に好ましくは0.61<Re(450)/Re(550)<1.02である。   As the wavelength dispersion characteristic of the optical compensation film of the present invention, the ratio Re (450) / Re (550) of the retardation at 450 nm to the retardation at 550 nm is preferably 0.60 <Re (450) in order to suppress color misregistration. /Re(550)<1.10, more preferably 0.60 <Re (450) / Re (550) <1.05, and particularly preferably 0.61 <Re (450) / Re (550). ) <1.02.

本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。   The optical compensation film of the present invention has a light transmittance of preferably 85% or more, and more preferably 90% or more, for improving luminance.

本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘーズが好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。   The optical compensation film of the present invention has a haze of preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, for improving contrast.

本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、589nmにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Re(589)(nm)/フィルム膜厚(μm)が4.0nm/μm以上であることが好ましい。   In order to reduce the required film thickness, the optical compensation film of the present invention has a ratio Re (589) (nm) / film thickness (μm) of 589 nm to a film thickness (μm) of 4.0 nm / μm or more. It is preferable that

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液に用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤;ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。   As a method for producing the optical compensation film of the present invention, any method can be used as long as the optical compensation film of the present invention can be produced. However, an optical compensation film excellent in optical characteristics, heat resistance, surface characteristics and the like can be obtained. Therefore, it is preferable to manufacture by a solution casting method. Here, the solution casting method is a method of obtaining an optical compensation film by casting a resin solution (generally referred to as a dope) on a support substrate and then evaporating the solvent by heating. As a casting method, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. In general, a method of continuously extruding is used. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate. In order to industrially continuously form a substrate having high surface properties and optical homogeneity, a metal substrate having a mirror-finished surface is preferably used. Solvents used in the solution include, for example, chlorinated solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone; ethyl acetate, acetic acid An ester solvent such as butyl; an alcohol solvent such as methanol, ethanol, or propanol; an ether solvent such as dioxane or tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, or the like can be used. Each resin and additive can be dissolved in a solvent and then blended. The powder, pellets, etc. of each resin can be kneaded and then dissolved in the solvent.

溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。本発明の光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては、特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100〜10000cps、さらに好ましくは300〜5000cps、特に好ましくは500〜3000cpsである。   In the solution casting method, the viscosity of the resin solution is an extremely important factor when producing an optical compensation film with excellent thickness accuracy and surface smoothness. The viscosity of the resin solution is the resin concentration, molecular weight, and type of solvent. It depends on. The viscosity of the resin solution when producing the optical compensation film of the present invention can be adjusted by the molecular weight of the polymer, the concentration of the polymer, and the type of solvent. The viscosity of the resin solution is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000 cps, more preferably 300 to 5000 cps, and particularly preferably 500 to 3000 cps in order to make film coating easier.

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、セルロース系樹脂、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂、ならびに一般式(1)で示されるリン系化合物または一般式(2)で示されるリン系化合物を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。   Examples of the method for producing the optical compensation film of the present invention include a cellulose resin, a fumarate-cinnamate copolymer resin containing a fumarate residue unit and a cinnamate residue unit, and a general formula ( The resin composition containing the phosphorus compound represented by 1) or the phosphorus compound represented by the general formula (2) is dissolved in a solvent, and the resulting resin solution is cast on a substrate, dried, and then from the substrate. Exfoliation.

本発明の光学補償フィルムは、面内位相差(Re)を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。   The optical compensation film of the present invention is preferably uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched to develop in-plane retardation (Re). As a method for stretching the optical compensation film, it is possible to use a longitudinal uniaxial stretching method by roll stretching, a transverse uniaxial stretching method by tenter stretching, an unbalanced sequential biaxial stretching method or an unbalanced simultaneous biaxial stretching method by a combination thereof. it can. Moreover, in this invention, a phase difference characteristic can be expressed, without using the special extending | stretching method which extends | stretches under the effect | action of the shrinkage force of a heat-shrinkable film.

延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、10〜200μmが好ましく、30〜180μmがさらに好ましく、30〜150μmが特に好ましい。   The thickness of the optical compensation film at the time of stretching is preferably from 10 to 200 μm, more preferably from 30 to 180 μm, particularly preferably from 30 to 150 μm, from the viewpoint of ease of stretching treatment and compatibility with thinning of the optical member. .

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは50〜200℃、さらに好ましくは100〜180℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましく、幅方向には1.0〜1.2倍が好ましく、1.0〜1.1倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差(Re)を制御することができる。   The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., because good retardation characteristics can be obtained. The stretching ratio of uniaxial stretching is preferably 1.05 to 3.5 times, and more preferably 1.1 to 3.0 times because good retardation characteristics can be obtained. Since the stretch ratio of unbalanced biaxial stretching can provide good retardation characteristics, 1.05 to 3.5 times are preferable in the length direction, 1.1 to 3.0 times are more preferable, and the width direction 1.0 to 1.2 times is preferable, and 1.0 to 1.1 times is more preferable. The in-plane retardation (Re) can be controlled by the stretching temperature and the stretching ratio.

本発明の光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。   The optical compensation film of the present invention can be laminated with a film containing another resin as necessary. Examples of other resins include polyether sulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluorine resin, polyimide, and the like. It is also possible to laminate a hard coat layer or a gas barrier layer.

本発明の光学補償フィルムは、特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。   Since the optical compensation film of the present invention exhibits specific retardation characteristics, it is useful as an optical compensation film for liquid crystal displays and an antireflection film.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<重合体の解析>
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名:JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Analysis of polymer>
The structural analysis of the polymer was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name: JNM-GX270).

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名:C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: C0-8011 (equipped with column GMH HR- H)), measurement was performed at 40 ° C. using tetrahydrofuran or dimethylformamide as a solvent, It calculated | required as a standard polystyrene conversion value.

<光学補償フィルムの光線透過率およびヘーズの測定>
作製したフィルムの光線透過率およびヘーズの測定は、ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名:NDH2000)を使用し、光線透過率の測定はJIS K 7361−1(1997版)に、ヘーズの測定はJIS−K 7136(2000年版)に、それぞれ準拠して測定した。
<Measurement of light transmittance and haze of optical compensation film>
The light transmittance and haze of the produced film were measured using a haze meter (trade name: NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The light transmittance was measured according to JIS K 7361-1 (1997 version). The measurement was performed according to JIS-K 7136 (2000 version).

<位相差特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA−WR)を用いて波長589nmの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
<Measurement of phase difference characteristics>
The retardation characteristics of the optical compensation film were measured using light having a wavelength of 589 nm using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name: KOBRA-WR).

<波長分散特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器製、商品名:KOBRA−WR)を用い、波長450nmの光による位相差Re(450)と波長550nmの光による位相差Re(550)の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
<Measurement of wavelength dispersion characteristics>
Using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name: KOBRA-WR), optical as a ratio of phase difference Re (450) due to light having a wavelength of 450 nm and phase difference Re (550) due to light having a wavelength of 550 nm The wavelength dispersion characteristic of the compensation film was measured.

合成例1(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル11g、フマル酸モノエチル3g、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル42gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.56gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂23gを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は33,000、フマル酸ジイソプロピル残基単位21モル%、フマル酸モノエチル残基単位8モル%、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位71モル%であった。
Synthesis Example 1 (Synthesis of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 11 g of diisopropyl fumarate, 3 g of monoethyl fumarate, 42 g of n-propyl 4-methoxycinnamate, and 0.56 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator, and replaced with nitrogen and depressurized. After repeating the above, it was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 72 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 4 L of hexane and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 23 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin. Obtained. The obtained copolymer resin has a number average molecular weight of 33,000, diisopropyl fumarate residue unit of 21 mol%, monoethyl fumarate residue unit of 8 mol%, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit of 71 mol%. Met.

合成例2(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル26g、フマル酸モノエチル6g、4−メトキシケイ皮酸エチル24gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.56gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂31gを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は41,000、フマル酸ジイソプロピル残基単位38モル%、フマル酸モノエチル残基単位15モル%、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位47モル%であった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin)
A glass ampoule with a capacity of 75 mL was charged with 26 g of diisopropyl fumarate, 6 g of monoethyl fumarate, 24 g of ethyl 4-methoxycinnamate and 0.56 g of tert-butyl peroxypivalate, a polymerization initiator, and repeated nitrogen substitution and depressurization. After that, it was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 72 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 4 L of hexane and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 31 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin. . The obtained copolymer resin had a number average molecular weight of 41,000, diisopropyl fumarate residue units of 38 mol%, monoethyl fumarate residue units of 15 mol%, and ethyl 4-methoxycinnamate residue units of 47 mol%. It was.

合成例3(フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジエチル15g、フマル酸モノエチル10g、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル31gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.56gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂22gを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は31,000、フマル酸ジエチル残基単位62モル%、フマル酸モノエチル残基単位9モル%、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位29モル%であった。
Synthesis Example 3 (Synthesis of diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin)
Put 75 g of diethyl fumarate, 10 g of monoethyl fumarate, 31 g of 4-methoxycinnamic acid n-propyl and 0.56 g of tert-butyl peroxypivalate, a polymerization initiator, into a glass ampoule with a capacity of 75 mL. After repeating the above, it was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 72 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 4 L of hexane and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 22 g of diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin. Obtained. The obtained copolymer resin has a number average molecular weight of 31,000, diethyl fumarate residue unit 62 mol%, monoethyl fumarate residue unit 9 mol%, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit 29 mol%. Met.

合成例4(フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジエチル13g、フマル酸モノエチル20g、4−メトキシケイ皮酸エチル17gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.56gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂19gを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は35,000、フマル酸ジエチル残基単位40モル%、フマル酸モノエチル残基単位21モル%、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位39モル%であった。
Synthesis Example 4 (Synthesis of diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin)
Place 75 g of glass ampoule with 13 g of diethyl fumarate, 20 g of monoethyl fumarate, 17 g of ethyl 4-methoxycinnamate and 0.56 g of tert-butyl peroxypivalate, a polymerization initiator, and repeat nitrogen substitution and depressurization. After that, it was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 72 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 4 L of hexane and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 19 g of diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin. . The number average molecular weight of the obtained copolymer resin was 35,000, diethyl fumarate residue unit 40 mol%, monoethyl fumarate residue unit 21 mol%, and 4-methoxycinnamate ethyl residue unit 39 mol%. It was.

合成例5(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル13g、フマル酸モノn−ブチル20g、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル17gおよび重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.56gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン200gで溶解させた。このポリマー溶液を4Lのヘキサン中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂25gを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は42,000、フマル酸ジイソプロピル残基単位57モル%、フマル酸モノn−ブチル残基単位28モル%、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位15モル%であった。
Synthesis Example 5 (Synthesis of diisopropyl fumarate / mono n-butyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 13 g of diisopropyl fumarate, 20 g of mono-n-butyl fumarate, 17 g of 4-methoxycinnamic acid n-propyl and 0.56 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator, and substituted with nitrogen. After repeating the depressurization, it was sealed in a reduced pressure state. This ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 72 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 200 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 4 L of hexane and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to thereby copolymerize diisopropyl fumarate / mono-n-butyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl. 25 g of resin was obtained. The obtained copolymer resin has a number average molecular weight of 42,000, a diisopropyl fumarate residue unit of 57 mol%, a mono n-butyl fumarate residue unit of 28 mol%, and a 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit. It was 15 mol%.

実施例1
エチルセルロース(数平均分子量86,000、全置換度2.5)13.4g、合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂10gおよびビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト0.97gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(エチルセルロース:55重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:41重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:4重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に示す。
Example 1
13.4 g of ethyl cellulose (number average molecular weight 86,000, total substitution degree 2.5), 10 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin obtained by Synthesis Example 1 and bis 0.97 g of (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite is dissolved in butyl acetate to give an 18% by weight resin solution, which is then poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried. After drying at a temperature of 60 ° C., an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 55% by weight, diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin). : 41% by weight, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaeri Li diphosphite: 4 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are shown in Table 1.

Figure 2017165794
Figure 2017165794

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例2
セルロースアセテートブチレート(数平均分子量33,000、アセチル基=15モル%、ブチリル基=70モル%、全置換度DS=2.55)14.5g、合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂9gおよびビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト1.5gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロースアセテートブチレート:58重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:36重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:6重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 2
14.5 g of cellulose acetate butyrate (number average molecular weight 33,000, acetyl group = 15 mol%, butyryl group = 70 mol%, total substitution degree DS = 2.55), diisopropyl fumarate obtained in Synthesis Example 1 / 9 g of monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin and 1.5 g of bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite were dissolved in butyl acetate. An 18% by weight resin solution was poured on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (cellulose acetate butyrate: 58% by weight). %, Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer Resin: 36 wt%, bis (2,6-di -t- butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite: 6 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例3
エチルセルロース(数平均分子量86,000、全置換度2.5)17g、合成例2により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂7.3gおよびテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト0.75gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(エチルセルロース:68重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂:29重量%、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト:3重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 3
17 g of ethyl cellulose (number average molecular weight 86,000, total substitution degree 2.5), 7.3 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin obtained by Synthesis Example 2 and tetrakis (2 , 4-Di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite in butyl acetate was dissolved in butyl acetate to form a 18% by weight resin solution, which was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 60 ° C., an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 68% by weight, diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxy ethylcinnamate copolymer). Resin: 29% by weight, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl ) -4,4′-biphenylenediphosphonite: 3% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例4
セルロースアセテートプロピオネート(数平均分子量25,000、アセチル基=7モル%、プロピオニル基=80モル%、全置換度DS=2.6)16.5g、合成例3により得られたフマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂7.3gおよびテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト1.25gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロースアセテートプロピオネート:66重量%、フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:29重量%、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト:5重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 4
16.5 g of cellulose acetate propionate (number average molecular weight 25,000, acetyl group = 7 mol%, propionyl group = 80 mol%, total substitution degree DS = 2.6), diethyl fumarate obtained by Synthesis Example 3 /7.3 g of monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin and tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite 25 g was dissolved in butyl acetate to obtain a 18% by weight resin solution, which was poured on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm. (Cellulose acetate propionate: 66% by weight, diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin: 29% by weight, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite: 5% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例5
エチルセルロース(数平均分子量86,000、全置換度2.5)9.8g、合成例4により得られたフマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂11.5gおよびビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト3.75gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(エチルセルロース:39重量%、フマル酸ジエチル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂:46重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:15重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 5
9.8 g of ethyl cellulose (number average molecular weight 86,000, total substitution degree 2.5), diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin 11.5 g obtained by Synthesis Example 4 and bis 3.75 g of (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite is dissolved in butyl acetate to give an 18% by weight resin solution, which is poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried. After drying at a temperature of 60 ° C., an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 39% by weight, diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer resin: 46 % By weight, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphie : 15 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例6
エチルセルロース(数平均分子量86,000、全置換度2.5)11.3g、合成例5により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂10.8gおよびビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト3gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(エチルセルロース:45重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:43重量%、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:12重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 6
Ethylcellulose (number average molecular weight 86,000, total substitution degree 2.5) 11.3 g, diisopropyl fumarate / mono n-butyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin obtained in Synthesis Example 5 10.8 g and 3 g of bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite were dissolved in butyl acetate to give a 18% by weight resin solution, which was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried. After drying at 60 ° C., an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (ethylcellulose: 45% by weight, diisopropyl fumarate / mono-n-butyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl). Polymerized resin: 43% by weight, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphine Ito: 12 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

実施例7
セルロースアセテートブチレート(数平均分子量33,000、アセチル基=15モル%、ブチリル基=70モル%、全置換度DS=2.55)15g、合成例5により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂8gおよびビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト2gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロースアセテートブチレート:60重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノn−ブチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:32重量%、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:8重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Example 7
15 g of cellulose acetate butyrate (number average molecular weight 33,000, acetyl group = 15 mol%, butyryl group = 70 mol%, total substitution degree DS = 2.55), diisopropyl fumarate / fumaric acid obtained in Synthesis Example 5 18 g of resin obtained by dissolving 8 g of mono-n-butyl / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin and 2 g of bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite in butyl acetate. The solution was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (cellulose acetate butyrate: 60% by weight, diisopropyl fumarate). / Mono n-butyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer resin: 32 The amount%, bis (2,4-di -t- butyl-phenyl) pentaerythritol diphosphite: 8 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film had high optical transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and the desired optical characteristics.

比較例1
エチルセルロース(数平均分子量86,000、全置換度2.5)17g、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファィト3gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(エチルセルロース:85重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:15重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Comparative Example 1
17 g of ethyl cellulose (number average molecular weight 86,000, total substitution degree 2.5) and 3 g of bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphate dissolved in butyl acetate are 18 wt. % Resin solution, poured on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethylcellulose: 85% by weight, bis (2 , 6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite: 15% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、Nz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained optical compensation film had a high total light transmittance and excellent transparency, but had a small haze, but the Nz coefficient did not have the desired optical characteristics.

比較例2
合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸モノエチル・4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂17g、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト3gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(フマル酸ジイソプロピル・フマル酸モノエチル・4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:85重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:15重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、150℃で1.2倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Comparative Example 2
17 g of diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / n-propyl methoxycinnamate copolymer resin obtained in Synthesis Example 1, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphos 3 g of phyto is dissolved in butyl acetate to obtain a resin solution of 18% by weight, and is poured on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm. (Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / n-propyl 4-methoxycinnamate copolymer resin: 85% by weight, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite: 15% by weight). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.2 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained optical compensation film had a high total light transmittance and excellent transparency, but had a small haze, but the in-plane retardation (Re) and Nz coefficient did not have the desired optical characteristics.

比較例3
セルロースアセテートプロピオネート(数平均分子量25,000、アセチル基=7モル%、プロピオニル基=80モル%、全置換度DS=2.6)6g、合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂12gおよびビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト6gを酢酸ブチルに溶解して18重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度60℃にて乾燥した後、幅150mmの光学補償フィルム(樹脂組成物)を得た(セルロースアセテートプロピオネート:15重量%、フマル酸ジイソプロピル/フマル酸モノエチル/4−メトキシケイ皮酸n−プロピル共重合樹脂:75重量%、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト:10重量%)。得られた光学補償フィルムを50mm角に切り出し、140℃で2.0倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。
Comparative Example 3
Cellulose acetate propionate (number average molecular weight 25,000, acetyl group = 7 mol%, propionyl group = 80 mol%, total substitution degree DS = 2.6) 6 g, diisopropyl fumarate / fumarate obtained in Synthesis Example 1 18% by weight of 12% monoethyl-4-methoxycinnamate n-propyl copolymer resin and 6g bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite dissolved in butyl acetate The resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 60 ° C. to obtain an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (cellulose acetate propionate: 15% by weight, Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer Resin: 75 wt%, bis (2,6-di -t- butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite: 10 wt%). The obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm). The optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained optical compensation film had a high total light transmittance and excellent transparency, but had a small haze, but the in-plane retardation (Re) and Nz coefficient did not have the desired optical characteristics.

Claims (14)

セルロース系樹脂30〜85重量%、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂5〜65重量%、ならびに下記一般式(1)で示されるリン系化合物および/または下記一般式(2)で示されるリン系化合物1〜20重量%を含有する樹脂組成物。
Figure 2017165794
(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。)
Figure 2017165794
(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。)
Cellulose-based resin 30 to 85% by weight, fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer resin 5 to 65% by weight containing fumarate residue units and cinnamic ester residue units, and the following general formula (1) The resin composition containing 1-20 weight% of phosphorus compounds shown and / or the phosphorus compound shown by following General formula (2).
Figure 2017165794
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a phenyl group or a cumyl group.)
Figure 2017165794
(In the formula, R 4 , R 5 and R 6 each independently represents hydrogen or an alkyl group.)
セルロース系樹脂が、下記一般式(3)で示され、置換度が1.5〜3.0であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 2017165794
(式中、R、R、Rはそれぞれ独立して水素または炭素数1〜10の置換基を示す。)
The resin composition according to claim 1, wherein the cellulose resin is represented by the following general formula (3), and the substitution degree is 1.5 to 3.0.
Figure 2017165794
(In formula, R < 7 >, R <8> , R < 9 > shows hydrogen or a C1-C10 substituent each independently.)
セルロース系樹脂が、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートからなる群より選択されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the cellulose resin is selected from the group consisting of methyl cellulose, ethyl cellulose, triacetyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate. object. フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂が、下記一般式(4)で示されるフマル酸ジエステル残基単位1〜65モル%、下記一般式(5)で示されるフマル酸モノエステル残基単位1〜30モル%および下記一般式(6)で示されるケイ皮酸エステル残基単位98〜5モル%を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかの項に記載の樹脂組成物。
Figure 2017165794
(式中、R10、R11はそれぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基を示す。)
Figure 2017165794
(式中、R12は炭素数1〜12のアルキル基を示す。)
Figure 2017165794
(式中、R13、R14はそれぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基を示す。)
The fumaric acid ester-cinnamate copolymer resin is a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4), 1 to 65 mol%, a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (5) 2. A fumaric acid ester-cinnamic acid ester copolymer containing 1 to 30 mol% and 98 to 5 mol% of a cinnamic acid ester residue unit represented by the following general formula (6): The resin composition according to any one of claims 3 to 4.
Figure 2017165794
(In formula, R < 10 >, R < 11 > shows a C1-C12 alkyl group each independently.)
Figure 2017165794
(In the formula, R 12 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)
Figure 2017165794
(In formula, R < 13 >, R < 14 > shows a C1-C12 alkyl group each independently.)
フマル酸ジエステル残基単位が、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ−t−ブチル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項4に記載の樹脂組成物。 The resin according to claim 4, wherein the fumarate diester residue unit is selected from the group consisting of a diethyl fumarate residue unit, a diisopropyl fumarate residue unit, and a di-t-butyl fumarate residue unit. Composition. フマル酸モノエステル残基単位が、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ−n−プロピル残基単位、フマル酸モノ−n−ブチル残基単位、フマル酸モノ−2−エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の樹脂組成物。 A fumarate monoester residue unit is a monoethyl fumarate residue unit, a monoisopropyl fumarate residue unit, a mono-n-propyl fumarate residue unit, a mono-n-butyl fumarate residue unit, a mono-fumarate residue 6. The resin composition according to claim 4, wherein the resin composition is selected from the group consisting of 2-ethylhexyl residue units. ケイ皮酸エステル残基単位が、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかの項に記載の樹脂組成物。 Cinnamic acid ester residue unit is 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid The resin composition according to any one of claims 4 to 6, wherein the resin composition is selected from the group consisting of 2-ethylhexyl residue units. 請求項1〜請求項7のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いたことを特徴とする光学補償フィルム。 An optical compensation film comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 7. 下記式(a)で示される面内位相差(Re)が50〜300nmで、下記式(b)で示されるNz係数が0.35<Nz<0.65であることを特徴とする請求項8に記載の光学補償フィルム。
Re=(nx−ny)×d (a)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (b)
The in-plane retardation (Re) represented by the following formula (a) is 50 to 300 nm, and the Nz coefficient represented by the following formula (b) is 0.35 <Nz <0.65. 8. An optical compensation film according to 8.
Re = (nx−ny) × d (a)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (b)
589nmにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Re(589)(nm)/フィルム膜厚(μm)が4.0nm/μm以上であることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の光学補償フィルム。 The ratio of the retardation at 589 nm to the film thickness Re (589) (nm) / film thickness (μm) is 4.0 nm / μm or more, 10 or 9, Optical compensation film. 樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離して得られることを特徴とする請求項8〜請求項10のいずれかの項に記載の光学補償フィルムの製造方法。 The resin composition is dissolved in a solvent, and the obtained resin solution is cast on a substrate, dried, and then peeled off from the substrate to obtain the resin composition according to any one of claims 8 to 10. The manufacturing method of the optical compensation film of description. キャストして得られた厚み10〜200μmのフィルムを少なくとも一軸以上で延伸させることを特徴とする請求項11に記載の光学補償フィルムの製造方法。 The method for producing an optical compensation film according to claim 11, wherein a film having a thickness of 10 to 200 μm obtained by casting is stretched at least uniaxially. キャストして得られた厚み10〜200μmのフィルムを1.05倍〜3.5倍で一軸延伸させることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の光学補償フィルムの製造方法。 13. The method for producing an optical compensation film according to claim 11, wherein a film having a thickness of 10 to 200 [mu] m obtained by casting is uniaxially stretched by 1.05 to 3.5 times. キャストして得られた厚み10〜200μmのフィルムを長さ方向に1.05〜3.5倍、幅方向に1.0〜1.2倍でアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の光学補償フィルムの製造方法。 The film having a thickness of 10 to 200 μm obtained by casting is unbalanced biaxially stretched by 1.05 to 3.5 times in the length direction and 1.0 to 1.2 times in the width direction. Item 13. A method for producing an optical compensation film according to Item 11 or 12.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019172867A (en) * 2018-03-29 2019-10-10 東ソー株式会社 Copolymer and optical film using the same
JP2021050291A (en) * 2019-09-26 2021-04-01 東ソー株式会社 Resin composition and optical film based on the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009157162A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Konica Minolta Opto Inc Optical film, method of manufacturing optical film, polarizing plate using the same, and liquid crystal display device
JP2010117557A (en) * 2008-11-13 2010-05-27 Konica Minolta Opto Inc Cellulose ester optical film, method of manufacturing the same, polarizing plate, and liquid crystal display
WO2013018651A1 (en) * 2011-07-29 2013-02-07 東ソー株式会社 Resin composition, optical compensation film using same, and method for producing optical compensation film
JP2014125609A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Tosoh Corp Resin composition and optical compensation film using the same
JP2014125610A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Tosoh Corp Resin composition and optical compensation film using the same
WO2014196552A1 (en) * 2013-06-07 2014-12-11 東ソー株式会社 Resin composition, optical compensation film employing same, and production method for same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009157162A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Konica Minolta Opto Inc Optical film, method of manufacturing optical film, polarizing plate using the same, and liquid crystal display device
JP2010117557A (en) * 2008-11-13 2010-05-27 Konica Minolta Opto Inc Cellulose ester optical film, method of manufacturing the same, polarizing plate, and liquid crystal display
WO2013018651A1 (en) * 2011-07-29 2013-02-07 東ソー株式会社 Resin composition, optical compensation film using same, and method for producing optical compensation film
JP2014125609A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Tosoh Corp Resin composition and optical compensation film using the same
JP2014125610A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Tosoh Corp Resin composition and optical compensation film using the same
WO2014196552A1 (en) * 2013-06-07 2014-12-11 東ソー株式会社 Resin composition, optical compensation film employing same, and production method for same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019172867A (en) * 2018-03-29 2019-10-10 東ソー株式会社 Copolymer and optical film using the same
JP7095355B2 (en) 2018-03-29 2022-07-05 東ソー株式会社 Copolymer and optical film using it
JP2021050291A (en) * 2019-09-26 2021-04-01 東ソー株式会社 Resin composition and optical film based on the same

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