JP2017105962A - Fumarate ester-alkoxy cinnamic acid copolymer and phase difference film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel fumarate ester-alkoxy cinnamic acid copolymer expected to make a phase difference film large in refractive index and outersurface phase difference in a thickness direction of a film and excellent in optical properties such as having high outersurface phase difference in a thin film.SOLUTION: There is provided a fumarate ester-alkoxy cinnamic acid copolymer containing a fumarate ester residue unit and an alkoxy cinnamic acid residue unit.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体およびそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体に関するものである。   The present invention relates to a novel fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer and a retardation film using the same, and more specifically, a retardation film having a high out-of-plane retardation even in a thin film, in particular, The present invention relates to a novel fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer suitable for an optical compensation film for liquid crystal display elements.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。   A liquid crystal display is widely used as a most important display device in a multimedia society, such as a mobile phone, a computer monitor, a notebook computer, and a television. Many optical films are used for improving the display characteristics of the liquid crystal display. In particular, the retardation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図1に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。   The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like can be represented by a refractive index ellipsoid shown in FIG. Here, the refractive index in the fast axis direction in the film plane when the film is stretched is represented by nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal thereto is represented by ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is represented by nz. The fast axis indicates an axial direction having a low refractive index in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。   Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the fast axis direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。   That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、位相差の波長依存性が大きいといった光学特性上の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。   Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, so the phase difference changes due to slight stress, the problem of stability of the phase difference, the problem of optical properties such as the large wavelength dependence of the phase difference, and heat resistance However, it is not used at present.

ここで、位相差の波長依存性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比、R450/R550として表すことができる。一般に、芳香族構造の高分子ではこのR450/R550が大きくなる傾向が強く、低波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。   Here, the wavelength dependence of the phase difference means that the phase difference changes depending on the measurement wavelength. The phase difference measured at the wavelength of 450 nm (R450) and the phase difference measured at the wavelength of 550 nm (R550). The ratio can be expressed as R450 / R550. In general, a polymer having an aromatic structure has a strong tendency to increase R450 / R550, and the contrast and viewing angle characteristics in a low wavelength region are deteriorated.

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, resulting in an unprecedented retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertically aligned liquid crystal Useful as a retardation film for compensating viewing angle characteristics of displays (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal displays (IPS-LCD), reflective liquid crystal displays (reflective LCDs), and viewing angle compensation films for deflecting plates Therefore, the market demand is strong for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。   A method for producing a film has been proposed in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method (for example, Patent Documents 1 to 3) in which a heat-shrinkable film is bonded to one side or both sides of a polymer film, the laminate is subjected to a heat stretching treatment, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film. Reference). In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (for example, see Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Also, the control of the uniformity of the phase difference and the like is extremely difficult as compared with the conventional control by stretching.

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。   When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large and the phase difference is changed by a slight stress, so that there is a problem in the stability of the phase difference. Furthermore, there is a problem that the wavelength dependence of the phase difference is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。   Moreover, the fumaric-acid diester type resin and the film which consists of it are proposed (for example, refer patent documents 6-10).

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開平6−88909号公報JP-A-6-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008−112141号公報JP 2008-112141 A 特開2012−032784号公報JP 2012-032784 A WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 特開2008−129465号公報JP 2008-129465 A 特開2006-193616号公報JP 2006-193616 A

特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。   Although the fumaric acid diester-based resin proposed in Patent Documents 6 to 10 and a film made thereof have a high out-of-plane retardation, at present, a film having a higher out-of-plane retardation is also present in a thin film. It has been demanded.

本発明の目的は、特定の共重合体を用いた薄膜においても高い面外位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer suitable for a retardation film having a high out-of-plane retardation and excellent optical characteristics even in a thin film using a specific copolymer. There is to do.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式(1)で表されるフマル酸エステル残基単位および一般式(2)で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むことを特徴とするフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体ならびにそれを用いた位相差フィルムに関するものである。   That is, the present invention includes a fumaric acid ester-alkoxy comprising a fumaric acid ester residue unit represented by the general formula (1) and an alkoxycinnamic acid residue unit represented by the general formula (2). The present invention relates to a cinnamic acid copolymer and a retardation film using the same.

Figure 2017105962
(ここで、Rは水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
Figure 2017105962
(Here, R 1 represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and R 2 represents a linear chain having 1 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)

Figure 2017105962
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
以下、本発明の位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体について詳細に説明する。
Figure 2017105962
(Here, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 5.)
Hereinafter, the fumarate-alkoxycinnamic acid copolymer suitable for the retardation film of the present invention will be described in detail.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、一般式(1)で表されるフマル酸エステル残基単位、及び一般式(2)で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体である。そして、本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、特定の二残基単位(特定のフマル酸エステル残基単位及び特定のアルコキシケイ皮酸残基単位)を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させることを特徴とするものである。また、本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、該二残基単位を含んでなることにより、重合体となる際の単量体の重合転化率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。   The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention comprises a fumaric acid ester residue unit represented by the general formula (1) and an alkoxy cinnamic acid residue unit represented by the general formula (2). It is a fumarate ester-alkoxycinnamic acid copolymer. And the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention comprises a specific two residue unit (a specific fumaric acid ester residue unit and a specific alkoxycinnamic acid residue unit). Further, a high out-of-plane phase difference is expressed even in a thinner film. Further, the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention contains the two residue units, so that the polymerization conversion rate of the monomer when it becomes a polymer is high and the productivity is excellent. It is characterized by being.

Figure 2017105962
(ここで、RおよびRはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
Figure 2017105962
(Here, R 1 and R 2 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)

Figure 2017105962
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
本発明の一般式(1)におけるRは、水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、RはRとは独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が高い面外位相差を発現することから、イソプロピル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、イソプロピル基がさらに好ましい。
Figure 2017105962
(Here, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 5.)
R 1 in the general formula (1) of the present invention represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and R 2 represents R 1. And independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. As the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, Examples thereof include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group. . Among these, since the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer exhibits a high out-of-plane retardation, an isopropyl group, a tert-butyl group, and a cyclohexyl group are preferable, and an isopropyl group is more preferable.

そして、具体的な一般式(1)で表されるフマル酸エステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸イソプロピル残基単位、フマル酸モノペンチル残基単位、フマル酸モノへキシル残基単位、フマル酸モノn−ブチル残基単位、フマル酸モノイソブチル残基単位、フマル酸モノsec−ブチル残基単位、フマル酸モノtert−ブチル残基単位、フマル酸モノシクロプロピル残基単位、フマル酸モノシクロブチル残基単位、フマル酸モノシクロヘキシル残基単位、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジプロピル残基単位、フマル酸ジペンチル残基単位、フマル酸ジヘキシル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジn−ブチル残基単位、フマル酸ジイソブチル残基単位、フマル酸ジsec−ブチル残基単位、フマル酸ジtert−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロプロピル残基単位、フマル酸ジシクロブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が高い面外位相差を発現することから、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジtert−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位が好ましく、フマル酸ジイソプロピル残基単位がさらに好ましい。   Specific examples of the fumarate residue unit represented by the general formula (1) include a monomethyl fumarate residue unit, a monoethyl fumarate residue unit, an isopropyl fumarate residue unit, and a monopentyl fumarate unit. Residue unit, monohexyl fumarate residue unit, mono n-butyl fumarate residue unit, monoisobutyl fumarate residue unit, mono sec-butyl fumarate residue unit, mono tert-butyl fumarate residue unit , Monocyclopropyl fumarate residue unit, monocyclobutyl fumarate residue unit, monocyclohexyl fumarate residue unit, dimethyl fumarate residue unit, diethyl fumarate residue unit, dipropyl fumarate residue unit, fumaric acid unit Dipentyl residue unit, dihexyl fumarate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit, di-n-butyl fumarate residue unit Diisobutyl fumarate residue unit, disec-butyl fumarate residue unit, ditert-butyl fumarate residue unit, dicyclopropyl fumarate unit, dicyclobutyl fumarate unit, dicyclohexyl fumarate unit, etc. Is mentioned. Among these, since the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer exhibits a high out-of-plane retardation, diisopropyl fumarate residue units, ditert-butyl fumarate residue units, dicyclohexyl fumarate residue units Are preferred, and diisopropyl fumarate residue units are more preferred.

本発明の一般式(2)におけるRは、炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、nは1〜5の整数である。 R 3 in the general formula (2) of the present invention represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a hexyl group, and a dodecyl group. N is an integer of 1-5.

そして、具体的な一般式(2)で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位としては、メトキシケイ皮酸残基単位、エトキシケイ皮酸残基単位、プロポキシケイ皮酸残基単位、ブトキシケイ皮酸残基単位、ペントキシケイ皮酸残基単位、ヘキソキシケイ皮酸残基単位、ヘプトキシケイ皮酸残基単位、オクトキシケイ皮酸残基単位、ノナノキシケイ皮酸残基単位、デカノキシケイ皮酸残基単位、ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、ドデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Specific examples of the alkoxycinnamic acid residue unit represented by the general formula (2) include methoxycinnamic acid residue units, ethoxycinnamic acid residue units, propoxycinnamic acid residue units, butoxycinnamic acid residues. Residue unit, pentoxycinnamic acid residue unit, hexoxycinnamic acid residue unit, heptoxycinnamic acid residue unit, octoxycinnamic acid residue unit, nonanoxycinnamic acid residue unit, decanoxycinnamic acid residue unit, undecanoxy Examples thereof include a cinnamic acid residue unit and a dodecanoxycinnamic acid residue unit.

メトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸残基単位、3−メトキシケイ皮酸残基単位、4−メトキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタメトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of the methoxycinnamic acid residue unit include 2-methoxycinnamic acid residue unit, 3-methoxycinnamic acid residue unit, 4-methoxycinnamic acid residue unit, and 2,3-dimethoxycinnamic acid. Residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic leather Acid residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid residue unit 2,3,4,5,6-pentamethoxycinnamic acid residue units and the like.

エトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸残基単位、3−エトキシケイ皮酸残基単位、4−エトキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタエトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of ethoxycinnamic acid residue units include 2-ethoxycinnamic acid residue units, 3-ethoxycinnamic acid residue units, 4-ethoxycinnamic acid residue units, 2,3-diethoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-diethoxycinnamic acid residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid residue unit, 2,3 , 5-triethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5- Tetraethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5 , 6-pentaethoxycinnamic acid residue unit and the like.

プロポキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−プロポキシケイ皮酸残基単位、3−プロポキシケイ皮酸残基単位、4−プロポキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタプロポキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of the propoxycinnamic acid residue units include 2-propoxycinnamic acid residue units, 3-propoxycinnamic acid residue units, 4-propoxycinnamic acid residue units, and 2,3-dipropoxycinnamic skin. Acid residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4 Tripropoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid Residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic leather Acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentapropoxycinnamic acid residue Position, and the like.

ブトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ブトキシケイ皮酸残基単位、3−ブトキシケイ皮酸残基単位、4−ブトキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジブトキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジブトキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジブトキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリブトキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタブトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of the butoxycinnamic acid residue units include 2-butoxycinnamic acid residue units, 3-butoxycinnamic acid residue units, 4-butoxycinnamic acid residue units, 2,3-dibutoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-dibutoxycinnamic acid residue unit, 2,5-dibutoxycinnamic acid residue unit, 2,6-dibutoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-tributoxycinnamic acid residue unit, 2,3 , 5-Tributoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-tributoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-tributoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5- Tetrabutoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetrabutoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetrabutoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5 , 6-pentaboxycinnamic acid residue unit and the like.

ペントキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ペントキシケイ皮酸残基単位、3−ペントキシケイ皮酸残基単位、4−ペントキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジペントキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジペントキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジペントキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリペントキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタペントキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of pentoxycinnamic acid residue units include 2-pentoxycinnamic acid residue units, 3-pentoxycinnamic acid residue units, 4-pentoxycinnamic acid residue units, 2,3-dipentoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-dipentoxycinnamic acid residue unit, 2,5-dipentoxycinnamic acid residue unit, 2,6-dipentoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-tripentoxycinnamic acid residue unit, 2, 3,5-tripentoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-tripentoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-tripentoxycinnamic acid residue unit, 2,3, 4,5-tetrapentoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetrapentoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetrapentoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentapentoxycinnamic acid residue Position, and the like.

ヘキソキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタヘキソキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of hexoxycinnamic acid residue units include 2-hexoxycinnamic acid residue units, 3-hexoxycinnamic acid residue units, 4-hexoxycinnamic acid residue units, 2,3-dihexycinnamic acid residue units, 2 , 4-dihexoxycinnamic acid residue units, 2,5-dihexoxycinnamic acid residue units, 2,6-dihexoxycinnamic acid residue units, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid residue units, 2, 3,5-trihexycinnamic acid residue unit, 2,3,6-trihexycinnamic acid residue unit, 2,4,6-trihexycinnamic acid residue unit, 2,3,6 4,5-tetrahexycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetrahexycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetrahexycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentahexoxycinnamic acid residue Position, and the like.

ヘプトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、3−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、4−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタヘプトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of heptoxycinnamic acid residue units include 2-heptoxycinnamic acid residue units, 3-heptoxycinnamic acid residue units, 4-heptoxycinnamic acid residue units, 2,3-diheptoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-diheptoxycinnamic acid residue unit, 2,5-diheptoxycinnamic acid residue unit, 2,6-diheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-triheptoxycinnamic acid residue unit, 2, 3,5-triheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-triheptoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-triheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3, 4,5-tetraheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetraheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetraheptoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentaheptoxycinnamic acid residue Position, and the like.

オクトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−オクトキシケイ皮酸残基単位、3−オクトキシケイ皮酸残基単位、4−オクトキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタオクトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of octoxycinnamic acid residue units include 2-octoxycinnamic acid residue units, 3-octoxycinnamic acid residue units, 4-octoxycinnamic acid residue units, 2,3-dioctoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-Dioctoxycinnamic acid residue unit, 2,5-Dioctoxycinnamic acid residue unit, 2,6-Dioctoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-Trioctoxycinnamic acid residue unit, 2, 3,5-trioctoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-trioctoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-trioctoxycinnamic acid residue unit, 2,3, 4,5-tetraoctoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetraoctoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetraoctoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentaoctoxycinnamic acid residue Position, and the like.

ノナノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ノナノキシケイ皮酸残基単位、3−ノナノキシケイ皮酸残基単位、4−ノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタノナノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Nonanoxycinnamic acid residue units include, for example, 2-nonanoxycinnamic acid residue units, 3-nonanoxycinnamic acid residue units, 4-nonanoxycinnamic acid residue units, 2,3-dinonoxycinnamic acid residue units, 2 , 4-dinonoxy cinnamate residue unit, 2,5-dinonoxy cinnamate residue unit, 2,6-dinonoxy cinnamate residue unit, 2,3,4-trinonano cinnamate residue unit, 2, 3,5-trinonanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-trinonanoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-trinonanoxincinnamic acid residue unit, 2,3, 4,5-tetranonanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetranonanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetranonanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6-pentanonanoxycinnamic acid residue Position, and the like.

デカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−デカノキシケイ皮酸残基単位、3−デカノキシケイ皮酸残基単位、4−デカノキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of the decanoxycinnamic acid residue unit include 2-decanoxycinnamic acid residue unit, 3-decanoxycinnamic acid residue unit, 4-decanoxycinnamic acid residue unit, 2,3-dideoxycinnamic acid residue unit, 2 , 4-didecanoxycinnamic acid residue units, 2,5-didecanoxycinnamic acid residue units, 2,6-didecanoxycinnamic acid residue units, 2,3,4-tridecanoxycinnamic acid residue units, 2, 3,5-tridecanoxycinnamic acid residue units, 2,3,6-tridecanoxycinnamic acid residue units, 2,4,6-tridecanoxycinnamic acid residue units, 2,3, 4,5-tetradecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetradecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetradecanoxycinnamic acid residue Base unit, 2,3,4,5,6-pentadecanoxycinnamic acid residue Position, and the like.

ウンデカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、3−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、4−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタウンデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   As the undecanoxycinnamic acid residue unit, for example, 2-undecanoxycinnamic acid residue unit, 3-undecanoxycinnamic acid residue unit, 4-undecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3-diundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,4-diundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,5-diundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,6-diun Decanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4-triundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5-triundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6- Triundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,4,6-triundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5-tetraundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3 , 4,6-tetraundecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetraundecanoxycinnamic skin Residue unit, 2,3,4,5,6-pen Town decanoate carboxy cinnamic acid residue unit, and the like.

ドデカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、2−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、3−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、4−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,5−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,6−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,6−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,4,6−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,6−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,5,6−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、2,3,4,5,6−ペンタドデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。   Examples of dodecanoxycinnamic acid residue units include 2-dodecanoxycinnamic acid residue units, 3-dodecanoxycinnamic acid residue units, 4-dodecanoxycinnamic acid residue units, and 2,3-didodecanoxycinnamic acid residue units. Base unit, 2,4-didodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,5-didodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,6-didodecanoxycinnamic acid residue unit, 2, 3,4-tridodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,5-tridodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,6-tridodecanoxycinnamic acid residue unit, 2 , 4,6-tridodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5-tetradodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,6-tetradodecanoxycinnamic acid Residue unit, 2,3,5,6-tetradodecanoxycinnamic acid residue unit, 2,3,4,5,6 Penta dodecanoate carboxy cinnamic acid residue unit, and the like.

これらの中でも、高い位相差を発現することから、2−メトキシケイ皮酸残基単位、4−メトキシケイ皮酸残基単位、2−エトキシケイ皮酸残基単位、4−エトキシケイ皮酸残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸残基単位がさらに好ましい。   Among these, since a high phase difference is expressed, 2-methoxycinnamic acid residue unit, 4-methoxycinnamic acid residue unit, 2-ethoxycinnamic acid residue unit, 4-ethoxycinnamic acid residue unit Are preferred, and 4-methoxycinnamic acid residue units are more preferred.

本発明におけるフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる1種また2種以上を挙げることができる。   The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer in the present invention may contain other monomer residue units as long as the scope of the present invention is not exceeded. Is, for example, a styrene residue unit such as a styrene residue unit or an α-methylstyrene residue unit; a (meth) acrylic acid residue unit; a (meth) acrylic acid methyl residue unit, a (meth) acrylic acid ethyl residue Group units, (meth) acrylate residue units such as (meth) acrylate butyl residue units; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residue units; Methacrylonitrile residue units; vinyl ether residue units such as methyl vinyl ether residue units, ethyl vinyl ether residue units, butyl vinyl ether residue units; N-methylmale N-substituted maleimide residue units such as N residue units, N-cyclohexylmaleimide residue units and N-phenylmaleimide residue units; selected from olefin residue units such as ethylene residue units and propylene residue units 1 type or 2 types or more can be mentioned.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れたものとなることから、フマル酸エステル残基単位50〜99モル%およびアルコキシケイ皮酸残基単位1〜50モル%が好ましく、フマル酸エステル残基単位70〜97モル%およびアルコキシケイ皮酸残基単位3〜30モル%がさらに好ましい。   Since the composition of the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention has excellent retardation characteristics and strength when used as a retardation film, the fumaric acid ester residue unit is 50 to 99 mol%. And 1 to 50 mol% of alkoxycinnamic acid residue units are preferred, 70 to 97 mol% of fumaric acid ester residue units and 3 to 30 mol% of alkoxycinnamic acid residue units are more preferred.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30,000〜500,000あることが好ましく、30,000〜300,000であることがさらに好ましい。   Since the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention has excellent mechanical properties, it is converted into standard polystyrene in terms of an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The number average molecular weight is preferably 30,000 to 500,000, and more preferably 30,000 to 300,000.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の製造方法としては、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、フマル酸エステルとアルコキシケイ皮酸のラジカル重合を行うことにより製造することができる。   As the method for producing the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention, it may be produced by any method as long as the fumaric acid ester-alkoxy cinnamic acid copolymer is obtained. And alkoxycinnamic acid can be produced by radical polymerization.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。   For the radical polymerization, any known polymerization method, for example, bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method or emulsion polymerization method can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2 Azo initiators such as 1,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), and the like.

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Methanol, ethanol, propanol, butanol, etc. Cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, water and the like, and mixed solvents thereof.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, since the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator and the control of the reaction is easy, it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. It is preferable.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。   When an optical film using the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention is obtained, since it has a high out-of-plane retardation even in a thin film and is excellent in optical characteristics, it should be a retardation film. Is preferred.

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。   In the retardation film of the present invention, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction perpendicular thereto is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz. A retardation film characterized in that the relationship is nx ≦ ny <nz. By satisfying nx ≦ ny <nz, the viewing angle of STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, transflective LCD, etc. The retardation film is excellent in compensation performance. In general, since the control of the three-dimensional refractive index of the film is performed by stretching the film and the like, the manufacturing process and quality control are complicated. However, the retardation film of the present invention is unstretched and has a refractive index in the film thickness direction. Has been found to exhibit a unique behavior of high.

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−50〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で4.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、5〜15nm/フィルム膜厚(μm)がさらに好ましい。
In addition, since the retardation film of the present invention becomes a retardation film having more excellent optical properties, an out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is −50 to −. It is preferably 2000 nm, and more preferably −100 to −500 nm.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the relationship between the film thickness and the out-of-plane retardation is preferably 4.5 nm / film thickness (μm) or more in absolute value. 15 nm / film thickness (μm) is more preferable.

位相差の波長依存性は、波長450nmで測定した位相差(R450)と波長550nmで測定した位相差(R550)の比R450/R550として表すことができる。本発明の位相差フィルムでは、該R450/R550は、1.1以下が好ましく、1.08以下がさらに好ましく、1.05以下が特に好ましい。   The wavelength dependence of the phase difference can be expressed as a ratio R450 / R550 of the phase difference (R450) measured at a wavelength of 450 nm and the phase difference (R550) measured at a wavelength of 550 nm. In the retardation film of the present invention, the R450 / R550 is preferably 1.1 or less, more preferably 1.08 or less, and particularly preferably 1.05 or less.

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   When the retardation film of the present invention is used in a liquid crystal display device, the image quality characteristics are good, and therefore, the light transmittance is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. . The haze (cloudiness) of the retardation film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the phase difference film of this invention, For example, methods, such as a solution cast method and a melt cast method, are mentioned.

溶液キャスト法は、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。   In the solution casting method, a solution in which a fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to form a film. How to get. In this case, as a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. Particularly, industrially, a method in which a dope is continuously extruded from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is the most common. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, More preferably, it is -10000 cPs.

この際のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは5〜100μm、特に好ましくは10〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 5 to 100 μm, particularly preferably 10 to 50 μm, since the film can be easily handled. It is.

また、溶融キャスト法は、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。   The melt casting method is a molding method in which a fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer is melted in an extruder, extruded into a film form from a slit of a T die, and then cooled and cooled with a roll or air. .

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。   The retardation film of the present invention can be used by being peeled off from a glass substrate as a base material or another optical film, and can also be used as a laminate with a glass substrate as a base material or another optical film.

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film of the present invention can be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, and can be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. is there. Furthermore, the retardation films of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独または併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、酸化防止作用のより効果的な発現のため、本発明の位相差フィルムを構成するフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体100重量部に対して、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   In the retardation film of the present invention, an antioxidant is preferably blended in order to increase the thermal stability of the retardation film itself or during film formation. Examples of the antioxidant include hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants. These antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is preferable to use together a hindered antioxidant and phosphorus antioxidant, and in that case, for example with respect to 100 weight part of hindered antioxidant More preferably, the phosphorus-based antioxidant is used in a mixture of 100 to 500 parts by weight. Moreover, as the addition amount of the antioxidant, for more effective expression of the antioxidant action, with respect to 100 parts by weight of the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer constituting the retardation film of the present invention, 0.01 to 10 parts by weight is preferable, and 0.5 to 1 part by weight is more preferable.

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。   Furthermore, as an ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, or benzoate may be blended as necessary.

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。   The retardation film of the present invention is blended with other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc. within the scope of the invention. May be.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を提供することができる。   According to the present invention, optical properties such as a contrast film and a viewing angle characteristic compensation film and an antireflection film of a liquid crystal display having a large refractive index in the thickness direction, a large in-plane retardation, and a small wavelength dependency. It is possible to provide a fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer suitable for an excellent retardation film.

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、薄膜においても高い面外位相差を有し、フィルムの厚み方向の屈折率が大きい等の光学特性に優れる位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体であり、特に液晶表示素子用の光学補償フィルム用として適したものである。   The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film and is suitable for a retardation film excellent in optical properties such as a large refractive index in the thickness direction of the film. It is an acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer, and is particularly suitable for an optical compensation film for a liquid crystal display device.

延伸による屈折率楕円体の変化Change in refractive index ellipsoid by stretching

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of fumarate ester-alkoxycinnamic acid copolymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-GX270), it was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, trade name C0-8011 (equipped with column GMH HR- H)), tetrahydrofuran was measured as a solvent at 40 ° C., and the standard polystyrene equivalent value was obtained. Asked.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
An Abbe refractometer (manufactured by Atago) was used and measured according to JIS K 7142 (1981 version).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
<Measurement of retardation and three-dimensional refractive index of film>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

実施例1(フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸共重合体の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)、4−メトキシケイ皮酸2.4g(0.013モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0016モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸共重合体28gを得た(収率:53%)。
Example 1 (Synthesis of diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid copolymer)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate, 2.4 g (0.013 mol) of 4-methoxycinnamic acid and 0.29 g (0 of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator). .0016 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 80 ° C. for 10 hours to obtain 28 g of diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid copolymer (yield: 53 %).

得られたフマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は152,000であった。   The number average molecular weight of the obtained diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid copolymer was 152,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/4−メトキシケイ皮酸残基単位=96/4(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed to be diisopropyl fumarate residue units / 4-methoxycinnamic acid residue units = 96/4 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

実施例2(フマル酸ジイソプロピル/2−メトキシケイ皮酸共重合体の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)、2−メトキシケイ皮酸7.9g(0.044モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.32g(0.0018モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/2−メトキシケイ皮酸共重合体26gを得た(収率:45%)。
Example 2 (Synthesis of diisopropyl fumarate / 2-methoxycinnamic acid copolymer)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate, 7.9 g (0.044 mol) of 2-methoxycinnamic acid, and 0.32 g (0 of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator). .0018 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 26 g of diisopropyl fumarate / 2-methoxycinnamic acid copolymer (yield: 45 %).

得られたフマル酸ジイソプロピル/2−メトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は126,000であった。   The number average molecular weight of the obtained diisopropyl fumarate / 2-methoxycinnamic acid copolymer was 126,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/2−メトキシケイ皮酸残基単位=87/13(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be diisopropyl fumarate residue unit / 2-methoxycinnamic acid residue unit = 87/13 (mol%).

実施例3(フマル酸ジイソプロピル/4−エトキシケイ皮酸共重合体の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)、4−エトキシケイ皮酸20.6g(0.107モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.40g(0.0023モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル/4−エトキシケイ皮酸共重合体20gを得た(収率:28%)。
Example 3 (Synthesis of diisopropyl fumarate / 4-ethoxycinnamic acid copolymer)
In a glass ampoule having a capacity of 75 mL, 50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate, 20.6 g (0.107 mol) of 4-ethoxycinnamic acid and 0.40 g (0. 0023 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 20 g of diisopropyl fumarate / 4-ethoxycinnamic acid copolymer (yield: 28% ).

得られたフマル酸ジイソプロピル/4−エトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は81,000であった。   The number average molecular weight of the obtained diisopropyl fumarate / 4-ethoxycinnamic acid copolymer was 81,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/4−エトキシケイ皮酸残基単位=75/25(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be diisopropyl fumarate residue units / 4-ethoxycinnamic acid residue units = 75/25 (mol%).

実施例4
実施例1で得られたフマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸共重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのフマル酸ジイソプロピル/4−メトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 4
The diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid copolymer obtained in Example 1 was dissolved in methyl isobutyl ketone to give a 15% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, at 130 ° C. By drying for 10 minutes, a film using a 30 μm thick diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid copolymer was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.475であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.475.

三次元屈折率は、nx=1.4723、ny=1.4723、nz=1.4790であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−200nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.06であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は6.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.4723, ny = 1.4723, nz = 1.4790, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . The out-of-plane retardation Rth was as large as -200 nm, and the phase difference ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was 1.06. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 6.7 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例5
実施例2で得られたフマル酸ジイソプロピル/2−メトキシケイ皮酸共重合体をトルエン/メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのフマル酸ジイソプロピル/2−メトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 5
The diisopropyl fumarate / 2-methoxycinnamic acid copolymer obtained in Example 2 was dissolved in a toluene / methyl isobutyl ketone mixed solvent to give a 15% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. By drying at 130 ° C. for 10 minutes, a film using a 30 μm thick diisopropyl fumarate / 2-methoxycinnamic acid copolymer was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.4%、屈折率1.485であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.485.

三次元屈折率は、nx=1.4824、ny=1.4824、nz=1.4894であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−211nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.08であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は7.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4824, ny = 1.4824, nz = 1.4894, and the obtained film showed a large value of refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −211 nm, and the phase difference ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was 1.08. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 7.0 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例6
実施例3で得られたフマル酸ジイソプロピル/4−エトキシケイ皮酸共重合体を酢酸エチル/メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み15μmのフマル酸ジイソプロピル/4−エトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。
Example 6
The diisopropyl fumarate / 4-ethoxycinnamic acid copolymer obtained in Example 3 was dissolved in an ethyl acetate / methyl isobutyl ketone mixed solvent to give a 15% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater. By drying at 130 ° C. for 10 minutes, a film using a 15 μm-thick diisopropyl fumarate / 4-ethoxycinnamic acid copolymer was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.495であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.495.

三次元屈折率は、nx=1.4930、ny=1.4930、nz=1.5000であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−105nmと負に大きく、さらに位相差の比(R450/R550)(波長依存性)は1.10であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は7.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4930, ny = 1.4930, nz = 1.5000, and the obtained film exhibited a large value of refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . The out-of-plane retardation Rth was as large as −105 nm, and the phase difference ratio (R450 / R550) (wavelength dependence) was 1.10. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 7.0 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

比較例1(フマル酸ジエステル系共重合体(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ビス2−エチルヘキシル共重合体)の合成1)
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH−50)1.6g、蒸留水520g、フマル酸ジイソプロピル196g、フマル酸ビス2−エチルヘキシル84g、及び重合開始剤であるt−ブチルパーオキシピバレート1.9gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た(収率:66%)。
Comparative Example 1 (Synthesis 1 of Fumarate Diester Copolymer (Diisopropyl Fumarate / Bis-2-ethylhexyl Fumarate Copolymer) 1)
In a 1 L autoclave equipped with a stirrer, a condenser tube, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 1.6 g of hydroxypropylmethylcellulose (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name Metrose 60SH-50), 520 g of distilled water, 196 g of diisopropyl fumarate, bis of fumarate 84 g of 2-ethylhexyl and 1.9 g of t-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator were added, nitrogen bubbling was performed for 1 hour, and then the suspension was kept at 50 ° C. for 24 hours while stirring at 400 rpm. Polymerization was performed. After cooling to room temperature, the resulting suspension containing polymer particles was filtered off and washed with distilled water and methanol to obtain a fumaric acid diester copolymer (yield: 66%).

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は86,000であった。また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ビス2−エチルヘキシル残基単位=84/16(モル%)であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester copolymer was 86,000. The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be diisopropyl fumarate residue unit / bis2-ethylhexyl fumarate residue unit = 84/16 (mol%).

比較例2(フマル酸ジエステル系共重合体(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジn−ブチル共重合体)の合成2)
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH−50)1.6g、蒸留水520g、フマル酸ジイソプロピル230g、フマル酸ジn−ブチル50g、および重合開始剤であるt−ブチルパーオキシピバレート2.1gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た(収率:80%)。
Comparative Example 2 (Synthesis 2 of fumarate diester copolymer (diisopropyl fumarate / di-n-butyl fumarate copolymer) 2)
In a 1 L autoclave equipped with a stirrer, a condenser tube, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 1.6 g of hydroxypropylmethylcellulose (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name Metrose 60SH-50), 520 g of distilled water, 230 g of diisopropyl fumarate, difumarate di After adding 50 g of n-butyl and 2.1 g of t-butyl peroxypivalate which is a polymerization initiator and carrying out nitrogen bubbling for 1 hour, the suspension is kept at 50 ° C. for 24 hours while stirring at 400 rpm. Polymerization was performed. The mixture was cooled to room temperature, and the resulting suspension containing polymer particles was filtered off and washed with distilled water and methanol to obtain a fumaric acid diester copolymer (yield: 80%).

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は150,000であった。また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジn−ブチル残基単位=87/13(モル%)であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester copolymer was 150,000. The copolymer composition was confirmed to be diisopropyl fumarate residue unit / di-n-butyl fumarate residue unit = 87/13 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

比較例3
比較例1で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン/メチルエチルケトン=50/50混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのフィルムを得た。
Comparative Example 3
The fumaric acid diester copolymer obtained in Comparative Example 1 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 50/50 mixed solvent to form a 20% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, at 70 ° C. A film having a thickness of 30 μm was obtained by drying for 10 minutes.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.473であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.473.

三次元屈折率は、nx=1.4723、ny=1.4723、nz=1.4738であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−45nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も1.5nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4723, ny = 1.4723, nz = 1.4738, and the obtained film had a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation was as small as −45 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 1.5 nm / film thickness (μm).

比較例4
比較例2で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン/メチルエチルケトン=50/50混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み15μmのフィルムを得た。
Comparative Example 4
The fumaric acid diester copolymer obtained in Comparative Example 2 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 50/50 mixed solvent to give a 20% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, at 70 ° C. A film having a thickness of 15 μm was obtained by drying for 10 minutes.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.472であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.472.

三次元屈折率は、nx=1.4712、ny=1.4712、nz=1.4743であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−47nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も3.1nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4712, ny = 1.4712, nz = 1.4743, and the obtained film had a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation was as small as −47 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 3.1 nm / film thickness (μm).

nx;フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ny;nxと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
nz;フィルムの厚み方向の屈折率を示す。
nx: Refractive index in the fast axis direction in the film plane.
ny: Refractive index in the film in-plane direction orthogonal to nx.
nz: The refractive index in the thickness direction of the film.

Claims (7)

下記一般式(1)で表されるフマル酸エステル残基単位および下記一般式(2)で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むことを特徴とするフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
Figure 2017105962
(ここで、Rは水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
Figure 2017105962
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
A fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer comprising a fumaric acid ester residue unit represented by the following general formula (1) and an alkoxycinnamic acid residue unit represented by the following general formula (2): Polymer.
Figure 2017105962
(Here, R 1 represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and R 2 represents a linear chain having 1 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)
Figure 2017105962
(Here, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 5.)
フマル酸エステル残基単位50〜99モル%、アルコキシケイ皮酸残基単位1〜50モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。 2. The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer according to claim 1, comprising 50 to 99 mol% of fumaric acid ester residue units and 1 to 50 mol% of alkoxycinnamic acid residue units. フマル酸エステル残基単位が、フマル酸ジイソプロピル残基単位であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。 The fumarate ester-alkoxycinnamic acid copolymer according to claim 1 or 2, wherein the fumarate residue unit is a diisopropyl residue unit. アルコキシケイ皮酸残基単位が2−メトキシケイ皮酸残基単位、2−エトキシケイ皮酸残基単位、4−メトキシケイ皮酸残基単位、4−エトキシケイ皮酸残基単位からなる群より選択されるアルコキシケイ皮酸残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。 The alkoxycinnamic acid residue unit is selected from the group consisting of 2-methoxycinnamic acid residue unit, 2-ethoxycinnamic acid residue unit, 4-methoxycinnamic acid residue unit, 4-ethoxycinnamic acid residue unit The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the unit is an alkoxycinnamic acid residue unit. 標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30,000〜500,000であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。 The fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the number average molecular weight in terms of standard polystyrene is 30,000 to 500,000. 請求項1〜請求項5のいずれかに記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film using the fumaric acid ester-alkoxycinnamic acid copolymer according to any one of claims 1 to 5. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項6に記載の位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx ≦ ny <nz. The retardation film according to claim 6, wherein the retardation film is present.
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