JP6751379B2 - 光時間領域反射測定方法および光時間領域反射測定装置 - Google Patents
光時間領域反射測定方法および光時間領域反射測定装置 Download PDFInfo
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Description
光源からの光をパルス化した一方のパルス光をプローブパルスとして被測定ファイバに入射する入射手順と、
前記光源からの光をパルス化した他方のパルス光を用い、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させて前記他方のパルス光のパルス間に配置することで連続光を生成する連続光生成手順と、
前記連続光生成手順で生成した前記連続光を局発光として前記被測定ファイバからの戻り光と干渉させて干渉ビート信号を取得する干渉手順と、
前記干渉手順で取得した前記干渉ビート信号の強度及び位相を解析する解析手順と、
を行うことを特徴とする。
光源からの光をパルス化した一方のパルス光をプローブパルスとして被測定ファイバに入射する入射手段と、
前記光源からの光をパルス化した他方のパルス光を用い、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させて前記他方のパルス光のパルス間に配置することで連続光を生成する連続光生成手段と、
前記連続光生成手段が生成した前記連続光を局発光として前記被測定ファイバからの戻り光と干渉させて干渉ビート信号を取得する干渉手段と、
前記干渉手段が取得した前記干渉ビート信号の強度及び位相を解析する解析手段と、
を備えることを特徴とする。
光源10からの光をパルス化した一方のパルス光をプローブパルスとして被測定ファイバ50に入射する入射手段101と、
光源10からの光をパルス化した他方のパルス光を用い、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させて前記他方のパルス光のパルス間に配置することで連続光を生成する連続光生成手段18と、
連続光生成手段18が生成した前記連続光を局発光として被測定ファイバ50からの戻り光と干渉させて干渉ビート信号を取得する干渉手段102と、
干渉手段102が取得した前記干渉ビート信号の強度及び位相を解析する解析手段103と、
を備えることを特徴とする。
本発明に係る光時間領域反射測定方法及び装置は、位相OTDRにおいて光源のコヒーレンシを越えた距離においても位相状態を精度よく測定できる。また、本発明に係る光時間領域反射測定方法及び装置は、高コヒーレントな光源を用いる必要がないため、経済的な装置構成が可能になる。
12:パルス化部
14:カプラ
15:光サーキュレータ
16:カプラ
17:光受信器
18:連続光生成手段
21:カプラ
22:光減衰器
23:光アンプ
24:バンドパスフィルタ
50:被測定ファイバ
101:入射手段
102:干渉手段
103:解析部
301:光時間領域反射測定装置
Claims (8)
- 光時間領域反射測定方法であって、
光源からの光をパルス化した一方のパルス光をプローブパルスとして被測定ファイバに入射する入射手順と、
前記光源からの光をパルス化した他方のパルス光を用い、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させて前記他方のパルス光のパルス間に配置することで連続光を生成する連続光生成手順と、
前記連続光生成手順で生成した前記連続光を局発光として前記被測定ファイバからの戻り光と干渉させて干渉ビート信号を取得する干渉手順と、
前記干渉手順で取得した前記干渉ビート信号の強度及び位相を解析する解析手順と、
を行うことを特徴とする光時間領域反射測定方法。 - 前記連続光生成手順では、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させる遅延時間が前記他方のパルス光のパルス幅と等しいことを特徴とする請求項1に記載の光時間領域反射測定方法。
- 前記連続光生成手順では、前記他方のパルス光から分岐させた一部の光強度を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載の光時間領域反射測定方法。
- 前記連続光生成手順では、
前記干渉手順において、前記被測定ファイバの最遠端で反射して戻った前記プローブパルスが前記局発光と干渉するときから次の前記プローブパルスを前記被測定ファイバに入射するときまでの間、前記他方のパルス光から分岐させた一部の光強度を減衰することを特徴とする請求項3に記載の光時間領域反射測定方法。 - 光時間領域反射測定装置であって、
光源からの光をパルス化した一方のパルス光をプローブパルスとして被測定ファイバに入射する入射手段と、
前記光源からの光をパルス化した他方のパルス光を用い、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させて前記他方のパルス光のパルス間に配置することで連続光を生成する連続光生成手段と、
前記連続光生成手段が生成した前記連続光を局発光として前記被測定ファイバからの戻り光と干渉させて干渉ビート信号を取得する干渉手段と、
前記干渉手段が取得した前記干渉ビート信号の強度及び位相を解析する解析手段と、
を備えることを特徴とする光時間領域反射測定装置。 - 前記連続光生成手段は、前記他方のパルス光から分岐させた一部を遅延させる遅延時間が前記他方のパルス光のパルス幅と等しいことを特徴とする請求項5に記載の光時間領域反射測定装置。
- 前記連続光生成手段は、前記他方のパルス光から分岐させた一部の光強度を調整することを特徴とする請求項5又は6に記載の光時間領域反射測定装置。
- 前記連続光生成手段は、
前記干渉手段において、前記被測定ファイバの最遠端で反射して戻った前記プローブパルスが前記局発光と干渉するときから次の前記プローブパルスを前記被測定ファイバに入射するときまでの間、前記他方のパルス光から分岐させた一部の光強度を減衰することを特徴とする請求項7に記載の光時間領域反射測定装置。
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