JP6750635B2 - 撮像素子および撮像装置 - Google Patents

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Description

本発明は、撮像素子および撮像装置に関する。
従来より有機光電変換膜を有する画素が配置された撮像素子が知られている。
しかしながら、従来の撮像素子では、各画素の受光領域の大きさを変えることができなかった。
日本国特開2014−67948号公報
本発明の第1の態様による撮像素子は、光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部の一方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第1電極および第2電極と、前記光電変換部の他方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第3電極および第4電極と、前記光電変換部で生成された電荷を、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第3電極と、前記第4電極とによって読み出し可能な読み出し部と、を備え、前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第3電極との間で発生した電荷を読み出し可能である
一実施の形態によるデジタルカメラの構成を例示する図である。 第1および第2の撮像素子の概要を示す図である。 (a)は第1の撮像素子の一部である10行×6列の画素の配置を示す図であり、(b)は第2の撮像素子の一部である10行×6列の画素の配置を示す図である。 (a)は第1の撮像素子の1つの画素を被写体側から見た平面図であり、(b)は画素を側面から見た側面図であり、(c)は(b)のc1−c1矢視断面図である。 (a),(b)は第1の撮像素子の画素の構造を模式的に示す図であり、(c)は第2の撮像素子の画素の構造を模式的に示す図である。 第1および第2の撮像素子の一画素の構成を示す断面図である。 第1の撮像素子における1つの画素の信号読み出し回路構成を例示する図である。 被写体側から見た、画素210の有機光電変換膜230において電荷を読み出す光電変換領域を示す図である。 射出瞳面と測距瞳面との位置関係に応じて、第1および第2の撮像素子上に配置された画素に到来する一対の光束が撮影光学系の射出瞳によりどのように制限されるかについての口径蝕(ケラレ)の様子を示した図である。 第1および第2の撮像素子の撮像面の正面図である。 周辺位置に配置された画素の第1および第2の光電変換部に入射する光束の範囲を示した正面図である。 撮影光学系の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合について説明する図である。 撮影光学系の射出瞳距離dnが測距瞳距離dよりも短い場合について説明する図である。 撮影光学系の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合について説明する図である。 大デフォーカス状態の場合について説明する図である。 変形例を示す図である。 変形例を示す図である。 変形例を示す図である。 変形例を示す図である。 変形例を示す図である。 変形例を示す図である。
図1は、本発明の一実施の形態によるデジタルカメラ1の構成を例示する図である。デジタルカメラ1は、撮影光学系10、撮像部11、制御部12、操作部13、画像処理部14、液晶モニタ15、バッファメモリ16を有する。また、デジタルカメラ1には、メモリカード17が装着されている。メモリカード17は、不揮発性のフラッシュメモリなどから構成され、デジタルカメラ1に対して着脱可能である。
撮影光学系10は、複数のレンズにより構成され、撮像部11の撮像面に被写体像を結像させる。撮影光学系10を構成する複数のレンズには、焦点調節のために光軸方向に駆動されるフォーカスレンズが含まれる。フォーカスレンズは、不図示のレンズ駆動部により光軸方向に駆動される。
撮像部11は、互いに積層された第1および第2の撮像素子21,22と、増幅回路23と、AD変換回路24とを有する。第1および第2の撮像素子21,22の各々は、2次元状に配列された複数の画素から構成され、撮影光学系10を介して被写体からの光束を受光し、光電変換を行って光電変換信号を出力する。第1および第2の撮像素子21,22の各画素は、後に詳述するように、それぞれアナログの光電変換信号を出力する。これらの光電変換信号は、後述するように位相差式焦点検出用の信号として使用されると共に、撮影画像用の信号として使用される。増幅回路23は、光電変換信号を所定の増幅率(ゲイン)で増幅してAD変換回路24に出力する。AD変換回路24は、光電変換信号をAD変換する。
制御部12は、マイクロプロセッサおよびその周辺回路から構成され、不図示のROMに格納された制御プログラムを実行することにより、デジタルカメラ1の各種の制御を行う。また、制御部12は、焦点検出部12aと画像生成部12bとを機能的に有する。これらの各機能部は、上記の制御プログラムによりソフトウェア的に実装される。なお、これらの各機能部を電子回路により構成することも可能である。
制御部12は、AD変換回路24によってAD変換された光電変換信号をバッファメモリ16に格納する。焦点検出部12aは、バッファメモリ16に格納された第1の撮像素子21の光電変換信号に基づき、およびバッファメモリ16に格納された第2の撮像素子22の光電変換信号に基づき、それぞれ撮影光学系10の焦点調節状態を検出する。画像生成部12bは、バッファメモリ16に格納された第2の撮像素子22の光電変換信号から画像信号を生成する。
画像処理部14は、ASIC等により構成されている。画像処理部14は、画像生成部12bからの画像信号に対して、補間処理、圧縮処理、ホワイトバランス処理などの各種の画像処理を行って画像データを生成する。この画像データは、液晶モニタ15に表示されたり、メモリカード17に格納されたりする。
操作部13は、レリーズ操作部材やモード切り替え操作部材や焦点検出エリア設定用の操作部材や電源操作部材などの各種の操作部材から構成され、撮影者により操作される。操作部13は、撮影者による上記の各操作部材の操作に応じた操作信号を制御部12へ出力する。
(第1および第2の撮像素子21,22の説明)
図2は、本実施形態に係る第1および第2の撮像素子21,22の概要を示す図である。第1の撮像素子21は、有機光電変換膜を光電変換部とする撮像素子であり、第2の撮像素子22は、半導体基板に形成されたフォトダイオードを光電変換部とする撮像素子である。第1の撮像素子21は、第2の撮像素子22に積層され、第1および第2の撮像素子21,22は、図1に示した撮影光学系10の光軸が第1および第2の撮像素子21,22の各々の撮像面の中心を通るように、撮影光学系10の光路中に配置されている。なお、第1および第2の撮像素子21,22は、図2では、図の複雑化を避けるために4行×3列の画素210,220のみが示されているが、本実施の形態では、共に、m行×n列の画素が配列され、第1の撮像素子21の画素と第2の撮像素子22の画素とは、同一サイズである。
第1の撮像素子21の各画素210は、所定の色成分の光を吸収(光電変換)する有機光電変換膜を有する。第1の撮像素子21で吸収(光電変換)されなかった色成分の光は、第1の撮像素子21を透過して第2の撮像素子22に入射し、第2の撮像素子22で光電変換される。なお、第1の撮像素子21で光電変換される色成分と、第2の撮像素子22で光電変換される色成分とは、補色関係である。詳述すると、第1の撮像素子21の各画素210は、当該画素210の真後ろに位置する第2の撮像素子22の画素220と対応関係にあり、すなわち、第1の撮像素子21の各画素210は、自身を通過した光束を受光する第2の撮像素子22の画素220と対応関係にあり、このような対応関係にある第1および第2の撮像素子21,22の画素210,220は、互いに補色関係の色成分を吸収して光電変換する。
図3は、第1の撮像素子21の一部である10行×6列の画素210の配置と、第2の撮像素子22の一部である10行×6列の画素220の配置と、をそれぞれ示す図である。図3(a)において、第1の撮像素子21について、画素210に付された「Mg」は、その画素がマゼンタの色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、マゼンタの分光感度を有する画素を示し、同様に、画素210に付された「Ye」は、その画素がイエローの色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、イエローの分光感度を有する画素を示し、画素210に付された「Cy」は、その画素がシアンの色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、シアンの分光感度を有する画素を示す。第1の撮像素子21は、奇数行の画素列では、「Mg」画素210と「Ye」画素210が交互に配列され、偶数行の画素列では、「Cy」画素210と「Mg」画素210とが交互に配列されている。
図3(b)において、第2の撮像素子22について、画素220に付された「G」は、その画素が緑の色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、緑の分光感度を有する画素を示し、同様に、画素220に付された「B」は、その画素が青の色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、青の分光感度を有する画素を示し、画素220に付された「R」は、その画素が赤の色成分を吸収し光電変換する画素、すなわち、赤の分光感度を有する画素を示す。第2の撮像素子22は、奇数行の画素列では、「G」画素220と「B」画素220が交互に配列され、偶数行の画素列では、「R」画素220と「G」画素220とが交互に配列されている。すなわち、第2の撮像素子22は、画素がベイヤ配列されている。
図3(a)および(b)において、第1の撮像素子21の「Mg」画素210と第2の撮像素子22の「G」画素220とは、対応関係にあり、第1の撮像素子21の「Ye」画素210と第2の撮像素子22の「B」画素220とは、対応関係にあり、第1の撮像素子21の「Cy」画素210と第2の撮像素子22の「R」画素220とは、対応関係にある。
このように、有機光電変換膜で構成される第1の撮像素子21が第2の撮像素子22に対してカラーフィルターの役割を果たし、第2の撮像素子22から第1の撮像素子21の補色画像(図3の例ではベイヤー配列の画像)が得られる。したがって、第1の撮像素子21からはCy,Mg,Yeの3色からなるCMY画像を取得することができ、第2の撮像素子22からはR,G,Bの3色からなるRGB画像を取得することができる。
図4および図5(a),(b)は、第1の撮像素子21の画素210の構造を模式的に示す図である。図4(a)は、撮像素子21の1つの画素210を被写体側から見た平面図であり、図4(b)は、画素210を側面から見た側面図であり、図4(c)は、図4(b)のc1−c1矢視断面図である。第1の撮像素子21の各画素210は、マゼンタの色成分、イエローの色成分、またはシアンの色成分を吸収する有機光電変換膜230と、有機光電変換膜230の上面、すなわち有機光電変換膜230の被写体側の面に形成された透明な第1および第2の部分電極231a,231bと、有機光電変換膜230の下面に形成された透明な第3および第4の部分電極232a,232bとを有する。
第1および第2の部分電極231a,231bは、図5(a)に示した画素210の画素配列の行方向、すなわち図4(a),(b)で左右方向に配列されている。同様に、第3および第4の部分電極232a,232bは、画素210の画素配列の行方向、すなわち図4(c)で左右方向に配列されている。第1の部分電極231aと第2の部分電極231bとでは、行方向の長さが異なっており、図示左側の第1の部分電極231aの行方向の長さW1は、図示右側の第2の部分電極231bの行方向の長さW2より大きい。同様に、第3の部分電極232aと第4の部分電極232bとでは、行方向の長さが異なっており、図示左側の第3の部分電極232aの行方向の長さW2は、図示右側の第4の部分電極232bの行方向の長さW1より小さい。すなわち、光の入射側から見て、第1の部分電極231aと第2の部分電極231bとの分離領域G1、すなわち境界の位置は、第3の部分電極232aと第4の部分電極232bとの分離領域G2、すなわち境界の位置と異なっている。なお、第1の部分電極231aの行方向の長さW1と第4の部分電極232bの行方向の長さW1とは等しく、第2の部分電極231bの行方向の長さW2と第3の部分電極232aの行方向の長さW2とは等しい。
そのため、第1の部分電極231aは、第3の部分電極232aの全体、および、第4の部分電極232bの図示左側の一部分と光軸方向に重なる。第2の部分電極231bは、その全体が第4の部分電極232bと光軸方向に重なる。第3の部分電極232aは、その全体が第1の部分電極231aと光軸方向に重なる。第4の部分電極232bは、第1の部分電極231aの図示右側の一部、および、第2の部分電極231bの全体と光軸方向に重なる。以下の説明では、有機光電変換膜230の上面に形成された第1および第2の部分電極231a,231bを上部部分電極231a,231bとも呼び、有機光電変換膜230の下面に形成された第3および第4の部分電極232a,232bを下部部分電極232a,232bとも呼ぶ。
このように構成された画素210では、後述するように、有機光電変換膜230から電荷を読み出す領域を、上部部分電極231a,231bと下部部分電極232a,232bとの組合せによって選択できる。
次に、第1の撮像素子21の各画素210の各部分電極と、第2の撮像素子22の各画素220の第1および第2の光電変換部との位置関係を説明する。図5(a)は、第1の撮像素子21の各画素210を被写体側から見たときの、第1および第2の部分電極231a,231bの配置を模式的に示す図であり、図5(b)は、第1の撮像素子21の各画素210を被写体側から見たときの、第3および第4の部分電極232a,232bの配置を模式的に示す図である。図5(c)は、第2の撮像素子22の各画素220を被写体側から見たときの、第1および第2の光電変換部220a,220bの配置を模式的に示す図である。なお、第1および第2の撮像素子21,22は、図5では、図の複雑化を避けるために5行×6列の画素210,220のみが示されている。
図5(a),(b)において、第1の撮像素子21の各画素210は、上述したように行方向、すなわち図5(a),(b)で左右方向に配列された第1および第2の部分電極231a,231bと、第3および第4の部分電極232a,232bを有する。図5(c)において、第2の撮像素子22の各画素220は、第1および第2の光電変換部220aおよび220bを有する。これらの第1および第2の光電変換部220aと220bは、行方向、すなわち図5(c)で左右方向に配列されている。第1および第2の光電変換部220aおよび220bは、互いに同一形状かつ同一サイズである。すなわち、第1の光電変換部220aの行方向の長さは、第2の光電変換部220bの第2の光電変換部と等しい。
図6は、第1および第2の撮像素子21,22の一画素210,220の構成を示す断面図である。図6に示すように、第2の撮像素子22は、半導体基板50に形成され、各画素220は、紙面で左右方向に配列された第1および第2の光電変換部220a,220bを有する。第2の撮像素子22の表面、すなわち、上面には平坦化層55を介して第1の撮像素子21が積層されている。この平坦化層55内には、不図示の配線層が形成されている。
また、第1の撮像素子21の各画素210の上方には、それぞれマイクロレンズ233が配置され、各マイクロレンズ233と第1の撮像素子21の各画素210と第2の撮像素子22の各画素220とはマイクロレンズ233の光軸方向に、整列配置されている。
第2の撮像素子22の第1および第2の光電変換部220a,220bの各々は、マイクロレンズ233の光軸233aに対して対称の位置に配置されている。他方、第1の撮像素子21の上部部分電極231a,231bの境界G1と下部部分電極232a,232bの境界G2は、それぞれマイクロレンズ233の光軸233aに対して逆方向にずれている。
図7は、第1の撮像素子21における1つの画素210の信号読み出し回路構成を例示する図である。画素210は、有機光電変換膜230と第1および第2の部分電極231a,231bと第3および第4の部分電極232a,232bとを有する。各画素210の信号読み出し回路は、電極選択トランジスタ301〜308と、リセットトランジスタ311,312と、出力トランジスタ313,314と、行選択トランジスタ315,316とを有する。第1の部分電極231aとグラウンドとは電極選択トランジスタ301を介して接続され、第2の部分電極231bとグラウンドとは電極選択トランジスタ302を介して接続され、第3の部分電極232aとグラウンドとは電極選択トランジスタ303を介して接続され、第4の部分電極232bとグラウンドとは電極選択トランジスタ304を介して接続される。
第1の部分電極231aと出力トランジスタ314のゲートとは電極選択トランジスタ305を介して接続され、第2の部分電極231bと出力トランジスタ313のゲートとは電極選択トランジスタ306を介して接続され、第3の部分電極232aと出力トランジスタ314のゲートとは電極選択トランジスタ307を介して接続され、第4の部分電極232bと出力トランジスタ313のゲートとは電極選択トランジスタ308を介して接続される。
出力トランジスタ313は、電極選択トランジスタ306を介して読み出された第2の部分電極231bからの電荷に基づく電圧信号を増幅する。また、出力トランジスタ313は、電極選択トランジスタ308を介して読み出された第4の部分電極232bからの電荷に基づく電圧信号を増幅する。出力トランジスタ313で増幅された信号は、行選択トランジスタ315を介して端子R_Voutから読み出される。
出力トランジスタ314は、電極選択トランジスタ305を介して読み出された第1の部分電極231aからの電荷に基づく電圧信号を増幅する。また、出力トランジスタ314は、電極選択トランジスタ307を介して読み出された第3の部分電極232aからの電荷に基づく電圧信号を増幅する。出力トランジスタ314で増幅された信号は、行選択トランジスタ316を介して端子L_Voutから読み出される。リセットトランジスタ311,312は、リセット信号φRSTに応じて不要電荷を排出させる(すなわち所定電位にリセットする)。
なお、第2の撮像素子22における1つの画素220の信号読み出し回路構成は公知であるので、説明を省略する。
−−−画素210から電荷を読み出す領域について−−−
図8を参照して、電極選択トランジスタ301〜308のオンオフ状態に応じて、画素210の有機光電変換膜230に、瞳分割された一対の光束を受光する複数種の一対の光電変換領域を形成する例を説明する。図8(a)〜(e)は、被写体側から見た、画素210の有機光電変換膜230において電荷を読み出す光電変換領域を示す図である。第1の撮像素子21では、以下に説明するように、有機光電変換膜230で発生した電荷を読み出すことができる光電変換領域は、上部部分電極231a,231bと下部部分電極232a,232bとで挟まれた領域のうち、読み出しに用いられる上部部分電極と下部部分電極とが重なり合う領域である。
(1)図8(a)に示した電荷読み出し領域のパターンについて
図8(a)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第1および第2の光電変換領域251,252を有機光電変換膜230に形成する例である。第1の光電変換領域251は、上部部分電極231aがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応し、第2の光電変換領域252は、上部部分電極231bがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。この第1および第2の光電変換領域251,252からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP1,ΦP2,ΦP3,ΦP4によって電極選択トランジスタ303,304,305,306をオンにする。
制御信号ΦP3,ΦP4によって電極選択トランジスタ305,306がオンされると、第1の部分電極231aは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第2の部分電極231bは出力トランジスタ313のゲートに接続される。制御信号ΦP1,ΦP2によって電極選択トランジスタ303,304がオンされると、第3の部分電極232aおよび第4の部分電極232bはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと、第3および第4の部分電極232a,232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(a)に示すように、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aに対応する第1の光電変換領域251で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第1の光電変換領域251で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
同様に、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(a)に示すように、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
すなわち、図8(a)に示した電荷読み出し領域のパターンでは、第1の光電変換領域251で発生した電荷に基づく光電変換信号と、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号とが一対の光電変換信号として、端子L_Voutおよび端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第3の部分電極232aと、第4の部分電極232bとが、第1の光電変換領域251で発生した電荷を読み出すための第1の光電変換部261を構成し、有機光電変換膜230と、第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとが、第2の光電変換領域252で発生した電荷を読み出すための第2の光電変換部262を構成する。
端子L_Voutから出力される、第1の光電変換領域251で発生した電荷に基づく光電変換信号と、端子R_Voutからから出力される、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号とは、撮影光学系10の異なる瞳領域を通過した一対の光束に基づく一対の光電変換信号である。これらの光電変換信号は、位相差式焦点検出用の信号として使用される。
(2)図8(b)に示した電荷読み出し領域のパターンについて
図8(b)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第3および第4の光電変換領域253,254を有機光電変換膜230に形成する例である。第3の光電変換領域253は、下部部分電極232aがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応し、第4の光電変換領域254は、下部部分電極232bがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。この第3および第4の光電変換領域253,254からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦN1,ΦN2,ΦN3,ΦN4によって電極選択トランジスタ302,301,308,307をオンにする。
制御信号ΦN4,ΦN3によって電極選択トランジスタ307,308がオンされると、第3の部分電極232aは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第4の部分電極232bは出力トランジスタ313のゲートに接続される。制御信号ΦN2,ΦN1によって電極選択トランジスタ301,302がオンされると、第1の部分電極231aおよび第2の部分電極231bはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aと、第1の部分電極231aとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(b)に示すように、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aに対応する第3の光電変換領域253で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
同様に、有機光電変換膜230における第4の部分電極232bと、第1および第2の部分電極231a,231bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(b)に示すように、有機光電変換膜230における第4の部分電極232bに対応する第4の光電変換領域254で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第4の光電変換領域254で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
すなわち、図8(b)に示した電荷読み出し領域のパターンでは、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号と、第4の光電変換領域254で発生した電荷に基づく光電変換信号とが一対の光電変換信号として、端子L_Voutおよび端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第3の部分電極232aとが、第3の光電変換領域253で発生した電荷を読み出すための第3の光電変換部263を構成し、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとが、第4の光電変換領域254で発生した電荷を読み出すための第4の光電変換部264を構成する。
端子L_Voutから出力される、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号と、端子R_Voutからから出力される、第4の光電変換領域254で発生した電荷に基づく光電変換信号とは、撮影光学系10の異なる瞳領域を通過した一対の光束に基づく一対の光電変換信号である。これらの光電変換信号は、位相差式焦点検出用の信号として使用される。
(3)図8(c)に示した電荷読み出し領域のパターンについて
図8(c)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第2および第3の光電変換領域252,253を有機光電変換膜230に形成する例である。この第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP2,ΦN2,ΦP4,ΦN4によって電極選択トランジスタ304,301,306,307をオンにする。
制御信号ΦP4,ΦP2によって電極選択トランジスタ306,304がオンされると、第2の部分電極231bは出力トランジスタ313のゲートに接続され、第4の部分電極232bはグラウンドに接続される。制御信号ΦN4,ΦN2によって電極選択トランジスタ307,301がオンされると、第3の部分電極232bは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第1の部分電極231aはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(c)に示すように、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号、すなわち、第2の光電変換部262からの光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
同様に、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aと、第1の部分電極231aとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(c)に示すように、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aに対応する第3の光電変換領域253で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号、すなわち、第3の光電変換部263からの光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
端子L_Voutから出力される、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号と、端子R_Voutからから出力される、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号とは、撮影光学系10の異なる瞳領域を通過した一対の光束に基づく一対の光電変換信号である。これらの光電変換信号は、位相差式焦点検出用の信号として使用される。
(4)図8(d)に示した電荷読み出し領域のパターンについて
図8(d)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第2および第5の光電変換領域252,255を有機光電変換膜230に形成する例である。第5の光電変換領域255は、上部部分電極231aと下部部分電極232bとが重なり合う有機光電変換膜230の領域に対応する。この第2および第5の光電変換領域252,255からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP2,ΦP3,ΦP4によって電極選択トランジスタ304,305,306をオンにする。
制御信号ΦP3,ΦP4,ΦP2によって電極選択トランジスタ305,306,304がオンされると、第1の部分電極231aは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第2の部分電極231bは出力トランジスタ313のゲートに接続され、第4の部分電極232bはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(d)に示すように、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域に対応する第5の光電変換領域255で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第5の光電変換領域255で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
同様に、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(d)に示すように、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第4の部分電極232bとが、第5の光電変換領域255で発生した電荷を読み出すための第5の光電変換部265を構成する。
端子L_Voutから出力される、第5の光電変換領域255で発生した電荷に基づく光電変換信号と、端子R_Voutからから出力される、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号とは、撮影光学系10の異なる瞳領域を通過した一対の光束に基づく一対の光電変換信号である。これらの光電変換信号は、位相差式焦点検出用の信号として使用される。
(5)図8(e)に示した電荷読み出し領域のパターンについて
図8(e)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第3および第5の光電変換領域253,255を有機光電変換膜230に形成する例である。この第3および第5の光電変換領域253,255からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦN2,ΦN3,ΦN4によって電極選択トランジスタ301,308,307をオンにする。
制御信号ΦN4,ΦN3,ΦN2によって電極選択トランジスタ307,308,301がオンされると、第3の部分電極232aは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第4の部分電極232bは出力トランジスタ313のゲートに接続され、第1の部分電極231aはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aと、第1の部分電極231aとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(e)に示すように、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aに対応する第3の光電変換領域253で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
同様に、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(e)に示すように、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域に対応する第5の光電変換領域255で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第5の光電変換領域255で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
端子L_Voutから出力される、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号と、端子R_Voutからから出力される、第5の光電変換領域255で発生した電荷に基づく光電変換信号とは、撮影光学系10の異なる瞳領域を通過した一対の光束に基づく一対の光電変換信号である。これらの光電変換信号は、位相差式焦点検出用の信号として使用される。
上述のようにして第1の撮像素子21の各画素210から読み出された光電変換信号は、後述するように、測距瞳面と、撮影光学系10の射出瞳面との位置関係に応じて、撮影光学系10の焦点調節状態の検出に用いられる。
なお、各画素210からの電荷読み出し領域のパターンは、上述したパターンに限らず、たとえば、第2の光電変換領域252だけから光電変換信号を取得してもよく、第3の光電変換領域253だけから光電変換信号を取得してもよく、第5の光電変換領域255だけから光電変換信号を取得してもよい。
また、第1の撮像素子21の各画素210における電荷読み出し領域のパターンと、光電変換信号を読み出す画素210の範囲とは、適宜組み合わせることができる。たとえば、第1の撮像素子21の全ての画素210の電荷読み出し領域のパターンを同じパターンとしてもよく、後述するように、撮像面の位置に応じて、電荷読み出し領域のパターンを変更してもよい。
このように、本実施の形態では、有機光電変換膜230の一方の面に設けられた第1および第2の部分電極231a,231bと、有機光電変換膜230の他方の面に設けられた第3および第4の部分電極232a,232bとによって、第1〜第5の光電変換領域251〜255から光電変換信号を取得できる。これにより、読み出しに用いる上部部分電極と下部部分電極との組合せによって、電荷を読み出す領域を適宜変更できるので、第1の撮像素子21の利便性が向上する。
なお、以下のようにして、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号を端子R_Voutから読み出すこともできる。制御信号ΦN3,ΦN1によって電極選択トランジスタ308,302がオンされると、第4の部分電極232bは出力トランジスタ313のゲートに接続され、第2の部分電極231bはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、有機光電膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
また、以下のようにして、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号を端子L_Voutから読み出すこともできる。制御信号ΦP3,ΦP1によって電極選択トランジスタ305,303がオンされると、第1の部分電極231aは出力トランジスタ314のゲートに接続され、第3の部分電極232aはグラウンドに接続される。
これにより、有機光電膜230における第3の部分電極232aと、第1の部分電極231aとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、有機光電膜230における第3の部分電極232aに対応する第3の光電変換領域253で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
図9は、射出瞳面と測距瞳面との位置関係に応じて、第1および第2の撮像素子21,22上に配置された画素210,220に到来する一対の光束が撮影光学系10の射出瞳によりどのように制限されるかについての口径蝕(ケラレ)の様子を示した図である。
射出瞳は撮影光学系10の絞り開口を撮像素子側から見た時の像であり、射出瞳距離は、本実施の形態では、たとえばマイクロレンズ233から撮影光学系10の射出瞳97(97A〜97C)までの距離である。測距瞳面90は、マイクロレンズ233に関して第1の撮像素子21の画素210の有機光電変換膜230と共役な面、またはマイクロレンズ233に関して第2の撮像素子22の画素220の第1および第2の光電変換部220a、220bと共役な面である。なお、マイクロレンズ233に関して第1の撮像素子21の有機光電変換膜230と共役な面と、マイクロレンズ233に関して第2の撮像素子22の画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bと共役な面とは、一致せず、僅かに撮影光学系の光軸方向にずれているが、図9においては、第1の撮像素子21に関する測距瞳面と、第2の撮像素子22に対する測距瞳面とを共通の位置90に示している。測距瞳距離dは、マイクロレンズ233と測距瞳面90との間の距離である。
測距瞳面90上の一対の測距瞳95および96は、いわゆる瞳分割方式の焦点検出における分割瞳であり、測距瞳95および96を通過した一対の光束が第1の撮像素子21の各画素210の一対の光電変換領域(たとえば、図8の第1および第2の光電変換領域251、252など)にそれぞれ入射し、さらに、第2の撮像素子22の各画素220の一対の光電変換部にそれぞれ入射する。
図9における第1および第2の撮像素子21,22の中心191、ならびにその中心から離れた位置194および195は、それぞれ図10における中心191、ならびに位置194および位置195に対応する。図10は、第1および第2の撮像素子21、22の撮像面190の正面図である。図10における撮像面190の中心191は、撮影光学系10の光軸91と一致する。中心191から行方向に所定距離だけ離間した位置を、周辺位置194および195とする。周辺位置194と195とは、中心191に関して互いに対称である。図9に示すように、中心191、周辺位置194、周辺位置195にそれぞれ配置された画素210、220に、一対の測距瞳95,96をそれぞれ通過した一対の光束(285,286)、(385,386)、(485,486)がそれぞれ到来する。
撮影光学系10の射出瞳97Aが測距瞳面90に一致する場合、すなわち射出瞳距離が測距瞳距離dと一致する場合は、一対の測距瞳95、96は光軸91上に中心を持つ円形の射出瞳97Aに制限される。そのため、第2の撮像素子22の各画素220に到来する一対の光束(285,286)、(385,386)、(485,486)は各々光軸に対して対称に制限され、各画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bがそれぞれ受光する光量は、互いに同一である。
他方、撮影光学系10の射出瞳97Bが測距瞳面90とマイクロレンズ233との間にある場合、すなわち射出瞳距離dnが測距瞳距離dよりも短い場合は、中心191に配置された画素220に到来する一対の光束(285,286)は光軸に対して対称に制限されるため、画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bがそれぞれ受光する光量は、互いに同一である。しかしながら、周辺位置194,195に配置された画素220に到来する一対の光束(385,386)、(485,486)は非対称にケラレが生じるため、画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bがそれぞれ受光する光量は、互いに異なってしまう。
撮影光学系10の射出瞳97Cが測距瞳面90よりも被写体側に位置している場合、すなわち射出瞳距離dfが測距瞳距離dよりも長い場合は、中心191に配置された画素に到来する一対の光束(285,286)は光軸に対して対称に制限されるため、画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bがそれぞれ受光する光量は、互いに同一である。しかしながら、周辺位置194,195に配置された画素220に到来する一対の光束(385,386)、(485,486)は、非対称にケラレが生じるため、画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bがそれぞれ受光する光量は、互いに異なってしまう。
なお、射出瞳97Bでは、周辺位置194、または195に入射する一対の光束のうちの一方にケラレが生じ、射出瞳97Cでは、周辺位置194、または195に入射する一対の光束のうちの他方にケラレが生じる。
以上のように撮影光学系10の射出瞳面が測距瞳面に一致しておらず、かつ、一対の光束を受光する画素が第2の撮像素子22の中心191にない場合、すなわち、一対の光束が周辺位置194,195の画素に入射する場合には、その一対の光束は撮影光学系10の射出瞳97B、または97Cにより非対称に制限されることになる。非対称な制限の度合いは、撮影光学系10の射出瞳距離と測距瞳距離dとの差、および周辺位置194,195と中心191との位置の差に応じて変化する。
図11は、図9、図10において周辺位置194に配置された画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bに入射する光束の範囲を示した正面図であり、撮影光学系10の射出瞳距離dnが測距瞳距離dより短い場合を示している。画素220の第1および第2の光電変換部220a,220b上には、マイクロレンズ233により、撮影光学系10の射出瞳の像271が円形で形成されることになる。上述したように一対の光束が非対称に制限されるということは、円形の射出瞳の像271の中心位置Cが、第1および第2の光電変換部220a,220bの重心位置に相当する素子分離領域220cの中央位置Gからずれることに対応している。このように、撮影光学系10の射出瞳距離dnが測距瞳距離dより短い場合には、像高が高くなるほど射出瞳の像の中心位置Cが高像高側、すなわち、第2の撮像素子22の周縁側に移動する。
射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合、周辺位置194に配置された画素においては、図11において示した第1および第2の光電変換部220a,220bと円271との相対的な位置関係とは逆の位置関係になる。すなわち、素子分離領域220cの中央位置Gに対して、円271の中心位置Cが図示左側にずれる。このように、撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合には、像高が高くなるほど射出瞳の像の中心位置Cが第2の撮像素子22の中心191側に移動する。
射出瞳距離dnが測距瞳距離dより短く、かつ図11に示すように画素の位置が中心191に関して位置194と水平方向で対称な位置195にあった場合には、第1および第2の光電変換部220a,220bと円271との相対的な位置関係は、図11において示した位置関係と逆になる。すなわち、素子分離領域220cの中央位置Gに対して、円271の中心位置Cが図示左側にずれる。
射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長く、かつ画素の位置が中心191に関して位置194と水平方向で対称な位置195にあった場合には、第1および第2の光電変換部220a,220bと円271との相対的な位置関係は、図11において示した位置関係と同じになる。
上述したように、像高が高くなるほど、射出瞳面と測距瞳面との位置関係に応じて、第2の撮像素子22の画素220における射出瞳の像の中心位置Cが素子分離領域220cの中央位置Gに対してずれる。そこで、本実施の形態では、射出瞳面と測距瞳面との位置関係に応じて、撮影光学系10の焦点調節状態の検出に用いる光電変換信号を読み出す画素210,220の範囲を次のように変更する。
撮影光学系10がカメラボディに着脱可能に装着される交換レンズである場合、装着される交換レンズによって、射出瞳位置は様々である。また、撮影光学系10がズームレンズを含む場合にも、ズーム位置に応じて射出瞳位置が変化することがある。本実施の形態では、撮影光学系10の射出瞳距離に応じて、第1の撮像素子21についてたとえば一対の光電変換領域251、252と、たとえば一対の光電変換領域253,254とを切り替えて、撮影光学系の射出瞳位置に適した一対の光電変換領域を使用するものである。以下に詳述する。
(a)撮影光学系10の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合
図12は、射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合に、焦点検出に使用する撮像素子の画素を示したものである。なお、図12および後述する図13〜15は、それぞれ撮像面の全面を表すものであるが、図の複雑化を避けるために各画素210,220を5行×6列で示している。撮影光学系10の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合には、図9を参照して説明したように、各画素に到来する一対の光束(285,286)、(385,386)、(485,486)は各々光軸に対して対称に制限される。そのため、射出瞳の像の中心位置Cが、第1および第2の光電変換部220a,220bの重心位置に相当する素子分離領域220cの中央位置Gと一致する。そのため、像高が高くなっても、第2の撮像素子の画素220の第1の光電変換部220aの受光量と、第2の光電変換部220bの受光量とは、略等しい。
そこで、図12に示したように、第2の撮像素子22の各画素220の第1および第2の光電変換部220a、220bの光電変換信号を焦点検出信号として使用する。すなわち、図1に示した焦点検出部12bは、撮影光学系の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合に、図10に示した撮像面190の全面にわたって第2の撮像素子22の各画素220からの光電変換信号を使用して焦点検出を行い、第1の撮像素子21の各画素の光電変換信号を使用しない。なお、ここで、撮影光学系10の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合には、撮影光学系10の射出瞳距離dと測距瞳距離dとに差があっても、その差が所定の範囲内である場合も含むものとする。
(b)撮影光学系10の射出瞳距離dnが測距瞳距離dよりも短い場合
図13は、撮影光学系10の射出瞳距離dnが測距瞳距離dよりも短い場合について説明する図である。図13(a)に示したように、撮像面190を中央部190Aと、左周辺部190Bと右周辺部190Cとに垂直に3分割し、図13(b)に示すように、撮像面190の左右周辺部190B,190Cは、それぞれ第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号として使用し、撮像面190の中央部190Aは、第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を焦点検出信号として使用する。すなわち、撮影光学系10による撮影画面の周辺部に対応する焦点検出信号として第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号を用いて焦点検出し、撮影画面の中央部に対応する焦点検出信号として第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を用いて焦点検出する。以下に詳述する。
図13(b)は、第1の撮像素子の各画素210に形成された各光電変換領域251,252,253,254を示したものである。第1の撮像素子21は撮像面190の右周辺部190Cの画素210に図8(a)に示した第1および第2の光電変換領域251,252が形成されるように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタ303,304,305,306がオンにされる。また、第1の撮像素子21は撮像面190の左周辺部190Bの画素210に図8(b)に示した第3および第4の光電変換領域253,254が形成されるように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタ302,301,308,307がオンにされる。
焦点検出部12aは、撮像面190の左周辺部190Bに関して、第1の撮像素子21の左周辺部の画素210の第3および第4の光電変換領域253,254からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行い、撮像面190の右周辺部190Cに関して、第1の撮像素子21の右周辺部の画素210の第1および第2の光電変換領域251,252からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行うと共に、撮像面190の中央部190Aに関しては、図13(c)に示すように、第2の撮像素子22の中央部の画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bからの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行う。これにより、撮像面190の行方向の周辺部における撮影光学系10の焦点調節状態の検出精度を向上できる。すなわち、位相差式焦点検出を良好に行える範囲を撮像面190の周辺側へ拡大できる。
(c)撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合
図14は、撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合について説明する図である。撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合には、図14(a)に示すように、撮像面190の左右周辺部190B,190Cは、それぞれ第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号として使用し、撮像面190の中央部190Aは、第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を焦点検出信号として使用する。以下に詳述する。
図14(a)は、第1の撮像素子の各画素210に形成された各光電変換領域251,252,253,254を示したものである。第1の撮像素子21は撮像面190の右周辺部190Cの画素210に図8(b)に示した第3および第4の光電変換領域253,254が形成されるように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタ302,301,308,307がオンにされる。また、第1の撮像素子21は撮像面190の左周辺部190Bの画素210に図8(a)に示した第1および第2の光電変換領域251,252が形成されるように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタ303,304,305,306がオンにされる。
焦点検出部12aは、撮像面190の左周辺部190Bに関して、第1の撮像素子21の左周辺部の画素210の第1および第2の光電変換領域251,252からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行い、撮像面190の右周辺部190Cに関して、第1の撮像素子21の右周辺部の画素210の第3および第4の光電変換領域253,254からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行うと共に、撮像面190の中央部190Aに関しては、図14(b)に示すように、第2の撮像素子22の中央部の画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bからの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行う。これにより、撮像面190の行方向の周辺部における撮影光学系10の焦点調節状態の検出精度を向上できる。すなわち、位相差式焦点検出を良好に行える範囲を撮像面190の周辺側へ拡大できる。
なお、上述した撮像面190の中央部190Aと左周辺部190Bと右周辺部190Cとの分割位置は、撮影光学系10の射出瞳距離dn,dfと測距瞳距離dとの差に応じて適宜変更してもよい。すなわち、撮影光学系10の射出瞳距離dn,dfと測距瞳距離dとの差が大きくなるほど、左周辺部190Bおよび右周辺部190Cの図示左右方向の幅を広くして、第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号として使用する範囲を広くするようにしてもよい。
−−−大デフォーカス状態の場合−−−
図15は、大デフォーカス状態の場合について説明する図である。大デフォーカス状態の場合には、以下に述べるように、第1の撮像素子21の画素210の第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号に基づいて、撮影光学系10の焦点調節状態を検出する。
大デフォーカス状態の場合には像ボケ量が大きくなって、撮影光学系10の焦点調節状態の検出が困難になる。また、撮影光学系10のF値が小さい場合も、被写界深度が浅くなるため、デフォーカスした時の像ボケ量が大きくなって、撮影光学系10の焦点調節状態の検出が困難になる。
光電変換領域の、瞳の分割方向と平行な方向の幅、すなわち、行方向の幅が小さくなれば、光電変換領域への入射光束が絞られるので、像ボケ量が少なくなり、撮影光学系10のF値が小さい場合や大デフォーカス状態の場合であっても、撮影光学系10の焦点調節状態を検出し易くなる。
そこで、本実施の形態では、大デフォーカス状態の場合には、行方向の幅、すなわち、瞳の分割方向と平行な方向の幅が小さい、第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号に基づき、撮影光学系10の焦点調節状態を検出する。たとえば、上述した(a)〜(c)の場合のように、第1の撮像素子21の画素210の第1〜第4の光電変換領域251〜254で発生した電荷に基づく光電変換信号や、第2の撮像素子22の各画素220から出力される光電変換信号に基づいた撮影光学系10の焦点調節状態の検出ができなかった場合に、第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号に基づき、撮影光学系10の焦点調節状態を検出する。
すなわち、図1に示す焦点検出部12aは、上記(a)〜(c)のいずれかの方法によって撮影光学系10の焦点調節状態が検出できなかった場合に、第1の撮像素子21の全ての画素210で、第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号を出力するように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタのオンオフ状態を切り替えさせる。そして、焦点検出部12bは、図10に示した撮像面190の全面にわたって第1の撮像素子21の各画素210の第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行う。これにより、大デフォーカス状態の場合や撮影光学系10のF値が小さい場合における撮影光学系10の焦点調節状態の検出精度を向上できる。
上述したように、第1の撮像素子21の各画素210の第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行い、不図示のレンズ駆動部によりフォーカスレンズが光軸方向に駆動されると、デフォーカス量が小さくなる。そこで、フォーカスレンズが光軸方向に駆動されてデフォーカス量が小さくなった後、焦点検出部12aが、再び上記(a)〜(c)のいずれかの方法によって撮影光学系10の焦点調節状態を検出するように、図7に示した読み出し回路の電極選択トランジスタのオンオフ状態を切り替えさせることが望ましい。
なお、第2および第3の光電変換領域252,253からの一対の光電変換信号を焦点検出信号として焦点検出を行う場合、第2および第3の光電変換領域252,253の面積が小さく、感度が落ちるので、第2の撮像素子22の各画素220の第1および第2の光電変換部220a、220bの光電変換信号を焦点検出信号として使用した焦点検出を併せて行うようにしてもよい。
−−−部分電極の配置の変形例−−−
上述した実施の形態では、図4,5に示すように、第1の撮像素子21の各画素210は、行方向に配列された第1および第2の部分電極231a,231bと、第3および第4の部分電極232a,232bを有するものであった。しかし、各部分電極の配列方向は上述した配列方向に限定されない。たとえば、図16(a)〜(d)に示すように、各部分電極を列方向に配列してもよい。図16は、第1の撮像素子21の画素210の変形例の構造を模式的に示す図であり、図16(a)は、1つの画素210Aを被写体側から見た平面図であり、図16(b)は、画素210Aを列方向の側面から見た側面図であり、図16(c)は、図16(b)のc2−c2矢視断面図であり、図16(d)は、画素210Aを行方向の側面から見た側面図である。
本変形例の画素210Aでは、第1および第2の部分電極231c,231dは、列方向、すなわち図16(a)で上下方向に配列されている。同様に、第3および第4の部分電極232c,232dは、列方向、すなわち図16(c)で上下方向に配列されている。第1の部分電極231cと第2の部分電極231dとでは、列方向の長さが異なっており、図16(a),(d)における図示上側の第1の部分電極231cの列方向の長さW3は、図示下側の第2の部分電極231dの列方向の長さW4より小さい。同様に、第3の部分電極232cと第4の部分電極232dとでは、列方向の長さが異なっており、図示上側の第3の部分電極232cの列方向の長さW4は、図示下側の第4の部分電極232dの列方向の長さW3より大きい。すなわち、光の入射側から見て、第1の部分電極231cと第2の部分電極231dとの分離領域G3、すなわち境界の位置は、第3の部分電極232cと第4の部分電極232dとの分離領域G4、すなわち境界の位置と異なっている。なお、第1の部分電極231cの列方向の長さW3と第4の部分電極232dの列方向の長さW3とは等しく、第2の部分電極231dの列方向の長さW4と第3の部分電極232cの列方向の長さW4とは等しい。
そのため、第1の部分電極231cは、その全体が第3の部分電極232cと光軸方向に重なる。第2の部分電極231dは、第3の部分電極232cの図示下側の一部分、および、第4の部分電極232dの全体と光軸方向に重なる。第3の部分電極232cは、第1の部分電極231cの全体、および、第2の部分電極231dの図示上側の一部と光軸方向に重なる。第4の部分電極232dは、その全体が第3の部分電極231dと光軸方向に重なる。以下の説明では、有機光電変換膜230の上面に形成された第1および第2の部分電極231c,231dを上部部分電極231c,231dとも呼び、有機光電変換膜230の下面に形成された第3および第4の部分電極232c,232dを下部部分電極232c,232dとも呼ぶ。
図17(a)は、第1の撮像素子21の各画素210Aを被写体側から見たときの、第1および第2の部分電極231c,231dの配置を模式的に示す図であり、図17(b)は、第1の撮像素子21の各画素210Aを被写体側から見たときの、第3および第4の部分電極232c,232dの配置を模式的に示す図である。図17(c)は、第2の撮像素子22の各画素220を被写体側から見たときの、第1および第2の光電変換部220a,220bの配置を模式的に示す図である。なお、第1および第2の撮像素子21,22は、図17では、図の複雑化を避けるために5行×6列の画素210A,220のみが示されている。
図17(a),(b)において、第1の撮像素子21の各画素210Aは、上述したように列方向、すなわち図17(a),(b)で上下方向に配列された第1および第2の部分電極231c,231dと、第3および第4の部分電極232c,232dを有する。図17(c)に示した第2の撮像素子22の各画素220は、上述した実施の形態の画素220と同じである。
図18(a)〜(e)は、画素210Aの有機光電変換膜230に形成される第1〜第5の光電変換領域251A〜255Aを被写体側から見た図である。図18(a)〜(e)に示すように、画素210Aには、第1〜第5の光電変換領域251A〜255Aが形成される。図18(a)は、第1の光電変換領域251Aを示す図である。第1の光電変換領域251Aは、上部部分電極231cがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。図18(b)は、第2の光電変換領域252Aを示す図である。第2の光電変換領域252Aは、上部部分電極231dがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。図18(c)は、第3の光電変換領域253Aを示す図である。第3の光電変換領域253Aは、下部部分電極232cがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。図18(d)は、第4の光電変換領域254Aを示す図である。第4の光電変換領域254Aは、下部部分電極232dがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。図18(e)は、第5の光電変換領域255Aを示す図である。第5の光電変換領域255Aは、上部部分電極231dと下部部分電極232cとが重なり合う有機光電変換膜230の領域に対応する。
なお、たとえば、図19(a),(b)に示すように、第1の撮像素子21において、上述した画素210と画素210Aとを列方向に交互に配列してもよい。図19(a)は、第1の撮像素子21の各画素210,210Aを被写体側から見たときの、第1および第2の部分電極231a,231b,231c,231dの配置を模式的に示す図である。図19(b)は、第1の撮像素子21の各画素210,210Aを被写体側から見たときの、第3および第4の部分電極232a,232b,232c,232dの配置を模式的に示す図である。図19(c)は、第2の撮像素子22の各画素220を被写体側から見たときの、第1および第2の光電変換部220a,220bの配置を模式的に示す図である。なお、第1および第2の撮像素子21,22は、図19では、図の複雑化を避けるために5行×6列の画素210,210A,220のみが示されている。図19(c)に示した第2の撮像素子22の各画素220は、上述した実施の形態の画素220と同じである。
図20(a),(b)は、第1の撮像素子21の画素210の別の変形例を模式的に示す図であり、被写体側から見た各部分電極の形状を示している。本変形例の画素210Bのように、図20(a)に示すように、第1の撮像素子21の第1および第2の部分電極231e,231fの形状を、大きな矩形をその対角線と平行な方向に、非対称に2分割したような形状としてもよく、図20(b)に示すように、第3および第4の部分電極232e,232fの形状を、大きな矩形をその対角線と平行な方向に、非対称に2分割したような形状としてもよい。第1および第2の部分電極231e,231fの境界の位置、すなわち分割位置と、第3および第4の部分電極232e,232fの境界の位置、すなわち分割位置とは異なっている。
また、図21に示すように、第1の撮像素子21の画素210Cについて、上部部分電極を、それぞれ行方向に非対称に分割し、かつ、列方向にも非対称に分割してもよい。同様に、下部部分電極を、それぞれ行方向に非対称に分割し、かつ、列方向にも非対称に分割してもよい。図21に示す例では、有機光電変換膜230の上面、すなわち有機光電変換膜230の被写体側の面に上部部分電極231g,231h,231i,231jを形成し、有機光電変換膜230の下面に下部部分電極232g,232h,232i,232jを形成している。なお、図21では、図示左右方向が行方向である。
上部部分電極231g,231iと上部部分電極231h,231jとの行方向の分割位置は、下部部分電極232g,232iと下部部分電極232h,232jとの行方向の分割位置と異なっている。同様に、上部部分電極231g,231hと上部部分電極231i,231jとの列方向の分割位置は、下部部分電極232g,232hと下部部分電極232i,232jとの列方向分割位置と異なっている。
このように、上部部分電極および下部部分電極を、それぞれ行方向と列方向とに分割し、分割された各上部部分電極の境界の位置と、分割された各下部部分電極の境界の位置とが異なるように構成してもよい。
なお、上述の実施の形態では、第1の部分電極231aの行方向の長さW1と第4の部分電極232bの行方向の長さW1とが等しく、第2の部分電極231bの行方向の長さW2と第3の部分電極232aの行方向の長さW2とが等しいが、第1の部分電極231aの行方向の長さW1と第4の部分電極232bの行方向の長さW1とが異なってもよく、第2の部分電極231bの行方向の長さW2と第3の部分電極232aの行方向の長さW2とが異なってもよい。
同様に、上述した変形例において、第1の部分電極231cの列方向の長さW3と第4の部分電極232dの列方向の長さW3とが等しく、第2の部分電極231dの列方向の長さW4と第3の部分電極232cの列方向の長さW4とが等しいが、第1の部分電極231cの列方向の長さW3と第4の部分電極232dの列方向の長さW3とが異なってもよく、第2の部分電極231dの列方向の長さW4と第3の部分電極232cの列方向の長さW4とが異なってもよい。
なお、上述した各実施の形態および変形例は、それぞれ組み合わせてもよい。
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2016年第2729号(2016年1月8日出願)
1;デジタルカメラ、10;撮影光学系、11;撮像部、12;制御部、12a;焦点検出部、21;第1の撮像素子、22;第2の撮像素子、210,210A,210B,210C,220;画素、230;有機光電変換膜、231a,231c,231e;第1の部分電極、231b,231d,231f:第2の部分電極、232a,232c,232e;第3の部分電極、232b,232d,232f;第4の部分電極、251;第1の光電変換領域、252;第2の光電変換領域、253;第3の光電変換領域、254;第4の光電変換領域、255;第5の光電変換領域、301〜308;電極選択トランジスタ、311,312;リセットトランジスタ、313,314;出力トランジスタ、315,316;行選択トランジスタ

Claims (11)

  1. 光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、
    前記光電変換部の一方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第1電極および第2電極と、
    前記光電変換部の他方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第3電極および第4電極と、
    前記光電変換部で生成された電荷を、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第3電極と、前記第4電極とによって読み出し可能な読み出し部と、を備え、
    前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第3電極との間で発生した電荷を読み出し可能である、撮像素子。
  2. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記第1電極と前記第2電極との境界の位置は、前記第3電極と前記第4電極との境界の位置と異なる撮像素子。
  3. 請求項1または請求項2に記載の撮像素子において、
    前記第1電極は、前記光電変換部を介して前記第3電極の全部と重なり、かつ、前記光電変換部を介して前記第4電極の一部と重なり、
    前記第2電極は、前記光電変換部を介して前記第3電極とは重ならず、かつ、前記光電変換部を介して前記第4電極の一部と重なる撮像素子。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第3電極および前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第4電極と前記第1電極および前記第2電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第2電極と前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の撮像素子と、
    前記読み出し部で読み出された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う検出部と、を備える撮像装置。
  9. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の撮像素子において、
    前記光電変換部は第1光電変換部であり、
    前記撮像素子は、前記第1光電変換部を透過した光を光電変換して電荷を生成する第2光電変換部をさらに備える撮像素子。
  10. 請求項に記載の撮像素子と、
    前記第2光電変換部で生成された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う検出部と、を備える撮像装置。
  11. 請求項10に記載の撮像装置において、
    前記検出部は、前記読み出し部で読み出された電荷に基づく信号、及び前記第2光電変換部で生成された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う撮像装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6750635B2 (ja) * 2016-01-08 2020-09-02 株式会社ニコン 撮像素子および撮像装置
US11641519B2 (en) * 2018-07-20 2023-05-02 Nikon Corporation Focus detection device, imaging device, and interchangeable lens

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60161664A (ja) * 1984-02-01 1985-08-23 Sharp Corp 密着型二次元画像読取装置
JP4088986B2 (ja) * 1997-07-30 2008-05-21 株式会社島津製作所 2次元放射線検出器
JP4183784B2 (ja) * 1997-09-09 2008-11-19 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶パネルの作製方法
JP4655346B2 (ja) * 2000-09-08 2011-03-23 パナソニック株式会社 X線撮影装置
US8581200B2 (en) * 2006-11-17 2013-11-12 Koninklijke Philips N.V. Radiation detector with multiple electrodes on a sensitive layer
JP5155808B2 (ja) * 2008-10-08 2013-03-06 株式会社日立製作所 半導体放射線検出器および核医学診断装置
JP5465244B2 (ja) * 2008-11-27 2014-04-09 キヤノン株式会社 固体撮像素子及び撮像装置
JP5117523B2 (ja) * 2010-03-09 2013-01-16 株式会社東芝 固体撮像装置
JP5288640B2 (ja) * 2010-03-31 2013-09-11 富士フイルム株式会社 撮像素子及びその製造方法
JP2012114160A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Panasonic Corp 固体撮像装置及びその製造方法
JP2012169584A (ja) 2011-01-27 2012-09-06 Fujifilm Corp 固体撮像素子及び撮像装置
JP5556823B2 (ja) * 2012-01-13 2014-07-23 株式会社ニコン 固体撮像装置および電子カメラ
JP2014067948A (ja) 2012-09-27 2014-04-17 Fujifilm Corp 固体撮像素子および撮像装置
JP2015207594A (ja) * 2014-04-17 2015-11-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 固体撮像装置
JP2016058559A (ja) 2014-09-10 2016-04-21 ソニー株式会社 固体撮像装置およびその駆動方法、並びに電子機器
JP6750635B2 (ja) * 2016-01-08 2020-09-02 株式会社ニコン 撮像素子および撮像装置
US11089251B2 (en) * 2018-07-12 2021-08-10 Canon Kabushiki Kaisha Image sensor and image capturing apparatus

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