JP6750635B2 - 撮像素子および撮像装置 - Google Patents
撮像素子および撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6750635B2 JP6750635B2 JP2017560405A JP2017560405A JP6750635B2 JP 6750635 B2 JP6750635 B2 JP 6750635B2 JP 2017560405 A JP2017560405 A JP 2017560405A JP 2017560405 A JP2017560405 A JP 2017560405A JP 6750635 B2 JP6750635 B2 JP 6750635B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- electrode
- pixel
- image sensor
- partial electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 357
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 59
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 107
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 91
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 40
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 31
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 28
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/34—Systems for automatic generation of focusing signals using different areas in a pupil plane
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B13/00—Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras
- G03B13/32—Means for focusing
- G03B13/34—Power focusing
- G03B13/36—Autofocus systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14665—Imagers using a photoconductor layer
- H01L27/14667—Colour imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/60—Control of cameras or camera modules
- H04N23/67—Focus control based on electronic image sensor signals
- H04N23/672—Focus control based on electronic image sensor signals based on the phase difference signals
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/10—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof for transforming different wavelengths into image signals
- H04N25/11—Arrangement of colour filter arrays [CFA]; Filter mosaics
- H04N25/13—Arrangement of colour filter arrays [CFA]; Filter mosaics characterised by the spectral characteristics of the filter elements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/703—SSIS architectures incorporating pixels for producing signals other than image signals
- H04N25/704—Pixels specially adapted for focusing, e.g. phase difference pixel sets
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
- H10K39/30—Devices controlled by radiation
- H10K39/32—Organic image sensors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Focusing (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
しかしながら、従来の撮像素子では、各画素の受光領域の大きさを変えることができなかった。
図2は、本実施形態に係る第1および第2の撮像素子21,22の概要を示す図である。第1の撮像素子21は、有機光電変換膜を光電変換部とする撮像素子であり、第2の撮像素子22は、半導体基板に形成されたフォトダイオードを光電変換部とする撮像素子である。第1の撮像素子21は、第2の撮像素子22に積層され、第1および第2の撮像素子21,22は、図1に示した撮影光学系10の光軸が第1および第2の撮像素子21,22の各々の撮像面の中心を通るように、撮影光学系10の光路中に配置されている。なお、第1および第2の撮像素子21,22は、図2では、図の複雑化を避けるために4行×3列の画素210,220のみが示されているが、本実施の形態では、共に、m行×n列の画素が配列され、第1の撮像素子21の画素と第2の撮像素子22の画素とは、同一サイズである。
第1の撮像素子21の各画素210は、所定の色成分の光を吸収(光電変換)する有機光電変換膜を有する。第1の撮像素子21で吸収(光電変換)されなかった色成分の光は、第1の撮像素子21を透過して第2の撮像素子22に入射し、第2の撮像素子22で光電変換される。なお、第1の撮像素子21で光電変換される色成分と、第2の撮像素子22で光電変換される色成分とは、補色関係である。詳述すると、第1の撮像素子21の各画素210は、当該画素210の真後ろに位置する第2の撮像素子22の画素220と対応関係にあり、すなわち、第1の撮像素子21の各画素210は、自身を通過した光束を受光する第2の撮像素子22の画素220と対応関係にあり、このような対応関係にある第1および第2の撮像素子21,22の画素210,220は、互いに補色関係の色成分を吸収して光電変換する。
図3(a)および(b)において、第1の撮像素子21の「Mg」画素210と第2の撮像素子22の「G」画素220とは、対応関係にあり、第1の撮像素子21の「Ye」画素210と第2の撮像素子22の「B」画素220とは、対応関係にあり、第1の撮像素子21の「Cy」画素210と第2の撮像素子22の「R」画素220とは、対応関係にある。
このように構成された画素210では、後述するように、有機光電変換膜230から電荷を読み出す領域を、上部部分電極231a,231bと下部部分電極232a,232bとの組合せによって選択できる。
また、第1の撮像素子21の各画素210の上方には、それぞれマイクロレンズ233が配置され、各マイクロレンズ233と第1の撮像素子21の各画素210と第2の撮像素子22の各画素220とはマイクロレンズ233の光軸方向に、整列配置されている。
第2の撮像素子22の第1および第2の光電変換部220a,220bの各々は、マイクロレンズ233の光軸233aに対して対称の位置に配置されている。他方、第1の撮像素子21の上部部分電極231a,231bの境界G1と下部部分電極232a,232bの境界G2は、それぞれマイクロレンズ233の光軸233aに対して逆方向にずれている。
なお、第2の撮像素子22における1つの画素220の信号読み出し回路構成は公知であるので、説明を省略する。
図8を参照して、電極選択トランジスタ301〜308のオンオフ状態に応じて、画素210の有機光電変換膜230に、瞳分割された一対の光束を受光する複数種の一対の光電変換領域を形成する例を説明する。図8(a)〜(e)は、被写体側から見た、画素210の有機光電変換膜230において電荷を読み出す光電変換領域を示す図である。第1の撮像素子21では、以下に説明するように、有機光電変換膜230で発生した電荷を読み出すことができる光電変換領域は、上部部分電極231a,231bと下部部分電極232a,232bとで挟まれた領域のうち、読み出しに用いられる上部部分電極と下部部分電極とが重なり合う領域である。
図8(a)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第1および第2の光電変換領域251,252を有機光電変換膜230に形成する例である。第1の光電変換領域251は、上部部分電極231aがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応し、第2の光電変換領域252は、上部部分電極231bがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。この第1および第2の光電変換領域251,252からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP1,ΦP2,ΦP3,ΦP4によって電極選択トランジスタ303,304,305,306をオンにする。
同様に、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(a)に示すように、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第3の部分電極232aと、第4の部分電極232bとが、第1の光電変換領域251で発生した電荷を読み出すための第1の光電変換部261を構成し、有機光電変換膜230と、第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとが、第2の光電変換領域252で発生した電荷を読み出すための第2の光電変換部262を構成する。
図8(b)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第3および第4の光電変換領域253,254を有機光電変換膜230に形成する例である。第3の光電変換領域253は、下部部分電極232aがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応し、第4の光電変換領域254は、下部部分電極232bがカバーする有機光電変換膜230の領域に対応する。この第3および第4の光電変換領域253,254からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦN1,ΦN2,ΦN3,ΦN4によって電極選択トランジスタ302,301,308,307をオンにする。
同様に、有機光電変換膜230における第4の部分電極232bと、第1および第2の部分電極231a,231bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(b)に示すように、有機光電変換膜230における第4の部分電極232bに対応する第4の光電変換領域254で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第4の光電変換領域254で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第3の部分電極232aとが、第3の光電変換領域253で発生した電荷を読み出すための第3の光電変換部263を構成し、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとが、第4の光電変換領域254で発生した電荷を読み出すための第4の光電変換部264を構成する。
図8(c)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第2および第3の光電変換領域252,253を有機光電変換膜230に形成する例である。この第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP2,ΦN2,ΦP4,ΦN4によって電極選択トランジスタ304,301,306,307をオンにする。
同様に、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aと、第1の部分電極231aとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。すなわち、図8(c)に示すように、有機光電変換膜230における第3の部分電極232aに対応する第3の光電変換領域253で発生した電荷が出力トランジスタ314のゲートに出力される。したがって、第3の光電変換領域253で発生した電荷に基づく光電変換信号、すなわち、第3の光電変換部263からの光電変換信号が端子L_Voutから読み出される。
図8(d)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第2および第5の光電変換領域252,255を有機光電変換膜230に形成する例である。第5の光電変換領域255は、上部部分電極231aと下部部分電極232bとが重なり合う有機光電変換膜230の領域に対応する。この第2および第5の光電変換領域252,255からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦP2,ΦP3,ΦP4によって電極選択トランジスタ304,305,306をオンにする。
同様に、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bと、第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(d)に示すように、有機光電変換膜230における第2の部分電極231bに対応する第2の光電変換領域252で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第2の光電変換領域252で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
各画素210では、有機光電変換膜230と、第1の部分電極231aと、第4の部分電極232bとが、第5の光電変換領域255で発生した電荷を読み出すための第5の光電変換部265を構成する。
図8(e)は、瞳分割された一対の光束をそれぞれ受光する第3および第5の光電変換領域253,255を有機光電変換膜230に形成する例である。この第3および第5の光電変換領域253,255からの光電変換信号を読み出すためには、制御信号ΦN2,ΦN3,ΦN4によって電極選択トランジスタ301,308,307をオンにする。
同様に、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。すなわち、図8(e)に示すように、有機光電変換膜230における第1の部分電極231aと第4の部分電極232bとの重複領域に対応する第5の光電変換領域255で発生した電荷が出力トランジスタ313のゲートに出力される。したがって、第5の光電変換領域255で発生した電荷に基づく光電変換信号が端子R_Voutから読み出される。
なお、各画素210からの電荷読み出し領域のパターンは、上述したパターンに限らず、たとえば、第2の光電変換領域252だけから光電変換信号を取得してもよく、第3の光電変換領域253だけから光電変換信号を取得してもよく、第5の光電変換領域255だけから光電変換信号を取得してもよい。
射出瞳は撮影光学系10の絞り開口を撮像素子側から見た時の像であり、射出瞳距離は、本実施の形態では、たとえばマイクロレンズ233から撮影光学系10の射出瞳97(97A〜97C)までの距離である。測距瞳面90は、マイクロレンズ233に関して第1の撮像素子21の画素210の有機光電変換膜230と共役な面、またはマイクロレンズ233に関して第2の撮像素子22の画素220の第1および第2の光電変換部220a、220bと共役な面である。なお、マイクロレンズ233に関して第1の撮像素子21の有機光電変換膜230と共役な面と、マイクロレンズ233に関して第2の撮像素子22の画素220の第1および第2の光電変換部220a,220bと共役な面とは、一致せず、僅かに撮影光学系の光軸方向にずれているが、図9においては、第1の撮像素子21に関する測距瞳面と、第2の撮像素子22に対する測距瞳面とを共通の位置90に示している。測距瞳距離dは、マイクロレンズ233と測距瞳面90との間の距離である。
測距瞳面90上の一対の測距瞳95および96は、いわゆる瞳分割方式の焦点検出における分割瞳であり、測距瞳95および96を通過した一対の光束が第1の撮像素子21の各画素210の一対の光電変換領域(たとえば、図8の第1および第2の光電変換領域251、252など)にそれぞれ入射し、さらに、第2の撮像素子22の各画素220の一対の光電変換部にそれぞれ入射する。
なお、射出瞳97Bでは、周辺位置194、または195に入射する一対の光束のうちの一方にケラレが生じ、射出瞳97Cでは、周辺位置194、または195に入射する一対の光束のうちの他方にケラレが生じる。
図12は、射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合に、焦点検出に使用する撮像素子の画素を示したものである。なお、図12および後述する図13〜15は、それぞれ撮像面の全面を表すものであるが、図の複雑化を避けるために各画素210,220を5行×6列で示している。撮影光学系10の射出瞳距離dが測距瞳距離dと一致する場合には、図9を参照して説明したように、各画素に到来する一対の光束(285,286)、(385,386)、(485,486)は各々光軸に対して対称に制限される。そのため、射出瞳の像の中心位置Cが、第1および第2の光電変換部220a,220bの重心位置に相当する素子分離領域220cの中央位置Gと一致する。そのため、像高が高くなっても、第2の撮像素子の画素220の第1の光電変換部220aの受光量と、第2の光電変換部220bの受光量とは、略等しい。
図13は、撮影光学系10の射出瞳距離dnが測距瞳距離dよりも短い場合について説明する図である。図13(a)に示したように、撮像面190を中央部190Aと、左周辺部190Bと右周辺部190Cとに垂直に3分割し、図13(b)に示すように、撮像面190の左右周辺部190B,190Cは、それぞれ第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号として使用し、撮像面190の中央部190Aは、第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を焦点検出信号として使用する。すなわち、撮影光学系10による撮影画面の周辺部に対応する焦点検出信号として第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号を用いて焦点検出し、撮影画面の中央部に対応する焦点検出信号として第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を用いて焦点検出する。以下に詳述する。
図14は、撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合について説明する図である。撮影光学系10の射出瞳距離dfが測距瞳距離dより長い場合には、図14(a)に示すように、撮像面190の左右周辺部190B,190Cは、それぞれ第1の撮像素子21の画素の第1〜第4の光電変換領域からの光電変換信号を焦点検出信号として使用し、撮像面190の中央部190Aは、第2の撮像素子22の画素の第1および第2の光電変換部からの光電変換信号を焦点検出信号として使用する。以下に詳述する。
図15は、大デフォーカス状態の場合について説明する図である。大デフォーカス状態の場合には、以下に述べるように、第1の撮像素子21の画素210の第2および第3の光電変換領域252,253からの光電変換信号に基づいて、撮影光学系10の焦点調節状態を検出する。
光電変換領域の、瞳の分割方向と平行な方向の幅、すなわち、行方向の幅が小さくなれば、光電変換領域への入射光束が絞られるので、像ボケ量が少なくなり、撮影光学系10のF値が小さい場合や大デフォーカス状態の場合であっても、撮影光学系10の焦点調節状態を検出し易くなる。
上述した実施の形態では、図4,5に示すように、第1の撮像素子21の各画素210は、行方向に配列された第1および第2の部分電極231a,231bと、第3および第4の部分電極232a,232bを有するものであった。しかし、各部分電極の配列方向は上述した配列方向に限定されない。たとえば、図16(a)〜(d)に示すように、各部分電極を列方向に配列してもよい。図16は、第1の撮像素子21の画素210の変形例の構造を模式的に示す図であり、図16(a)は、1つの画素210Aを被写体側から見た平面図であり、図16(b)は、画素210Aを列方向の側面から見た側面図であり、図16(c)は、図16(b)のc2−c2矢視断面図であり、図16(d)は、画素210Aを行方向の側面から見た側面図である。
同様に、上述した変形例において、第1の部分電極231cの列方向の長さW3と第4の部分電極232dの列方向の長さW3とが等しく、第2の部分電極231dの列方向の長さW4と第3の部分電極232cの列方向の長さW4とが等しいが、第1の部分電極231cの列方向の長さW3と第4の部分電極232dの列方向の長さW3とが異なってもよく、第2の部分電極231dの列方向の長さW4と第3の部分電極232cの列方向の長さW4とが異なってもよい。
日本国特許出願2016年第2729号(2016年1月8日出願)
Claims (11)
- 光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、
前記光電変換部の一方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第1電極および第2電極と、
前記光電変換部の他方の面に設けられた、互いに面積が異なる少なくとも2つの第3電極および第4電極と、
前記光電変換部で生成された電荷を、前記第1電極と、前記第2電極と、前記第3電極と、前記第4電極とによって読み出し可能な読み出し部と、を備え、
前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第3電極との間で発生した電荷を読み出し可能である、撮像素子。 - 請求項1に記載の撮像素子において、
前記第1電極と前記第2電極との境界の位置は、前記第3電極と前記第4電極との境界の位置と異なる撮像素子。 - 請求項1または請求項2に記載の撮像素子において、
前記第1電極は、前記光電変換部を介して前記第3電極の全部と重なり、かつ、前記光電変換部を介して前記第4電極の一部と重なり、
前記第2電極は、前記光電変換部を介して前記第3電極とは重ならず、かつ、前記光電変換部を介して前記第4電極の一部と重なる撮像素子。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第3電極および前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第1電極と前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。 - 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第4電極と前記第1電極および前記第2電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記読み出し部は、前記光電変換部のうち、前記第2電極と前記第4電極との間で発生した電荷を読み出し可能である撮像素子。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の撮像素子と、
前記読み出し部で読み出された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う検出部と、を備える撮像装置。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部は第1光電変換部であり、
前記撮像素子は、前記第1光電変換部を透過した光を光電変換して電荷を生成する第2光電変換部をさらに備える撮像素子。 - 請求項9に記載の撮像素子と、
前記第2光電変換部で生成された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う検出部と、を備える撮像装置。 - 請求項10に記載の撮像装置において、
前記検出部は、前記読み出し部で読み出された電荷に基づく信号、及び前記第2光電変換部で生成された電荷に基づく信号に基づいて焦点検出を行う撮像装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016002729 | 2016-01-08 | ||
JP2016002729 | 2016-01-08 | ||
PCT/JP2017/000145 WO2017119448A1 (ja) | 2016-01-08 | 2017-01-05 | 撮像素子および撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017119448A1 JPWO2017119448A1 (ja) | 2018-12-06 |
JP6750635B2 true JP6750635B2 (ja) | 2020-09-02 |
Family
ID=59274093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017560405A Active JP6750635B2 (ja) | 2016-01-08 | 2017-01-05 | 撮像素子および撮像装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10908386B2 (ja) |
JP (1) | JP6750635B2 (ja) |
CN (1) | CN108701703B (ja) |
WO (1) | WO2017119448A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6750635B2 (ja) * | 2016-01-08 | 2020-09-02 | 株式会社ニコン | 撮像素子および撮像装置 |
US11641519B2 (en) * | 2018-07-20 | 2023-05-02 | Nikon Corporation | Focus detection device, imaging device, and interchangeable lens |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161664A (ja) * | 1984-02-01 | 1985-08-23 | Sharp Corp | 密着型二次元画像読取装置 |
JP4088986B2 (ja) * | 1997-07-30 | 2008-05-21 | 株式会社島津製作所 | 2次元放射線検出器 |
JP4183784B2 (ja) * | 1997-09-09 | 2008-11-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶パネルの作製方法 |
JP4655346B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2011-03-23 | パナソニック株式会社 | X線撮影装置 |
US8581200B2 (en) * | 2006-11-17 | 2013-11-12 | Koninklijke Philips N.V. | Radiation detector with multiple electrodes on a sensitive layer |
JP5155808B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-03-06 | 株式会社日立製作所 | 半導体放射線検出器および核医学診断装置 |
JP5465244B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2014-04-09 | キヤノン株式会社 | 固体撮像素子及び撮像装置 |
JP5117523B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2013-01-16 | 株式会社東芝 | 固体撮像装置 |
JP5288640B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 撮像素子及びその製造方法 |
JP2012114160A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Panasonic Corp | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2012169584A (ja) | 2011-01-27 | 2012-09-06 | Fujifilm Corp | 固体撮像素子及び撮像装置 |
JP5556823B2 (ja) * | 2012-01-13 | 2014-07-23 | 株式会社ニコン | 固体撮像装置および電子カメラ |
JP2014067948A (ja) | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Fujifilm Corp | 固体撮像素子および撮像装置 |
JP2015207594A (ja) * | 2014-04-17 | 2015-11-19 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 固体撮像装置 |
JP2016058559A (ja) | 2014-09-10 | 2016-04-21 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置およびその駆動方法、並びに電子機器 |
JP6750635B2 (ja) * | 2016-01-08 | 2020-09-02 | 株式会社ニコン | 撮像素子および撮像装置 |
US11089251B2 (en) * | 2018-07-12 | 2021-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Image sensor and image capturing apparatus |
-
2017
- 2017-01-05 JP JP2017560405A patent/JP6750635B2/ja active Active
- 2017-01-05 US US16/067,165 patent/US10908386B2/en active Active
- 2017-01-05 WO PCT/JP2017/000145 patent/WO2017119448A1/ja active Application Filing
- 2017-01-05 CN CN201780012519.3A patent/CN108701703B/zh active Active
-
2020
- 2020-12-29 US US17/136,787 patent/US11774707B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017119448A1 (ja) | 2018-12-06 |
CN108701703B (zh) | 2022-12-06 |
WO2017119448A1 (ja) | 2017-07-13 |
US10908386B2 (en) | 2021-02-02 |
US11774707B2 (en) | 2023-10-03 |
CN108701703A (zh) | 2018-10-23 |
US20190079266A1 (en) | 2019-03-14 |
US20210181461A1 (en) | 2021-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6848941B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
JP6536642B2 (ja) | 撮像素子 | |
US10686004B2 (en) | Image capturing element and image capturing device image sensor and image-capturing device | |
JP5045350B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
JP5092685B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
US8063978B2 (en) | Image pickup device, focus detection device, image pickup apparatus, method for manufacturing image pickup device, method for manufacturing focus detection device, and method for manufacturing image pickup apparatus | |
JP5693082B2 (ja) | 撮像装置 | |
JP6536126B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
US10685995B2 (en) | Image sensor and image-capturing device | |
JP5211590B2 (ja) | 撮像素子および焦点検出装置 | |
JP5067148B2 (ja) | 撮像素子、焦点検出装置および撮像装置 | |
JP2008177903A (ja) | 撮像装置 | |
JP2017098513A (ja) | 撮像素子、撮像装置および焦点調節装置 | |
JP6693567B2 (ja) | 撮像素子、焦点検出装置、及び、電子カメラ | |
US20210181461A1 (en) | Image sensor and image-capturing device | |
WO2018061978A1 (ja) | 撮像素子および焦点調節装置 | |
JP2017152658A (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
JP6648666B2 (ja) | 撮像素子および焦点調節装置 | |
WO2018061729A1 (ja) | 撮像素子および焦点調節装置 | |
WO2018061728A1 (ja) | 撮像素子および焦点調節装置 | |
JP7419975B2 (ja) | 撮像素子、及び、撮像装置 | |
JP6809562B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
JP2010039106A (ja) | 撮像素子、焦点検出装置および撮像装置 | |
JP2005209690A (ja) | Ccd撮像素子および撮像装置 | |
JP5537618B2 (ja) | 撮像装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190723 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200310 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200610 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20200619 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200714 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6750635 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |