JP6744626B2 - スクライブ方法並びにスクライブ装置 - Google Patents

スクライブ方法並びにスクライブ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6744626B2
JP6744626B2 JP2016145274A JP2016145274A JP6744626B2 JP 6744626 B2 JP6744626 B2 JP 6744626B2 JP 2016145274 A JP2016145274 A JP 2016145274A JP 2016145274 A JP2016145274 A JP 2016145274A JP 6744626 B2 JP6744626 B2 JP 6744626B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutter wheel
scribing
offset value
scribe
center
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2016145274A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018015903A (ja
Inventor
栗山 規由
規由 栗山
林 和夫
林  和夫
元康 杉山
元康 杉山
小川 純一
純一 小川
李 日会
日会 李
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2016145274A priority Critical patent/JP6744626B2/ja
Priority to TW106105069A priority patent/TW201803819A/zh
Priority to KR1020170032319A priority patent/KR20180011702A/ko
Priority to CN201710164741.7A priority patent/CN107650277A/zh
Publication of JP2018015903A publication Critical patent/JP2018015903A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6744626B2 publication Critical patent/JP6744626B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/22Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
    • B28D1/225Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising for scoring or breaking, e.g. tiles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/76Making of isolation regions between components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/22Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
    • B28D1/24Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising with cutting discs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/02Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
    • B28D5/022Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
    • B28D5/023Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a cutting blade mounted on a carriage
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D7/00Accessories specially adapted for use with machines or devices of the preceding groups
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D7/00Accessories specially adapted for use with machines or devices of the preceding groups
    • B28D7/005Devices for the automatic drive or the program control of the machines
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

本発明は、ガラスや半導体等の脆性材料基板(以下単に「基板」という)に付されたアライメントマークを基準にしてカッターホイールにより分断用のスクライブライン(切溝)を加工するスクライブ方法並びにスクライブ装置に関する。
基板を分断するために、基板の表面にカッターホイールを圧接しながら転動させることによりスクライブラインを形成し、次の工程で基板をブレイクバーで押し付けることによりスクライブラインから分断する方法はよく知られている(例えば特許文献1参照)。
一般に、基板表面にカッターホイールでスクライブラインを加工するに際し、基板上にアライメントマークを付しておき、CCDカメラ(以下単に「カメラ」という)でアライメントマークを認識したときに、このアライメントマークを基準として予め設定されたスクライブ開始位置にカッターホイールを降下させて、スクライブ作業を開始するようにしている。
図7は一般的なスクライブ装置の一例を示すものであって、左右の支柱1、1にX方向に沿ったガイド2を備えた水平なビーム(横梁)3が設けられている。このビーム3のガイド2には、昇降可能なカッターホイール4並びにカメラ5を一体に備えたスクライブヘッド6がX方向に移動可能に設けられている。また、加工すべき基板Wを載置して吸着保持するテーブル7は縦軸を支点とする回動機構8を介して台盤9上に保持されており、台盤9は、スクリューネジ10によってY方向(図7における前後方向)に移動可能に形成されている。
基板Wには、図8に示すように、アライメントマークPが付されており、このアライメントマークPの位置を基準に、基板Wのスクライブ開始位置の座標情報が定められている。そして、カメラ5の中心にアライメントマークPがくるようにテーブル7の位置を調整して加工を開始すると、スクライブ開始位置の座標情報を参照してスクライブヘッド6のカッターホイール4がスクライブ開始位置にくるようにテーブル7の位置が調整されて、スクライブ加工が行われる。
このとき、スクライブ開始位置に正確にカッターホイール4の位置を合わせるためには、カメラ5の中心位置と、カッターホイール4の刃先中心(スクライブの打刻位置)とのオフセット値ΔX、ΔYの情報が必要であり、これを制御系に入力し、そのメモリに記憶させている。ここで、ΔYは、カッターホイール4の走行ラインとカメラ5とのY方向の間隔として計測され、ΔXはカッターホイール4のスクライブ開始位置とカメラ5とのX方向の間隔として計測される。
このΔYは、カメラ5の中心にアライメントマークPがくるようにテーブル7の位置を調整し、この状態でカッターホイール4によりダミー基板上にスクライブ痕を形成し、カメラ5の中心がアライメントマークPにあるときから、形成されたスクライブ痕までカメラ5の中心を移動(ΔXはスクライブ開始位置まで移動)したときのテーブル7のX、Yの移動距離により求めることができる。
カメラ5の中心とカッターホイール4の刃先中心との距離であるオフセット値ΔX、ΔYが設定された後の実際の基板加工に際しては、カメラ5の中心に基板WのアライメントマークPがくるように位置調整してスクライブ加工をスタートすると、メモリに記憶されたΔX、ΔYと、基板上でのアライメントマークPからスクライブ開始位置までの座標情報とを用いて、カッターホイール4がスクライブ開始位置の座標に降下し、基板W上をX方向に押し付けながら転動してスクライブラインを加工する。
このX方向のスクライブラインは、所定のピッチで複数本が平行に加工され、その後、基板を90°回転させてY方向にも複数本が平行に加工されて格子状のスクライブラインが形成され、次のブレイク工程で格子状のスクライブラインに沿って基板が分断されて単位基板となる。
特許第3078668号公報
近年において、デジタル製品の小型化や精密化のため、分断される単位基板にはミクロン単位の高精度な品質が要求されており、分断加工におけるスクライブラインに許容される公差(プロセスウィンドウ)は小さくなってきている。しかし、図2に示すように、スクライブに用いられるカッターホイール4は、ホルダ11の左右の支持板11a、11bの間隔内に配置されていて、カッターホイール4と左右支持板11a、11bとの間に回転に必要な「遊び」、すなわち、クリアランスL1、L2(図2ではクリアランス部分を誇張して表示している)が設けられているため、そのクリアランスL1、L2の分だけカッターホイール4が左右にブレてスクライブ精度に影響するといった問題点がある。例えば、直径2mmで厚み約0.6mm程度のカッターホイールでは、左右のクリアランスの和が約20μmとなっている。
カッターホイール4の左右のブレは、許容されるスクライブラインの公差に直接影響するものであるから、カッターホイール4の刃先を左右ブレ幅の中心に置いてスクライブするのが理想である。もし、カッターホイール4のブレ幅の中心が片側の支持板側にずれていると反対側のクリアランスが大きくなり、その分だけカッターホイール4の一方へのブレが大きくなってスクライブ精度が大きく低下するからである。
ところで、カメラ5の中心に対するカッターホイール4のY方向のオフセット値ΔYを計測して設定するにあたり、従来では、図9(a)に示すように、カッターホイール4を基板W上で100ライン程度スクライブさせ、そのスクライブ痕Sとカメラ5の中心とのY方向のオフセット値ΔYn(ただしn=1〜100)をそれぞれのスクライブ痕ごとに計測し、そのブレ幅の中心をΔYと設定する方法がとられている。この100ラインスクライブのとき、スクライブ痕Sのブレ幅Tは、ホルダ11の間隔内での移動可能範囲、すなわち、左右のクリアランスL1、L2を合わせた幅全体を満遍なくブレるのではなく、それより狭く形成されることが実験から確かめられている。このブレ幅Tはカッターホイール4の個体差並びに個々の調整具合によってばらつきがある。
このようにして形成されたスクライブ痕Sの中心が図9(b)に示すように左右支持板11a、11bの中心と一致していれば、カッターホイール4の左右のクリアランスL1、L2が均等となって、カッターホイール4が一方側に大きくブレることはない。しかし、図9(c)に示すようにスクライブ痕Sの中心が支持板の一方側に片寄っている場合には、カッターホイール4の一方、例えばクリアランスL2が大きくなり、その分だけ使用時にカッターホイール4の一方側へのブレが大きくなって、スクライブ精度に大きな影響を与えることになる。
そこで本発明は、上記課題を解決し、カメラに対するカッターホイールのオフセット値をホルダの最適位置に設定してスクライブすることができるスクライブ方法並びにスクライブ装置を提供することを目的とする。すなわち、最も悪条件で生じる可能性がある最大のブレができるだけ小さくなるようにしたスクライブ方法並びにスクライブ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明のスクライブ方法は、脆性材料基板に付されたアライメントマークをカメラで認識することで、予め記憶したスクライブ開始位置情報、および、カメラ位置とカッターホイールの刃先中心とのオフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板のスクライブ開始位置に降下させてスクライブすることによりスクライブラインを加工するスクライブ方法において、前記カッターホイールによるスクライブ作業に先立って、前記カッターホイールを保持するホルダの左右支持板の間隔内で前記カッターホイールを一端側の最大移動地点まで移動させてその位置での片端オフセット値を記憶させ、次いで、前記カッターホイールを他端側の最大移動地点まで移動させてその位置での他端オフセット値を記憶させ、前記左右の最大移動地点でのオフセット値の中心値を前記カメラと前記カッターホイールの走行ラインとの中心オフセット値として記憶させ、この中心オフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板に降下させてスクライブするようにした。
また、本発明は、脆性材料基板に付されたアライメントマークをカメラで認識することで、予め記憶したスクライブ開始位置情報、および、カメラ位置とカッターホイールの刃先中心とのオフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板のスクライブ開始位置に降下させてスクライブすることによりスクライブラインを加工するスクライブ装置において、前記カッターホイールを保持するホルダの左右支持板の間隔内で前記カッターホイールを左右両端の最大移動地点まで移動させる移動手段と、前記左右の最大移動地点でそれぞれの位置での片端オフセット値および他端オフセット値を記憶し、その中心値を割り出して中心オフセット値として新たに記憶させて、この中心オフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板に降下させてスクライブするようにしたスクライブ装置も特徴とする。
本発明によれば、カッターホイールの走行ラインとカメラとの中心オフセット値が、確実にホルダの左右の支持板の中心にあるカッターホイールの位置で設定されるので、カッターホイールの左右のブレが均等となって、スクライブ時に一方側に大きく変位することがなくなる。これにより、加工されるスクライブラインが予定ラインより一方側に大きくブレることを防止してスクライブ精度を高めることができるといった効果がある。
また、本発明では、カッターホイールをホルダの間隔内の左右両端側に移動させる移動手段として、カッターホイールの走行方向と直交するY方向に移動可能なテーブルと、このテーブル上に貼り付けられたチェックシートとが用いられ、前記チェックシートを、前記カッターホイールの刃先が食い込んで摩擦抵抗を生じさせることが可能な素材で形成し、前記チェックシートに前記カッターホイールを降下させてその刃先を食い込ませた状態で前記テーブルをY方向に移動させることにより、前記カッターホイールを前記ホルダの間隔内で左右両端の最大移動地点まで移動させるようにしてもよい。
これにより、簡単な治具(チェックシート)を移動手段に用いるだけで、確実にカッターホイールをホルダの間隔内で左右両端の最大移動地点まで移動させることができる。
また、本発明では、カッターホイールをホルダの間隔内の左右両端側に移動させる移動手段として、カッターホイールの走行方向と直交するY方向に移動可能であり、かつ、縦軸を支点として回転可能なテーブルが用いられ、前記テーブルに脆性材料基板を載置してその表面に前記カッターホイールで同じ箇所を複数回スクライブしてカッターホイール走行方向に沿ったV溝を加工し、前記テーブルを回転させてV溝を平面視で傾斜させ、この傾斜したV溝上に前記カッターホイールの刃先を合わせて落とし込み、当該V溝に沿って走行させることにより前記カッターホイールを前記ホルダの間隔内の一端部に移動させ、同様に前記カッターホイールで前記脆性材料基板に新たなV溝を加工した後、前記テーブルを前回とは逆方向に回動させて前記カッターホイールをV溝に沿って走行させることにより前記ホルダの間隔内の反対側の一端部に移動させるようにしてもよい。
本発明に係るスクライブ装置の概略的正面図。 カッターホイールのホルダ部分の拡大正面図。 本発明に係るカッターホイールの左右方向移動手段の説明図。 カッターホイールのカメラに対するオフセット値を示す説明図。 図1の装置における制御系を示すブロック図。 本発明に係るカッターホイールの左右方向移動手段の他の一例の説明図。 一般的なスクライブ装置を示す概略的正面図。 図7の装置におけるカッターホイールのカメラに対するオフセット値を示す説明図。 従来のオフセット値の設定方法を示す説明図。
以下において、本発明の詳細を図に示した実施例に基づき説明する。
図1は本発明に係るスクライブ装置Aを示す図であり、図5はその制御系を示す図である。スクライブ装置Aは、概略的には図7に示したスクライブ装置と同様であるので、同一部分については同じ符号を付すことにより説明を省略する。
スクライブ装置Aは、左右の支柱1、1にX方向に沿ったガイド2を備えた水平なビーム(横梁)3が設けられている。このビーム3のガイド2には、昇降可能なカッターホイール4並びにカメラ5を一体に備えたスクライブヘッド6がモータM1によりX方向に移動可能に取り付けられている。また、加工すべき基板Wを載置して吸着保持するテーブル7は、縦軸を支点とする回動機構8を介して台盤9上に保持されており、台盤9は、モータM2によって駆動するスクリューネジ10によってY方向(図1における前後方向)に移動可能に形成されている。
カッターホイール4は、図2に示すように、ホルダ11の左右支持板11a、11bの間隔内で、ホイール軸11cにより回転に必要なクリアランスL1、L2を左右に設けて支持されている(図2ではクリアランス部分を誇張して表示している)。
スクライブ装置Aの制御系となるコンピュータ20は、画像処理部21、制御部(CPU)22、入力部23、X方向モータ駆動部24、Y方向モータ駆動部25、テーブル回転用モータ駆動部26、スクライブヘッド駆動部27、メモリ28を有している。
画像処理部21は、カメラ5から取得した画像信号(例えばアライメントマークPを映した画像信号)を液晶パネルの表示部(図示略)に表示する。表示部は、画面の中心がカメラ5の中心と一致するように設定してあり、画面を見ながらアライメントマークPが画面の中心にくるようにテーブル7を移動すれば、カメラ5の中心にアライメントマークPを移動させることができるようになっている。
入力部23は、命令やデータ等を、キーボード(図示略)等を介して入力する。本発明では、例えば、カメラ5に対するカッターホイール4のY方向のオフセット値ΔY、X方向のオフセット値ΔXの値が入力される。メモリ28は、入力されたオフセット値ΔX、ΔY等の各種の設定値や算出されたパラメータ等を記憶する。また、ΔX、ΔYの入力に際して操作者に必要な動作を促したり、入力を促したりするプログラムを記憶するとともに、スクライブ動作に必要な処理プログラムが記憶してある。
また、X方向モータ駆動部24、Y方向モータ駆動部25、テーブル回転用モータ駆動部26、スクライブヘッド駆動部27は、それぞれX方向モータM1、Y方向モータM2、テーブル回転用モータ、スクライブヘッド昇降機構を駆動する。
そして、制御部22は、これら各部を制御し、スクライブヘッド6のX方向への移動およびカッターホイール4の上下動、テーブル7のY方向への移動および回転を制御する。また、カッターホイール4によるスクライブ時に、カッターホイール4が適切な荷重で基板Wの表面を圧接するように制御する。
次に、上述したスクライブ装置Aの動作について説明する。
本発明を実施するスクライブ加工では、テーブル7上に載置された基板Wの隅部には、位置を特定するためのアライメントマーク(十字マーク)Pが形成してあり、このアライメントマークPの位置を基準に、基板Wのスクライブ開始位置の座標情報が定められ(開始位置座標がメモリ28に記憶され)ている。そして、カメラ5の中心位置にアライメントマークPがくるようにテーブル7の位置を調整後、スクライブ加工を開始すると、開始位置座標情報を参照してスクライブヘッド6のカッターホイール4の刃先がスクライブ開始位置にくるようにテーブル7の位置が調整され、スクライブ加工が行われる。
このとき、スクライブ開始位置座標に、カッターホイール4の刃先中心位置を正確に合わせるためには、カメラ5の中心位置と、カッターホイール4の刃先中心(スクライブの打刻位置)とのオフセット値ΔX、ΔYの情報が必要になるため、この値をメモリ28に記憶させる。
そのため、製品となる基板Wでのスクライブ加工を行う前に、カッターホイール4のカメラ5に対する上記のオフセット値ΔYをチェックして決定するための作業が行われる。この作業は刃先交換の都度実施されることが望ましい。
以下、その作業の一例を、順を追って説明する。
本実施例では、カッターホイール4が表面層に食い込んで摩擦抵抗を生じさせることが可能な素材からなるチェックシート12が用いられ、このチェックシート12を基板W(調整用のダミー基板)の上面に貼り付けてある(図1参照)。このチェックシート12としては、PET、PO等の樹脂テープが望ましい。
制御部22は、操作者に順次操作を促し、以下の動作でオフセット値を得る。すなわち、図3(a)に示すように、カッターホイール4をチェックシート12上に降下させ、その刃先をチェックシート12の表面に食い込ませる。その食い込み量は基板Wに食い込まない深さが好ましい。この状態で図3(b)に示すように、テーブル7をY(+)方向に移動させて、カッターホイール4を、チェックシート12との摩擦を利用してホルダ11の一方の支持板11a側に寄せた位置に強制的に移動させる。このとき、左右のクリアランスの和(L1+L2)よりも大きい幅で移動させることで確実にホイール軸11cの片端まで寄せる。そして、カッターホイール4をホイール軸11cの片端位置に移動させた状態のときに、カッターホイール4を基板W上に移動し、X方向にスクライブさせて、スクライブ痕S1を加工する。このスクライブ痕S1とアライメントマークPとが順次カメラ5の中心にくるように移動させて、この間のテーブル7の移動量を読み取り、オフセット値ΔY1(片端オフセット値)としてメモリ28に記憶させる(図4参照)。
次いで、図3(c)に示すように、テーブル7を上記とは逆方向、すなわち、Y(−)方向に移動させて、カッターホイール4を反対側の支持板11bに寄せた位置に移動させ、上記と同様にカッターホイール4を基板W上に移動し、X方向にスクライブさせて、そのスクライブ痕S2とアライメントマークPとがカメラ5の中心にくるように移動させて、この間のテーブル7の移動量を読み取り、オフセット値ΔY2(他端オフセット値)としてメモリ28に記憶させる。
そして、左右のオフセット値ΔY1、ΔY2の中心点を演算して割り出し、この中心点をカッターホイール4の走行ラインとカメラ5とのオフセット値ΔY(中心オフセット値)として決定してメモリ28に記憶させる。
決定後は、チェックシート12の基板W(ダミー基板)は取り外される。
このようにしてカッターホイール4の走行ラインとカメラ5とのオフセット値ΔYがホルダ11の左右支持板11a、11bの中心に設定されるので、カッターホイール4の左右の遊び(ブレ)が均等となって一方側に大きく変位することがなくなる。これにより、加工されるスクライブラインが予定ラインより一方側に大きくブレるのを防止してスクライブ精度を高めることができる。
図6は、オフセット値ΔYを決定する際にカッターホイール4をホルダ11の間隔内の左右両端側に移動させる別例を示す。
この実施例では、まず基板Wの表面にカッターホイール4で同じ箇所を複数回、例えば3回スクライブしてX方向に沿ったV溝13を加工する。次いで、回動機構8(図1参照)によりテーブル7を基板Wとともに反時計方向に回転させる。この回転量は、V溝13上を所定長さ(例えば100mm程度)だけ走行したときに、ホイール軸11cの左右のクリアランスの和(L1+L2)よりも大きい距離(例えば30μm程度)だけY方向に移動する角度とするのがよい。
次いで、V溝13上にカッターホイール4の刃先が合うようにテーブル7およびカッターホイール4を移動させて当該V溝13に刃先を落とし込み、V溝13に沿って走行させることにより、V溝13とカッターホイール4との摩擦を利用して、カッターホイール4を一方の支持板11a側に寄せた位置に移動させることができる。
そして、カッターホイール4をホイール軸11cの片端位置に移動させた状態のときに、カッターホイール4をX方向にスクライブさせてスクライブ痕(図示略)を加工する。以下、上記と同様の手法により、オフセット値ΔY1(片端オフセット値)を求めてメモリ28に記憶させる。
次いで、図示を省略するが、上記と同じように基板WにV溝13を加工した後、テーブル7を上記とは逆の方向、すなわち、時計方向に回動してV溝13を傾け、上記と同じ条件でこのV溝13に沿ってカッターホイール4を走行させることにより、カッターホイール4を他方の支持板11b側に寄せた位置に移動させ、さらに同様の手順を行うことにより、オフセット値ΔY2(他端オフセット値)を求めてメモリ28に記憶させる。
そして、左右のオフセット値ΔY1、ΔY2の中心点が割り出されることにより、この中心点がオフセット値ΔY(中心オフセット値)として決定される。
これにより、先の実施例のようなチェックシート12の使用を省略することができる。
以上、本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施例構造のみに特定されるものではなく、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。
本発明は、ガラスや半導体等の脆性材料基板にカッターホイールで分断用のスクライブラインを加工するスクライブ方法並びにスクライブ装置に利用することができる。
A スクライブ装置
P アライメントマーク
W 脆性材料基板
4 カッターホイール
5 カメラ
6 スクライブヘッド
7 テーブル
11 ホルダ
11a ホルダの一方の支持板
11b ホルダの他方の支持板
12 チェックシート
13 V溝
20 コンピュータ
22 制御部

Claims (5)

  1. 脆性材料基板に付されたアライメントマークをカメラで認識することで、予め記憶したスクライブ開始位置情報、および、カメラ位置とカッターホイールの刃先中心とのオフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板のスクライブ開始位置に降下させてスクライブすることによりスクライブラインを加工するスクライブ方法において、
    前記カッターホイールによるスクライブ作業に先立って、前記カッターホイールを保持するホルダの左右支持板の間隔内で前記カッターホイールを一端側の最大移動地点まで移動させてその位置での片端オフセット値を記憶させ、
    次いで、前記カッターホイールを他端側の最大移動地点まで移動させてその位置での他端オフセット値を記憶させ、前記左右の最大移動地点でのオフセット値の中心値を前記カメラと前記カッターホイールの走行ラインとの中心オフセット値として記憶させ、この中心オフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板に降下させてスクライブするようにしたスクライブ方法。
  2. 前記カッターホイールを移動させる移動手段には、カッターホイールの走行方向と直交するY方向に移動可能なテーブルと、このテーブル上に貼り付けられたチェックシートとが用いられ、
    前記チェックシートを、前記カッターホイールの刃先が食い込んで摩擦抵抗を生じさせることが可能な素材で形成し、
    前記チェックシートに前記カッターホイールを降下させてその刃先を食い込ませた状態で前記テーブルをY方向に移動させることにより、前記カッターホイールを前記ホルダの間隔内で左右両端の最大移動地点まで移動させるようにした請求項1に記載のスクライブ方法。
  3. 前記カッターホイールを移動させる移動手段には、カッターホイールの走行方向と直交するY方向に移動可能であり、かつ、縦軸を支点として回転可能なテーブルが用いられ、
    前記テーブルに脆性材料基板を載置してその表面に前記カッターホイールで同じ箇所を複数回スクライブしてカッターホイール走行方向に沿ったV溝を加工し、
    前記テーブルを回転させてV溝を平面視で傾斜させ、
    この傾斜したV溝上に前記カッターホイールの刃先を合わせて落とし込み、当該V溝に沿って走行させることにより前記カッターホイールを前記ホルダの間隔内の一端部に移動させ、
    同様に前記カッターホイールで前記脆性材料基板に新たなV溝を加工した後、前記テーブルを前回とは逆方向に回動させて前記カッターホイールをV溝に沿って走行させることにより前記ホルダの間隔内の反対側の一端部に移動させるようにした請求項1に記載のスクライブ方法。
  4. 脆性材料基板に付されたアライメントマークをカメラで認識することで、予め記憶したスクライブ開始位置情報、および、カメラ位置とカッターホイールの刃先中心とのオフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板のスクライブ開始位置に降下させてスクライブすることによりスクライブラインを加工するスクライブ装置において、
    前記カッターホイールを保持するホルダの左右支持板の間隔内で前記カッターホイールを左右両端の最大移動地点まで移動させる移動手段と、
    前記左右の最大移動地点でそれぞれの位置での片端オフセット値および他端オフセット値を記憶し、その中心値を割り出して中心オフセット値として新たに記憶させて、この中心オフセット値に基づいて前記カッターホイールを前記脆性材料基板に降下させてスクライブするようにしたスクライブ装置。
  5. 前記カッターホイールを移動させる移動手段には、カッターホイールの走行方向と直交するY方向に移動可能なテーブルと、このテーブル上に貼り付けられたチェックシートとが用いられ、
    前記チェックシートを、前記カッターホイールの刃先が食い込んで摩擦抵抗を生じさせることが可能な素材で形成し、
    前記チェックシートに前記カッターホイールを降下させてその刃先を食い込ませた状態で前記テーブルをY方向に移動させることにより、前記カッターホイールを前記ホルダの間隔内で左右両端の最大移動地点まで移動させるようにした請求項4に記載のスクライブ装置。
JP2016145274A 2016-07-25 2016-07-25 スクライブ方法並びにスクライブ装置 Expired - Fee Related JP6744626B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016145274A JP6744626B2 (ja) 2016-07-25 2016-07-25 スクライブ方法並びにスクライブ装置
TW106105069A TW201803819A (zh) 2016-07-25 2017-02-16 劃線方法及劃線裝置
KR1020170032319A KR20180011702A (ko) 2016-07-25 2017-03-15 스크라이브 방법 그리고 스크라이브 장치
CN201710164741.7A CN107650277A (zh) 2016-07-25 2017-03-17 划线方法以及划线装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016145274A JP6744626B2 (ja) 2016-07-25 2016-07-25 スクライブ方法並びにスクライブ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018015903A JP2018015903A (ja) 2018-02-01
JP6744626B2 true JP6744626B2 (ja) 2020-08-19

Family

ID=61081169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016145274A Expired - Fee Related JP6744626B2 (ja) 2016-07-25 2016-07-25 スクライブ方法並びにスクライブ装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6744626B2 (ja)
KR (1) KR20180011702A (ja)
CN (1) CN107650277A (ja)
TW (1) TW201803819A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190114408A (ko) 2018-03-30 2019-10-10 주식회사 탑 엔지니어링 변위 센서를 이용한 스크라이브 장치의 동작 방법
KR20190114407A (ko) 2018-03-30 2019-10-10 주식회사 탑 엔지니어링 변위 센서를 이용한 스크라이브 장치
CN113183049B (zh) * 2021-04-28 2022-05-03 泉州金石金刚石工具有限公司 一种金刚石磨具加工用可等量定长的滑动式裁切装置
CN113735429B (zh) * 2021-08-24 2023-09-08 芜湖东旭光电科技有限公司 玻璃划线切割装置及其切割方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0829546B2 (ja) * 1989-10-25 1996-03-27 スタンレー電気株式会社 軸一体型カッターホイル付きカッター
JP4290784B2 (ja) * 1998-09-09 2009-07-08 三星ダイヤモンド工業株式会社 ガラススクライバー
JP2001293586A (ja) * 2000-04-12 2001-10-23 Takatori Corp ガラスの割断方法
CN1863740B (zh) * 2001-07-18 2012-04-25 三星钻石工业股份有限公司 划线头和使用该划线头的划线装置以及划线方法
KR101251107B1 (ko) * 2005-12-01 2013-04-05 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 스크라이브 방법
TWI438163B (zh) * 2007-06-06 2014-05-21 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Multi-stroke head loading scribing device and cutter wheel automatic replacement system
CN101530965B (zh) * 2008-03-11 2010-12-08 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 基板切割装置及基板切割方法
JP5139852B2 (ja) * 2008-03-17 2013-02-06 三星ダイヤモンド工業株式会社 スクライブ装置及びスクライブ方法
JP5332344B2 (ja) * 2008-06-30 2013-11-06 三星ダイヤモンド工業株式会社 チップホルダ及びホルダユニット
TWI435851B (zh) * 2009-10-29 2014-05-01 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Cutter wheel holder unit
KR101694311B1 (ko) * 2010-07-01 2017-01-09 주식회사 탑 엔지니어링 글래스 패널의 스크라이빙 장치 및 스크라이빙 방법
CN102601434B (zh) * 2012-03-22 2013-09-11 上海交通大学 一种整体叶轮开槽插铣加工优化方法
CN103317541B (zh) * 2013-06-07 2015-07-08 浙江工业大学 一种基于平板切割机的刀具补偿方法
JP2015000497A (ja) * 2013-06-14 2015-01-05 三星ダイヤモンド工業株式会社 チップホルダユニット、チップホルダ、ピン、ホイールチップ及び基板加工装置
CN103739192B (zh) * 2013-11-14 2016-02-17 上海和辉光电有限公司 切割装置及切割方法
CN104960013A (zh) * 2015-05-18 2015-10-07 合肥京东方光电科技有限公司 一种覆膜贴片切割装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107650277A (zh) 2018-02-02
JP2018015903A (ja) 2018-02-01
TW201803819A (zh) 2018-02-01
KR20180011702A (ko) 2018-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6744626B2 (ja) スクライブ方法並びにスクライブ装置
KR101123613B1 (ko) 스크라이브 장치 및 스크라이브 방법
TWI402227B (zh) Cutter wheel holder
JP5450964B2 (ja) スクライブ装置及びスクライブ方法
JP5173885B2 (ja) スクライブ装置及びスクライブ方法
JP4256724B2 (ja) 脆性材料基板のスクライブ方法及びその装置
KR101344675B1 (ko) 기판 가공 방법
US20060042433A1 (en) Method and device for scribing fragile material substrate
JP5702765B2 (ja) スクライブ装置及びスクライブ方法
JP2009148982A (ja) ブレーキング装置
JP6578759B2 (ja) ブレイク装置
KR20150145711A (ko) 취성 재료 기판의 스크라이브 방법 및 스크라이브 장치
JP2013112534A (ja) 脆性材料基板の分断方法
TWM639285U (zh) 基板的切割裝置
KR101066140B1 (ko) 스크라이빙 장치 및 방법
JP2020050570A (ja) スクライブ方法
JP6555370B2 (ja) ブレイク装置
JP2015164774A (ja) スクライブ装置
JP2005286159A (ja) 切削加工方法および切削装置
CN112368245B (zh) 玻璃基板截断装置以及玻璃基板截断方法
JP7075652B2 (ja) スクライブ装置およびスクライブ方法
JP2021154502A (ja) 脆性材料基板のブレイク方法並びに基板加工装置
JP2012045947A (ja) セラミックス基板スクライブライン形成用スクライビングホイール、スクライブ装置及びスクライブ方法
KR100964329B1 (ko) 스크라이빙 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190701

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200721

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200727

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6744626

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees