JP6743836B2 - コモンモードチョークコイル - Google Patents

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Description

本発明は、コモンモードチョークコイルに関する。
電子機器の内部回路に発生し得るコモンモードノイズを除去するために、コモンモードチョークコイルが用いられている。
特許文献1には、絶縁層上に1ターン以上のスパイラル状の導体パターンを形成し、この絶縁層を複数積層し、スルーホールを介して接続して第1のコイルを形成し、絶縁層上に1ターン以上のスパイラル状の導体パターンを形成し、この絶縁層を複数積層し、スルーホールを介して接続して第2のコイルを形成し、前記第1のコイル用の絶縁層と第2のコイル用の絶縁層とを交互に積層した積層型コモンモードチョークコイルであって、スパイラル状の導体パターンを接続するスルーホールの中心位置が、スルーホール直前のスパイラル状の導体パターンの中心線の連続線上から内側或いは外側にずれて形成されていることを特徴とする積層型コモンモードチョークコイルが記載されている。
特開2001−44033号公報
電子機器の高速化および多機能化に伴い、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有するコモンモードチョークコイルが求められている。しかし、従来のコモンモードチョークコイルでは、コモンモードインピーダンスを大きくするとカットオフ周波数が低周波になる傾向にあり、コモンモードインピーダンスを大きくすることと、カットオフ周波数を高くすることの両立は困難であった。
本発明の課題は、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有するコモンモードチョークコイルを提供することにある。
本発明者は、一次コイルと二次コイルとの間の結合が強い部分における渦巻状導体間の距離を小さくすることにより、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有するコモンモードチョークコイルを得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明の一の要旨によれば、
複数の絶縁層を積層してなる積層体と、
積層体の内部に設けられた第1コイルおよび第2コイルと、
積層体の外表面に設けられた第1外部電極、第2外部電極、第3外部電極および第4外部電極と
を含むコモンモードチョークコイルであって、
第1外部電極および第2外部電極はそれぞれ、第1コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
第3外部電極および第4外部電極はそれぞれ、第2コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
第1コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第1渦巻状導体、第2渦巻状導体および第3渦巻状導体を少なくとも含み、
第2コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第4渦巻状導体、第5渦巻状導体および第6渦巻状導体を少なくとも含み、
積層方向において、第1渦巻状導体は第2渦巻状導体および第4渦巻状導体と隣り合い、かつ第4渦巻状導体は第1渦巻状導体および第5渦巻状導体と隣り合い、
積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が、他の距離より小さい、コモンモードチョークコイルが提供される。
本発明に係るコモンモードチョークコイルは、上記特徴を有することにより、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルを模式的に示す斜視図である。 図2は、第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造の一例を示す模式図である。 図3は、第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造のもう1つの例を示す模式図である。 図4は、第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルの積層方向に平行な切断面を模式的に示す断面図である。 図5は、隣り合う渦巻状導体間の距離を測定する方法を説明する模式図である。 図6は、第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルの一の変形例の積層方向に平行な切断面を模式的に示す断面図である。 図7は、第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造の一例を示す模式図である。 図8は、第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルの積層方向に平行な切断面を模式的に示す断面図である。 図9は、実施例のコモンモードチョークコイルにおける、コモンモードインピーダンスとカットオフ周波数との関係を示すグラフである。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、以下に示す実施形態は例示を目的とするものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下に説明する構成要素の寸法、材質、形状、相対的配置等は、特定的な記載がない限りは本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。また、各図面が示す構成要素の大きさ、形状、位置関係等は説明を明確にするため誇張していることがある。
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態に係るコモンモードチョークコイル30の斜視図を図1に模式的に示す。第1実施形態に係るコモンモードチョークコイル30は、複数の絶縁層を積層してなる積層体31と、積層体31の内部に設けられた第1コイルおよび第2コイルと、積層体31の外表面に設けられた第1外部電極43、第2外部電極44、第3外部電極45および第4外部電極46とを含む。なお、本明細書において、コモンモードチョークコイル30の長さを「L」、幅を「W」、厚み(高さ)を「T」とよぶことがある(図1を参照)。また、本明細書において、積層体31の長さLに平行な方向を「L方向」、幅Wに平行な方向を「W方向」、厚みTに平行な方向を「T方向」とよび、L方向およびT方向に平行な面を「LT面」、W方向およびT方向に平行な面を「WT面」、L方向およびW方向に平行な面を「LW面」とよぶことがある。
図1に示す構成において、積層体31は、ガラスセラミック層32を2つのフェライト層33および34で挟んだ構造を有する。尤も、本実施形態において、積層体31はガラスセラミック層32のみで構成されてよく、あるいは、フェライト層33の下面側およびフェライト層34の上面側にそれぞれ、ガラスセラミック層を更に備えてもよい。また、積層体31は、フェライト層33の下面側およびフェライト層34の上面側にそれぞれ追加のガラスセラミック層を備え、これら追加のガラスセラミック層の上面側および下面側にそれぞれフェライト層を更に備える構成を有してもよい。
ガラスセラミック層32はガラスセラミック材料で構成される。良好な高周波特性を得るためには、ガラスセラミック材料を用いることが好ましい。この場合、SiおよびBを主成分とするホウケイ酸系ガラスを用いることが好ましく、例えば、組成がSiO:70wt%以上85wt%以下、B:10wt%以上25wt%以下、KO:0.5wt%以上5wt%以下、およびAl:0wt%以上5wt%以下のホウケイ酸系ガラスを用いることができる。ガラスセラミック層32は、Cu−Zn系フェライト等の非磁性材料や、Ni−Cu−Zn系フェライト等の磁性材料を更に含んでよい。例えば、ガラスセラミック層32は、ガラスセラミック材料とNi−Cu−Zn系フェライト材料の複合材料からなる磁性材料で構成されてよい。
ガラスセラミック層32がホウケイ酸系ガラスを含む場合、ガラスセラミック層32は更に、石英(SiO)、フォルステライト(2MgO・SiO)、アルミナ(Al)等のフィラー成分を2wt%以上30wt%以下程度含有することが好ましい。ホウケイ酸系ガラスは比誘電率が低く、良好な高周波特性を得ることができる。さらに、石英は比誘電率がホウケイ酸系ガラスに比べて更に低いので、石英を添加することでより高周波特性を向上させることができる。また、フォルステライトおよびアルミナは抗折強度が高いので、これらを添加することで機械的強度を向上させることができる。
フェライト層33および34を構成する材料として、例えば、Ni−Cu−Zn系フェライト材料等の磁性材料や、Cu−Zn系フェライト等の非磁性材料を用いることができる。フェライト層33および34がNi−Cu−Zn系フェライト材料の磁性材料で構成される場合、コモンモードチョークコイルのインダクタンス(L)を大きくすることができる。一方、フェライト層33および34が非磁性材料で構成される場合、コモンモードチョークコイルの機械的強度が向上し得る。Ni−Cu−Zn系フェライトとしては、組成がFe:40mol%以上49.5mol%以下、ZnO:5mol%以上35mol%以下、CuO:4mol%以上12mol%以下、残部:NiOおよび微量添加剤(不可避不純物を含む)のものを用いることができる。なお、本実施形態において、フェライト層33および34は必須ではない。
積層体31が、フェライト層33の下面側およびフェライト層34の上面側にそれぞれ、ガラスセラミック層を更に備える場合、ガラスセラミック層32とフェライト層33および34との間の剥離等の構造欠陥を抑制することができる。これら追加のガラスセラミック層は、ガラスセラミック層32と同じ材料で構成されることが好ましい。なお、本実施形態において、フェライト層33の下面側およびフェライト層34の上面側の追加のガラスセラミック層は必須ではない。
積層体31が、フェライト層33の下面側およびフェライト層34の上面側にそれぞれ追加のガラスセラミック層を備え、これら追加のガラスセラミック層の上面側および下面側にそれぞれフェライト層を更に備える場合、積層体31のたわみ強度が向上し得る。これら追加のフェライト層は、フェライト層33および34と同じ材料で構成されることが好ましい。なお、本実施形態において、これら追加のフェライト層は必須ではない。
積層体31の外表面には、第1外部電極43、第2外部電極44、第3外部電極45および第4外部電極46が設けられる。より詳細には、第1外部電極43および第4外部電極46は積層体31の側面47に位置し、第2外部電極44および第3外部電極45は側面47に対向する側面48に位置する。外部電極43〜46は、例えば、Cu、Pd、Al、Ag等の導電性金属、またはこれらを含む合金等の導体材料で構成され得る。第1外部電極43および第2外部電極44はそれぞれ、第1コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、第3外部電極45および前記第4外部電極46はそれぞれ、第2コイルの一方端および他方端に電気的に接続する。
第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造の一例を、図2に模式的に示す。ガラスセラミック層32は、図2に示す8つの絶縁層301〜308を含む積層された複数の絶縁層をもって与えられる積層構造を有している。なお、絶縁層は1枚の絶縁体シートからなるものであってよく、あるいは、複数の絶縁体シートを積層して1層の絶縁層としてもよい。絶縁層301〜308は、この順序で下から積層される。絶縁層302〜307上にはそれぞれ、渦巻状導体501〜506が形成される。渦巻状導体501〜506はそれぞれ、絶縁層302〜307の比較的中央近傍に位置する内周側端部と比較的外周近傍に位置する外周側端部とを有する。なお、渦巻状導体501〜506は、実際には、隣り合う絶縁層301〜308の間の界面に沿ってそれぞれ延在するように形成されるが、以下、絶縁層302〜307のそれぞれの上に位置するものとして説明する。
積層体31の内部、より特定的には、ガラスセラミック層32の内部には、第1コイルおよび第2コイルが設けられる。第1コイルは、積層体31の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第1渦巻状導体、第2渦巻状導体および第3渦巻状導体を少なくとも含む。第2コイルは、積層体31の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第4渦巻状導体、第5渦巻状導体および第6渦巻状導体を少なくとも含む。図2に示す例において、第1コイルは、渦巻状導体501、504および505、ならびにビア導体603および606を含み、第2コイルは、渦巻状導体502、503および506、ならびにビア導体604および605を含む。第1コイルは、第2外部電極44と電気的に接続する引出導体702、引出導体702と渦巻状導体501を接続するビア導体602、第1外部電極43と電気的に接続する引出導体704、引出導体704と渦巻状導体505を接続するビア導体607をさらに含む。第2コイルは、第3外部電極45と電気的に接続する引出導体701、引出導体701と渦巻状導体502を接続するビア導体601、第4外部電極46と電気的に接続する引出導体703、引出導体703と渦巻状導体506を接続するビア導体608をさらに含む。
まず、第1コイルを構成する渦巻状導体501、504および505の接続態様について説明する。下からの積層順序で説明すると、絶縁層302上に形成される渦巻状導体501の外周側端部は、絶縁層302を貫通するビア導体602を介して、絶縁層301上に形成される引出導体702と接続し、引出導体702は絶縁層301の外周端縁にまで引き出される。他方、渦巻状導体501の内周側端部は、絶縁層303、304および305を貫通するように設けられたビア導体603に接続される。
次いで、ビア導体603は、絶縁層305上に形成される渦巻状導体504の内周側端部に接続される。このようにして、渦巻状導体501の内周側端部と渦巻状導体504の内周側端部とは、ビア導体603によって相互接続される。渦巻状導体504の外周側端部は、絶縁層306を貫通するように設けられたビア導体606に接続される。
次いで、ビア導体606は、絶縁層306上に形成される渦巻状導体505の外周側端部に接続される。このようにして、渦巻状導体504の外周側端部と渦巻状導体505の外周側端部とは、ビア導体606によって相互接続される。渦巻状導体505の内周側端部は、絶縁層307および308を貫通するように設けられたビア導体607に接続される。
次いで、ビア導体607は、絶縁層308上に形成される引出導体704と接続し、引出導体704は絶縁層308の外周端縁にまで引き出される。
以上のように、渦巻状導体501、504および505が、ビア導体603および606を順次介して接続されることによって、第1コイルが構成される。
次に、第2コイルを構成する渦巻状導体502、503および506の接続態様について説明する。下からの積層順序で説明すると、絶縁層303上に形成される渦巻状導体502の内周側端部は、絶縁層303および302を貫通するビア導体601を介して、絶縁層301上に形成される引出導体701と接続し、引出導体701は絶縁層301の外周端縁にまで引き出される。他方、渦巻状導体502の外周側端部は、絶縁層304を貫通するように設けられたビア導体604に接続される。
次いで、ビア導体604は、絶縁層304上に形成される渦巻状導体503の外周側端部に接続される。このようにして、渦巻状導体502の外周側端部と渦巻状導体503の外周側端部とは、ビア導体604によって相互接続される。渦巻状導体503の内周側端部は、絶縁層305、306および307を貫通するように設けられたビア導体605に接続される。
次いで、ビア導体605は、絶縁層307上に形成される渦巻状導体506の内周側端部に接続される。このようにして、渦巻状導体503の内周側端部と渦巻状導体506の内周側端部とは、ビア導体605によって相互接続される。渦巻状導体506の外周側端部は、絶縁層308を貫通するように設けられたビア導体608に接続される。
次いで、ビア導体608は、絶縁層308上に形成される引出導体703と接続し、引出導体703は絶縁層308の外周端縁にまで引き出される。
以上のように、渦巻状導体502、503および506が、ビア導体604および605を順次介して接続されることによって、第2コイルが構成される。
上述した渦巻状導体501〜506、ビア導体601〜608および引出導体701〜704に含まれる導体材料としては、例えば、Cu、Pd、Al、Ag等の導電性金属またはこれらを含む合金が用いられてよい。
第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造のもう1つの例を、図3に模式的に示す。ガラスセラミック層32は、図3に示す8つの絶縁層311〜318を含む積層された複数の絶縁層をもって与えられる積層構造を有している。絶縁層311〜318は、この順序で下から積層される。絶縁層312〜317上にはそれぞれ、渦巻状導体511〜516が形成される。渦巻状導体511〜516はそれぞれ、絶縁層312〜317の比較的中央近傍に位置する内周側端部と比較的外周近傍に位置する外周側端部とを有する。なお、渦巻状導体511〜516は、実際には、隣り合う絶縁層311〜318の間の界面に沿ってそれぞれ延在するように形成されるが、以下、絶縁層312〜317のそれぞれの上に位置するものとして説明する。
図3に示す例において、第1コイルは、渦巻状導体511、514および515、ならびにビア導体612および615を含み、第2コイルは、渦巻状導体512、513および516、ならびにビア導体611、613および614を含む。第1コイルは、第1外部電極43と電気的に接続する引出導体712、引出導体712と渦巻状導体515を接続するビア導体616をさらに含む。第2コイルは、第3外部電極45と電気的に接続する引出導体711、引出導体711と渦巻状導体512を接続するビア導体611をさらに含む。第1コイルを構成する渦巻状導体511、514および515の接続態様は、渦巻状導体511の外周側端部が絶縁層312の外周端縁に引き出されて第2外部電極44と電気的に接続する以外は、図2に示す例と同様である。同様に、第2コイルを構成する渦巻状導体512、513および516の接続態様は、渦巻状導体516の外周側端部が絶縁層317の外周端縁に引き出されて第4外部電極46と電気的に接続する以外は、図2に示す例と同様である。
図2に示す構成例において、第1コイルを構成する第1渦巻状導体は渦巻状導体504に対応し、第2渦巻状導体は渦巻状導体505に対応し、第3渦巻状導体は渦巻状導体501に対応する。また、第2コイルを構成する第4渦巻状導体は渦巻状導体503に対応し、第5渦巻状導体は渦巻状導体502に対応し、第6渦巻状導体は渦巻状導体506に対応する。同様に、図3に示す構成例においては、第1コイルを構成する第1渦巻状導体は渦巻状導体514に対応し、第2渦巻状導体は渦巻状導体515に対応し、第3渦巻状導体は渦巻状導体511に対応する。また、第2コイルを構成する第4渦巻状導体は渦巻状導体513に対応し、第5渦巻状導体は渦巻状導体512に対応し、第6渦巻状導体は渦巻状導体516に対応する。以下、図2に示す構成を例として渦巻状導体間の距離について説明するが、以下の説明は図3に示す構成例についても同様に成り立つ。
第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルの積層方向に平行な断面を、図4に模式的に示す。図4に示すように、積層体31の積層方向において、第1渦巻状導体504は第2渦巻状導体505および第4渦巻状導体503と隣り合い、かつ第4渦巻状導体503は第1渦巻状導体504および第5渦巻状導体502と隣り合う。
積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間(図4において符号Aで示す)の距離は、他の距離より小さい。第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間の距離を他の距離より小さくすることにより、コモンモードインピーダンスを大きくすることができ、カットオフ周波数をより高周波にすることができる。なお、積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間以外の部分における距離を、単に「他の距離」ともよぶ。ここで、積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間以外の部分における距離が全て同じでない場合、「第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が、他の距離より小さい」とは、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が、「他の距離」のうち最も小さいものより小さいことを意味する。
隣り合う渦巻状導体間の距離は、以下に説明する方法で測定することができる。まず、コモンモードチョークコイル30の試料を垂直になるように立てて、試料の周りを樹脂で固める。このとき、LT面(例えば側面47または48)が露出するようにする。研磨機を用いて、試料をW方向に幅Wの約1/2の深さまで研磨して、LT面に平行な断面(LT断面)を露出させる。その後、研磨によるコイル導体のだれを除去するために、イオンミリング(株式会社日立ハイテク社製イオンミリング装置IM4000)によって研磨表面を加工する。このようにして得られた試料の研磨面を、デジタルマイクロスコープ((株)キーエンス社製VHX−6000)を用いて撮影する。撮影した写真において、図5に示すように、積層体31の長さLを約二等分する箇所に垂線Pを引き、測定対象となる隣り合う2つの渦巻状導体のうち一方(渦巻状導体A)の下端を結ぶL方向の水平線C、および隣り合う2つの渦巻状導体の他方(渦巻状導体B)の上端を結ぶ水平線Dを引く。垂線Pに沿って水平線Cと水平線Dとの間の距離を測定し、この距離を、隣り合う渦巻状導体Aと渦巻状導体Bとの間の距離とする。なお、図5において、渦巻状導体の断面は略楕円形状であるが、渦巻状導体の断面形状は図5に示す形状に限定されるものではない。
従来のコモンモードチョークコイルでは、以下に説明するように、コモンモードインピーダンスを大きくするとカットオフ周波数が低周波になる傾向にあり、コモンモードインピーダンスを大きくすることと、カットオフ周波数を高くすることの両立は困難であった。コモンモードインピーダンスを大きくする手段として、渦巻状導体間の距離を小さくすることが考えられる。しかし、渦巻状導体間の距離を小さくすると、一次コイルと二次コイルとの間の浮遊容量が大きくなってしまい、カットオフ周波数を高周波化することができないという問題があった。
本実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおいて、一次コイルと二次コイル(第1コイルと第2コイル)の結合は、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間で最も強くなる。この一次コイルと二次コイルの結合がもっとも強い領域における渦巻状導体間距離を小さくすることで、一次コイルと二次コイルの結合がより強くなり、カットオフ周波数を高周波化することができる。一方、一次コイルと二次コイルの結合が比較的弱い他の渦巻状導体間距離を比較的大きくすることで、コイルの結合の低下を抑制しつつ、一次コイルと二次コイルとの間の浮遊容量を低減することができ、カットオフ周波数を高周波化することができる。本実施形態に係るコモンモードチョークコイルは、このようにして、コモンモードインピーダンスを大きくすることと、カットオフ周波数を高くすることの両立することができるものである。
第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間の距離は、他の距離より2μm以上小さいことが好ましい。渦巻状導体間距離をこのように設定することにより、カットオフ周波数をより高周波化することができる。
好ましい態様において、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間の距離は2μm以上30μm以下であり、他の距離は4μm以上32μm以下である。渦巻状導体間距離をこのように設定することにより、渦巻状導体同士を接続するビア導体の良好な充填率を担保でき、ビア導体を構成する導体材料(Ag等)がガラスセラミック層に拡散することによるショートリスクを低減することができる。
第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルの一の変形例の積層方向に平行な断面を、図6に模式的に示す。図6に示すように、積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、積層方向において両端に位置する渦巻状導体501および506の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体501および/または506と隣り合う渦巻状導体502および/または505との間の距離が、他の距離より大きいことが好ましい。なお、図6に示す構成においては、渦巻状導体501と渦巻状導体502との距離(符号Bで示す)と、渦巻状導体505と渦巻状導体506との距離(符号Bで示す)の両方が、他の距離より大きくなっている。積層方向において両端に位置する渦巻状導体と、当該渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の領域は、一次コイルと二次コイルの結合が最も弱い領域である。そのため、この領域における渦巻状導体間距離を大きくすることで、コイル間の結合の低減を抑制しつつ、一次コイルと二次コイルとの間の浮遊容量を低減し、かつカットオフ周波数をさらに高周波化することができる。
積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、積層方向において両端に位置する渦巻状導体501および506の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体501および/または506と隣り合う渦巻状導体502および/または505との距離が、他の距離より2μm以上大きいことが好ましい。渦巻状導体間距離をこのように設定することにより、コイルの結合の低減をより一層抑制することができ、一次コイルと二次コイルの浮遊容量をさらに低減し、かつカットオフ周波数をさらに高周波化することができる。
好ましい態様において、積層体31の積層方向において、隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体504と第4渦巻状導体503との間の距離は2μm以上28μm以下であり、積層方向において両端に位置する渦巻状導体501および506の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体501および/または506と隣り合う渦巻状導体502および/または505との距離は、6μm以上32μm以下であり、その他の距離は4μm以上30μm以下である。渦巻状導体間距離をこのように設定することにより、渦巻状導体同士を接続するビア導体の良好な充填率を担保でき、ビア導体を構成する導体材料(Ag等)がガラスセラミック層に拡散することによるショートリスクを低減することができる。
次に、コモンモードチョークコイルの製造方法について以下に説明するが、本実施形態に係るコモンモードチョークコイルの製造方法は、以下の方法に限定されるものではない。
(ガラスセラミックシートの作製)
所定の組成のホウケイ酸ガラス粉末を用意し、フィラーとして石英(SiO)、フォルステライト(2MgO・SiO)、アルミナ(Al)等を所定量添加し、有機バインダ、有機溶剤、可塑剤、およびPSZ(部分安定化ジルコニア)ボールと共にポットミルに入れて混合粉砕する。得られたスラリーを、ドクターブレード法等でシート状にシート加工し、矩形状に打ち抜いてガラスセラミックシートを得る。
(フェライトシートの作製)
所定の組成になるようにFe、ZnO、CuO、NiO等のフェライト素原料を秤量し、これら秤量物を純水およびPSZボールと共にポットミルに入れて、湿式で混合粉砕し、蒸発乾燥させた後、700℃以上800℃以下の温度で所定時間仮焼して、仮焼粉末を作製する。
次いで、この仮焼粉末を、有機バインダ、有機溶剤およびPSZボールと共に再びポットミルに入れて混合粉砕する。得られたスラリーを、ドクターブレード法等でシート状にシート加工し、矩形状に打ち抜いてフェライトシートを得る。
(コモンモードチョークコイルの作製)
ガラスセラミックシートの所定箇所にレーザー照射を行ってビアホールを形成し、ビアホールに導電性ペースト(Agペースト等)を充填する。次いで、導電性ペーストをスクリーン印刷することにより渦巻状導体および引出導体を形成する。導電性ペーストはAl等の金属酸化物を含んでもよい。Al等の金属酸化物の含有量は、Ag等の金属と金属酸化物の合計重量に対して0.02wt%以上0.2wt%以下程度であることが好ましい。なお、渦巻状導体および引出導体の形成方法はスクリーン印刷に限定されず、めっき等で形成してもよい。
図2に示す順番でガラスセラミックシート(すなわち絶縁層)を積み重ね、その上下に所定枚数のフェライトシートを積み重ね、場合により、その上下に所定枚数のガラスセラミックシートを更に積み重ねた後、これを加熱圧着し、ダイサー等で切断して個片化することで、積層成形体を作製する。圧着は、静水圧プレス等の工法により行ってよい。次いで、この積層成形体を焼成炉で大気雰囲気下、350℃以上500℃以下に加熱して脱バインダ処理を行い、その後、850℃以上920℃以下の温度で焼成して、積層体を得る。この積層体にバレル処理をした後、所定箇所に、Ag粉末と所定量のガラスフリットを含有する外部電極用導電性ペーストを塗布し、900℃程度の温度で焼き付けすることで、下地電極を形成する。下地電極の上に、Ni、Cu、Sn等のめっき処理を施す。めっき処理の一例として、下地電極の上に、めっきによりNi層およびSn層を順次形成してよい。このようにして、コモンモードチョークコイルが得られる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルについて以下に説明する。第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルにおける積層体の内部構造の一例を、図7に模式的に示す。第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルは、第1実施形態に係るコモンモードチョークコイルとは、第1コイルが、第7渦巻状導体を更に含み、第2コイルが第8渦巻状導体を更に含む点で相違する。以下、この相違する構成を説明する。その他の点については、第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルは第1実施形態と同様の構成を有し、その説明は省略する。第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルは、第1実施形態のコモンモードチョークコイルと同様に、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有する。
図7に示す構成において、ガラスセラミック層は、8つの絶縁層321〜328を含む積層された複数の絶縁層をもって与えられる積層構造を有している。なお、絶縁層は1枚の絶縁体シートからなるものであってよく、あるいは、複数の絶縁体シートを積層して1層の絶縁層としてもよい。絶縁層321〜328は、この順序で下から積層される。絶縁層322〜327上にはそれぞれ、渦巻状導体521〜528が形成される。渦巻状導体521〜528はそれぞれ、絶縁層321〜328の比較的中央近傍に位置する内周側端部と比較的外周近傍に位置する外周側端部とを有する。なお、渦巻状導体521〜528は、実際には、隣り合う絶縁層321〜328の間の界面に沿ってそれぞれ延在するように形成されるが、以下、絶縁層321〜328のそれぞれの上に位置するものとして説明する。
積層体の内部、より特定的には、ガラスセラミック層の内部には、第1コイルおよび第2コイルが設けられる。第1コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第1渦巻状導体、第2渦巻状導体、第3渦巻状導体および第7渦巻状導体を含む。第2コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第4渦巻状導体、第5渦巻状導体、第6渦巻状導体および第8渦巻状導体を含む。図7に示す構成において、第1コイルは、渦巻状導体521、523、524および527、ならびにビア導体621、623および624を含み、第2コイルは、渦巻状導体522、525、526および528、ならびにビア導体622、625および626を含む。第1コイルの渦巻状導体521の外周側端部は、絶縁層321の外周端縁にまで引き出されて第1外部電極と電気的に接続し、渦巻状導体527の外周側端部は、絶縁層327の外周端縁にまで引き出されて第2外部電極と電気的に接続する。第2コイルの渦巻状導体522の外周側端部は、絶縁層322の外周端縁にまで引き出されて第4外部電極と電気的に接続し、渦巻状導体528の外周側端部は、絶縁層328の外周端縁にまで引き出されて第3外部電極と電気的に接続する。
第2実施形態に係るコモンモードチョークコイルの積層方向に平行な断面を、図8に模式的に示す。図8に示すように、積層体31の積層方向において、第1渦巻状導体524は第2渦巻状導体523および第4渦巻状導体525と隣り合い、かつ第4渦巻状導体525は第1渦巻状導体524および第5渦巻状導体526と隣り合う。
積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体524と第4渦巻状導体525との間(図8において符号Aで示す)の距離は、他の距離より小さい。第1渦巻状導体524と第4渦巻状導体525との間の距離を他の距離より小さくすることにより、コモンモードインピーダンスを大きくすることができ、カットオフ周波数をより高周波にすることができる。なお、積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体524と第4渦巻状導体525との間以外の部分における距離を、単に「他の距離」ともよぶ。
図8に示す構成において、積層体31の積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、積層方向において両端に位置する渦巻状導体521および528の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体521および/または528と隣り合う渦巻状導体522および/または527との間(符号Bで示す)の距離が、他の距離より大きいことが好ましい。このように渦巻状導体間距離を設定することにより、コイル間の結合の低減を抑制しつつ、一次コイルと二次コイルとの間の浮遊容量を低減し、かつカットオフ周波数をさらに高周波化することができる。
以上、第1コイルおよび第2コイルがそれぞれ、3層または4層の渦巻状導体を含む構成を例として本開示に係るコモンモードチョークコイルの説明を行ったが、本発明は上述した構成に限定されるものではない。第1コイルおよび第2コイルはそれぞれ、5層以上の渦巻状導体を含んでもよく、この場合においても、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ高いカットオフ周波数を有するコモンモードチョークコイルを得ることができる。
以下に説明する手順で、例1〜10のコモンモードチョークコイルを作製した。
(ガラスセラミックシートの作製)
ホウケイ酸ガラス粉末として、SiOが78wt%、Bが20wt%、KOが2wt%の組成からなる平均粒径が1.0μmのガラス粉末を準備した。フィラーとして、平均粒径が0.5μm以上1.5μm以下の石英粉末およびアルミナ粉末を準備した。ガラス粉末が85wt%、石英粉末が12wt%、アルミナ粉末が3wt%の組成となるように各原料を秤量して混合し、ポリビニルブチラール系樹脂等の有機バインダ、エタノール、トルエン等の有機溶剤、および可塑剤をPSZボールと共にポットミルに入れて十分に混合粉砕してガラスセラミックスラリーを作製した。ドクターブレード法で、スラリーをシート状に成形加工し、ガラスセラミックシートを作製した。
(フェライトシートの作製)
フェライト組成がFeが48mol%、ZnOが26mol%、CuOが8mol%、残部がNiOとなるように各原料を秤量した。この秤量物を純水およびPSZボール等の玉石と共にポットミルに入れ、湿式で十分に混合粉砕し、蒸発乾燥させた後、700℃の温度で所定時間仮焼して、仮焼粉末を作製した。この仮焼粉末と、ポリビニルブチラール系等の有機バインダ、エタノール、トルエン等の有機溶剤を、PSZボールと共に再びポットミルに投入し、十分に混合粉砕してフェライトスラリーを作製した。ドクターブレード法でスラリーをシート状に成形加工して、フェライトシートを作製した。
(コモンモードチョークコイルの作製)
ガラスセラミックシートの所定箇所にレーザー照射を行い、ビアホールを形成し、ビアホールに導電性ペースト(Agペースト)を充填した。次いでスクリーン印刷により渦巻状導体を形成した。導電性ペーストとして、Al粉末およびAg粉末の合計重量に対してAl粉末を0.1wt%含有するペーストを用いた。図7に示すような順番で、ガラスセラミックシートを積み重ね、その上下に所定枚数のフェライトシート、さらにその上下に所定枚数のガラスセラミックシートを積み重ね、これを加熱圧着した後、ダイサー等で切断して個片化し、積層成形体を作製した。なお、ガラスセラミックシートの厚さは、渦巻状導体間の距離が表1に示す値となるように設定した。表1および後述の表2において、「中央における渦巻状導体間距離」は、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離を意味し、図8において符号Aで示す部分の距離である。
次に、この積層成形体を、焼成炉において大気雰囲気下で350℃以上500℃以下に加熱して脱バインダ処理を行い、その後、900℃の温度で焼成して積層体を得た。
得られた積層体にバレル処理をした後、Ag粉末と所定量のガラスフリットを含有した外部電極用導電性ペーストを所定箇所に塗布し、800℃程度の温度で焼き付けすることで、下地電極を形成した。下地電極の上に、めっきによりNi層、Sn層を順次形成して、例1〜10のコモンモードチョークコイルを作製した。コモンモードチョークコイルのサイズは、長さLが0.65mm、幅Wが0.50mm、厚みTが0.30mmであった。
得られたコモンモードチョークコイルについてAgilent Technologies株式会社製のインピーダンスアナライザ「E4991A」を用いて、温度20±3℃、周波数100MHzにおけるコモンモードインピーダンスを測定した。また、Agilent Technologies株式会社製のネットワークアナライザ「E5071B」を用いて、温度20±3℃でのカットオフ周波数を測定した。結果を表1および図9に示す。なお、表1において*を付したものは比較例である。
Figure 0006743836
渦巻状導体間距離を表2に示す値に設定した以外は実施例1と同様の手順で、例11〜18のコモンモードチョークコイルを作製し、コモンモードインピーダンスおよびカットオフ周波数を測定した。結果を表2および図9に示す。なお、表2において、「両端における渦巻状導体間距離」は、積層方向において両端に位置する渦巻状導体と、その渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離を意味し、図8において符号Bで示す部分の距離である。
Figure 0006743836
表1、表2および図9に示すように、渦巻状導体間距離が全て同じであった例7〜10においては、渦巻状導体間距離を小さくすることによりコモンモードインピーダンスは大きくなったが、カットオフ周波数は低下してしまった。これに対し、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離のみを小さくした例1〜6のコモンモードインピーダンスにおいては、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が小さくなるに従って、コモンモードインピーダンスが大きくなり、かつカットオフ周波数が高周波化した。この傾向は、比較例である例7〜10の傾向とは全く異なるものであり、従来のコモンモードチョークコイルでは見られなかったものである。更に、例11〜18の測定結果より、積層方向において両端に位置する渦巻状導体と、その渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離を、他の距離より大きくすることにより、コイル間の結合の低減を抑制しつつ、一次コイルと二次コイルとの間の浮遊容量を低減し、かつカットオフ周波数を高周波化することができたことがわかる。
本発明は以下の態様を含むが、これらの態様に限定されるものではない。
(態様1)
複数の絶縁層を積層してなる積層体と、
積層体の内部に設けられた第1コイルおよび第2コイルと、
積層体の外表面に設けられた第1外部電極、第2外部電極、第3外部電極および第4外部電極と
を含むコモンモードチョークコイルであって、
第1外部電極および第2外部電極はそれぞれ、第1コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
第3外部電極および第4外部電極はそれぞれ、第2コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
第1コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第1渦巻状導体、第2渦巻状導体および第3渦巻状導体を少なくとも含み、
第2コイルは、積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第4渦巻状導体、第5渦巻状導体および第6渦巻状導体を少なくとも含み、
積層方向において、第1渦巻状導体は第2渦巻状導体および第4渦巻状導体と隣り合い、かつ第4渦巻状導体は第1渦巻状導体および第5渦巻状導体と隣り合い、
積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が、他の距離より小さい、コモンモードチョークコイル。
(態様2)
第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が、他の距離より2μm以上小さい、態様1に記載のコモンモードチョークコイル。
(態様3)
第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が2μm以上30μm以下であり、他の距離が4μm以上32μm以下である、態様1または2に記載のコモンモードチョークコイル。
(態様4)
第1コイルが、第7渦巻状導体を更に含み、第2コイルが第8渦巻状導体を更に含む、態様1〜3のいずれか1つに記載のコモンモードチョークコイル。
(態様5)
積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離が、他の距離より大きい、態様1〜4のいずれか1つに記載のコモンモードチョークコイル。
(態様6)
積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離が、他の距離より2μm以上大きい、態様5に記載のコモンモードチョークコイル。
(態様7)
積層方向において、隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、
第1渦巻状導体と第4渦巻状導体との間の距離が2μm以上28μm以下であり、
積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との距離が、6μm以上32μm以下であり、
その他の距離が4μm以上30μm以下である、態様5または6に記載のコモンモードチョークコイル。
本発明のコモンモードチョークコイルは、コモンモードインピーダンスが大きく、かつ優れた高周波特性を有するので、高周波ノイズ除去等の高周波用途に幅広く利用することができる。
30 コモンモードチョークコイル
31 積層体
32 ガラスセラミック層
33、34 フェライト層
43 第1外部電極
44 第2外部電極
45 第3外部電極
46 第4外部電極
47、48 積層体の側面
301、302、303、304、305、306、307、308、311、312、313、314、315、316、317、318、321、322、323、324、325、326、327、328 絶縁層
501、502、503、504、505、506、511、512、513、514、515、516、521、522、523、524、525、526、527、528 渦巻状導体
601、602、603、604、605、606、607、608、611、612、613、614、615、616、621、622、623、624、625、626 ビア導体
701、702、703、704、711、712 引出導体

Claims (6)

  1. 複数の絶縁層を積層してなる積層体と、
    前記積層体の内部に設けられた第1コイルおよび第2コイルと、
    前記積層体の外表面に設けられた第1外部電極、第2外部電極、第3外部電極および第4外部電極と
    を含むコモンモードチョークコイルであって、
    前記第1外部電極および前記第2外部電極はそれぞれ、前記第1コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
    前記第3外部電極および前記第4外部電極はそれぞれ、前記第2コイルの一方端および他方端に電気的に接続し、
    前記第1コイルは、前記積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第1渦巻状導体、第2渦巻状導体および第3渦巻状導体を少なくとも含み、
    前記第2コイルは、前記積層体の積層方向においてビア導体を介して互いに接続された第4渦巻状導体、第5渦巻状導体および第6渦巻状導体を少なくとも含み、
    前記積層方向において、前記第1渦巻状導体は前記第2渦巻状導体および前記第4渦巻状導体と隣り合い、かつ前記第4渦巻状導体は前記第1渦巻状導体および前記第5渦巻状導体と隣り合い、
    前記積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、前記第1渦巻状導体と前記第4渦巻状導体との間の距離が、他の距離より小さ
    前記第1渦巻状導体と前記第4渦巻状導体との間の距離が、前記他の距離より2μm以上小さい、コモンモードチョークコイル。
  2. 前記第1渦巻状導体と前記第4渦巻状導体との間の距離が2μm以上30μm以下であり、前記他の距離が4μm以上32μm以下である、請求項1に記載のコモンモードチョークコイル。
  3. 前記第1コイルが、第7渦巻状導体を更に含み、前記第2コイルが第8渦巻状導体を更に含む、請求項1または2に記載のコモンモードチョークコイル。
  4. 前記積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、前記積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、該渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離が、他の距離より大きい、請求項1〜のいずれか1項に記載のコモンモードチョークコイル。
  5. 前記積層方向において隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、前記積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、該渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との間の距離が、他の距離より2μm以上大きい、請求項に記載のコモンモードチョークコイル。
  6. 前記積層方向において、隣り合う渦巻状導体間の距離のうち、
    前記第1渦巻状導体と前記第4渦巻状導体との間の距離が2μm以上28μm以下であり、
    前記積層方向において両端に位置する渦巻状導体の少なくとも一方の渦巻状導体と、
    該渦巻状導体と隣り合う渦巻状導体との距離が、6μm以上32μm以下であり、
    その他の距離が4μm以上30μm以下である、請求項またはに記載のコモンモードチョークコイル。
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