JP6716828B2 - 光学効果層を生成するための方法 - Google Patents

Description

発明の詳細な説明

［発明の分野］
[001]本発明は、有価文書及び有価商品の偽造及び違法複製からの保護の分野に関する。特に、本発明は、磁気的に配向した磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法に関する。

［発明の背景］
[002]磁性又は磁化可能な粒子又は顔料、特に磁性を有する光学的に可変の顔料を含有するインク、組成物又は層を、例えばセキュリティ文書の分野におけるセキュリティ要素の生成に使用することは、当技術分野において公知である。配向した磁性又は磁化可能な粒子を含むコーティング又は層は、例えば、米国特許第２，５７０，８５６号；米国特許第３，６７６，２７３号；米国特許第３，７９１，８６４号；米国特許第５，６３０，８７７号及び米国特許第５，３６４，６８９号において開示されている。特に魅力的な光学効果をもたらす、セキュリティ文書の保護に有用な配向した磁性色変化顔料粒子を含むコーティング又は層は、国際公開第２００２／０９０００２Ａ２号及び国際公開第２００５／００２８６６Ａ１号において開示されている。

[003]例えばセキュリティ文書のためのセキュリティ機能は、一般に、一方では「隠された」セキュリティ機能に分類することができ、また他方では「明白な」セキュリティ機能に分類することができる。隠されたセキュリティ機能により提供される保護は、そのような機能の検出が困難であり、典型的には検出のために特殊な機器及び知識が必要であるという概念に依拠し、一方「明白な」セキュリティ機能は、補助なしでの人間の感覚で容易に検出可能であるという概念に依拠し、例えば、そのような機能は、可視及び／又は触覚により検出可能でありながら、それでも生成及び／又は複製が困難となり得る。しかしながら、ほとんどの使用者、特にそれによって保証された文書又は品のセキュリティ機能の事前の知識を有さない使用者は、その存在及び性質の実際の知識を有するならば上記セキュリティ特徴に基づいてセキュリティチェックを実際に実行するまでであるため、明白なセキュリティ特徴の有効性は、そのセキュリティ機能としての容易な認識に大きく依存している。

[004]セキュリティ機能の視覚的外見が、視野角等の視認条件の変化に対して変化する場合、特に著しい光学効果が達成され得る。そのような効果は、例えば、動的外見変化光学デバイス（ＤＡＣＯＤ）、例えば、欧州特許出願公開第１７１０７５６号において開示されているように、硬質化コーティング層内の配向した顔料粒子に依存する、凹状の、それぞれ凸状のフレネル型反射表面等により得ることができる。この文献は、磁場内で顔料粒子を整列させることにより磁気特性を有する顔料粒子又はフレークを含有する印刷された画線を得るための１つの手法を説明している。顔料粒子又はフレークは、磁場内でのその整列後に、フレネル反射体等のフレネル構造配置を示す。画線を傾け、それによって視認者に対する反射方向を変化させることにより、視認者に対して最も大きな反射を示すエリアは、フレーク又は顔料粒子の整列に従って移動する（図１）。

[005]フレネル型反射表面は平坦であるが、凹状又は凸状の反射湾曲表面、例えば円筒又は半球等の外観を提供するように作製され得る。上記フレネル型反射表面は、非等方的に反射する磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む湿潤コーティング層を、単一の双極子磁石の磁場に曝露することにより生成することができ、双極子磁石は、凹状効果のためには、コーティング層の面の上方に（図２Ｂ及び図２Ｃの下部）、凸状効果のためには、凸状配向に関して欧州特許出願公開第１７１０７５６号の図７Ｂに示されるように、それぞれ下方に（図２Ａ及び図２Ｃの上部）配置される。そのように配向された顔料粒子は、結果的にコーティング層を硬質化させることにより位置及び方位が固定／定着される。

[006]そのような構造の１つの例は、米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号において開示されているような、いわゆる「回転棒」効果である。「回転棒」効果は、コーティングにわたる湾曲表面を模倣した顔料粒子配向に基づく。観察者には、画線が傾けられると観察者から離れて、又は観察者に向かって移動する鏡面反射ゾーンが見える。いわゆる正の回転棒は、凹状の様式（図２Ｂ）に配向した顔料粒子を含み、正に湾曲した表面に従い、正の回転棒は、傾きの回転感覚に従って移動する。いわゆる負の回転棒は、凸状の様式（図１及び２Ａ）に配向した顔料粒子を含み、負に湾曲した表面に従い、負の回転棒は、傾きの回転感覚に対向して移動する。凹状湾曲に従う配向（正の曲面配向）を有する顔料粒子を含む硬質化コーティングは、支持体が後方に傾けられた場合の回転棒の上方の移動（正の回転棒）を特徴とする視覚効果を示す。凹状湾曲とは、支持体の硬質化コーティングを保持する側から硬質化コーティングを視認する観察者により見られるような湾曲を指す（図２Ｂ）。凸状湾曲に従う配向（負の曲面配向、図２Ａ）を有する顔料粒子を含む硬質化コーティングは、硬質化コーティングを保持する支持体が後方に傾けられた場合の回転棒の下方の移動（負の回転棒）を特徴とする視覚効果を示す（すなわち、支持体の頂部が観察者から離れるように移動する一方で、支持体の底部は観察者に向かって移動する）（図１）。この効果は、今日では紙幣上のいくつかのセキュリティ要素、例えば５、それぞれ１０ユーロ紙幣の「５」及び「１０」、又は南アフリカの１００ランド紙幣の「１００」等に利用されている。

[007]基板上に印刷された光学効果層に関して、負の回転棒効果（凸状の様式での顔料粒子（２２０）の配向、図２Ａの曲面）が、基板のコーティング層とは反対側に配置された磁石の磁場に湿潤コーティング層を曝露することにより生成され（図２Ｃの上）、一方、正の回転棒効果（凹状の様式での顔料粒子（２２０）の配向、図２Ｂの曲面）が、基板のコーティング層と同じ側に配置された磁石の磁場に湿潤コーティング層を曝露することにより生成される（図２Ｃの下）。正及び負の回転棒効果及びそれらの組合せの例は、米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号及び国際公開第２０１２／１０４０９８Ａ１号において開示されている。正の回転棒に関して、まだ湿潤しているコーティング層に面する磁石の位置は、コーティング層に面するＵＶ照射源でのコーティング層の同時の硬化を防止する。

[008]米国特許第２，８２９，８６２号は、外部磁石の除去後の磁性粒子の再配向を防止するための担持材料の粘弾性特性の重要性を教示している。硬質化プロセス中に磁性又は磁化可能な顔料粒子又はフレークを含むコーティング組成物を磁場内に維持することにより、磁性又は磁化可能な顔料粒子又はフレークの配向を保存することができる。（図３Ａに示されるような）そのようなプロセスの例は、例えば、国際公開第２０１２／０３８５３１号、欧州特許出願公開第２４３３７９８号又は米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７Ａ１号において開示されている。これらの例の全てにおいて、外部磁気デバイスは、基板のコーティング組成物を保持する側とは反対側に位置し、硬質化プロセスは、基板のコーティング組成物を保持する側に位置する照射源により誘引される。

[009]同時係属出願欧州特許第１４１７８９０１．６号は、磁性顔料を使用することにより画線がコーティングされた物品を製造するための方法を開示している。この方法は、ｉ）複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング組成物を基板に塗布するステップと、ｉｉ）コーティング層を磁場生成デバイスの磁場に曝露するステップと、ｉｉｉ）ＵＶ−Ｖｉｓ放射線源により基板を通してコーティング層を同時又は部分的に同時に硬質化させるステップとを含む。欧州特許第１４１７８９０１．６号において開示されている磁場生成デバイスは、基板のコーティング層を保持する側に位置し、硬質化プロセスは、基板のコーティングを保持する側とは反対側に位置付けられたＵＶ−Ｖｉｓ放射線源により誘引され、すなわち、硬質化は、基板を通して行われる。

[010]国際公開第０２／０９０００２Ａ２号は、コーティングされた物品上に画線を生成するための方法を開示している。方法は（図４に示されているように）、ｉ）複数の磁性非球状粒子又はフレークを含有する、液体形態の磁化可能な顔料コーティングの層を基板上に塗布するステップと、ｉｉ）顔料コーティングを磁場に曝露するステップと、ｉｉｉ）電磁放射線への曝露により顔料コーティングを固化させるステップとを含む。固化ステップの間、空隙を有する外部フォトマスクが、顔料コーティングと電磁放射線源との間に位置付けられてもよい。国際公開第０２／０９０００２Ａ２号において開示されているフォトマスクは、フォトマスクの空隙に面する顔料コーティングの曝露領域のみを固化させることを可能にし、それによって、それらの領域においてのみ、フレークの配向を固定／定着させる。顔料コーティングの曝露されていない部分に分散したフレークは、その後のステップにおいて、第２の磁場を使用して再配向されてもよい。フォトマスクを用いた選択的固化により形成されたパターンは、パターン化された磁場の使用により得ることができるものよりも高解像度の画像化を可能にする、又は単純な磁場を用いては達成することができないパターンを可能にする。このプロセスにおいて、固化ステップの間、コーティングされた基板及びフォトマスクの相対的位置を一定に維持することが必須である。その結果、コーティングされた基板は、固定されたフォトマスク及び電磁放射線源の前で連続的な並進運動で移動してはならない。

[011]したがって、磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む塗布されたコーティングに完全に付随する様式で移動するフォトマスクを含む、光学効果層を生成するためのプロセスが必要とされている。特に、異なる磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンを有する少なくとも２つのエリアで作製されたモチーフを備える光学効果層を、効率的な様式で、高解像度及び厳密な整合性をもって生成することが必要とされている。

［発明の概要］
[012]したがって、本発明の目的は、上述のような先行技術の欠陥を克服することである。

[013]第１の態様において、本発明は、フォトマスクを備える基板上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法を提供し、上記ＯＥＬは、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたモチーフを備え、上記方法は、
ａ）コーティング層を形成するために、フォトマスクを備える基板上に、１種又は複数種の光開始剤及び複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、上記コーティング層は、第１の状態にあり、上記コーティング層は、フォトマスクに少なくとも部分的に面している、ステップと；
ｂ）
ｂ１）コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、基板を通して硬質化させるステップであり、上記硬質化は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をその位置及び配向で固定又は定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により第２の状態まで行われる、ステップと；
ｃ）
ｃ１）基板のフォトマスクの存在のために第１の状態にある、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップと；
ｃ２）磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定又は定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に又は後続して硬質化させるステップと
を含む。

[014]任意選択で含まれてもよい一実施形態において、フォトマスクは、１．０以上、好ましくは１．１以上、より好ましくは１．２以上の光学密度ＤＭを有する。

[015]別の実施形態において、ステップｃ２）のＵＶ−Ｖｉｓ放射線源は、基板のコーティング層を保持する側に位置する。

[016]本発明のさらなる態様において、上で挙げられた方法により調製される光学効果層（ＯＥＬ）が提供される。

[017]さらなる態様において、セキュリティ文書の偽造若しくは不正からの保護、又は装飾用途のための光学効果層（ＯＥＬ）の使用が提供される。

[018]さらなる態様において、上で挙げられたような１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えるセキュリティ文書が提供される。

[019]さらなる態様において、フォトマスクを備える基板上に配置された光学効果層（ＯＥＬ）が提供され、上記ＯＥＬは、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたモチーフを備え、ＯＥＬは、コーティング層を形成するために放射線硬化により放射線硬化コーティング組成物中で固定又は定着された複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング組成物を含み、上記コーティング層は、少なくとも部分的にフォトマスクと重複して、そのマスキングされたエリア及びマスキングされていないエリアをもたらし；
コーティング層のマスキングされたエリアの磁性又は磁化可能な顔料粒子は、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように配向され；
コーティング層のマスキングされていないエリアの磁性又は磁化可能な顔料粒子は、ランダム配向に従うか、又はマスキングされていないエリアの磁性若しくは磁化可能な顔料粒子と異なる配向パターンに従うように配向され、人間の目により判定可能であるような視覚的に異なる光学的印象をもたらす。

[020]一実施形態において、マスキングされたエリアにおける磁性又は磁化可能な顔料粒子は、コーティング層を保持する側から視認した場合に凹状又は凸状湾曲の一方に従うように配向され、マスキングされていないエリアにおける磁性又は磁化可能な顔料粒子は、コーティング層を保持する側から視認した場合に凹状又は凸状湾曲の他方に従うように配向される。

[021]一実施形態において、フォトマスクは、基板上に印刷される。

[022]一実施形態において、フォトマスクは、基板のコーティング層から離れるように面する側に配置され、又は、フォトマスクは、基板のコーティング層を保持する側に配置され、コーティング層及び基板の中間に配置される。
[023]一実施形態において、フォトマスクは、ＵＶ吸収フォトマスク組成物で作製される。

凸状湾曲（負）での光学的「回転棒」効果を示す概略図である。 凸状の様式で負に湾曲した磁力線の接線に従う顔料粒子を示す概略図である。 凹状の様式で正に湾曲した磁力線の接線に従う顔料粒子を示す概略図である。 先行技術による、その位置に応じて凸状の様式（上）で、又は凹状の様式（下）で磁場を生成するのに好適な磁場生成デバイスを示す概略図である。 先行技術による凸状の様式で負に湾曲した磁力線に従って光学効果層を生成するための、磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層の同時又は部分的に同時の硬質化に好適な磁場生成デバイス及び照射源を使用したプロセスの例を示す概略図である（同時係属出願欧州特許第１４１７８９０１．６号） 又は凹状の様式で正に湾曲した磁力線に従って光学効果層を生成するための、磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層の同時又は部分的に同時の硬質化に好適な磁場生成デバイス及び照射源を使用したプロセスの例を示す概略図である（同時係属出願欧州特許第１４１７８９０１．６号）。 先行技術による、第１の磁場Ｂ１を生成する第１の磁場デバイス、フォトマスク（４６０）を装備した照射源（４４０）、第２の磁場Ｂ２を生成する第２の磁場デバイス、及び照射源（４４１）を使用した、光学効果層を生成するためのプロセスの一例を示す図である。 凹状の様式で正に湾曲した磁力線に従って光学効果を生成するように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）を同時又は部分的に同時に硬質化させるのに好適な、基板（５３０）上に備えられ、コーティング層（５１０）と基板（５３０）との間に位置するフォトマスク（５８０）、磁場生成デバイス（５７０）及びＵＶ−Ｖｉｓ照射源（５４０）を使用したプロセスの一例を示す概略図である。 凹状の様式で正に湾曲した磁力線に従って光学効果を生成するように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）を同時又は部分的に同時に硬質化させるのに好適な、基板（５３０）上に備えられ、基板（５３０）の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）を保持する側とは反対側に位置するフォトマスク（５８０）、磁場生成デバイス（５７０）及びＵＶ−Ｖｉｓ照射源（５４０）を使用したプロセスの一例を示す概略図である。 凹状の様式で正に湾曲した磁力線に従って光学効果を生成するように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）を同時又は部分的に同時に硬質化させるのに好適な、基板（５３０）に備えられたフォトマスク（５８０）、磁場生成デバイス（５７０）及びＵＶ−Ｖｉｓ照射源（５４０）を使用したプロセスの一例を示す概略図である。 基板（６３０）上に光学効果層を生成するためのプロセスの一例を示す概略図であり、基板は、コーティング層（６１０）と、コーティング層（６１０）に面する表面上に存在するフォトマスク（６８０）とを備え、コーティング層（６１０）は、フォトマスク（６８０）の上にあり；光学効果層は、第１のステップ（図６Ａ）において、基板（６３０）及びフォトマスク（６８０）を通した照射によりコーティング層（６１０）を硬質化させるためのＵＶ−Ｖｉｓ照射源（６４０）を使用することにより、並びに、第２のステップ（図６Ｂ）において、同時又は部分的に同時の硬質化のために、凸状の磁場を生成する磁場デバイス（６７１）及び基板のコーティング層（６１０）を保持する側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源を使用することにより生成される。 図６Ａ〜Ｂのプロセスにより得られたＯＥＬを概略的に示す図である。 図６Ａ〜Ｂのプロセスにより得られたＯＥＬの写真を示す図である。 基板（７３０）上に光学効果層を生成するためのプロセスの一例を示す概略図であり、基板は、コーティング層（７１０）と、コーティング層（７１０）に面する表面上に存在するフォトマスク（７８０）とを備え、コーティング層（７１０）は、フォトマスク（７８０）の上にあり；光学効果層は、第１のステップ（図７Ａ）において、第１の磁場を生成する第１の磁場デバイス（７７０）、基板（７３０）及びフォトマスク（７８０）を通した照射によりコーティング層（７１０）を同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化させる（図７Ｂ）ためのＵＶ−Ｖｉｓ照射源（７４０）を使用することにより、並びに、第２の磁場を生成する第２の磁場デバイス（７７１）（図７Ｃ）、及びコーティング層（７１０）を同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化させるための、基板のコーティング層（７１０）を保持する側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源を使用することにより生成される。 図７Ａ〜Ｃのプロセスにより得られたＯＥＬを概略的に示す図である（図７Ｄ）。 図７Ａ〜Ｃのプロセスにより得られたＯＥＬの写真を示す図である。 基板（８３０）上に光学効果層を生成するためのプロセスの一例を示す概略図であり、基板は、コーティング層（８１０）と、コーティング層（８１０）に面する表面上に存在するフォトマスク（８８０）とを備え、コーティング層（８１０）は、フォトマスク（８８０）の上にあり；光学効果層は、第１のステップ（図８Ａ）において、凹状の磁場を生成する第１の磁場デバイス（８７０）、同時又は部分的に同時の硬質化のためのＵＶ−Ｖｉｓ照射源（８４０）を使用し、基板の面内で基板を９０°回転させ、それを裏返すことにより、並びに、第２のステップ（図８Ｂ）において、凸状の磁場を生成する第２の磁場デバイス（８７１）、及び同時又は部分的に同時の硬質化のための、基板のコーティング層を保持する側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源を使用することにより生成される。 図８Ａ（第１のステップ）のプロセスにより得られたＯＥＬを示す概略図である。 図８Ｂのプロセスの第２のステップ後に得られたＯＥＬを示す概略図である。 図８Ｄ−２は、基板（８３０）の面内での図８Ｄ−１の９０°回転により得られる。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、オフセット印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、オフセット印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、オフセット印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、様々なＵＶ吸収材料を含む、溶媒ベースシルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、ＵＶ硬化性シルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、ＵＶ硬化性シルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。 図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す図であり、フォトマスクは、ＵＶ硬化性シルクスクリーン印刷ＵＶ吸収フォトマスクである。

［詳細な説明］
定義
[0024]以下の定義は、説明において議論され、特許請求の範囲において列挙された用語の意味を解釈するために使用されるものである。

[025]本明細書において使用される場合、不定冠詞「ａ」は、１つ、及び２つ以上を示し、必ずしも指示対象名詞を単数に限定しない。

[026] 本明細書において使用される場合、「約」という用語は、問題となる量又は値が、指定された特定の値、又はその近辺のいくつかの他の値であってもよいことを意味する。一般に、ある特定の値を指す「約」という用語は、その値の±５％以内の範囲を指すことを意図する。一例として、「約１００」という語句は、１００±５、すなわち９５〜１０５の範囲を指す。一般に、「約」という用語が使用される場合、示された値の±５％の範囲内でも、本発明により同様の結果又は効果を得ることができることが期待され得る。

[027]本明細書において使用される場合、「及び／又は」という用語は、述べられた群の要素の全て又は１つのみが存在し得ることを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、又はＢのみ、又はＡ及びＢの両方」を意味するものである。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが不在である、すなわち「ＡのみであるがＢではない」可能性も包含する。

[028]「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、本明細書において使用される場合、包括的及び非制限的であることが意図される。したがって、例えば、化合物Ａを含む組成物は、Ａ以外の他の化合物も含み得る。しかしながら、「含む」という用語はまた、「本質的に〜からなる」及び「〜からなる」というより制限的な意味を包含し、したがって、例えば「化合物Ａを含む組成物」はまた、（本質的に）化合物Ａからなってもよい。

[029]「コーティング組成物」という用語は、本明細書において使用されるように固体基板上に光学効果層（ＯＥＬ）を形成することができ、また排他的ではないが優先的には印刷法によって塗布され得る任意の組成物を指す。

[030]「コーティング層」という用語は、本明細書に記載のコーティング組成物で作製された任意の層を指す。

[031]「硬質化させる」及び「硬質化」という用語は、刺激に対する反応においてコーティング組成物の粘度の増加をもたらす様式での、塗布された組成物の硬化、乾燥若しくは固化、反応又は重合を含むプロセスを指す。

[032]「硬質化した」という用語は、材料をある状態、すなわち硬質化又は固体状態に変換する刺激に対する反応におけるコーティング組成物の粘度の増加を指すように使用され、磁性又は磁化可能な顔料粒子は、その現在の位置及び配向で固定又は定着（固定／定着）され、もはや移動又は回転することができない。

[033]「光学効果層（ＯＥＬ）」という用語は、本明細書において使用される場合、複数の配向した磁性又は磁化可能な顔料粒子及びバインダーを含むコーティング層を指し、磁性又は磁化可能な顔料粒子の非ランダム配向が、バインダー中で固定／定着されている。

[034]「回転棒」又は「回転棒効果」という用語は、ＯＥＬ内で横方向に延在する円筒棒形状の光学効果又は光学的印象をもたらすＯＥＬ内のエリアを指し、円筒棒の軸は、ＯＥＬの面に平行に延在し、円筒棒の湾曲表面の一部は、ＯＥＬの面より上にある。「回転棒」、すなわち円筒棒形状は、対称的又は非対称的であってもよく、すなわち、円筒棒の半径は、一定であってもよく、又は一定でなくてもよく、円筒棒の半径が一定でない場合、回転棒は円錐形態を有する。

[035]「凸状の様式」又は「凸状の湾曲」という用語、及び「凹状の様式」又は「凹状の湾曲」という用語は、回転棒の光学効果又は光学的印象を提供する、ＯＥＬにわたるフレネル表面の湾曲を指す。フレネル表面は、レンズ又はミラー等のより大きな固体材料の湾曲を近似的に再生する、変化する傾斜角を有する一連のセクションの形態の構造を備える本質的に平坦な、又は薄い表面である。ＯＥＬが生成される位置において、磁場生成デバイスは、磁性又は磁化可能な顔料粒子を、湾曲表面に対する接線に従って配向させる。「凸状の様式」又は「凸状の湾曲」という用語、及び「凹状の様式」又は「凹状の湾曲」という用語は、光学効果コーティング基板（ＯＥＣ）の光学効果層ＯＥＬを保持する側からＯＥＬを視認する観察者により見られるような湾曲表面の見かけの湾曲を指す。湾曲表面の湾曲は、ＯＥＬが生成される位置における磁場生成デバイスにより生成される磁力線に従う。「凸状の湾曲」は、（図２Ａに示されるような）負に湾曲した磁力線を指し、「凹状の湾曲」は、（図２Ｂに示されるような）正に湾曲した磁力線を指す。

[036]「セキュリティ要素」という用語は、認証目的で使用され得る画線又はグラフィック要素を指すように使用される。セキュリティ要素は、明白な、及び／又は隠されたセキュリティ要素であってもよい。

発明の詳細な説明
[037]本発明は、フォトマスクを備える基板上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法を提供し、ＯＥＬは、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたモチーフを備え、少なくとも２つのエリアは、異なる磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンを有する。少なくとも２つのエリアのうちの１つのエリアは、第１の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように配向した、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、上記配向パターンは、ランダム配向パターン、又はランダム配向パターンを除く任意の配向パターン、好ましくは、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、ＯＥＬを保持する側から視認した場合に凹状の湾曲に従うように配向した配向パターンであってもよく；少なくとも２つのエリアの別のエリアは、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターン、好ましくは、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、ＯＥＬを保持する側から視認した場合に凸状の湾曲に従うように配向した配向パターンに従うように配向した、複数の磁性又は磁化可能な顔料を含み、少なくとも２つのエリアの磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンは、肉眼で区別可能である。

[038]一実施形態によれば、本明細書に記載の少なくとも２つのエリアの少なくとも１つ、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアの少なくとも１つは、複数の配向した磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、上記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、ＯＥＬを保持する側から視認した場合に凹状の湾曲に従うように配向し、特に、上記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、ＯＥＬが正の回転棒の特徴を示すように配向する。

[039]先行技術において、例えば米国特許第７，０４７，８８８号、米国特許第７，５１７，５７８号及び国際公開第２０１２／１０４０９８Ａ１号において、並びに図１、２Ａ及び２Ｃの上に説明されているように、負の曲面（コーティング層（２１０）、すなわち、図２Ａにおいて目で示されるような、磁性又は磁化可能な顔料粒子（２２０）を含む塗布された放射線硬化性コーティング組成物を保持する側から視認した場合の凸状の湾曲）に従う磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向を生成するための知られた方法は、磁性又は磁化可能な顔料粒子（２２０）を配向させるための磁場生成デバイスの使用を含み、上記デバイスは、基板（２３０）の下に設置される（図２Ｃの上を参照されたい）。正の曲面（図２Ｂにおいて目で示されるような、コーティング層（２１０）を保持する側から視認された場合の凹状の湾曲）に従う磁性又は磁化可能な顔料粒子（２２０）の配向を基板（２３０）上に生成するために、磁性又は磁化可能な顔料粒子（２２０）を配向させるために使用される磁場生成デバイスは、基板の上方に設置され（図２Ｃの下）、すなわち、デバイスは、磁性又は磁化可能な顔料粒子（２２０）を含むコーティング層（２１０）に面する。

[040]図３Ａは、湿潤（すなわちまだ硬質化されていない）コーティング層（３１０）を、基板（３３０）のコーティング層（３１０）の反対側に配置された磁場生成デバイス（３７０）の磁場に曝露することにより生成された、負の湾曲（凸状の様式での顔料粒子の配向（図２Ａの場合のような））に従う複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成するのに好適なアセンブリの一例を示す。アセンブリは、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源（３４０）；好ましくは非磁性材料で作製された、０．１〜２５ｍｍの間、好ましくは０．５〜５ｍｍの間の厚さを有する任意選択の支持板（３５０）；及び磁場生成デバイス（３７０）を備える。図３Ａに示されるように、顔料粒子の配向を固定／定着させるためのコーティング層の硬質化は、基板（３３０）のコーティング層（３１０）を保持する側に面するＵＶ−Ｖｉｓ照射源（３４０）を使用することにより行われ、また磁場生成デバイス（３７０）の使用による磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向と同時に、又は少なくとも部分的に同時に行われる。同時の硬質化方法の例は、例えば国際公開第２０１２／０３８５３１Ａ１号において開示されている。

[041]図３Ｂは、湿潤（すなわちまだ硬質化されていない）コーティング層（３１０）を、基板（３３０）のコーティング層（３１０）を保持する側に配置された磁場生成デバイス（３７０）の磁場に曝露することにより生成された、正の湾曲（図２Ｂに示されるような凹状の様式での顔料粒子の配向）に従う複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成するのに好適なアセンブリの一例を示す。アセンブリは、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源（３４０）；好ましくは非磁性材料で作製された、０．１〜２５ｍｍの間、好ましくは０．５〜５ｍｍの間の厚さを有する任意選択の支持板（３５０）；及び磁場生成デバイス（３７０）を備える。図３Ｂに示されるように、顔料粒子の配向を固定／定着させるためのコーティング層の硬質化は、任意選択の支持板（３５０）に面するＵＶ−Ｖｉｓ照射源（３４０）を使用することにより行われ、また磁場生成デバイス（３７０）の使用による磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向と同時に、又は少なくとも部分的に同時に行われる。この例において、基板（３３０）及び任意選択の支持板（３５０）は、コーティング層（３１０）を硬質化させるために使用される照射に対して透過性又は少なくとも部分的に透過性でなければならない。基板を通した同時又は少なくとも部分的に同時の硬質化方法の例は、同時係属出願欧州特許第１４１７８９０１．６号において開示されている。

[042]本発明は、本明細書に記載の方法により得られる光学効果層（ＯＥＬ）をさらに提供する。

[043]単一の硬質化層は、コーティング層を形成するために、フォトマスクを備える基板上に、１種又は複数種の光開始剤及び複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、上記コーティング層は、第１の状態にあり、上記コーティング層は、フォトマスクに少なくとも部分的に面しているステップにより、任意選択でコーティング層を第１の磁場生成デバイスの磁場に曝露するステップにより、並びに磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、上記放射線硬化性コーティング組成物をＵＶ−Ｖｉｓ照射源により第２の状態まで硬質化させるステップにより得られる。本明細書に記載の第１及び第２の状態は、ＵＶ−Ｖｉｓ放射線への曝露に対する反応において粘度の十分な増加を示す結合材料を使用することにより提供され得る。すなわち、コーティング層が硬質化される場合、上記層は、第２の状態、すなわち極めて粘稠性又は硬質化された又は固体の状態に変換され、磁性又は磁化可能な顔料粒子は、その現在の位置及び配向で固定／定着され、もはや層内で移動又は回転することができない。

[044]本明細書に記載の方法は、コーティング層を形成するために、本明細書に記載のフォトマスクを備える基板上に、１種又は複数種の光開始剤及び複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布することからなる第１のステップを含み、上記コーティング層は、第１の状態にあり、上記コーティング層は、フォトマスクに少なくとも部分的に面している。上記ステップは、好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスにより行われることが好ましい。

[045]スクリーン印刷（当技術分野においてシルクスクリーン印刷とも呼ばれる）は、絹、例えばポリアミド若しくはポリエステル等の合成繊維で作製されたモノ−若しくはマルチフィラメント、又は例えば木若しくは金属（例えばアルミニウム若しくはステンレススチール）で作製されたフレーム上にきつく張られた金属糸の細かいメッシュ生地により支持されたステンシルを通して、組成物又はインクが表面に転写されるステンシルプロセスである。代替として、スクリーン印刷メッシュは、化学エッチングされた、レーザーエッチングされた、又は電食により形成された多孔質金属箔、例えばステンレススチール箔であてもよい。メッシュの細孔は、非画線エリアにおいては塞がれ、画線エリアにおいては開放したままであり、画線担持体は、スクリーンと呼ばれる。スクリーン印刷は、フラットベッド式又は回転式であってもよい。スクリーン印刷は、例えば、Ｔｈｅ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｉｎｋ ｍａｎｕａｌ、Ｒ．Ｈ． Ｌｅａｃｈ及びＲ．Ｊ． Ｐｉｅｒｃｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｅｄｉｔｉｏｎ、第５版、５８〜６２頁、並びにＰｒｉｎｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｊ．Ｍ． Ａｄａｍｓ及びＰ．Ａ． Ｄｏｌｉｎ、Ｄｅｌｍａｒ Ｔｈｏｍｓｏｎ Ｌｅａｒｎｉｎｇ、第５版、２９３〜３２８頁においてさらに説明されている。

[046]輪転グラビア（当技術分野においてグラビア印刷とも呼ばれる）は、画線要素がシリンダの表面に彫刻される印刷プロセスである。非画線エリアは、一定の元のレベルにある。印刷の前に、印刷版全体（非印刷及び印刷要素）が組成物又はインクでインク付けされ、浸される。組成物又はインクは、セル内にのみ組成物又はインクが残留するように、印刷前にワイパー又はブレードにより非画線部から除去される。画線は、典型的には２〜４バールの範囲内の圧力、及び基板とインクとの間の接着力により、セルから基板に転写される。輪転グラビアという用語は、例えば異なる種類のインクに依存する凹版印刷プロセス（当技術分野において彫刻鋼製金型又は銅版印刷プロセスとも呼ばれる）を包含しない。さらなる詳細は、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ ｐｒｉｎｔ ｍｅｄｉａ」、Ｈｅｌｍｕｔ Ｋｉｐｐｈａｎ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｅｄｉｔｉｏｎ、４８頁、並びにＴｈｅ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｉｎｋ ｍａｎｕａｌ、Ｒ．Ｈ． Ｌｅａｃｈ及びＲ．Ｊ． Ｐｉｅｒｃｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｅｄｉｔｉｏｎ、第５版、４２〜５１頁に記載されている。

[047]フレキソ印刷は、好ましくは、ドクターブレード、好ましくはチャンバ付きドクターブレード、アニロックスローラ及び版胴を有するユニットを使用する。アニロックスローラは、有利には、その容積及び／又は密度が組成物又はインクの塗布率を決定する小セルを有する。ドクターブレードは、アニロックスローラに対置し、余分なインクを掻き落とす。アニロックスローラは、組成物又はインクを版胴に転写し、版胴は最終的に組成物又はインクを基板に転写する。設計されたフォトポリマープレートを使用して、特定の設計が達成され得る。版胴は、ポリマー又はエラストマー材料から作製されてもよい。フレキソ印刷用の版胴の調製は、Ｐｒｉｎｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｊ． Ｍ． Ａｄａｍｓ及びＰ．Ａ． Ｄｏｌｉｎ、Ｄｅｌｍａｒ Ｔｈｏｍｓｏｎ Ｌｅａｒｎｉｎｇ、第５版、３５９〜３６０頁、並びにＴｈｅ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｉｎｋ ｍａｎｕａｌ、Ｒ．Ｈ． Ｌｅａｃｈ及びＲ．Ｊ． Ｐｉｅｒｃｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｅｄｉｔｉｏｎ、第５版、３３〜４２頁において説明されている。

[048]本明細書に記載の方法は、ｂ１）コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、基板を通して硬質化させるステップであり、上記硬質化は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をその位置及び配向で固定／定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により第２の状態まで行われる、ステップと；ｃ１）基板のフォトマスクの存在のために第１の状態にある、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させる、好ましくは、それによって、ＯＥＬを保持する側から視認した場合に凸状の湾曲に従うように、上記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させる、より好ましくは、それによって、ＯＥＬが負の回転棒の特徴を示すように、上記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させる、ステップと；ｃ２）磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化させるステップとをさらに含む。

[049]図４は、３つのエリアで作製されたモチーフを備えるＯＥＬを生成するのに好適な比較プロセスの一例を示し、上記プロセスは、２つの磁場生成デバイス及び外部フォトマスクを使用する。２つの磁場生成デバイスは、第１の磁場Ｂ１の線、及び第２の磁場Ｂ２の線に沿った磁性又は磁化可能な顔料粒子（４２０）の配向を可能にする。磁場又は磁化可能な顔料粒子（４２０）は、基板（４３０）上に塗布された放射線硬化性コーティング組成物（４１０）中に含まれ、上記基板は、任意選択の支持板（４５０）上に配置されてもよい。第１の磁場Ｂ１の線に沿った磁性又は磁化可能な顔料粒子（４２０）の配向後、放射線硬化性コーティング組成物（４１０）の１つのエリア（Ｗ）が、フォトマスク（４６０）を装備したＵＶ−Ｖｉｓ照射源（４４０）により硬質化される。フォトマスク（４６０）の使用の結果、フォトマスクに面する放射線硬化性コーティング組成物（４１０）のエリア（Ｕ）は、照射に対して非曝露状態を維持し、それにより第１の状態を維持して硬質化されない。非曝露エリア（Ｕ）において、放射線硬化性コーティング組成物（４１０）は、第１の状態、すなわち液体状態を維持し、したがって、磁性又は磁化可能な顔料粒子（４２０）は、配向可能性を維持する。後続のステップにおいて、まだ硬質化されていないエリア（Ｕ）における磁性又は磁化可能な顔料粒子（４２０）は、第２の磁場Ｂ２の線に沿って配向する。最後に、放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源（４４１）での照射により完全に硬質化され、それによって、エリアＵ及びＷにおける磁性又は磁化可能な顔料粒子（４２０）の配向が固定／定着されて、ＯＥＬを生成する。国際公開第０２／０９０００２Ａ２号は、そのようなプロセスを開示している。

[050]放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ−可視光放射線により硬質化可能である（以降、ＵＶ−Ｖｉｓ硬化性と呼ばれる）、又は電子ビーム放射線（以降、ＥＢと呼ばれる）により硬質化可能である組成物からなる。放射線硬化性組成物は、当技術分野において知られており、１９９７〜１９９８年にＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄの協力の下Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓによって全７巻で発行された、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」のシリーズ等の標準的教本において見出すことができる。本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物からなる。ＵＶ−Ｖｉｓ硬化は、有利には、非常に迅速な硬化プロセスをもたらし、したがって、光学効果層の調製時間を劇的に短縮する。好ましくは、本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、ラジカル硬化性化合物、カチオン硬化性化合物、及びそれらの混合物からなる群から選択される、オリゴマー（当技術分野において、プレポリマーとも呼ばれる）から調製される。

[051]カチオン硬化性化合物は、バインダーを形成するように次々と重合を開始する酸等のカチオン種を遊離させる、１種又は複数種の光開始剤のエネルギーによる活性化からなるカチオン機構によって硬化される。ラジカル硬化性化合物は、バインダーを形成するように次々と重合を開始するフリーラジカルを遊離させる、１種又は複数種の光開始剤のエネルギーによる活性化からなるフリーラジカル機構によって硬化される。本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、オリゴマー性（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、環状エーテル、例えばエポキシド、オキセタン、テトラヒドロフラン、ラクトン、環状チオエーテル、ビニル及びプロペニルチオエーテル、ヒドロキシル含有化合物、並びにそれらの混合物からなる群から選択されるオリゴマーから調製されることが好ましい。本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、オリゴマー性（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、環状エーテル、例えばエポキシド、オキセタン、テトラヒドロフラン、ラクトン及びそれらの混合物からなる群から選択されるオリゴマーから調製されることがより好ましい。エポキシドの典型的な例は、限定されないが、グリシジルエーテル、脂肪族又は脂環式ジオール又はポリオールのβ−メチルグリシジルエーテル、ジフェノール及びポリフェノールのグリシジルエーテル、多価フェノールのグリシジルエステル、フェノールホルムアルデヒドノボラックの１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アルキルグリシジルエーテル、アクリルエステルのコポリマーを含むグリシジルエーテル（例えば、スチレン−グリシジルメタクリレート又はメチルメタクリレート−グリシジルアクリレート）、多官能性液体及び固体ノボラックグリシジルエーテル樹脂、ポリグリシジルエーテル及びポリ（β−メチルグリシジル）エーテル、ポリ（Ｎ−グリシジル）化合物、ポリ（Ｓ−グリシジル）化合物、グリシジル基又はβ−メチルグリシジル基が異なる種類のヘテロ原子に結合したエポキシ樹脂、カルボン酸及びポリカルボン酸のグリシジルエステル、一酸化リモネン、エポキシ化大豆油、ビスフェノール−Ａ及びビスフェノール−Ｆエポキシ樹脂を含む。好適なエポキシドの例は、欧州特許第２１２５７１３号において開示されている。芳香族、脂肪族又は脂環式ビニルエーテルの好適な例は、限定されないが、分子内に少なくとも１つ、好ましくは少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物を含む。ビニルエーテルの例は、限定されないが、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、プロピレンカーボネートのプロペニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ブタンジオールモノビニルエーテル、ヘキサンジオールモノビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、ブタン−１，４−ジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールメチルビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、プルリオール（ｐｌｕｒｉｏｌ）−Ｅ−２００ジビニルエーテル、ポリテトラヒドロフランジビニルエーテル−２９０、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、（４−シクロヘキシル−メチレンオキシエテン）−グルタル酸メチルエステル及び（４−ブトキシエテン）−ｉｓｏ−フタル酸エステルを含む。ヒドロキシ含有化合物の例は、限定されないが、ポリエステルポリオール、例えばポリカプロラクトン又はポリエステルアジペートポリオール等、グリコール及びポリエーテルポリオール、ヒマシ油、ヒドロキシ官能性ビニル及びアクリル樹脂、セルロースエステル、例えば酢酸酪酸セルロース、並びにフェノキシ樹脂を含む。好適なカチオン硬化性化合物のさらなる例は、欧州特許第２１２５７１３号及び欧州特許第０１１９４２５号において開示されている。

[052]本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、（メタ）アクリレートから選択される、好ましくはエポキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート化油、ポリエステル（メタ）アクリレート、脂肪族又は芳香族ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、アミノ（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート及びそれらの混合物からなる群から選択されるラジカル硬化性化合物オリゴマーから調製される。本発明に関連する「（メタ）アクリレート」という用語は、アクリレート及び対応するメタクリレートを指す。本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、追加的なビニルエーテル及び／又はモノマーアクリレート、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ペンタエリトリトールトリアクリレート（ＰＴＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＤＰＧＤＡ）、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）等、及びそれらのポリエトキシレート化等価物、例えばポリエトキシレート化トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエトキシレート化ペンタエリスリトールトリアクリレート、ポリエトキシレート化トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエトキシレート化ジプロピレングリコールジアクリレート及びポリエトキシレート化ヘキサンジオールジアクリレート等で調製されてもよい。

[053]代替として、本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物のバインダーは、ハイブリッドバインダーであり、本明細書に記載のもの等のラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物の混合物から調製されてもよい。

[054]モノマー、オリゴマー又はプレポリマーのＵＶ−Ｖｉｓ硬化は、１種又は複数種の光開始剤の存在を必要としてもよく、またいくつかの手法において実現され得る。本明細書において言及されるように、及び当業者に知られているように、基板上で硬質化される放射線硬化性コーティング組成物は、任意選択で１種又は複数種の光増感剤と共に、１種又は複数種の光開始剤を含み、上記１種又は複数種の光開始剤及び任意選択の１種又は複数種の光増感剤は、放射線源の発光スペクトルと関連して、その／それらの吸収スペクトル（複数可）に従って選択される。基板を通る電磁放射線の透過度に依存して、コーティング層の硬質化は、照射時間を増加させることにより得ることができる。しかしながら、基板材料に依存して、照射時間は、基板材料、及び放射線源により生成された熱に対するその感受性により制限される。

[055]当業者に知られているように、１種又は複数種の光開始剤は、それらの吸収スペクトルに従って選択され、放射線源の発光スペクトルに適合するように選択される。本明細書に記載のＵＶ−Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物中に含まれるバインダーを調製するために使用されるモノマー、オリゴマー又はプレポリマーに依存して、異なる光開始剤が使用され得る。フリーラジカル光開始剤の好適な例は当業者に知られており、限定されないが、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アルファ−アミノケトン、アルファ−ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド及びホスフィンオキシド誘導体、並びにベンジルジメチルケタールを含む。カチオン光開始剤の好適な例は当業者に知られており、限定されないが、オニウム塩、例えば有機ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（例えばトリアリールオキソニウム塩）及びスルホニウム塩（例えばトリアリールスルホニウム塩）を含む。有用な光開始剤の他の例は、１９９８年にＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄの協力の下Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓにより発行された、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」、第３巻、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第２版、Ｊ．Ｖ． Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ＆ Ｋ． Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ著、Ｇ． Ｂｒａｄｌｅｙ編等の標準的教本において見出すことができる。また、効果的な硬化を達成するために、１種又は複数種の光開始剤と併せて増感剤を含めることが有利となり得る。好適な光増感剤の典型的な例は、限定されないが、イソプロピル−チオキサントン（ＩＴＸ）、１−クロロ−２−プロポキシ−チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２−クロロ−チオキサントン（ＣＴＸ）及び２，４−ジエチル−チオキサントン（ＤＥＴＸ）並びにそれらの混合物を含む。ＵＶ−Ｖｉｓ硬化性の光学的に可変の組成物中に含まれる１種又は複数種の光開始剤は、好ましくは、約０．１〜約２０重量パーセント、より好ましくは約１〜約１５重量パーセントの量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ−Ｖｉｓ硬化性の光学的に可変の組成物の総重量を基準とする。

[056]複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスにより、本明細書に記載のフォトマスクを備える基板上に塗布されると、コーティング層を形成し、上記コーティング層は、第１の状態であり、上記コーティング層は、少なくとも部分的にフォトマスクに面している。

[057]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物及び本明細書に記載のコーティング層は、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む。好ましくは、本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、約５重量％〜約４０重量％、より好ましくは約１０重量％〜約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、放射線硬化性コーティング組成物の総重量を基準とする。

[058]本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、光学効果層を生成するため、すなわち磁気的に誘導された画線を生成するための結合材料を含む放射線硬化性コーティング組成物において、特に好適である。好ましくは、磁性又は磁化可能な顔料粒子は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子である。

[059]本明細書に記載の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、その非球状の形状に起因して、硬質化される結合材料が少なくとも部分的に透過性である入射電磁放射線に対して、非等方性の反射率を有するものとして定義される。本明細書において使用される場合、「非等方性の反射率」という用語は、粒子によりある特定の（視認）方向（第２の角度）に反射される第１の角度からの入射放射線の割合が、粒子の配向の関数である、すなわち、第１の角度に対する粒子の配向の変化が、視認方向への反射の異なる大きさをもたらし得ることを指す。本明細書に記載の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、粒子の配向の変化が、その粒子によるある特定の方向への反射の変化をもたらすように、約２００〜約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００〜約７００ｎｍの範囲の波長のいくつかの部分又は全てにおいて、入射電磁放射線に対する非等方性の反射率を有することが好ましい。当業者に知られているように、本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、従来の顔料とは異なり、上記従来の顔料粒子は、全ての視認角度に対して同じ色を表示し、一方本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、本明細書で上述されたように非等方性の反射率を示す。

[060]非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、好ましくは、扁長若しくは扁平楕円体状、小板状又は針状粒子、或いはそれらの２つ以上の混合物、より好ましくは小板状粒子である。

[061]本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子、特に非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の好適な例は、限定されないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される磁性金属；鉄、マンガン、コバルト、ニッケル若しくはそれらの２つ以上の混合物の磁性合金；クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル若しくはそれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物；又はそれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子を含む。金属、合金及び酸化物に関連する「磁性」という用語は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル又はそれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋な、又は混合された酸化物であってもよい。磁性酸化物の例は、限定されないが、酸化鉄、例えばヘマタイト（Ｆｅ_２Ｏ_３）、マグネタイト（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルトフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネットＭ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３を含み、式中、Ｍは、２価金属を表し、Ｒは、３価金属を表し、Ａは、４価金属を表す。

[062]本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子、特に非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の例は、限定されないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属；及び鉄、コバルト又はニッケルの磁性合金の１つ又は複数から作製される磁性層Ｍを含む顔料粒子を含み、上記磁性又は磁化可能な顔料粒子は、１つ又は複数の追加的な層を備える複数層構造であってもよい。好ましくは、１つ又は複数の追加的な層は、金属フッ化物、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群から選択される１つ若しくは複数から、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）から独立して作製された層Ａ；又は、金属及び金属合金からなる群から選択される、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される１つ若しくは複数から、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から独立して作製された層Ｂ；又は、上述のもの等の１つ又は複数の層Ａ、及び上述のもの等の１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上述の複数層構造である磁性又は磁化可能な顔料粒子の典型的な例は、限定されないが、Ａ／Ｍ複数層構造、Ａ／Ｍ／Ａ複数層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ複数層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ複数層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ複数層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ／複数層構造、Ｂ／Ｍ複数層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ複数層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ複数層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ複数層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ／複数層構造を含み、層Ａ、磁性層Ｍ及び層Ｂは、上述のものから選択される。

[063]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、複数の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは非球状の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含んでもよい。本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、複数の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは非球状の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは光学的に可変の特性を有さない非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含んでもよい。本明細書に記載の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング組成物又はコーティング層を保持する物品又はセキュリティ文書を、その可能な偽造から、補助なしでの人間の感覚を使用して容易に検出、認識及び／又は判別することを可能にする、光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の色変化特性により提供される明白なセキュリティに加えて、光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学特性はまた、ＯＥＬの認識のための機械可読ツールとして使用されてもよい。したがって、光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学特性は、顔料粒子の光学（例えばスペクトル）特性が分析される認証プロセスにおいて、隠された、又は半分隠されたセキュリティ機能として同時に使用されてもよい。さらに、ＯＥＬを生成するためのコーティング層における、光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子、特に非球状の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の使用は、セキュリティ文書用途におけるセキュリティ機能としてのＯＥＬの重要性を増大させるが、これは、そのような材料がセキュリティ文書印刷産業用に指定され、一般には商業的に利用可能ではないためである。

[064]上述のように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の好ましくは少なくとも一部は、光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子、好ましくは非球状の光学的に可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子により構成される。これらは、より好ましくは、磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む干渉コーティング顔料粒子、及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択され得る。本明細書に記載の磁性材料を含む磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、及び干渉コーティング顔料粒子は、好ましくは、扁長若しくは扁平楕円体状、小板状又は針状粒子、或いはそれらの２つ以上の混合物、より好ましくは小板状粒子である。

[065]磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者に知られており、例えば、米国特許第４，８３８，６４８号；国際公開第２００２／０７３２５０Ａ２号；欧州特許第０６８６６７５号；国際公開第２００３／０００８０１Ａ２号；米国特許第６，８３８，１６６号；国際公開第２００７／１３１８３３Ａ１号；欧州特許出願公開第２４０２４０１号、及びそれらの明細書において引用される文献において開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリ−ペロー複数層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層ファブリ−ペロー複数層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層ファブリ−ペロー複数層構造を有する顔料粒子を含むことが好ましい。

[066]好ましい５層ファブリ−ペロー複数層構造は、吸収剤／誘電体／反射体／誘電体／吸収剤複数層構造からなり、反射体及び／又は吸収体はまた磁性層であり、好ましくは、反射体及び／又は吸収体は、ニッケル、鉄及び／若しくはコバルト、並びに／又はニッケル、鉄及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁性層である。

[067]好ましい６層ファブリ−ペロー複数層構造は、吸収剤／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体複数層構造からなる。

[068]好ましい７層ファブリ−ペロー複数層構造は、例えば米国特許第４，８３８，６４８号において開示されている、吸収剤／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収剤複数層構造からなる。

[069]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金からなる群から選択される、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金からなる群から選択される、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金からなる群から選択される１種又は複数種、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から独立して作製されることが好ましい。誘電体層は、金属フッ化物、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化ナトリウムアルミニウム（例えばＮａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、及び金属酸化物、例えば酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群から選択される、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる群から選択される１種又は複数種、さらにより好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）から独立して作製されることが好ましい。吸収体層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、それらの金属硫化物、それらの金属炭化物、及びそれらの金属合金からなる群から選択される、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、及びそれらの金属合金からなる群から選択される、さらにより好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの金属合金からなる群から選択される１種又は複数種から独立して作製されることが好ましい。磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）；並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金；並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むことが好ましい。７層ファブリ−ペロー構造を備える磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合、磁性薄膜干渉顔料粒子が、Ｃｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒ複数層構造からなる７層ファブリ−ペロー吸収剤／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体複数層構造を備えることが特に好ましい。

[070]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境にとって安全であるとみなされる、また例えば５層ファブリ−ペロー複数層構造、６層ファブリ−ペロー複数層構造、及び７層ファブリ−ペロー複数層構造に基づく複数層顔料粒子であってもよく、上記顔料粒子は、約４０重量％〜約９０重量％の鉄、約１０重量％〜約５０重量％のクロム、及び約０重量％〜約３０重量％のアルミニウムを含む、実質的にニッケルを含まない組成を有する磁性合金を含む１つ又は複数の磁性層を含む。人間の健康及び環境にとって安全であるとみなされる複数層顔料粒子の典型的な例は、欧州特許出願公開第２４０２４０１号において見出すことができ、これは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

[071]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、典型的には、ウェブへの必要とされる異なる層の従来の堆積技術により製造される。例えば物理気相堆積（ＰＶＤ）、化学気層堆積（ＣＶＤ）又は電解析出による所望の数の層の堆積後、好適な溶媒に剥離層を溶解することにより、又は、ウェブから材料を取り除くことにより、層のスタックがウェブから除去される。そのようにして得られた材料は、次いで、フレークまで破壊され、これは、所要サイズの顔料粒子を得るために、粉砕、ミリング（例えばジェットミリングプロセス等）、又は任意の好適な方法によりさらに処理される必要がある。結果的な生成物は、破壊された縁部、不規則形状及び異なるアスペクト比を有する平坦フレークからなる。好適な磁性薄膜干渉顔料粒子の調製に関するさらなる情報は、例えば、欧州特許出願公開第１７１０７５６号及び欧州特許出願公開第１６６６５４６号において見出すことができ、これらは、参照により本明細書に組み込まれる。

[072]光学的に可変の特性を示す好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子は、限定されないが、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性複数層コレステリック液晶顔料粒子を含む。そのような顔料粒子は、例えば、国際公開第２００６／０６３９２６Ａ１号、米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，５３１，２２１号において開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６Ａ１号は、高い輝度及び色変化特性、並びに磁化能等の追加的な特定の特性を有する、単層及びそれから得られる顔料粒子を開示している。開示されている単層、及び上記単層を粉末化することによりそれから得られる顔料粒子は、３次元架橋コレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、Ａ^１／Ｂ／Ａ^２の配列を備える小板状コレステリック複数層顔料粒子を開示しており、Ａ^１及びＡ^２は、同一又は異なってもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を備え、Ｂは、層Ａ^１及びＡ^２により透過され、磁性特性を中間層に付与する光の全て又は一部を吸収する上記中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、Ａ／Ｂ及び任意選択でＣの配列を備える小板状コレステリック複数層顔料粒子を開示しており、Ａ及びＣは、磁性特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂは、コレステリック層である。

[073]１種又は複数種の磁性材料を含む好適な干渉コーティング顔料は、限定されないが、１つ又は複数の層でコーティングされたコアからなる群から選択される基板からなる構造を含み、コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも１つは、磁性特性を有する。例えば、好適な干渉コーティング顔料は、本明細書において上述されたもの等の磁性材料で作製されたコアを含み、上記コアは、１種又は複数種の金属酸化物で作製された１つ又は複数の層でコーティングされており、又は、干渉コーティング顔料は、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン及び絹雲母）、ガラス（例えばホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、及びそれらの２つ以上の混合物で作製されたコアからなる構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の追加的な層が存在してもよい。

[074]本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、放射線硬化性コーティング組成物及びコーティング層中で生じ得る任意の劣化からそれらを保護するために、並びに／又は上記放射線硬化性コーティング組成物及びコーティング層へのそれらの組込みを容易化するために、表面処理されてもよく、典型的には、腐食防止材料及び／又は湿潤剤が使用され得る。

[075]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、限定されないが、組成物の物理的、レオロジー的及び化学的パラメータ、例えば粘度（例えば溶媒及び界面活性剤）、稠度（例えば沈降防止剤、充填剤及び可塑剤）、発泡特性（例えば消泡剤）、潤滑特性（ワックス）、ＵＶ安定性（光増感剤及び光安定剤）並びに接着特性等を調節するために使用される化合物及び材料を含む１種又は複数種の添加剤をさらに含んでもよい。本明細書に記載の添加剤は、当技術分野において知られている量、及び粒子の寸法の少なくとも１つが１〜１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料の形態を含む形態で、本明細書において開示される放射線硬化性コーティング組成物中に存在してもよい。

[076]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、磁性材料（本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子とは異なる）、発光材料、電気伝導性材料、及び赤外吸収材料からなる群から選択される、１種若しくは複数種のマーカー物質若しくはタガント、及び／又は１種若しくは複数種の機械可読材料をさらに含んでもよい。本明細書において使用される場合、「機械可読材料」は、肉眼により知覚可能ではない少なくとも１つの特徴的特性を示し、その認証のための特定の機器の使用により、層又は上記層を備える物品を認証する手法を付与するように、上記層内に含まれ得る材料を指す。

[077]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載のバインダー、及び本明細書に記載のバインダーの存在下で存在する場合には、１種又は複数種の添加剤を分散又は混合することにより調製され得る。１種又は複数種の光開始剤は、全ての他の成分の分散若しくは混合ステップの間に組成物に添加されてもよく、又は後の段階で添加されてもよい。

[078]本発明の一態様によれば、本明細書に記載の基板は、フォトマスクを備え、上記フォトマスクは、基板上（図５Ａ〜Ｂに示されるように）又は基板内（図５Ｃに示されるように）にある。

[079]本明細書に記載のフォトマスクは、連続的であってもよく、又は不連続的であってもよい。本明細書に記載のフォトマスクは、基板上又は基板内に不連続的に存在することが好ましい。本明細書に記載のフォトマスクは、印の形態である、又は印の形態の１つ若しくは複数のギャップを備える（すなわち、本明細書に記載のフォトマスクは、１つ又は複数の材料不含エリアを備える）ことが好ましい。本明細書において使用される場合、「印」という用語は、限定されないが、記号、英数記号、モチーフ、文字、単語、数字、ロゴ及び図を含むパターン等の不連続層を意味するものである。

[080]本明細書に記載のフォトマスクの存在によって、有利には、異なる磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンを有する磁性又は磁化可能な顔料粒子を備える、少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたモチーフを形成するように、本明細書に記載のコーティング層を選択的に硬質化させることが可能となる。

[081]本明細書に記載のフォトマスクは、上記フォトマスクに面する１つ又は複数のエリアにおけるコーティング層の硬質化を防止するために、適正な照射吸収、照射拡散又は照射反射を有する、照射遮断層、好ましくはＵＶ吸収層、照射拡散層又は照射反射層からなる。

[082]例えば図４に記載される照射源上に装着されるフォトマスクを使用する代わりに、本明細書に記載の基板上又は基板内に塗布される本明細書に記載のフォトマスクを使用することによって、連続印刷プロセスが使用され得るように、硬質化されるコーティング層と同時に、及びそれに付随して印刷機械又はプレス上で移動するフォトマスクが提供される。さらに、前記フォトマスクの使用によって、塗布されたフォトマスクと、コーティング層内の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンとの厳密な整合性が得られる。これは、例えば識別及び認証が容易なＯＥＬ及び可視フォトマスクを備える明白なセキュリティ機能を形成するのに特に有用であり、ＯＥＬ及び可視フォトマスクの形状及び位置は、可視フォトマスク及び磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンの完全な整合を検証することが可能であるように選択され得る。

[083]図５Ａに示されるように、本明細書に記載のフォトマスク（５８０）は、基板のコーティング層（５１０）と同じ側に塗布されてもよく、すなわち、フォトマスク（５８０）は、基板（５３０）とコーティング層（５１０）との間に備えられる中間層である。代替として、図５Ｂに示されるように、本明細書に記載のフォトマスク（５８０）は、基板（５３０）のコーティング層（５１０）とは反対側に塗布されてもよく、すなわち、フォトマスク（５８０）は、環境に面する。代替として、図５Ｃに示されるように、本明細書に記載のフォトマスク（５８０）は、基板（５３０）内に備えられてもよい。

[084]本明細書に記載のフォトマスク及び磁性若しくは磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層は、基板の同じ若しくは反対側で少なくとも部分的に互いに面しており；又は、代替として、本明細書に記載のフォトマスク及び磁性若しくは磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層は、少なくとも部分的に互いに面しており、上記フォトマスクは、基板内にあり、上記コーティング層は、基板上にある。したがって、コーティング層は、基板の同じ側でフォトマスクの上に少なくとも部分的に塗布されるか、又は、コーティング層及びフォトマスクは、それぞれ基板の片側に、基板を透過的に考えた場合少なくとも部分的に重複するエリアにおいて印刷される。

[085]本発明の別の態様によれば、本明細書に記載の基板は、２つ以上のフォトマスクを備えてもよく、すなわち、本明細書に記載の基板は、本明細書に記載のもの等の１つ又は複数のフォトマスクを備えてもよい。基板が２つ以上のフォトマスクを備える場合、上記２つ以上のフォトマスクは、基板上若しくは基板内にあってもよく、又は代替として、基板上及び基板内にあってもよい。本発明の別の態様によれば、本明細書に記載の基板は、２つ以上のフォトマスクを備え、上記２つ以上のフォトマスクのうちの１つは、基板内に存在し、上記２つ以上のフォトマスクの別のフォトマスクは、基板上に存在する。

[086]本発明の別の態様によれば、基板が２つ以上のフォトマスクを備える場合、上記２つ以上のフォトマスクは、基板の同じ側、基板の反対側、又は代替として基板上及び基板内で離間してもよい。代替として、２つ以上のフォトマスクは、基板の同じ側、基板の反対側、又は代替として基板上及び基板内で部分的又は完全に重複してもよい。

[087]本発明の別の態様によれば、上記２つ以上のフォトマスクのうちの１つは、補助基板、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、ウィンドウ又はラベル等の上に生成され、結果的に別個のステップにおいて転写プロセスにより基板に転写されてもよい。

[088]２つ以上のフォトマスクが基板上、基板内、又は基板上及び基板内に存在する場合、上記２つ以上のフォトマスクは、異なる層、すなわち、例えばＵＶ吸収層及び照射反射層からなってもよい。換言すれば、基板の１つ又は複数のエリア上の本明細書に記載のフォトマスク又は２つ以上のフォトマスクの存在は、塗布されたフォトマスク（複数可）により電磁放射線、特にＵＶ照射を阻害又は制限し、特に、フォトマスクの存在は、基板及びフォトマスクを通した照射により、フォトマスク（複数可）に面していないコーティング層のエリアを選択的に硬質化させるために、磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層の硬質化に使用される露光の波長（複数可）の電磁放射線を阻害又は制限する（図５Ａ及び５Ｂに示されるように）。

[089]本明細書に記載のフォトマスクは、印刷プロセスにより、転写プロセスにより、又は金属化プロセスにより、好ましくは印刷プロセスにより、本明細書に記載の基板上及び／又は基板内に塗布され得る。本明細書に記載のフォトマスクは、上記基板の製造中、又はその後の段階において、本明細書に記載の基板上及び／又は基板内に塗布され得る。

[090]本明細書に記載のフォトマスクは、上記基板の製造中に、例えば箔押、セキュリティスレッドの包含、透かし模様の形成、隠蔽層の塗布からなる群から選択されるプロセスにより、本明細書に記載の基板内に塗布され得る。

[091]本明細書に記載の選択的硬質化の性能及び効率はフォトマスクに依存し、特にフォトマスクの化学組成、上記フォトマスクを塗布するために使用されるプロセス、フォトマスクの厚さ及び光学密度を含む様々なパラメータに依存し；基板に依存し、特に基板の光学密度を含む様々なパラメータに依存し；磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物に依存し、特にコーティング層の化学反応性、コーティング層内に含まれる光開始剤の種類に依存し；また硬質化プロセスに依存し、特に照射源発光スペクトル及びその出力、並びに電磁放射線曝露時間に依存する。

[092]フォトマスクは、有利には、フォトマスクを通した電磁放射線の透過が完全に阻害され、又は非常に低く、したがってフォトマスクに面するコーティング層、すなわちマスキングされたエリア（図５Ａ及び５Ｂの「Ａ」エリアを参照されたい）が、硬質化ステップ（ステップｂ１）の間、基板及びフォトマスクを通して硬質化されないように選択される。したがって、本明細書に記載の選択的硬質化の性能及び効率は、フォトマスク及び基板の組合せ（以降、「組み合わされたフォトマスク及び基板」と呼ばれる）の光学密度に依存する。フォトマスクを有さない１つ又は複数のエリア、すなわちマスキングされていないエリア（図５Ａ及び５Ｂの「Ｂ」エリアを参照されたい）における基板を通した電磁放射線の透過は、放射線硬化性コーティング組成物硬質化ステップ（ステップｂ１）の硬質化が、上記基板を通した照射により行われるように、十分高くなければならない。換言すれば、基板の光学密度は、放射線硬化性コーティング組成物の硬質化が、フォトマスクを有さない１つ又は複数のエリア（図５Ａ及び５Ｂにおける「Ｂ」で示されたエリアを参照されたい）において、上記基板を通して磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向の配向を固定／定着させることを可能にするように、有利には選択される。

[093]基板を通る電磁放射線の透過度に依存して、コーティング層の硬質化は、照射時間を増加させることにより得ることができる。しかしながら、基板材料に依存して、照射時間は、基板材料、及び照射源により生成された熱に対するその感受性により制限される。

[094]本明細書に記載の基板は、好ましくは、紙、又はセルロース等の他の繊維性材料、紙含有材料、ガラス、セラミック、プラスチック及びポリマー、複合材料、並びにそれらの混合物又は組合せからなる群から選択される。典型的な紙、紙様又は他の繊維性材料は、限定されないが、マニラ麻、綿、リネン、木材パルプ、及びそれらのブレンドを含む様々な繊維から作製される。当業者には周知であるように、綿及び綿／リネンブレンドは、紙幣に好ましく、一方木材パルプは、紙幣以外のセキュリティ文書において一般的に使用される。プラスチック及びポリマーの典型的な例は、ポリオレフィン、例えばポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド、ポリエステル、例えばポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６−ナフトエート）（ＰＥＮ）及びポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）を含む。スパンボンドオレフィン繊維、例えばタイベック（Ｔｙｖｅｋ）（登録商標）の商標で販売されているもの等もまた、基板として使用され得る。複合材料の典型的な例は、限定されないが、紙、及び本明細書で上述されたもの等の少なくとも１種のプラスチック若しくはポリマー材料の複数層構造若しくはラミネート、並びに／又は、本明細書で上述されたもの等の紙様若しくは繊維性材料中に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー繊維を含む。当業者に知られているように、基板は、例えばサイズ剤、増白剤、加工助剤、補強又は湿潤強化剤等の従来の添加剤をさらに含んでもよい。

[095]本明細書において使用される場合、以降Ｄ_Ｍで示されるフォトマスク光学密度は、基板の平均透過率＜Ｔ_Ｓ＞の、組み合わされたフォトマスク及び基板の平均透過率＜Ｔ_ＳＭ＞に対する比の常用対数として定義される。

[096]基板の平均透過率＜Ｔ_Ｓ＞は、ａ）基板の測定透過スペクトルＴ_Ｓ（λ）及び照射源の測定発光スペクトルＳ（λ）の積の積分値（λ_１〜λ_２の間で計算される）の、ｂ）照射源の測定発光スペクトルＳ（λ）の積分値（λ_１〜λ_２の間で計算される）に対する比として計算される。

[097]λ_１〜λ_２の積分区間は、照射源の発光スペクトルがコーティング層において使用される光開始剤の吸収スペクトルに重複し、したがって光開始剤の化学反応を、結果的にコーティング層の硬質化をもたらす相互作用を生じさせる電磁放射線の領域に対応するように選択される。したがって、λ_１〜λ_２の積分区間は、光開始剤の光誘導化学反応を防止し、したがってフォトマスク上に印刷された、又はそれに面するコーティング層の硬質化を阻害するようにフォトマスクが電磁放射線を吸収しなければならない電磁放射線の領域に関連する。

[098]透過率Ｔ_ＳＭ（λ）は、組み合わされたフォトマスク及び基板からの透過率に関連する。
Ｔ_ＳＭ（λ）＝Ｔ_Ｓ（λ）Ｔ_Ｍ（λ）
式中、Ｔ_Ｓ（λ）は、波長λにおける基板の透過率であり、Ｔ_Ｍ（λ）は、波長λにおけるフォトマスクの透過率である。

[099]組み合わされたフォトマスク及び基板の平均透過率＜Ｔ_ＳＭ＞は、ａ）組み合わされたフォトマスク及び基板の測定透過スペクトルＴ_ＳＭ（λ））及び照射源の測定発光スペクトルＳ（λ）の積の積分値（λ_１〜λ_２の間で計算される）の、ｂ）照射源の測定発光スペクトルＳ（λ）の積分値（λ_１〜λ_２の間で計算される）に対する比として計算される。

[0100]したがって、本明細書に記載のフォトマスク光学密度Ｄ_Ｍは、様々なフォトマスクを比較するために使用され得る。より高いＤ_Ｍ値を特徴とするフォトマスクは、電磁放射線をより効率的に吸収し、したがって、比較的より低いＤ_Ｍ値を有するフォトマスクよりも効率的なフォトマスクを提供する。

[0101]本明細書に記載の方法に好適なフォトマスクは、約１．０以上、好ましくは約１．１以上、より好ましくは約１．２以上の、本明細書において上述されたように計算された光学密度Ｄ_Ｍを有する。

[0102]本明細書に記載のフォトマスクは、ＵＶ吸収フォトマスク、照射拡散又は照射反射フォトマスクであってもよい。フォトマスクが基板上に塗布される場合、上記フォトマスクは、印刷及びコーティングプロセスからなる群から選択されるプロセスにより、ＵＶ吸収又は照射拡散又は照射反射フォトマスク組成物又は材料を、それぞれ本明細書に記載の基板に塗布することにより調製され得る。フォトマスクが補助基板、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、ウィンドウ又はラベル等の上に塗布され、結果的に別個のステップにおいて転写プロセスにより基板に転写される場合、上記フォトマスクは、印刷プロセス、コーティングプロセス、化学気相堆積プロセス（ＣＶＰ）、及び物理気相堆積プロセス（ＰＶＤ）からなる群から選択されるプロセスにより、ＵＶ吸収又は照射拡散又は照射反射フォトマスク組成物又は材料を、本明細書に記載の補助基板に塗布することにより調製され得る。

[0103]好ましい実施形態によれば、本明細書に記載のフォトマスクは、金属化層である照射反射フォトマスク（以降、金属化フォトマスクと記載される）からなる。本明細書に記載の金属化フォトマスクは、基板上に直接塗布されてもよく、又は代替として、金属化フォトマスクは、転写基板、例えば箔又はストライプ等の上に塗布され、これがその後基板上に塗布されてもよい。

[0104]金属化フォトマスクに好適な金属の典型的な例は、限定されないが、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、それらの組合せ、又は前述の金属の２つ以上の合金を含む。金属化転写基板の典型的な例は、限定されないが、表面上に連続的又は非連続的に配置された本明細書において上述されたもの等の金属を有する、プラスチック又はポリマー材料を含む。本明細書において上述された材料の金属化は、電着プロセス、高真空コーティングプロセス、又はスパッタリングプロセスにより行われてもよく、また連続的又は非連続的であってもよい。典型的には、金属は、約１〜約１００ナノメートルの間の厚さを有する。代替として、転写基板は、一緒にラミネートされる２つの層からなり、任意選択で２つの層の間にセキュリティ要素及び／又は金属化を備えるラミネート構造であってもよい。

[0105]本明細書に記載の金属化フォトマスクは、エンボス回折構造の形態の表面レリーフを備えてもよい。本明細書に記載の金属化フォトマスクは、ネガ印字（当技術分野においてクリアテキストとも呼ばれる）又はポジ印字での印の形態の、脱金属化された１つ又は複数の部分又はエリアを備えてもよい。脱金属化された部分は、例えば化学エッチング、レーザーエッチング又は洗浄法等の当業者に知られているプロセスにより生成され得る。

[0106]別の好ましい実施形態によれば、本明細書に記載のフォトマスクは、照射拡散フォトマスクからなる。本明細書に記載の照射拡散フォトマスクは、印刷ＵＶ吸収フォトマスクに関して上述されたような印刷プロセスにより基板上に印刷されてもよく、又は代替として、照射拡散フォトマスクは、その製造中に層として、又は材料として基板内に組み込まれてもよい。照射拡散フォトマスクは、１種又は複数種の照射拡散材料、及び任意選択のバインダーを含む、照射拡散フォトマスク組成物で作製される。

[0107]照射拡散フォトマスクは、非常に低いレベルまで電磁放射線の透過を阻害又は透過を制限し、したがってフォトマスクに面するコーティング層、すなわちマスキングされたエリア（図５Ａ及び５Ｂの「Ａ」エリアを参照されたい）が、硬質化ステップ（ステップｂ１）の間硬質化されないように、電磁放射線の適切な光拡散を示すように設計される。

[0108]本明細書に記載の照射拡散フォトマスクは、１種又は複数種の照射拡散材料を含み、上記照射拡散材料は、好ましくは、有機顔料、無機顔料、充填剤、ポリマー粒子又はナノ粒子、及びそれらの混合物からなる群から選択される。照射拡散材料は、特に、二酸化チタン（例えばルチル型及びアナターゼ型）、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸カルシウム；ＳｉＯ_２、ケイ素、ＰＭＭＡ、ＰＥＴ又はポリカーボネートで作製された粒子及びナノ粒子；並びにそれらの混合物からなる群から選択される。拡散材料として有用な材料の例は、例えば、米国特許出願公開第２０１３／０２２９８２４Ａ１号において開示されている。

[0109]当業者に知られているように、印刷プロセスにより基板上に塗布される組成物中に含まれる成分、及び上記組成物の物理的特性は、組成物を基板に転写するために使用される印刷プロセスの性質、及び上記組成物を固化するために使用される硬質化プロセスの性質により決定付けられる。

[0110]別の好ましい実施形態によれば、本明細書に記載のフォトマスクは、ＵＶ吸収フォトマスク、好ましくは印刷ＵＶ吸収フォトマスクからなる。本明細書に記載の印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、バインダー及び１種又は複数種のＵＶ吸収材料を含むＵＶ吸収フォトマスク組成物で作製される。印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、ＵＶ吸収フォトマスク組成物を本明細書に記載の基板上に印刷し、上記組成物を硬質化させることにより得られる。

[0111]本明細書に記載の印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、好ましくはオフセット印刷プロセス、輪転グラビア印刷プロセス、シルクスクリーン印刷プロセス、銅版凹版印刷プロセス、凸版印刷プロセス、ローラコーティングプロセス、及びインクジェット印刷プロセス；より好ましくはオフセット印刷プロセス、シルクスクリーン印刷プロセス、銅版凹版印刷プロセス、及びインクジェット印刷、さらにより好ましくはオフセット印刷プロセス、シルクスクリーン印刷及びインクジェット印刷プロセスからなる群から選択される印刷プロセスにより、本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物を、本明細書に記載の基板に塗布することにより調製される。

[0112]オフセット印刷は、印刷版からブランケットにインクを転写すること、次いで物品又は基板上にインクを塗布することからなる方法である。従来のオフセット印刷プロセスにおいて、印刷版は、インク付けされる前に、通常水又は湿し水で湿らされる。そのような従来のプロセスにおいて、水は、印刷版の親水性エリア（すなわち非画線エリア）上に皮膜を形成するが、撥水性エリア（すなわち画線エリア）上では微小液滴に収縮する。インクが付いたローラを湿らせた印刷版上に通過させると、水皮膜で被覆されたエリアにインク付けすることはできないが、ローラが撥水性エリア上の液滴を押しのけ、撥水性エリアがインクを吸い上げる。当技術分野においてオフセット凸版印刷又はレターセット印刷とも呼ばれるドライオフセット印刷は、凸版印刷及びリソグラフ印刷の両方の特徴を組み合わせている。そのようなプロセスにおいて、画線は、凸版のように隆起しているが、基板上に印刷する前にゴムブランケット上にオフセットされる。

[0113]凹版印刷は、当技術分野において、彫刻銅版印刷及び彫刻鋼製金型印刷と呼ばれる。凹版印刷プロセス中、印刷されるパターン又は画線が彫刻された版を保持する彫刻鋼製シリンダに、インク付けシリンダ（複数可）（又はシャブロンシリンダ）のインクが供給されるが、各インク付けシリンダは、セキュリティ機能を形成するために少なくとも１つの対応する色でインク付けされている。インク付けに続いて、凹版印刷版の表面上の任意の過剰のインクは、回転ワイピングシリンダにより拭き取られる。印刷シリンダの彫刻に残留するインクは、印刷される基板上に圧力下で転写され、一方ワイピングシリンダは、ワイピング溶液により清浄化される。紙ワイピング又はティッシュワイピング（「キャラコ」）等の他のワイピング技術もまた使用され得る。ワイピングステップの後、インク付けされた凹版が基板と接触し、インクが凹版印刷版の彫刻から印刷される基板上に圧力下で転写され、基板上に厚い印刷パターンが形成される。凹版印刷プロセスの顕著な特徴の１つは、基板に転写されたインクの膜厚が、凹版印刷版の対応する浅い、又はそれぞれ深い陥凹部を使用することにより、数マイクロメートルから数十マイクロメートルまで様々となり得ることである。凹版インク層厚から生じる凹版レリーフは、基板のエンボスにより強調され、上記エンボスは、インク転写中の圧力により生成される。液体インクを必要とするスクリーン印刷、輪転グラビア印刷及びフレキソ印刷と比較して、凹版印刷は、４０℃及び１０００ｓ^−１で５〜４０Ｐａ．ｓの範囲内の粘度を有する、油脂状及び糊状（極めて粘稠性）のインクに依存する。凹版印刷は、例えば、Ｔｈｅ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｉｎｋ ｍａｎｕａｌ、Ｒ．Ｈ． Ｌｅａｃｈ及びＲ．Ｊ． Ｐｉｅｒｃｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｅｄｉｔｉｏｎ、第５版、７４頁、及びＯｐｔｉｃａｌ Ｄｏｃｕｍｅｎｔ Ｓｅｃｕｒｉｔｙ、Ｒ．Ｌ． ｖａｎ Ｒｅｎｅｓｓｅ、２００５年、第３版、１１５〜１１７頁においてさらに説明されている。

[0114]凸版レリーフ印刷とも呼ばれる凸版印刷は、隆起した要素、例えば文字、数字、記号、線又は点を備える硬質金属印刷版からインクを転写することからなる方法である。隆起した印刷要素は、ローラの適用により、一定の厚さのインクの層でコーティングされる。次いで、インクは、物品又は基板に転写される。凸版印刷技術は、本の印刷、フレキソ印刷及びレターセット等の印刷システムと共に使用される。

[0115]インクジェット印刷は、基板上にインクの液滴を吹き付けることからなる方法である。インクジェット印刷は、コンピュータで制御され、従って印刷パターンの多種多様の柔軟な設計が可能となる。インクジェット印刷法は、連続インクジェット（ＣＩＤ）及びドロップオンデマンド（ＤＯＤ）法に分けられる。ＤＯＤ法は、熱及び圧電ＤＯＤにさらに分けられる。熱ＤＯＤインクジェット法では、インクの小滴を移動させ、それらをインク貯蔵部のいくつかのカートリッジノズルから射出するために、熱励起が使用される。カートリッジと呼ばれるインク貯蔵部は、それぞれ加熱器を含む一連の小型チャンバからなる。各チャンバから液滴を射出するために、加熱素子に電流のパルスが通電されて、チャンバ内のインクの急速な気化を引き起こして気泡を形成し、これが大きな圧力増加を引き起こし、インクの液滴を基板上に吹き付ける。インクの表面張力、並びに蒸気泡の凝縮及び結果的な収縮によって、インク貯蔵部に取り付けられた狭いチャネルを通してチャンバ内にさらなる充填量のインクが引き込まれる。熱圧電インクジェット法では、形状を変化させる圧電材料に電圧が印加され、インク流体内に圧力パルスが生成し、これがインク液滴をノズルから押し出す。

[0116]本明細書に記載の印刷ＵＶ吸収フォトマスクを生成するための硬質化プロセスに依存して、ＵＶ吸収フォトマスク組成物は、放射線硬化性組成物、熱乾燥組成物、酸化乾燥組成物又はそれらの任意の組合せであってもよい。

[0117]印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、非常に低いレベルまで電磁放射線の透過を阻害又は透過を制限し、したがってフォトマスクに面するコーティング層、すなわちマスキングされたエリア（図５Ａ及び５Ｂの「Ａ」エリアを参照されたい）が、硬質化ステップ（ステップｂ１）の間硬質化されないように、適切な被覆率及び電磁放射線の光吸収を示すように設計される。被覆率は、印刷ＵＶ吸収フォトマスクの１種又は複数種のＵＶ吸収材料の単位面積当たりの重量により表現され得る。例えば、ランベルト−ベールの法則によれば、低濃度の１種又は複数種のＵＶ吸収材料を有する厚い印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、高濃度の１種又は複数種のＵＶ吸収材料を有する薄い印刷ＵＶ吸収フォトマスクと同様の単位面積当たりの重量となり得る。典型的には、印刷ＵＶ吸収フォトマスクは、約０．１〜約５００マイクロメートル、好ましくは約１〜約１００マイクロメートル、より好ましくは約２〜約２０マイクロメートルの範囲内の厚さを有する。

[0118]本明細書に記載の印刷ＵＶ吸収フォトマスク組成物は、１種又は複数種のＵＶ吸収材料を含み、上記材料は、好ましくは、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍの範囲内を吸収する。本明細書に記載の１種又は複数種のＵＶ吸収材料は、好ましくは、染料、有機顔料、無機顔料、光学的に可変の顔料、充填剤、ＵＶ吸収剤（ＵＶＡ、当技術分野において有機材料のためのＵＶ光安定剤としても知られる）、鉱物酸化物ナノ粒子、及びそれらの混合物からなる群から選択される。

[0119]本発明に有用な好適な染料は、反応染料、直接染料、アニオン性染料、カチオン性染料、酸性染料、塩基性染料、食用染料、金属錯体染料、溶剤染料及びそれらの混合物からなる群から選択される。好適な染料の典型的な例は、限定されないが、クマリン、シアニン、オキサジン、ウラニン、フタロシアニン、インドリノシアニン、トリフェニルメタン、ナフタロシアニン、インドナナフタロ−金属染料、アントラキノン、アントラピリドン、アゾ染料、ローダミン、スクアリリウム染料、クロコニウム染料を含む。本発明に好適な染料の典型的な例は、限定されないが、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１、３、５、７、１１、１７、１９、２３、２５、２９、３６、３８、４０、４２、４４、４９、５４、５９、６１、７０、７２、７３、７５、７６、７８、７９、９８、９９、１１０、１１１、１２１、１２７、１３１、１３５、１４２、１５７、１６２、１６４、１６５、１９４、２０４、２３６、２４５；Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１、８、１１、１２、２４、２６、２７、３３、３９、４４、５０、５８、８５、８６、８７、８８、８９、９８、１０６、１０７、１１０、１３２、１４２、１４４；Ｃ．Ｉ．ベーシックイエロー１３、２８、６５；Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー１、２、３、４、６、７、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２２、２３、２４、２５、２６、２７、３７、４２；Ｃ．Ｉ．フードイエロー３、４；Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１、３、７、１０、２０、７６、１４２、１４４；Ｃ．Ｉ．ベーシックオレンジ１、２、５９；Ｃ．Ｉ．フードオレンジ２；Ｃ．Ｉ．オレンジＢ；Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１、４、６、８、９、１３、１４、１８、２６、２７、３２、３５、３７、４２、５１、５２、５７、７３、７５、７７、８０、８２、８５、８７、８８、８９、９２、９４、９７、１０６、１１１、１１４、１１５、１１７、１１８、１１９、１２９、１３０、１３１、１３３、１３４、１３８、１４３、１４５、１５４、１５５、１５８、１６８、１８０、１８３、１８４、１８６、１９４、１９８、２０９、２１１、２１５、２１９、２２１、２４９、２５２、２５４、２６２、２６５、２７４、２８２、２８９、３０３、３１７、３２０、３２１、３２２、３５７、３５９；Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１、２、１４、２８；Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド１、２、４、９、１１、１３、１７、２０、２３、２４、２８、３１、３３、３７、３９、４４、４６、６２、６３、７５、７９、８０、８１、８３、８４、８９、９５、９９、１１３、１９７、２０１、２１８、２２０、２２４、２２５、２２６、２２７、２２８、２２９、２３０、２３１、２５３；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１、２、３、４、５、６、７、８、１１、１２、１３、１５、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２８、２９、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４５、４６、４９、５０、５８、５９、６３、６４、１０８、１８０；Ｃ．Ｉ．フードレッド１、７、９、１４；Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１、７、９、１５、２０、２２、２３、２５、２７、２９、４０、４１、４３、４５、５４、５９、６０、６２、７２、７４、７８、８０、８２、８３、９０、９２、９３、１００、１０２、１０３、１０４、１１２、１１３、１１７、１２０、１２６、１２７、１２９、１３０、１３１、１３８、１４０、１４２、１４３、１５１、１５４、１５８、１６１、１６６、１６７、１６８、１７０、１７１、１８２、１８３、１８４、１８７、１９２、１９３、１９９、２０３、２０４、２０５、２２９、２３４、２３６、２４９、２５４、２８５；Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー１、３、５、７、８、９、１１、５５、８１；Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１、２、６、１５、２２、２５、４１、７１、７６、７７、７８、８０、８６、８７、９０、９８、１０６、１０８、１２０、１２３、１５８、１６０、１６３、１６５、１６８、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９９、２００、２０１、２０２、２０３、２０７、２２５、２２６、２３６、２３７、２４６、２４８、２４９；Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー１、２、３、４、５、７、８、９、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２０、２１、２５、２６、２７、２８、２９、３１、３２、３３、３４、３７、３８、３９、４０、４１、４３、４４、４６、７７；Ｃ．Ｉ．フードブルー１、２；Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン１、３、５、１６、２６、１０４；Ｃ．Ｉ．ベーシックグリーン１、４；Ｃ．Ｉ：フードグリーン３；Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレット９、１７、９０、１０２、１２１；Ｃ．Ｉ．ベーシックバイオレット２、３、１０、１１、２１；Ｃ．Ｉ．アシッドブラウン１０１、１０３、１６５、２６６、２６８、３５５、３５７、３６５、３８４；Ｃ．Ｉ．ベーシックブラウン１；Ｃ．Ｉ．アシッドブラック１、２、７、２４、２６、２９、３１、４８、５０、５１、５２、５８、６０、６２、６３、６４、６７、７２、７６、７７、９４、１０７、１０８、１０９、１１０、１１２、１１５、１１８、１１９、１２１、１２２、１３１、１３２、１３９、１４０、１５５、１５６、１５７、１５８、１５９、１９１、１９４；Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１７、１９、２２、３２、３９、５１、５６、６２、７１、７４、７７、９４、１０５、１０６、１０７、１０８、１１２、１１３、１１７、１１８、１３２、１３３、１４６、１５４、１６８；Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック１、３、４、５、６、８、９、１０、１２、１３、１４、１８、３１；Ｃ．Ｉ．フードブラック２；Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ４５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８、Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック７；Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー３、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド４、６０、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー３、及び米国特許第５，０７４，９１４号、米国特許第５，９９７，６２２号、米国特許第６，００１，１６１号、ＪＰ０２−０８０４７０、ＪＰ６２−１９０２７２、ＪＰ６３−２１８７６６において開示されている金属アゾ染料を含む。

[0120]本発明に好適な顔料は、有機顔料、無機顔料及びそれらの混合物を含む群から選択される。本発明に好適な顔料の典型的な例は、限定されないが、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド６７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト４、Ｃ．Ｉピグメントホワイト６、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト７、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２２、アンチモンイエロー、クロム酸鉛、硫酸クロム酸鉛、モリブデン酸鉛、ウルトラマリンブルー、コバルトブルー、マンガンブルー、酸化クロムグリーン、水和酸化クロムグリーン、コバルトグリーン及び金属硫化物、例えば硫化セリウム又はカドミウム、硫セレン化カドミウム、亜鉛フェライト、バナジウム酸ビスマス、プルシアンブルー、Ｆｅ_３Ｏ_４、カーボンブラック、混合金属酸化物、アゾ、アゾメチン、メチン、アントラキノン、フタロシアニン、ペリノン、ペリレン、ジケトピロロピロール、チオインジゴ、チアジンインジゴ、ジオキサジン、イミノイソインドリン、イミノイソインドリノン、キナクリドン、フラバントロン、インダントロン、アントラピリミジン及びキノフタロン顔料、並びにそれらの混合物、固溶体及び混晶を含む。

[0121]存在する場合、本明細書に記載のＵＶ吸収染料、ＵＶ吸収有機顔料、ＵＶ吸収無機顔料又はそれらの混合物は、好ましくは、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内において約１．０以上、好ましくは約１．１以上、より好ましくは約１．２以上の本明細書において上述されたように計算される光学密度Ｄ_Ｍを有するフォトマスクを生成するのに好適な量で存在する。存在する場合、本明細書に記載のＵＶ吸収染料、ＵＶ吸収有機顔料、ＵＶ吸収無機顔料又はそれらの混合物は、好ましくは、約１〜約８０重量％、より好ましくは約１０〜約６０重量％、さらにより好ましくは約１０〜約２０重量％の量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ吸収フォトマスク組成物の総重量を基準とする。

[0122]本発明に好適なＵＶ吸収剤（ＵＶＡ）は、ヒドロキシフェニルベンズトリアゾール、ベンゾフェノン、ベンゾオキサゾン、α−シアノアクリレート、オキサニリド、トリス−アリール−ｓ−トリアジン、ホルムアミジン、シンナメート、マロネート、ベンジリデン、サリチレート、ベンゾエートＵＶＡ及びそれらの混合物からなる群から選択される。本明細書に記載のＵＶＡは、好ましくは、約０．５〜約６０重量％、より好ましくは約１〜約３０重量％、さらにより好ましくは約１〜約１０重量％の量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ吸収フォトマスク組成物の総重量を基準とする。ＵＶＡの例は、例えば、国際公開第０２／２８８５４Ａ１号、欧州特許第１８４４０４９号、欧州特許第０７１７３１３号、国際公開第２００４／０９９３０２Ａ１号（欧州特許第１６２０５００号）、国際公開第２００８／００６４６Ａ１号（欧州特許第２０３２５７７号）、国際公開第２００６／１３１４６６Ａ１号（欧州特許第１８８８５３９号）、米国特許第５３５４７９４号、米国特許第５４７６９３７号、米国特許第５５５６９７３号及び国際公開第２００８／０４９７５５Ａ２号において開示されている。

[0123]本発明に好適な鉱物酸化物ナノ粒子は、金属酸化物ナノ粒子からなる群から選択される。本発明に好適な金属酸化物ナノ粒子の典型的な例は、限定されないが、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化セリウム、酸化銅を含む。金属酸化物ナノ粒子の例は、米国特許出願公開第２００８／００３１８３２Ａ１号、米国特許出願公開第２０１１／０２４５３９２Ａ１号、米国特許第８５４６４８４Ｂ２号において開示されている。

[0124]本発明の一態様によれば、本明細書において開示されるＵＶ吸収フォトマスク組成物は、酸化乾燥組成物からなる。酸化乾燥組成物は、酸素の存在下、特に大気中の酸素の存在下での酸化により乾燥する。乾燥プロセスの間、酸素は組成物の１種又は複数種の構成成分と組み合わさって、それを半固体又は固体状態に変換する。乾燥プロセスは、金属塩等の１種若しくは複数種の触媒若しくは乾燥剤の使用、及び／又は熱処理の適用により加速され得る。乾燥剤の典型的な例は、限定されないが、金属（複数種可）の無機又は有機塩、有機酸の金属石鹸、金属錯体及び金属錯塩を含む。知られている乾燥剤は、例えばコバルト、銅、マンガン、セリウム、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウム、リチウム、ビスマス、カルシウム、バナジウム、亜鉛、鉄及びそれらの混合物等の金属を含む。特に、コバルト塩は、その高い酸化効率及び安定性のため、すなわちその効率がコーティング組成物とは無関係に高い状態を維持するため、インク及びコーティング用の乾燥剤として広く使用されている。存在する場合、１種又は複数種の乾燥剤は、好ましくは、約０．００１〜約１０重量％の量で存在し、重量パーセントは、酸化乾燥組成物の総重量を基準とする。酸化乾燥組成物は、典型的には、少なくとも１種の酸化乾燥ニスを含む。酸化乾燥ニスは、典型的には、当技術分野において一般に知られている不飽和脂肪酸残渣、飽和脂肪酸残渣又はそれらの混合物を含むポリマーである。飽和及び不飽和脂肪酸化合物は、天然及び／又は人工源から得ることができる。本明細書に記載の酸化乾燥ニスは、その空気乾燥特性を確保するために、不飽和脂肪酸残渣を含むことが好ましい。好適な脂肪酸は、エチレン性不飽和共役又は非共役Ｃ２〜Ｃ２４カルボン酸、例えばミリストレイン酸、パルミトレイン酸、アラキドン酸、エルカ酸、ガドレイン酸、クルパナドン酸、オレイン酸、リシノール酸、リノール酸、リノレン酸、リカン酸、ニシン酸及びエレオステアリン酸、又はそれらの混合物である。それらの脂肪酸は、典型的には、天然又は合成油から得られる脂肪酸の混合物の形態で使用される。特に好ましい酸化乾燥ニスは、不飽和酸基を含む樹脂であり、さらにより好ましくは不飽和カルボン酸基を含む樹脂である。しかしながら、樹脂はまた、飽和脂肪酸残渣を含んでもよい。本明細書に記載の酸化乾燥ニスは、酸基を含むことが好ましく、すなわち、酸化乾燥ニスは、酸修飾樹脂の中から選択されることが好ましい。本明細書に記載の酸化乾燥ニスは、アルキド樹脂、ビニルポリマー、ポリウレタン樹脂、超分岐樹脂、ロジン修飾マレイン酸樹脂、ロジン修飾フェノール樹脂、ロジンエステル、石油樹脂修飾ロジンエステル、石油樹脂修飾アルキド樹脂、アルキド樹脂修飾ロジン／フェノール樹脂、アルキド樹脂修飾ロジンエステル、アクリル修飾ロジン／フェノール樹脂、アクリル修飾ロジンエステル、ウレタン修飾ロジン／フェノール樹脂、ウレタン修飾ロジンエステル、ウレタン修飾アルキド樹脂、エポキシ修飾ロジン／フェノール樹脂、エポキシ修飾アルキド樹脂、テルペン樹脂ニトロセルロース樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、アクリル樹脂及びそれらの組合せ又は混合物からなる群から選択され得る。ポリマー及び樹脂は、本明細書において、同義的に使用される。

[0125]本発明の一態様によれば、本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物は、熱乾燥組成物からなる。熱乾燥組成物は、高温空気、赤外線又は高温空気及び赤外線の組合せにより乾燥される、水性組成物又は溶媒系組成物の任意の種類の組成物からなる。熱乾燥組成物の典型的な例は、限定されないが、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニルポリマー及び塩化ビニル系コポリマー、ニトロセルロース樹脂、セルロースアセトブチレート又はアセトプロピオネート樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタン樹脂、官能化ポリウレタン樹脂（例えばカルボキシル化ポリウレタン樹脂）、ポリウレタンアルキド樹脂、ポリウレタン−（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン−（メタ）アクリル樹脂、スチレン（メタ）アクリレート樹脂又はそれらの混合物等の樹脂を含む構成成分を含む。本発明に関連する「（メタ）アクリレート」又は「（メタ）アクリル」という用語は、アクリレート及び対応するメタクリレートを指し、又は、アクリル及び対応するメタクリルを指す。本明細書において使用される場合、「溶媒系組成物」という用語は、その液体媒体又は担体が実質的に１種又は複数種の有機溶媒からなる組成物を指す。そのような溶媒の例は、限定されないが、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、エトキシプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、２−エチルヘキシル−アルコール及びそれらの混合物等）；ポリオール（例えば、グリセロール、１，５−ペンタンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール及びそれらの混合物等）；エステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル及びそれらの混合物等）；カーボネート（例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−ブチルカーボネート、１，２−エチレンカーボネート、１，２−プロピレンカーボネート、１，３−プロピレンカーボネート及びそれらの混合物等）；芳香族溶媒（例えば、トルエン、キシレン及びそれらの混合物等）；ケトン及びケトンアルコール（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール及びそれらの混合物等）；アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチル−アセトアミド及びそれらの混合物等）；脂肪族又は脂環式炭化水素；塩素化炭化水素（例えばジクロロメタン等）；窒素含有ヘテロ環式化合物（例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリドン及びそれらの混合物等）；エーテル（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びそれらの混合物等）；多価アルコールのアルキルエーテル（例えば、２−メトキシエタノール、１−メトキシプロパン−２−オール及びそれらの混合物等）；アルキレングリコール、アルキレンチオグリコール、ポリアルキレングリコール又はポリアルキレンチオグリコール（例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等）、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（例えば、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等）、ブチレングリコール、チオジグリコール、ヘキシレングリコール及びそれらの混合物等）；ニトリル（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル及びそれらの混合物等）、並びに硫黄含有化合物（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン及びそれらの混合物等）を含む。１種又は複数種の有機溶媒は、アルコール、エステル及びそれらの混合物からなる群から選択されることが好ましい。

[0126]本発明の一態様によれば、本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物は、放射線硬化性コーティング組成物に関して本明細書で説明されたもの等の放射線硬化性組成物からなる。

[0127]代替として、本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物は、熱乾燥及び放射線硬化メカニズムを組み合わせた二重硬化組成物であってもよい。典型的には、そのような組成物は、放射線硬化性組成物に類似しているが、水又は溶媒により構成される揮発性部分を含む。これらの揮発性構成物質は、まず高温空気又はＩＲ乾燥器を使用して蒸発され、次いでＵＶ乾燥が硬質化プロセスを完了する。

[0128]本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物は、限定されないが、組成物の物理的、レオロジー的及び化学的パラメータ、例えば粘度（例えば溶媒及び界面活性剤）、稠度（例えば沈降防止剤、充填剤及び可塑剤）、発泡特性（例えば消泡剤）、潤滑特性（ワックス）、ＵＶ安定性（光増感剤及び光安定剤）並びに接着特性等を調節するために使用される化合物及び材料を含む１種又は複数種の添加剤をさらに含んでもよい。本明細書に記載の添加剤は、当技術分野において知られている量、及び粒子の寸法の少なくとも１つが１〜１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料の形態を含む形態で、本明細書において開示される印刷ＵＶ吸収フォトマスク組成物中に存在してもよい。

[0129]本明細書に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物は、放射線硬化性コーティング組成物に関して本明細書で説明されたもの等の１種又は複数種の充填剤をさらに含んでもよい。

[0130]本明細書に記載のＵＶ硬化フォトマスク組成物は、本明細書に記載のＵＶ吸収材料、及び本明細書に記載のバインダーの存在下で存在する場合には、１種又は複数種の添加剤を分散又は混合することにより調製され得る。存在する場合、１種又は複数種の光開始剤は、全ての他の成分の分散若しくは混合ステップの間に組成物に添加されてもよく、又は後の段階で添加されてもよい。

[0131]本発明は、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたモチーフを備える光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法を提供し、少なくとも２つのエリアは、異なる磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンを有する。少なくとも２つのエリアのうちの１つのエリアは、第１の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように配向した、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、上記配向パターンは、ランダム配向、又はランダム配向を除く任意の配向であってもよい。したがって、本明細書に記載の方法は、コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、第１の磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップ（ステップｂ０）の存在を必要としてもよく（ランダム配向を除く任意の配向の場合）、又は必要としなくてもよい（ランダム配向の場合）。所望の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに依存して、上記第１の磁場生成デバイスは、基板のコーティング層を保持する側に位置してもよく、反対側に位置してもよく、両側に位置してもよく、又は基板の横に位置してもよい。図５Ａ〜Ｃに示されるように、上記磁場生成デバイスは、基板のコーティング層を保持する側に位置し、それによって、コーティング層を保持する側から視認した場合に凹状の湾曲、特に正の回転棒の特徴に従うように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させることが好ましい。

[0132]図５Ａは、本発明の一態様によるＯＥＬを生成するのに好適なプロセスのステップの一例を示す。任意選択の支持板（５５０）上に配置されてもよい本明細書に記載の基板（５３０）は、基板（５３０）の表面の１つ又は複数のエリア上に塗布された、本明細書に記載のもの等のフォトマスク（５８０）と、本明細書に記載のもの等の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）とを備える。コーティング層は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物を、フォトマスクが基板（５３０）及びコーティング層（５１０）に面するように、基板のフォトマスク（５８０）と同じ側に塗布することにより得られる。放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（５８０）と整合して塗布され得るが、放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（５８０）よりも延在する基板（５３０）の１つ又は複数のエリア上に塗布されることが好ましい。フォトマスク（５８０）は、コーティング層（５１０）により完全又は部分的に被覆され得るが、これは、フォトマスク（５８０）を備える基板（５３０）の１つ又は複数のエリアが、コーティング層（５１０）を備える１つ又は複数のエリアの外側に延在してもよいことを意味する。図５Ａにおいて、フォトマスク（５８０）は、コーティング層（５１０）によって部分的にのみ被覆されている。

[0133]図５Ｂは、本発明の一態様によるＯＥＬを生成するのに好適なプロセスのステップの一例を示す。任意選択の支持板（５５０）上に配置される本明細書に記載の基板（５３０）は、基板（５３０）の表面の少なくとも１つの上に塗布された、本明細書に記載のもの等のフォトマスク（５８０）と、本明細書に記載のもの等の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（５１０）とを備える。コーティング層は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物を、フォトマスク（５８０）及びコーティング層（５１０）が環境に面し、それぞれが基板（５３０）の一方の側にあるように、基板のフォトマスク（５８０）とは反対側に塗布することにより得られる。放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（５８０）と整合して塗布され得るが、放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（５８０）よりも延在する基板（５３０）の１つ又は複数のエリア上に塗布されることが好ましい。フォトマスク（５８０）は、コーティング層（５１０）を備える１つ又は複数のエリアに面する基板（５３０）の１つ又は複数のエリアにのみ存在してもよく、又は代替として、フォトマスク（５８０）は、図５Ｂに示されるように、コーティング層（５１０）を備える１つ又は複数のエリアに面していない１つ又は複数のエリアに存在してもよい。

[0134]図６Ａ〜Ｂは、本発明によるＯＥＬを生成するのに好適なプロセスの一例を示す。任意選択の支持板（６５０）上に配置されてもよい本明細書に記載の基板（６３０）は、基板（６３０）の表面の１つ又は複数のエリア上に塗布された、本明細書に記載のもの等のフォトマスク（６８０）と、本明細書に記載のもの等の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（６１０）とを備える。コーティング層は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物を、フォトマスクが基板（６３０）及びコーティング層（６１０）に面するように、基板のフォトマスク（６８０）と同じ側に塗布することにより得られる。放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（６８０）と整合して塗布され得るが、放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスによって、フォトマスク（６８０）よりも延在する基板（６３０）の１つ又は複数のエリア上に塗布されることが好ましい。フォトマスク（６８０）は、コーティング層（６１０）により完全又は部分的に被覆され得るが、これは、フォトマスク（６８０）を備える基板（６３０）の１つ又は複数のエリアが、コーティング層（６１０）を備える１つ又は複数のエリアの外側に延在してもよいことを意味する。図６Ａにおいて、フォトマスク（６８０）は、コーティング層（６１０）によって完全に被覆されている。

[0135]第１のステップ（図６Ａ）において、コーティング層（６１０）は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をそのランダムな位置及び配向で固定／定着させるために第２の状態まで硬質化され（ステップｂ１））、上記硬質化ステップ（ステップｂ１））は、基板側に位置するＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により行われる。

[0136]第２のステップ（図６Ｂ）において、コーティング層（６１０）は、本明細書に記載の磁場生成デバイスの磁場に曝露され（ステップｃ１））、本明細書に記載のコーティング層は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化され（ステップｃ２））、上記硬質化ステップ（ステップｃ２））は、コーティング層（６１０）側に位置するＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により行われ、すなわち、フォトマスク（６８０）に面していないコーティング層（６１０）のエリア内の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、その採用された位置及び配向（Ｒ２）で固定／定着される。図６Ａ〜Ｂに示される例において、フォトマスク（６８０）に面していないコーティング層（６１０）のエリア内の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、凸状の湾曲に従うが、磁場生成デバイス（６７１）は、任意の非ランダム配向を生成するように選択及び位置付けられてもよい。

[0137]図７Ａ〜Ｃは、本発明の別の態様によるＯＥＬを生成するのに好適なプロセスの別の例を示す。任意選択の支持板（７５０）上に配置されてもよい本明細書に記載の基板（７３０）は、基板（７３０）の表面上に塗布された、本明細書に記載のもの等のフォトマスク（７８０）と、本明細書に記載のもの等の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（７１０）とを備える。コーティング層（７１０）及びフォトマスク（７８０）を備える基板（７３０）は、上述の基板（６３０）と同様の様式で得られる。

[0138]第１のステップ（図７Ａ〜Ｂ）において、コーティング層（７１０）は、本明細書に記載の第１の磁場生成デバイス（７７０）の磁場に曝露され（ステップｂ０））、本明細書に記載のコーティング層は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化され（ステップｂ１））、上記硬質化ステップ（ステップｂ１））は、基板（７３０）側に位置するＵＶ−Ｖｉｓ照射源（７４０）での照射により行われ、すなわち、フォトマスク（７８０）に面していないコーティング層（７１０）のエリア内の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、その採用された位置及び配向（Ｒ１）で固定／定着される。図７Ａ〜Ｂに示される例において、採用された位置及び配向（Ｒ１）は、凸状の湾曲に従うが、第１の磁場生成デバイスは、任意の非ランダム配向を生成するように選択及び位置付けられてもよい。

[0139]第２のステップ（図７Ｃ）において、コーティング層（７１０）は、本明細書に記載の第２の磁場生成デバイス（７７１）の磁場に曝露され（ステップｃ１））、本明細書に記載のコーティング層は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化され（ステップｃ２））、上記硬質化ステップ（ステップｃ２））は、コーティング層（７１０）側に位置するＵＶ−Ｖｉｓ照射源（７４０）での照射により行われる。

[0140]コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、第１の磁場生成デバイスの磁場に曝露するステップ（ステップｂ０））が存在しない場合、又はステップｂ０）と同時、部分的に同時、若しくは後続する、好ましくはステップｂ０）と同時若しくは部分的に同時である場合、本明細書に記載のコーティング層は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をそのランダムな、又は採用された位置及び配向で固定／定着させるために、第２の状態まで基板を通して硬質化され（ステップｂ１）、上記硬質化ステップ（ステップｂ１））は、基板側に位置するＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により行われる。図５Ａ及び５Ｂ、６Ａ及び６Ｂ、７Ａ、７Ｂ及び７Ｃに示されるように、基板のフォトマスクを有さない１つ又は複数のエリア、すなわちマスキングされたエリア（図５Ａ及び５Ｂにおける「Ｂ」を参照されたい）のみが、そのステップの間硬化される。

[0141]コーティング層を同時に、又は部分的に同時に硬質化させる（ステップｂ１））、及びコーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを磁場に曝露する（ステップｂ０））好ましいステップは、第１の磁場生成デバイスの磁場により磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させることを含む。換言すれば、コーティング層の少なくとも一部における磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させている第１の磁場生成デバイスの磁場は、好ましくは基板の反対側からであっても、空間的及び時間的にＵＶ−Ｖｉｓ照射源の照射と重複する。

[0142]本明細書に記載のコーティング層を硬質化させるための照射（ステップｂ１））は、約２００ｎｍ〜約５００ｎｍの波長の光で達成される。多数及び多種多様な放射線源が使用され得る。点光源及び扁平ラジエータ（ランプカーペットが好適である）。その例は、限定されないが、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯、中、高及び低圧水銀灯、適切な場合には金属ハロゲン化物によるドープ（金属ハロゲン化物灯）、マイクロ波励起金属蒸気灯、エキシマー灯、超アクチニド蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、閃光灯、写真用照明灯、並びに発光ダイオード（ＬＥＤ）を含む。

[0143]本明細書に記載の方法は、フォトマスクの存在のために第１の状態にある、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の配向に従うように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップｃ１）と；磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定／定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に、又は後続して硬質化させるステップｃ２）とをさらに備える。ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、コーティングを保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを硬質化させるステップｃ２）は、少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の磁場生成デバイスの磁場に曝露するステップｃ１）と同時に、又は部分的に同時に行われることが好ましい。本明細書に記載のコーティング層を硬質化させるための照射（ステップｃ２））は、ステップｂ１）に関して本明細書において上述されたように達成される。

[0144]本明細書において上述されたように、少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアのうちの１つは、ランダム配向、又はランダムな磁性若しくは磁化可能な顔料粒子の配向を除く任意の配向、好ましくはランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向、より好ましくはコーティング層を保持する側から視認した場合の凹状の湾曲、さらにより好ましくは正の回転棒の特徴に従う複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアの他方は、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向に従う複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むが、但し、２つの磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンは異なり、肉眼で区別可能である。上記少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアの他方の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の、所望の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンは、最終用途に従って選択される。ランダム配向を除く任意のパターンの例は、限定されないが、回転棒の特徴、フリップフロップ効果（当技術分野においてスイッチ効果とも呼ばれる）、ベネチアンブラインド効果、移動リング効果を含む。一実施形態によれば、上記少なくとも２つのエリア、好ましくは少なくとも２つの隣接するエリアの他方の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、ＯＥＬを保持する側から視認した場合の凸状の湾曲、特に負の回転棒の特徴に従う。フリップフロップ効果は、遷移部で隔てられた第１の印刷部分及び第２の印刷部分を含み、顔料粒子は、第１の部分において第１の平面に平行に整列し、第２の部分における顔料粒子は、第２の平面に平行に整列している。フリップフロップ効果を生成するための方法は、例えば、欧州特許第１８１９５２５号及び欧州特許第１８１９５２５号において開示されている。ベネチアンブラインド効果もまた生成され得る。ベネチアンブラインド効果は、基板表面上又は基板表面内に存在する印又は他の特徴が観察者に明らかとなるように、顔料粒子が特定の観察方向に沿って下の基板表面の可視性を与えながら、別の観察方向に沿っては可視性を妨げるように配向した顔料粒子を含む。ベネチアンブラインド効果を生成するための方法は、例えば、米国特許第８，０２５，９５２号及び欧州特許第１８１９５２５号において開示されている。移動リング効果は、上記光学効果層の傾きの角度に依存して任意のｘ−ｙ方向に移動して見える、漏斗、円錐、ボウル、円、楕円、及び半球等の物体の光学幻影像からなる。移動リング効果を生成するための方法は、例えば、欧州特許出願公開第１７１０７５６号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２３０６２２２号、欧州特許出願公開第２３２５６７７号、国際公開第２０１１／０９２５０２Ａ２号及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号において開示されている。移動ループ状効果は、上記光学効果層の傾きの角度に依存して任意のｘ−ｙ方向に移動して見える、例えば円、長方形又は正方形、三角形、五角形、六角形、七角形、八角形等の物体の光学幻影像からなる。移動ループ状効果を生成するための方法は、例えば、国際公開第２０１４／１０８４０４Ａ２号及び国際公開第２０１４／１０８３０３Ａ１号において開示されている。

[0145]また、少なくとも２つのパターンの複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、１つ又は複数のレリーフ、彫刻又は切り抜きを有する表面を保持する磁性板を独立して備える、第１及び／又は第２の磁場生成デバイスを使用することにより生成されてもよい。国際公開第２００５／００２８６６Ａ１号及び国際公開第２００８／０４６７０２Ａ１号は、そのような彫刻磁性板の例である。

[0146]複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の所望の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに依存して、及び当業者に知られているように、第１及び第２の磁場生成デバイスによる磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向に、静的又は動的な磁場生成デバイスが使用されてもよく、すなわち、第１及び／又は第２の磁場生成デバイスは、静的デバイス又は動的デバイスであってもよい。

[0147]磁性又は磁化可能な顔料粒子を採用された位置及び配向で固定／定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の状態まで硬質化させるステップ（ステップｃ２））は、少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の配向に従うように、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップと、部分的に同時に、同時に、又は後続して、好ましくは部分的に同時に、又は同時に行われてもよい。

[0148]図８Ａ及び８Ｂは、本明細書に記載のフォトマスクの効率を評価するために行われた実験を概略的に示す。図８Ａは、本明細書に記載のような放射線硬化性コーティング組成物中の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の磁気配向、並びに、放射線硬化性コーティング組成物から得られたコーティング層の、フォトマスク及び基板の組合せを通した照射による同時又は部分的に同時の硬質化からなるステップを示す。図８Ｂは、ＯＥＬのコーティング層を備える側からの照射により行われるコーティング層の硬質化のステップを示す。

[0149]第１のステップ（図８Ａ）において、本明細書に記載のもの等の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、好ましくは本明細書に記載のもの等の印刷プロセスにより、本明細書に記載のもの等のフォトマスク（８８０）、好ましくは印刷ＵＶ吸収フォトマスクを保持する基板（８３０）上に塗布され、上記放射線硬化性コーティング組成物は、コーティング層（８１０）を形成するように、フォトマスク（８８０）の上に部分的に塗布される。本明細書に記載の複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、凹状の湾曲、特に正の回転棒の特徴（Ｒ^＋）に従うように、基板のコーティング層（８１０）と同じ側に配置された第１の磁場生成デバイス（８７０）を使用することにより配向される。第１の磁場生成デバイスは、コーティング層（８１０）が第１の磁場生成デバイス（８７０）の表面に直接接触しないように、陥凹部（図８Ａには図示せず）を備えてもよい。顔料粒子の配向と同時、又は部分的に同時に、コーティング層（８１０）は、基板のフォトマスク（８８０）及びコーティング層（８１０）を保持していない側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源（８４０）を使用することにより硬質化され、すなわち、コーティング層（８１０）は、基板（８３０）を通して硬質化される。

[0150]第２のステップ（図８Ｂ）において、基板は、次いで基板の面内で９０°回転される。コーティング層（８１０）は、磁場又は磁化可能な顔料粒子を含み、上記コーティング層は、フォトマスクの存在により第１の状態（湿潤し、まだ硬質化されていない状態）にある１つ又は複数の基板エリアを備える。第１の状態にある１つ又は複数のエリア、すなわちフォトマスク（８８０）に面するコーティング層の１つ又は複数のエリアにおける磁性又は磁化可能な顔料粒子は、基板のコーティング層（８１０）とは反対側に配置された第２の磁場生成デバイス（８７１）を使用して、凸状の湾曲、特に負の回転棒の特徴（Ｒ⁻）に従うように配向される。顔料粒子の配向と同時、又は部分的に同時に、コーティング組成物（８１０）は、基板のコーティング層（８１０）と同じ側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源（８４０）を使用することにより硬質化される。

[0151]図８Ｃは、基板のコーティング層（８１０）を保持する側に位置する観察者により見られるような、図８Ａに示されるプロセスの第１のステップの後に得られる結果的なＯＥＬを示す。図８Ｄ−１は、基板のコーティング層を保持する側に位置する観察者により見られるような、図８Ｂに示されるプロセスの第２のステップの後の結果的なＯＥＬを示す。図８Ｄ−２は、基板の平面内での９０°回転後の、基板のコーティング層を保持する側に位置する観察者により見られるような、同じ結果的なＯＥＬを示す。

[0152]図９Ａ〜Ｃ、１０Ａ〜Ｃ、１１Ａ〜Ｃ、１２Ａ〜Ｃ及び１３Ａ〜Ｃは、図８Ａ〜Ｂの実験に従って調製された試料の写真を示す。図９Ａ、１０Ａ、１１Ａ、１２Ａ及び１３Ａは、本発明に好適なフォトマスク、すなわち、約１．０以上、好ましくは約１．１以上、より好ましくは約１．２以上の光学密度Ｄ_Ｍを有するフォトマスクを用いて生成されたＯＥＬを示す。図９Ｂ〜Ｃ、１０Ｂ〜Ｃ、１１Ｂ〜Ｃ、１２Ｂ〜Ｃ及び１３Ｂ〜Ｃは、本発明に好適ではないフォトマスクを用いて生成されたＯＥＬを示す。

[0153]本発明は、本発明による方法によって生成された光学効果層（ＯＥＬ）をさらに提供する。

[0154]本明細書に記載のＯＥＬは、ＯＥＬが永久的に残存すべき基板上に直接提供されてもよい（例えば紙幣用途において）。代替として、ＯＥＬはまた、生成目的の一時的な基板上に提供されてもよく、ＯＥＬはその後そこから除去される。これは、例えば、特に結合材料がまだその流体状態にある間、ＯＥＬの生成を容易化し得る。その後、ＯＥＬの生成のためにコーティング組成物が硬質化された後、一時的基板がＯＥＬから除去され得る。

[0155]代替として、接着剤層がＯＥＬ上に存在してもよく、又は光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板上に存在してもよく、上記接着剤層は、基板のＯＥＬが提供される側とは反対側に、又はＯＥＬと同じ側及びＯＥＬの上にある。したがって、接着剤層は、光学効果層（ＯＥＬ）又は基板に塗布されてもよく、上記接着剤層は、硬質化ステップが完了した後に塗布される。そのような物品は、印刷、又は機械及び幾分高い労力が関与する他のプロセスなしに、全ての種類の文書、又は他の物品若しくは品に付属してもよい。代替として、本明細書に記載のＯＥＬを備える本明細書に記載の基板は、別個の転写ステップにおいて文書又は物品に塗布することができる転写箔の形態であってもよい。この目的のために、基板には剥離コーティングが提供され、その上に本明細書に記載のようにＯＥＬが生成される。そのように生成されたＯＥＬの上に、１つ又は複数の接着剤層が塗布されてもよい。

[0156]また、本明細書に記載のプロセスにより得られる、２つ以上の、すなわち２つ、３つ、４つ等の光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板も、本明細書に記載される。

[0157]また、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）を備える物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体も、本明細書に記載される。物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明に従って生成された２つ以上（例えば、２つ、３つ等）のＯＥＬを備えてもよい。

[0158]本明細書において上述されたように、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾目的で、並びにセキュリティ文書の保護及び認証のために使用され得る。装飾要素又は物体の典型的な例は、限定されないが、高級品、化粧品包装、自動車部品、電子／電気機器、家具及びマニキュアを含む。

[0159]セキュリティ文書は、限定されないが、有価文書及び有価商品を含む。有価文書の典型的な例は、限定されないが、紙幣、証書、券、小切手、証票、収入印紙及び課税表示、契約書等、パスポート等の身分証明書、ＩＤカード、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス文書又はカード、入場券、公共交通機関の乗車券又は権利書等、好ましくは紙幣、身分証明書、権利を付与する文書、運転免許証及びクレジットカードを含む。「有価商品」という用語は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、煙草製品、飲料若しくは食料品、電気／電子製品、布地又は宝石類、すなわち、例えば本物の薬物等の包装の内容物を保証するために、偽造及び／又は違法複製から保護されるべき物品のための包装材料を指す。これらの包装材料の例は、限定されないが、ラベル、例えば認証ブランドラベル、改ざん防止ラベル及びシールを含む。開示された基板、有価文書及び有価商品は、例示目的のためだけに挙げられ、本発明の範囲を制限しないことが指摘される。

[0160]代替として、光学効果層（ＯＥＬ）は、補助基板、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、ウィンドウ又はラベル等の上に生成され、結果的に別個のステップにおいてセキュリティ文書に転写されてもよい。

[0161]当業者は、本発明の精神から逸脱せずに、上述の特定の実施形態に対するいくつかの修正を想定することができる。そのような修正は、本発明に包含される。

[0162]さらに、本明細書全体において参照される全ての文献は、本明細書において完全に説明されるように、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

印刷された例の調製の説明
[0163]図６Ａ〜Ｂ、７Ａ〜Ｃ及び８Ａ〜Ｂに示されるプロセスにより、基板（Ｐａｐｉｅｒｆａｂｒｉｋ Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌ製信託標準紙ＢＮＰ ９０ｇ／ｍ^２）上にＯＥＬを生成した。

[0164]表２及び５（オフセット）、表３及び５（溶媒ベースシルクスクリーン）、並びに表４及び５（ＵＶ硬化性シルクスクリーン）に記載のＵＶ吸収フォトマスク組成物を、それぞれ実施例１〜２及び表５に記載の量で基板上に塗布した。ＵＶ−吸収フォトマスク組成物が「５０」の印として塗布される実施例１を除いて、ＵＶ吸収フォトマスク組成物を、Ｐｒｕｆｂａｕ製印刷可能性テスターで、オフセット組成物の場合にはベタ印刷（約２０ｃｍ×４ｃｍ）として、又はシルクスクリーン組成物（Ｔ９０シルクスクリーンスクリーンによる）の場合には長方形（２．５×３．５ｃｍ）として塗布した。

[0165]組み合わされたフォトマスク及び基板の吸収スペクトルを、分光光度計Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５０を用いて球面積分モードで測定した。照射源（ＵＶ−ＬＥＤ）の発光スペクトルは、ランプの供給業者から得られた。

[0166]表５に列挙されたフォトマスクの光学密度は、λ_１＝３７０ｎｍ〜λ_２＝４２０ｎｍの積分区間を使用して、上述のように計算した。

実施例Ｅ１の調製の説明

（＊）ＪＤＳ−Ｕｎｉｐｈａｓｅ、Ｓａｎｔａ Ｒｏｓａ、ＣＡから得られた、約９．３μｍの直径ｄ_５０及び約１μｍの厚さのフレーク形状を有する金色から緑色の光学的に可変の磁性顔料粒子。
[0167]「５０」の印の形状（図６Ｃ）の、１．１重量％のＣブラック（Ｏｒｉｏｎ製カーボンスペシャルブラック（Ｃａｒｂｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ）４Ａ）を含有する溶媒ベースシルクスクリーン組成物（表３を参照されたい）で作製されたフォトマスク（６８０）を備える基板を使用した。Ｔ９０シルクスクリーンにより、フォトマスクを塗布した（約２５ｇ／ｍ^２の湿潤堆積物に対応する）。

[0168]図６Ａ及び６Ｃに示されるように、長方形（約２×２ｃｍ）（６１０）の形状を有するコーティング層を得るために、表１に記載の複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線（ＵＶ−Ｖｉｓ）硬化性コーティング組成物を、シルクスクリーン印刷により基板のフォトマスクと同じ側に塗布した。

[0169]放射線（ＵＶ−Ｖｉｓ）硬化性コーティング組成物（６１０）を、図６Ａに示されるように基板のコーティング層を保持する側とは反対側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源（６４０）（Ｐｈｏｓｅｏｎ製ＵＶ−ＬＥＤ灯、タイプファイヤフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）での、すなわち基板及びフォトマスクを通した照射での、０．０５秒間のＵＶ照射により硬質化させた。

[0170]図６Ｂに示されるように、コーティング層（６１０）がフォトマスクの存在によりまだ硬質化されていないエリア、すなわちフォトマスク（６８０）に面するコーティング層（６１０）のエリアにおいて、複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を、凸状（負）の湾曲（Ｒ２）に従って配向させるために、ＮｄＦｅＢ永久棒磁石（Ｌ×Ｉ×Ｈ＝６×１８×３０ｍｍ）からなる磁場生成デバイス（６７１）を基板（６３０）の下に配置した。顔料粒子の配向と部分的に同時に、図６Ｂに示されるように基板のコーティング層（６１０）を保持する側に配置されたＵＶ−ＬＥＤ灯（６４０）により、基板を０．２秒間のＵＶ照射に曝露した。

[0171]ランダム配向顔料粒子（「５０」の印の周囲のエリア内）及び凸状（負）のＲ⁻湾曲（「５０」の印内）の組合せに従って配向したＯＥＬを保持する結果的なコーティング基板を、図６Ｃに概略的に示す。

[0172]図６Ｄは、図６Ａ及び６Ｂに示され、実施例Ｅ１において説明されたプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す。

実施例Ｅ２の調製の説明
[0173]長方形の形状（図７Ａ〜Ｄ）の、１．１％のＣブラック（Ｏｒｉｏｎ製カーボンスペシャルブラック４Ａ）を含有する溶媒ベースシルクスクリーン組成物（表３を参照されたい）で作製されたフォトマスク（７８０）を備える基板を使用した。Ｔ９０シルクスクリーンにより、フォトマスクを塗布した（約２５ｇ／ｍ^２の湿潤堆積物に対応する）。

[0174]長方形（約２×２ｃｍ）（７１０）の形状を有するコーティング層を得るために、表１に記載の複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線（ＵＶ−Ｖｉｓ）硬化性コーティング組成物を、シルクスクリーン印刷により基板のフォトマスクと同じ側に塗布した。

[0175]本明細書に記載のフォトマスク及びコーティング層を備える基板を、複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を凸状（負）の湾曲（Ｒ１）に従って配向させるために使用される、ＮｄＦｅＢ永久棒磁石（Ｌ×Ｉ×Ｈ＝６×１８×３０ｍｍ）からなる磁場生成デバイス（７７０）（図７Ａ）上に配置した。磁場生成デバイス（７７０）を、基板の長さの中央の位置に配置した。顔料粒子の配向後、図７Ｂに示されるように基板のコーティング層を保持する側とは反対側に配置されたＵＶ−ＬＥＤ灯（７４０）（Ｐｈｏｓｅｏｎ製ＵＶ−ＬＥＤ灯、タイプファイヤフレックス５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）での、すなわち基板及びフォトマスクを通した照射での、０．０５秒間のＵＶ照射に基板を曝露することにより、コーティング層を硬質化させた。

[0176]第２のステップ（図７Ｃ）において、図７Ｃに示されるように、コーティング層（７１０）がフォトマスクの存在によりまだ硬質化されていないエリア、すなわちフォトマスク（７８０）に面するコーティング層（７１０）のエリアにおいて、複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を、凸状（負）の湾曲（Ｒ２）に従って配向させるために、ＮｄＦｅＢ永久棒磁石（Ｌ×Ｉ×Ｈ＝６×１８×３０ｍｍ）からなる磁場生成デバイス（７７１）の上に基板（７３０）を配置した。磁場生成デバイス（７７１）を、基板の長さの中央から外れた位置に配置した。顔料粒子の配向と部分的に同時に、図７Ｃに示されるように基板のコーティング層（７１０）を保持する側に配置されたＵＶ−ＬＥＤ灯（７４０）での０．２秒間のＵＶ照射に基板を曝露することにより、コーティング層を硬質化させた。

[0177]２つの凸状（負）の湾曲Ｒ１⁻及びＲ２⁻の組合せに従って配向したＯＥＬを保持する結果的なコーティング基板を、図７Ｄに概略的に示す。図７Ｅは、図７Ａ〜Ｃに示され実施例Ｅ２において説明されたプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示す。

実施例Ｅ３の調製の説明
[0178]長方形（２．５×３．５ｃｍ）の形状（図８Ａ〜Ｃ）の、２５重量％のＣブラック（Ｏｒｉｏｎ製カーボンスペシャルブラック４Ａ）を含有するオフセット組成物（表２を参照されたい）で作製されたフォトマスク（８８０）を備える基板を使用した。フォトマスクを、Ｐｒｕｆｂａｕ製印刷可能性テスターでベタ印刷（約２０ｃｍ×４ｃｍ）として印刷した（オフセット組成物の量は２ｇ／ｍ^２であった）。

[0179]図８Ａに示されるように、基板の同じ側のフォトマスクに部分的に面するエリアに、長方形（約２×１．５ｃｍ）の形状を有するコーティング層を得るために、表１に記載の複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線（ＵＶ−Ｖｉｓ）硬化性コーティング組成物を、シルクスクリーン印刷により基板上に塗布した。

[0180]本明細書に記載のフォトマスク及びコーティング層を備える基板を、複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を基板のコーティング層（８１０）を保持する側から凹状（正、Ｒ^＋）の湾曲に従うように配向させるために使用される、ＮｄＦｅＢ永久棒磁石（Ｌ×Ｉ×Ｈ＝６×１８×３０ｍｍ）からなる磁場生成デバイス（８７０）上に配置した。顔料粒子の配向と部分的に同時に、図８Ａに示されるように基板のコーティング層を保持する側とは反対側に配置されたＵＶ−Ｖｉｓ照射源（８４０）（Ｐｈｏｓｅｏｎ製ＵＶ−ＬＥＤ灯、タイプファイヤフレックス５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）での、すなわち基板及びフォトマスクを通した照射での、０．０５秒間のＵＶ照射により、コーティング層（８１０）を硬質化させた。凹状（正、Ｒ^＋）の湾曲に従って配向したＯＥＬを保持する結果的なコーティング基板を、図８Ｃに概略的に示す。

[0181]基板を、基板の面内で９０°回転させた。

[0182]コーティング層（８１０）がフォトマスクの存在によりまだ硬質化されていないエリア、すなわちフォトマスク（８８０）に面するコーティング層（８１０）のエリアにおいて、複数の非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を、凸状（負、Ｒ⁻）の湾曲に従って配向させるために、磁場生成デバイス（８７１）を、基板（８３０）の下に配置した。顔料粒子の配向と部分的に同時に、基板のコーティング層（８１０）を保持する側に配置されたＵＶ−ＬＥＤ灯（８７０）での０．２秒間のＵＶ照射に基板を曝露することにより、コーティング層を硬質化させた。

[0183]凹状（正）のＲ^＋及び凸状（負）のＲ⁻湾曲の組合せに従って配向したＯＥＬを保持する結果的なコーティング基板を、図８Ｄ−１に概略的に示す。基板の平面内での９０°の回転後の同じコーティング基板を、図８Ｄ−２に示す。

ＵＶ吸収フォトマスク組成物

[0184]７５部のオフセットビヒクルＶ１（表２）及び２５部のＣブラック（Ｏｒｉｏｎ製カーボンスペシャルブラック４Ａ）を室温で混合することにより、Ｅ３のオフセット組成物を調製した。結果的なペーストを、ＳＤＹ３００三本ロールミルで３回（１回目は６バールの圧力、２回目及び３回目は１２バールの圧力）粉砕した。

[0185]１部のＥ３のオフセット組成物及び１部のオフセットインクビヒクルＶ１（表２）を室温で混合することにより、Ｃ１のオフセット組成物を調製した。

[0186]１部のＣ１のオフセット組成物及び１部のオフセットインクビヒクルＶ１（表２）を室温で混合することにより、Ｃ２のオフセット組成物を調製した。

[0187]そのようにして得られたＣ１〜Ｃ２組成物を、独立して、スピードミキサ（ＳｐｅｅｄＭｉｘｅｒ）（商標）（Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ製ＤＡＣ １５０ ＳＰ ＣＭ３１）内で２５００ｒｐｍの速度で３分間、室温で混合した。

[0188]オフセット組成物Ｅ３、Ｃ１及びＣ２を、独立して、Ｐｒｕｆｂａｕ製印刷可能性テスターでベタ印刷（約２０ｃｍ×４ｃｍ）として基板上に印刷し、オフセットインクに基づくフォトマスクを生成した。オフセット組成物の量は、表５に示されるように、１ｇ／ｍ^２又は２ｇ／ｍ^２であった。

[0189]オフセット組成物で印刷されたフォトマスクを７日間乾燥させてから、本明細書で上述されたような非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線（ＵＶ−ｖｉｓ）硬化性コーティング組成物を塗布した。

[0190]９８．９部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）及び１．１部のＣブラック（Ｏｒｉｏｎ製カーボンスペシャルブラック４Ａ）を、ディスパーマット（Ｄｉｓｐｅｒｍａｔ）（登録商標）で室温で混合することにより、Ｅ４の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0191]１部のＥ４のシルクスクリーン組成物及び３部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ３の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0192]１部のＣ３のシルクスクリーン組成物及び１部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ４の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0193]溶媒ベースシルクスクリーン組成物Ｅ４、Ｃ３及びＣ４を、独立して、Ｔ９０スクリーンを使用したスクリーン印刷により印刷し、ヘアドライヤーで５０℃で１０分間乾燥させた。

[0194]６０部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）及び４０部のＴｉＯ_２（Ｈｕｎｔｓｍａｎｎ製チオキサイド（Ｔｉｏｘｉｄｅ）ＴＲ５２）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｅ５の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0195]１部のＥ５のシルクスクリーン組成物及び３部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ６の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0196]１部のＣ６のシルクスクリーン組成物及び１部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ７の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0197]溶媒ベースシルクスクリーン組成物Ｅ５、Ｃ６及びＣ７を、独立して、Ｔ９０スクリーンを使用したスクリーン印刷により印刷し、ヘアドライヤーで５０℃で１０分間乾燥させた。

[0198]９６部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）及び４部のチヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）（登録商標）カルボプロテクト（Ｃａｒｂｏｐｒｏｔｅｃｔ）（登録商標）（ＢＡＳＦ製）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｅ６の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0199]１部のＥ６のシルクスクリーン組成物及び３部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ８の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0200]１部のＣ８のシルクスクリーン組成物及び１部のシルクスクリーンビヒクルＶ２（表３）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ９の溶媒ベースシルクスクリーン組成物を調製した。

[0201]溶媒ベースシルクスクリーン組成物Ｅ６、Ｃ８及びＣ９を、独立して、Ｔ９０スクリーンを使用したスクリーン印刷により印刷し、ヘアドライヤーで５０℃で１０分間乾燥させた。

[0202]９７部のシルクスクリーンビヒクルＶ３（表４）及び３部のチヌビン（登録商標）カルボプロテクト（登録商標）（ＢＡＳＦ製ＵＶ吸収剤）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｅ７のＵＶ硬化性シルクスクリーン組成物を調製した。

[0203]１部のＥ７のシルクスクリーン組成物及び２部のシルクスクリーンビヒクルＶ３（表４）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ１０のＵＶ硬化性シルクスクリーン組成物を調製した。

[0204]１部のＣ１０のシルクスクリーン組成物及び１部のシルクスクリーンビヒクルＶ３（表４）を、ディスパーマット（登録商標）で室温で混合することにより、Ｃ１１のＵＶ硬化性シルクスクリーン組成物を調製した。

[0205]Ｅ７、Ｃ１０及びＣ１１のＵＶ硬化性シルクスクリーン組成物を、独立して、Ｔ９０スクリーンを使用したスクリーン印刷により印刷した。塗布した組成物を、５０ｍ／分のコンベヤ速度を使用して、標準水銀ＵＶ灯（１つの高圧Ｈｇ灯２００Ｗ及び１つのＦｅドープＨｇ灯２００Ｗ）で硬化させた。

[0206]図９Ａ、９Ｂ及び９Ｃは、図８Ａ及び８Ｂにおいて示され、実施例Ｅ３並びに比較例Ｃ１及びＣ２（表５を参照されたい）に記載のプロセスに従って調製されたＯＥＬの写真を示し、図９Ａ〜９Ｃの例に含まれるフォトマスク（８８０）は、同様の組成物で作製されるが、同じ吸収材料の濃度が異なる。

[0207]図９Ａは、図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って生成されたＯＥＬの一例を示す。図９Ａ（実施例Ｅ３、表５）に示されるＯＥＬを生成するためのプロセスは、高い光学密度Ｄ_Ｍ（１．２）を有するフォトマスク（８８０）を使用した。フォトマスク（８８０）に面する（すなわちその上に印刷された）コーティング層（８１０）のエリアにおいて、コーティング層は、図８Ａに示されるプロセスのステップ中、フォトマスクによるＵＶ−Ｖｉｓ照射源（８４０）からの照射の吸収の結果、硬質化されない状態を維持した。図９Ａは、フォトマスク（８８０）に面していないコーティング層のエリアにおいて、すなわち、図８Ａに示されるステップ中に硬質化されたコーティング層のエリアにおいて、図８Ａに示されるステップ中に得られた、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が凹状の湾曲（Ｒ＋）に従うパターンを備えるＯＥＬを示す。フォトマスク（８８０）に面している（すなわちその上の）コーティング層のエリアにおいて、ＯＥＬは、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、図８Ｂに示されるステップ中の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向の結果、凸状の湾曲（Ｒ−）に従うエリアを備える。

[0208]図９Ｂは、図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って生成されたＯＥＬの一例を示す。図９Ｂ（比較例Ｃ１、表５）に示されるＯＥＬを生成するためのプロセスは、中程度の光学密度Ｄ_Ｍ（０．６）を有するフォトマスク（８８０）を使用した。フォトマスク（８８０）に面する（すなわちその上の）コーティング層（８１０）のエリアにおいて、コーティング層は、図８Ａに示されるプロセスのステップ中、フォトマスク（８８０）による電磁線照射の部分的吸収の結果、部分的に硬質化された。図９Ｂは、フォトマスク（８８０）に面していないコーティング層のエリアにおいて、すなわち、図８Ａに示されるステップ中に硬質化されたコーティング層のエリアにおいて、図８Ａに示されるステップ中に得られた、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が凹状の湾曲（Ｒ＋）に従うパターンを備えるＯＥＬを示す。フォトマスク（８８０）に面している（すなわちその上の）コーティング層のエリアにおいて、ＯＥＬは、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の一部が、凸状の湾曲（Ｒ−）に従い、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の一部が、凹状の湾曲（Ｒ＋）に従うパターンを備える。凹状の湾曲（Ｒ＋）に従う磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向は、フォトマスクを通る電磁放射線の部分的透過の結果、図８Ａに記載のステップ中に定着され、凸状の湾曲（Ｒ−）に従う磁性又は磁化不可能な顔料粒子の配向は、図８Ｂに記載のステップ中の顔料粒子の配向から生じる。

[0209]図９Ｃは、図８Ａ及び８Ｂに示されるプロセスに従って生成されたＯＥＬの一例を示す。図９Ｃ（比較例Ｃ２、表５）に示されるＯＥＬを生成するためのプロセスは、低い光学密度Ｄ_Ｍ（０．４）を有するフォトマスク（８８０）を使用した。フォトマスク（８８０）に面する（すなわちその上の）コーティング層（８１０）のエリアにおいて、コーティング層は、図８Ａに示されるプロセスのステップ中、フォトマスクによる電磁線照射の低い吸収の結果、完全又はほぼ完全に硬質化された。図９Ｃは、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、フォトマスク（８８０）に面していないコーティング層の領域において、図８Ａに示される第１のステップ中に得られる凹状の湾曲（Ｒ＋）に従うエリアを備えるＯＥＬを示す。フォトマスクに面している（すなわちその上の）コーティング層の領域において、ＯＥＬは、図８Ａに示されるステップ中のフォトマスクの低い吸収の結果、したがって図８Ａに示される第１のステップ中のコーティング層（８１０）の硬質化及び顔料粒子の配向の定着の結果、複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子の一部が凹状の湾曲（Ｒ＋）に従い、僅かな磁性又は磁化可能な顔料粒子が凸状の湾曲（Ｒ−）に従うエリアを備えていた。図９Ｃの例のフォトマスクのＤ_Ｍがさらに低い場合、凹状の湾曲（Ｒ＋）に従う複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を備えるＯＥＬのみが、フォトマスクに面する（すなわちその上の）エリアにおいて可視となる。

[0210]図１０Ａ、図１１Ａ、図１２Ａ及び図１３Ａは、表５に記載の組成物により上述と同様に調製された実施例Ｅ４〜Ｅ７の写真を示す。図１０Ｂ、図１０Ｃ、図１１Ｂ、図１１Ｃ、図１２Ｂ、図１２Ｃ、図１３Ｂ及び図１３Ｃは、表２〜５に記載の組成物により上述と同様に調製された比較例Ｃ３〜Ｃ４、Ｃ６〜Ｃ７及びＣ８〜Ｃ１１の写真を示す。

Claims (12)

1. フォトマスクを備える基板上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法であって、前記ＯＥＬは、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つのエリアで作製されたモチーフを備え、前記方法は、
   ａ）コーティング層を形成するために、前記フォトマスクを備える前記基板上に、１種又は複数種の光開始剤及び複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、前記コーティング層は、第１の状態にあり、前記コーティング層は、前記フォトマスクに少なくとも部分的に面している、ステップと；
   ｂ）
   ｂ１）前記コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、前記基板を通して硬質化させるステップであり、前記硬質化は、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子をその位置及び配向で固定又は定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により第２の状態まで行われる、ステップと；
   ｃ）
   ｃ１）前記基板の前記フォトマスクの存在のために第１の状態にある、前記コーティング層を保持する少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを、磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように、前記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップと；
   ｃ２）前記磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定又は定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、前記コーティング層を保持する少なくとも前記１つ又は複数の第２の基板エリアを、第２の状態まで、同時に、部分的に同時に又は後続して硬質化させるステップとを含み、
   前記フォトマスクは、１．０以上の光学密度ＤＭを有する、方法。
2. 前記モチーフが、単一の硬質化層で作製された少なくとも２つの隣接するエリアで作製されたものである、請求項１に記載の方法。
3. 前記ステップｂ）が、
   ｂ０）前記コーティング層を保持する１つ又は複数の第１の基板エリアを、第１の磁場生成デバイスの磁場に曝露し、それによって、ランダム配向を除く任意の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンである、磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向パターンに従うように、前記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるステップと、
   ｂ１）前記コーティング層を前記基板を通して同時に、又は部分的に同時に又は後続して硬質化させるステップであり、前記硬質化は、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子をその採用された位置及び配向で固定又は定着させるために、ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により第２の状態まで行われる、ステップと
   を含み、ステップｂ０）の前記配向パターンは、ステップｃ１）の前記配向パターンとは異なる、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記第１の磁場生成デバイスが、前記基板の前記コーティング層を保持する側に位置する、請求項３に記載の方法。
5. 前記第１の磁場生成デバイスが、前記コーティング層を保持する側から視認した場合に凹状湾曲に従うように、前記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させる、請求項４に記載の方法。
6. ステップｂ１）が、ステップｂ０）と、部分的に同時に、又は同時に行われる、請求項３〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記ステップｃ１）が、第２の磁場生成デバイスを用いて行われ、それによって、前記コーティング層を保持する側から視認した場合に凸状湾曲に従うように、前記複数の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記磁性又は磁化可能な顔料粒子が、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記複数の前記磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、１種又は複数種の磁性材料を含む干渉コーティング顔料、及びそれらの混合物で構成される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記フォトマスクが、バインダー及び１種又は複数種のＵＶ吸収材料を含むＵＶ吸収フォトマスク組成物で作製された、印刷ＵＶ吸収フォトマスクである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
11. 前記１種又は複数種のＵＶ吸収材料が、染料、有機顔料、無機顔料、光学的に可変の顔料、充填剤、ＵＶ吸収剤、鉱物酸化物ナノ粒子、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１０に記載の方法。
12. ＵＶ−Ｖｉｓ照射源での照射により、前記コーティングを保持する少なくとも前記１つ又は複数の第２の基板エリアを硬質化させる前記ステップｃ２）が、少なくとも１つ又は複数の第２の基板エリアを前記磁場生成デバイスの前記磁場に曝露する前記ステップｃ１）と同時に、又は部分的に同時に行われる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。