JP2024522162A - 磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層並びに前記光学効層を生成するための方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、偽造及び違法複製に対する例えば紙幣及び身分証明書類等のセキュリティ文書の保護の分野に関する。特に、本発明は、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えたセキュリティ文書及び装飾物品と、前記ＯＥＬを生成するための方法と、を提供する。【選択図】図２Ａ

Description

発明の詳細な説明

［発明の分野］
[001]本発明は、磁気配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）の分野に関する。特に、本発明は、１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えたセキュリティ文書及び装飾物品と、前記ＯＥＬを生成するための方法と、前記ＯＥＬの偽造防止手段としてのセキュリティ文書又はセキュリティ物品上での使用並びに装飾目的としての使用と、を提供する。

［発明の背景］
[002]当技術分野においては、配向磁性又は磁化可能顔料粒子、特に、光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、組成物、コーティング、又は層を用いることにより、セキュリティ要素を製造することが、例えばセキュリティ文書の分野において知られている。配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層については、例えば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。配向磁性変色顔料粒子を含むことによって特に良好な光学効果を示し、セキュリティ文書の保護に有用なコーティング又は層については、国際公開第２００２／０９０００２号及び国際公開第２００５／００２８６６号に開示されている。

[003]例えばセキュリティ文書のセキュリティフィーチャは一般的に、一方では「秘密」のセキュリティフィーチャ、他方では「公然」のセキュリティフィーチャに分類可能である。秘密のセキュリティフィーチャによる保護は、そのような対策が検出困難であり、検出には通常、特殊な機器及び知識が必要である、という原理に依拠している。一方、「公然」のセキュリティフィーチャは、人間の感覚のみで容易に検出可能であり、例えばそのような対策の可視化及び／又は触覚による検出が可能でありながら、製造及び／又はコピーは依然として困難である、という概念に依拠している。ただし、公然のセキュリティフィーチャの有効性は、それぞれのセキュリティフィーチャとしての認識容易性に大きく依存する。

[004]印刷インク又はコーティングにおける磁性又は磁化可能顔料粒子は、対応する構成の磁界の印加により、未固化／硬化（すなわち、湿潤）コーティング中で磁性又は磁化可能顔料粒子を局所的に配向させた後、コーティングを固化させることによって、磁気誘導像、デザイン、及び／又はパターンを生成することを可能にする。その結果は、固定された安定的な磁気誘導像、デザイン、又はパターンである。コーティング組成物中の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向のための材料及び技術は、例えば米国特許第２，４１８，４７９号、米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，７９１，８６４号、独国特許出願公開第２００６８４８号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第５，３６４，６８９号、米国特許第６，１０３，３６１号、欧州特許第０４０６６６７号、米国特許出願公開第２００２／０１６０１９４号、米国特許出願公開第２００４／０００９３０９号、欧州特許出願公開第０７１０５０８号、国際公開第２００２／００９００２号、国際公開第２００３／０００８０１号、国際公開第２００５／００２８６６号、国際公開第２００６／０６１３０１号に開示されている。このように、偽造に対する耐性が高い磁気誘導パターンが得られる。対象とするセキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は対応するインク、並びに前記インクの印刷及び印刷インク中の前記顔料の配向に用いられる特定の技術の両者を利用することによってのみ達成される。

[005]光学効果層（ＯＥＬ）の磁性若しくは磁化可能顔料粒子の磁気配向パターン並びに観察方向によって、前記ＯＥＬは、明暗エリアを示す可能性がある。ＯＥＬの特定のゾーンの光学特性は、前記ＯＥＬを構成するコーティング層中の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向に直接依存する。

[006]欧州特許第２０２４４５１号は、揮発性成分（Ｓ）及び特にＵＶ硬化性化合物を含む不揮発性成分から成るコーティング組成物を開示しており、後者は、インクビークル（Ｉ）及び磁気配向可能な光学可変干渉顔料（Ｐ）から成り、磁気誘導像（すなわち、光学効果層）を生成するため、インクビークルの体積（Ｖ（Ｉ））と顔料の体積（Ｖ（Ｐ））との比が５．０より高いことを特徴とする。欧州特許第２０２４４５１号は、光学効果層がｄ５０／３より厚いことをさらに開示しており、ｄ５０は、磁気配向可能な光学可変干渉顔料の平均直径である。特に、欧州特許第２０２４４５１号は、乾燥ステップにおける印刷インク層の垂直方向収縮により好適ではないと考えられている従来の溶媒ベースの組成物と比較して、インクビークルの体積（Ｖ（Ｉ））と顔料の体積（Ｖ（Ｐ））との特定の比及び厚さとｄ５０値との間の特定の比を用いることにより光学効果層を生成する改良された方法を開示している。

[007]欧州特許第１８１９５２５号及び米国特許第８，０２５，９５２号は、ベネチアンブラインドとして知られるパターンに従って磁気配向した光学効果層粒子を開示している。開示の光学効果層は、互いに平行な磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも１つのゾーンを含む。磁気配向顔料粒子は、それぞれの磁気軸が互いに平行且つある平面に平行であって、前記平面は、前記粒子が塗布された基材に平行ではなく、基材の平面に対して少なくとも３０°の実質的に同じ仰角を有する。

[008]国際公開第２０２０／１７３６９３号は、欧州特許第１８１９５２５号及び米国特許第８，０２５，９５２号に開示のような携帯型装置の光学効果層によって認証を行う方法を開示している。

[009]欧州特許第１８１９５２５号、米国特許第８，０２５，９５２号、及び国際公開第２０２０／１７３６９３号に開示の光学効果層は通常、欧州特許第２０２４４５１号に開示のコーティング組成物を用いることにより生成される。

[010]隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が互いに実質的に平行な１つ又は複数のエリアを有するようにコーティング層中の粒子を配向させる磁界発生装置を選定する効率及び自由度に関して、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を基材上に生成するための改良された方法が依然として求められている。

［発明の概要］
[011]したがって、本発明は、従来技術の不備を克服することを目的とする。

[012]これは、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法及びその得られる光学効果層（ＯＥＬ）の提供により達成される。

[013]本明細書には、２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法であって、
ａ）主軸Ｘ及びｄ５０値を有する板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、コーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である放射線硬化性コーティング組成物を基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
ｂ）磁界発生装置（ｘ３０）の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、コーティング層（ｘ１０）を前記磁界に曝露することにより、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αが、１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、コーティング層（ｘ１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を固定して、厚さＴを有する少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップであり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴが、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さく、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する、ステップと、
を含む、方法が記載される。

[014]また、本明細書には、厚さＴを有し、主軸Ｘ及びｄ５０値を有する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物により構成された少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）を備える光学効果層（ＯＥＬ）が記載されており、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴは、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さく、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子は少なくともそれぞれ、前記少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する。

[015]欧州特許第２０２４４５１号の開示内容とは対照的に、本明細書に記載の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さ（すなわち、光学効果層の厚さ）と板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値との間の特許請求の範囲に係る特定の関係（Ｔ＜ｄ５０）のほか、特許請求の範囲に係る特定の角度αの値と、好ましくは特許請求の範囲に係る方法の厚さと角度αの値との間の関係（Ｔ＜ｄ５０＊（ｓｉｎα））と、を使用することにより、それぞれの磁界の均一性／不均一性に関わらず、磁界発生装置を自由に選定して、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）を含む前記光学効果層を生成することができる。さらに、本発明は、広い表面で顔料の配向が均一な光学効果層（ＯＥＬ）の生成を可能にするため都合が良い。

[016]以下、図面及び特定の実施形態を参照することにより、本明細書に記載の１つ若しくは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えたセキュリティ文書若しくは物品並びに前記ＯＥＬを基材（ｘ２０）上に生成するための本明細書に記載の方法について、より詳しく説明する。

図１は、主軸Ｘ及びＹを有する板状磁性又は磁化可能顔料粒子を模式的に示した図である。
図２Ａ～図２Ｈは、厚さＴ、Ｔ’を有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた１つ又は複数の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０、２４１）を備えたＯＥＬの断面を示した図である。
図２Ａは、厚さＴを有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）を備えたＯＥＬであって、１つ又は複数の領域における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図２Ｂは、厚さＴを有し、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）に、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）に含む単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）を備えたＯＥＬであって、１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図２Ｃは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に少なくとも部分的に重なり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の顔料粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図２Ｄは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に完全に重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図２Ｅ及び図２Ｆは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に隣り合うか（図２Ｅ）、又は少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）から離隔しており（図２Ｆ）、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図２Ｇ及び図２Ｈは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に少なくとも部分的に（図２Ｇ）又は完全に（図２Ｈ）重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。
図３Ａ、図３Ｂ及び図３Ｄは、基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が２つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。
図３Ｃは、基材（３２０）上の２つの領域（３１０－ａ及び３１０－ｂ）を有する単一の不連続コーティング層（３１０）又は２つのコーティング層（３１０－ａ及び３１０－ｂ）において板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、２つの領域（３１０－ａ及び３１０－ｂ）の板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれ１つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。
図４は、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）であり、同じ磁場方向を有する２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び鉄ヨーク（Ｙ）から成る、磁界発生装置（４３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が１つのエリアにおいて、棒状双極子磁石（４３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に均一であり（点線の長方形Ａとして示す）、コーティング層（４１０）を有する基材（４２０）が特定の角度αで前記エリアＡに設けられた、磁界発生装置（４３０）を模式的に示した図である。
図５Ａ及び図５Ｂは、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（実施例Ｅ１、Ｅ２及び比較例Ｃ１、Ｃ２）において、図３Ａに示す磁界発生装置の磁界により磁気配向した板状磁性又は磁化可能顔料粒子の仰角γの変化を示した図であって、ｘ軸（ｍｍ）が、少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の縁部からの距離に対応し、１５ｍｍという値が、図３Ａに示す磁界発生装置の中心及び少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の中心に対応する、図である。
図６は、同時係属の欧州特許出願第２０１９４０６０．８号に開示の磁界発生装置（６３０）であり、基材（６２０）上のコーティング層（６１０）における板状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向に用いられる棒状双極子磁石から成る磁界発生装置（６３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、磁界が実質的に均一である（Ｂとして示す）１つのエリアにおいて、磁界発生装置（６３０）の磁界の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、コーティング層（６１０）を有する基材（６２０）が、磁界が実質的に均一な前記エリアＢに設けられ、コーティング層（６１０）と磁界が実質的に均一なエリアＢ内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αが約３０°である、磁界発生装置（６３０）を模式的に示した図である。

図１は、主軸Ｘ及びＹを有する板状磁性又は磁化可能顔料粒子を模式的に示した図である。 図２Ａは、厚さＴを有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）を備えたＯＥＬであって、１つ又は複数の領域における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｂは、厚さＴを有し、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）に、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）に含む単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）を備えたＯＥＬであって、１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｃは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に少なくとも部分的に重なり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の顔料粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｄは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に完全に重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｅ及び図２Ｆは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に隣り合うか（図２Ｅ）、又は少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）から離隔しており（図２Ｆ）、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｅ及び図２Ｆは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に隣り合うか（図２Ｅ）、又は少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）から離隔しており（図２Ｆ）、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｇ及び図２Ｈは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に少なくとも部分的に（図２Ｇ）又は完全に（図２Ｈ）重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図２Ｇ及び図２Ｈは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬであって、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に少なくとも部分的に（図２Ｇ）又は完全に（図２Ｈ）重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する、ＯＥＬの断面を模式的に示した図である。 図３Ａは、基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が２つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。 図３Ｂは、基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が２つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。 図３Ｃは、基材（３２０）上の２つの領域（３１０－ａ及び３１０－ｂ）を有する単一の不連続コーティング層（３１０）又は２つのコーティング層（３１０－ａ及び３１０－ｂ）において板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、２つの領域（３１０－ａ及び３１０－ｂ）の板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれ１つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。 図３Ｄは、基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための棒状双極子磁石から成る好適な磁界発生装置（３３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が２つのエリアにおいて、当該磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に不均一である（Ａ及びＡ’として示す）、磁界発生装置（３３０）の断面を模式的に示した図である。 図４は、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）であり、同じ磁場方向を有する２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び鉄ヨーク（Ｙ）から成る、磁界発生装置（４３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が１つのエリアにおいて、棒状双極子磁石（４３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、磁界が実質的に均一であり（点線の長方形Ａとして示す）、コーティング層（４１０）を有する基材（４２０）が特定の角度αで前記エリアＡに設けられた、磁界発生装置（４３０）を模式的に示した図である。 図５Ａ及び図５Ｂは、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（実施例Ｅ１、Ｅ２及び比較例Ｃ１、Ｃ２）において、図３Ａに示す磁界発生装置の磁界により磁気配向した板状磁性又は磁化可能顔料粒子の仰角γの変化を示した図であって、ｘ軸（ｍｍ）が、少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の縁部からの距離に対応し、１５ｍｍという値が、図３Ａに示す磁界発生装置の中心及び少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の中心に対応する、図である。 図５Ａ及び図５Ｂは、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（実施例Ｅ１、Ｅ２及び比較例Ｃ１、Ｃ２）において、図３Ａに示す磁界発生装置の磁界により磁気配向した板状磁性又は磁化可能顔料粒子の仰角γの変化を示した図であって、ｘ軸（ｍｍ）が、少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の縁部からの距離に対応し、１５ｍｍという値が、図３Ａに示す磁界発生装置の中心及び少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の中心に対応する、図である。 図６は、同時係属の欧州特許出願第２０１９４０６０．８号に開示の磁界発生装置（６３０）であり、基材（６２０）上のコーティング層（６１０）における板状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向に用いられる棒状双極子磁石から成る磁界発生装置（６３０）であって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、磁界が実質的に均一である（Ｂとして示す）１つのエリアにおいて、磁界発生装置（６３０）の磁界の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露され、コーティング層（６１０）を有する基材（６２０）が、磁界が実質的に均一な前記エリアＢに設けられ、コーティング層（６１０）と磁界が実質的に均一なエリアＢ内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αが約３０°である、磁界発生装置（６３０）を模式的に示した図である。

[017]例示を目的として図面に示した磁界発生装置（ｘ３０）の磁界の磁力線（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す）は、ソフトウェアＶｉｚｉｍａｇ ３．１９を用いて実行された磁界シミュレーションにより得られたものである。

［詳細な説明］
（定義）
[018]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。

[019]本明細書において、用語「少なくとも１つ（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」は、１つ又は２つ以上（例えば、１つ、２つ、又は３つ）を規定するものである。

[020]本明細書において、用語「約（ａｂｏｕｔ）」及び「実質的に（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ）」は、対象とする量又は値が指定された特定の値又はその近傍の他の値であってもよいことを意味する。一般的に、ある値を示す用語「約」及び「実質的に」は、その値の±５％の範囲を示すことを意図している。一例として、表現「約１００」は、１００±５の範囲すなわち９５～１０５の範囲を示す。一般的に、用語「約」を使用する場合は、本発明に係る類似の結果又は効果が指定値の±５％の範囲で得られることが予想され得る。

[021]用語「実質的に平行（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐａｒａｌｌｅｌ）」は、少なくとも１ｍｍ^２のコーティング層表面で又は少なくとも約１００個の粒子で平均して、平行整列からの逸脱が２°以下であることを表す。

[022]本明細書において、用語「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」は、前記群の要素のすべて又は１つだけが存在していてもよいことを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、Ｂのみ、又はＡ及びＢの両者」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが存在しない可能性すなわち「ＡのみであってＢではない」という可能性も網羅している。

[023]本明細書において、用語「備える（具備する、含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、非排他的且つオープンエンドであることを意図している。したがって、例えば化合物Ａを含むコーティング組成物は、Ａ以外の化合物を含んでいてもよい。ただし、用語「備える（具備する、含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、その特定の一実施形態として、「～から本質的に成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「～から成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより限定的な意味も網羅するため、例えば「Ａ、Ｂ、及び任意選択としてＣを含む混合物」は、Ａ及びＢから（本質的に）成っていてもよいし、Ａ、Ｂ、及びＣから（本質的に）成っていてもよい。

[024]本明細書において、用語「光学効果層（ｏｐｔｉｃａｌ ｅｆｆｅｃｔ ｌａｙｅｒ（ＯＥＬ））」は、配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層であって、前記磁性又は磁化可能顔料粒子が磁界により配向され、配向磁性又は磁化可能顔料粒子が（すなわち、硬化後に）それぞれの配向及び位置に固定／停止されて磁気誘導像を形成する、コーティング又は層を示す。

[025]用語「コーティング組成物（ｃｏａｔｉｎｇ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）」は、光学効果層（ＯＥＬ）を固体基材上に形成可能であるとともに、印刷法によって好適且つ非排他的に塗布可能な任意の組成物を表す。コーティング組成物は、本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子及び本明細書に記載のバインダを含む。

[026]本明細書において、用語「湿潤（ｗｅｔ）」は、少なくとも部分的に未硬化のコーティング層（例えば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれに作用する外力の影響下でそれぞれの位置及び配向を依然として変更可能であるコーティング）を表す。

[027]用語「セキュリティ文書（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｄｏｃｕｍｅｎｔ）」は、少なくとも１つのセキュリティフィーチャにより偽造又は不正に対して通例保護される文書を表す。セキュリティ文書の例としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。

[028]用語「セキュリティフィーチャ（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｆｅａｔｕｒｅ）」は、認証目的で使用可能な像、パターン、又は図形要素を示すのに使用する。

[029]本明細書において「好適な」実施形態／特徴に言及する場合は、これら「好適な」実施形態／特徴の組合せについても、「好適な」実施形態／特徴のこの組合せが技術的に有意である限り開示されているものと考えられる。

[030]本発明は、１つ若しくは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法並びにその得られる光学効果層（ＯＥＬ）を提供するものであり、前記ＯＥＬは、２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に組み込まれた磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子に基づく。

[031]本発明は、本明細書に記載の通り、厚さＴを有し、主軸Ｘ及びｄ５０値を有する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物により構成された少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）を備えたＯＥＬをさらに提供するものであり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴは、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さく、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子は少なくともそれぞれ、前記少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する。

[032]本発明は、本明細書に記載の基材（ｘ２０）と、前記基材（ｘ２０）上の１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）と、を備えたセキュリティ文書及び装飾物品をさらに提供する。

[033]装飾物品の代表例としては、高級品、化粧品パッケージ、自動車部品、電子／家電製品、家具、及びネイル物品が挙げられるが、これらに限定されない。或いは、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬは、例えばラベル等の補助基材上に設けられ、その結果、別個のステップにおいて、装飾物品に転写されるようになっていてもよい。

[034]セキュリティ文書としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。有価文書の代表例としては、紙幣、証書、チケット、小切手、証票、収入印紙及び納税印紙、契約書等、パスポート等の身分証明書類、身分証明書、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通乗車券、学位証書、又は権利証書等が挙げられ、紙幣、身分証明書類、権利付与書類、運転免許証、及びクレジットカードが好ましいが、これらに限定されない。用語「有価商品（ｖａｌｕｅ ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ ｇｏｏｄ）」は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食料品、電気／電子製品、織物又は宝飾品、すなわち偽造及び／又は違法複製に対する保護により、例えば本物の薬等のパッケージの内容物を保証すべき物品のパッケージ材料を表す。これらパッケージ材料の例としては、認証ブランドラベル、不正防止ラベル等のラベル及びシールが挙げられるが、これらに限定されない。なお、開示の基材、セキュリティ文書、及び装飾物品は、本発明の範囲を制限することなく、専ら例示目的で示している。或いは、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬは、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベル等の補助基材上に設けられ、その結果、別個のステップにおいて、セキュリティ文書に転写されるようになっていてもよい。

[035]本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬの形状は、連続的であってもよいし、不連続的であってもよい。一実施形態によれば、１つ又は複数のＯＥＬの形状は、１つ又は複数の証印、ドット、及び／又はラインを独立して表す。セキュリティ文書及び装飾物品が２つ以上すなわち２つ、３つ等のＯＥＬを備える実施形態の場合、前記ＯＥＬは、互いに隣り合っていてもよいし、互いに離隔していてもよいし、互いに部分的又は完全に重なっていてもよい。

[036]板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物、コーティング層（ｘ１０）、及び少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に含まれる。本明細書に記載の通り、本明細書に記載の方法は、コーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップｃ）を含み、板状磁性又は磁化可能顔料粒子が現在の位置及び配向に固定されて、前記層内で移動も回転もできなくなる。本明細書において、「コーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させる」は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの採用された位置及び配向に固定／停止されて、それ以上は移動も回転もできなくなることを意味する（当技術分野においては、粒子の「ピン止め」とも称する）。

[037]本明細書に記載の通り、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬは、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約５重量％～約４０重量％、より好ましくは約１０重量％～約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、少なくとも部分的に硬化したコーティング層の総重量に基づく。本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約５重量％～約４０重量％、より好ましくは約１０重量％～約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング層の総重量に基づく。

[038]本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、形状が非球状であることから、硬化バインダ材料の少なくとも一部が透明である入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有するように規定されている。本明細書において、用語「非等方的な反射性（ｎｏｎ－ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）」は、第１の角度からの入射放射線が粒子により特定の（視認／観察）方向（第２の角度）に反射される割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化に応じて視認／観察方向への反射の大きさが異なり得ることを示す。本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子の配向の変化によって当該粒子による反射が特定の方向に変化するように、好ましくは約２００～約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００～約７００ｎｍの波長範囲の一部又は全部における入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有する。当業者には既知の通り、前記従来の顔料粒子が粒子配向とは無関係に同じ色及び反射性を示すのに対して、本明細書に記載の磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子配向によって決まる反射、色、又は両者を示す点において従来の顔料と異なる。１次元粒子と考えられる針状顔料粒子とは対照的に、板状顔料粒子は、当該粒子の主要な延伸平面を規定するｘ軸及びｙ軸を有する（図１）。言い換えると、図１に示すように、板状顔料粒子は、寸法のアスペクト比が大きいことから２次元粒子と考えられてもよく、寸法Ｘ及びＹが寸法Ｚよりも実質的に大きい。また、当技術分野において、板状顔料粒子は、扁平粒子又は薄片とも称する。このような顔料粒子は、各顔料粒子を横断する最長寸法に対応する主軸Ｘと、Ｘに垂直で、同じく前記顔料粒子内に存在する第２の主軸Ｙとを用いて記述されるようになっていてもよい。

[039]本明細書に記載のＯＥＬは、本明細書に記載の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に磁気配向又は板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向が、粒子の主軸Ｘと平行なベクトルである板ベクトルにより規定され、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の板ベクトルが、互いに実質的に平行であり（例えば、図２Ａ参照）、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の板ベクトルが、粒子の位置において、基材（ｘ２０）の２次元表面に対して本明細書に記載の仰角γを有する。

[040]本明細書に記載の通り、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、本明細書に記載の仰角γで配向している。言い換えると、仰角は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の主軸Ｘと基材（ｘ２０）の２次元表面とがなす。

[041]板状磁性又は磁化可能顔料粒子が１軸配向の実施形態の場合、板状顔料粒子の配向は、粒子の主軸Ｘと平行なベクトルである板ベクトルにより規定され、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の板ベクトルは、互いに実質的に平行である。すなわち、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の主軸Ｘのみが互いに実質的に平行である（言い換えると、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有する）。

[042]板状磁性又は磁化可能顔料粒子が２軸配向の実施形態の場合、板状顔料粒子の配向は、粒子の主軸Ｘと平行なベクトルである板ベクトルにより規定され、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の板ベクトルは、互いに平行である。板状顔料粒子の配向は、粒子の第２軸Ｙと平行なベクトルである第２の板ベクトルによってさらに規定され、隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の板ベクトルは、互いに平行であり、前記隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の第２の板ベクトルは、互いに平行である。

[043]本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、若しくはこれらの２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、若しくはこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物、又はこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性（ｍａｇｎｅｔｉｃ）」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、赤鉄鉱（Ｆｅ_２Ｏ_３）、磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネット（Ｍ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３）等の鉄酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、Ｍは２価、Ｒは３価、Ａは４価の金属を表す。

[044]本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数で構成された磁気層Ｍを含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。前記磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の別の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の別の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）で独立して構成された層Ａ、金属及び金属合金、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成された層Ｂ、或いは上述のような１つ又は複数の層Ａ並びに上述のような１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上述の多層構造である板状磁性又は磁化可能顔料粒子の一般的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ／Ｂ多層構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、層Ａ、磁気層Ｍ、及び層Ｂは、上述の層から選定される。

[045]一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能粒子は、少なくとも一部が板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。光学可変顔料は、視角の変化に伴って明度の変化又は明度の変化及び色相の変化の組合せを示す顔料を表す。一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部は、金属色、より好ましくは銀色又は金色を示す粒子によって構成される。

[046]光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によってもたらされる公然のセキュリティは、本明細書に記載の光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、コーティング組成物、又はコーティング層を有する物品又はセキュリティ文書を人間の感覚のみで容易に検出、認識、及び／又はその考え得る偽造品から識別可能であるが、これに加えて、光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性をＯＥＬ認識用の機械可読ツールとして使用するようにしてもよい。したがって、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性を解析する認証プロセスにおいては、秘密又は準秘密のセキュリティフィーチャとして、光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性を同時に使用することにより、耐偽造性を向上させるようにしてもよい。

[047]ＯＥＬに板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を使用すると、前記ＯＥＬのセキュリティ文書用途におけるセキュリティフィーチャとしての意義が高くなる。このような材料は、セキュリティ文書印刷業のためのものであって、一般には市販されていないためである。

[048]板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、干渉被覆磁性顔料粒子、及びこれらの２つ以上の混合物から成る群から選択されるのがより好ましい。

[049]磁性薄膜干渉顔料粒子については、当業者に既知であって、例えば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０号、欧州特許第０６８６６７５号、国際公開第２００３／０００８０１号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３号、欧州特許第２４０２４０１号、国際公開第２０１９／１０３９３７号、国際公開第２０２０／００６２８６号、及びこれらの引用文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、並びに／又は１つ若しくは複数の多層ファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する顔料粒子を含むのが好ましい。

[050]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成り、反射体及び／又は吸収体が磁性層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体が、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。また、好ましい５層ファブリペロー多層構造は、誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体の多層構造から成り、磁気層は、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。

[051]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。

[052]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。

[053]１つ又は複数のファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する好ましい顔料粒子は、国際公開第２０１９／１０３９３７号に記載のものであって、反射体層、誘電体層、及び吸収体層を独立して含む少なくとも２つのファブリペロー構造の組合せから成り、反射体及び／若しくは吸収体層はそれぞれ、１つ若しくは複数の磁性材料を独立して含むことができ、並びに／又は、磁気層が２つの構造間に挟まれている。国際公開第２０２０／００６／２８６号及び欧州特許出願公開第３５８７５００号は、多層構造を有するさらに好ましい顔料粒子を開示している。

[054]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択され、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成されているのが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等の金属酸化物から成る群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）で独立して構成されている。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、金属硫化物、金属炭化物、及び金属合金から成る群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、及び金属合金から成る群から選択され、さらに好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成されている。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合は、磁性薄膜干渉顔料粒子がＣｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒ多層構造から成る吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の７層ファブリペロー多層構造を含むのが特に好ましい。

[055]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられ、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、約４０重量％～約９０重量％の鉄、約１０重量％～約５０重量％のクロム、及び約０重量％～約３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む１つ又は複数の磁気層を備える。人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子の一般的な例は、欧州特許第２４０２４０１号に見られるため、そのすべての内容を参照により本明細書に援用する。

[056]光学可変特性を示す好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。このような顔料粒子については、例えば国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６号は、高い輝度及び変色特性のほか、磁化可能性等の特定の特性を有する単層及び当該単層から得られた顔料粒子を開示している。この開示の単層及び前記単層の粉砕により得られた顔料粒子は、３次元架橋したコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列がＡ^１／Ｂ／Ａ^２の板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ^１及びＡ^２は、同じであってもよいし異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含む。Ｂは、層Ａ^１及びＡ^２から送られた光の全部又は一部を吸収するとともに磁気特性を付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列がＡ／Ｂであり、任意選択としてＣを含む板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。

[057]１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆磁性顔料粒子としては、１つ又は複数の層で被覆されたコアから成る群から選択される基材から成る構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、上記コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも一方は、磁性を有する。例えば、好適な干渉被覆顔料粒子は、上記のような磁性材料で構成されたコアであって、１つ又は複数の金属酸化物で構成された１つ又は複数の層で被覆された、前記コアを含むか、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物で構成されたコアから成る構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の別の層が存在していてもよい。

[058]本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、コーティング組成物及びコーティング層に生じ得る任意の劣化に対する保護並びに／又は前記コーティング組成物及びコーティング層への組み込みの容易化のために表面処理されていてもよく、通常は、腐食防止剤及び／又は湿潤剤が用いられるようになっていてもよい。

[059]本明細書に記載の方法は、ａ）本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップであり、前記放射線硬化性コーティング組成物が、コーティング層（ｘ１０）としての塗布を可能にする第１の液体状態で、顔料粒子が層内で移動及び回転可能な少なくとも部分的に未硬化（すなわち、湿潤）状態である、ステップを含む。本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、基材（ｘ２０）の表面に設けられることから、バインダ材料及び磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも含み、所望の印刷又は被覆機器上での処理を可能とする形態である。前記ステップａ）は、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセス、より好ましくはスクリーン印刷及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセス、さらに好ましくはフレキソ印刷により実行される。

[060]本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬの製造に選択される印刷プロセスに応じて、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物の好適な粘度値が使用される。スクリーン印刷インクは、２５℃で約５０ｍＰａ・ｓ～約３０００ｍＰａ・ｓの粘度を有し、フレキソインクは、２５℃で約５０ｍＰａ・ｓ～約２０００ｍＰａ・ｓの粘度を有し、グラビアインクは２５°で約５０ｍＰａ・ｓ～約１０００ｍＰａ・ｓの粘度を有する。粘度値が１００ｍＰａ・ｓ～３０００ｍＰａ・ｓのセキュリティインクの粘度測定は、Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ粘度計（モデル「ＲＶＤＶ－Ｉ Ｐｒｉｍｅ」）により実行され、スピンドル及び回転速度（ｒｐｍ）は、１００～５００ｍＰａ・ｓの粘度値に関してスピンドル２１が１００ｒｐｍ、５００ｍＰａ・ｓ～２５００ｍＰａ・ｓの粘度値に関してスピンドル２７が１００ｒｐｍ、２５００ｍＰａ・ｓ～３０００ｍＰａ・ｓの粘度値に関してスピンドル２７が５０ｒｐｍとなる粘度範囲に従って適応される。粘度値が１０ｍＰａ・ｓ～１００ｍＰａ・ｓのセキュリティインクの粘度測定は、２５℃及び１０００ｓ^－１において、円錐面形状で直径が４０ｍｍのＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓの回転粘度計ＤＨＲ－２により実行される。

[061]本明細書に記載の方法は、ｂ）本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、コーティング層（ｘ１０）を前記磁界に曝露することにより、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップをさらに含む。本明細書に記載のステップｂ）において、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）は、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’（ｉは、２、３、４等に対応する））に設けられ、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αは、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である。

[062]少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴが板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さい（Ｔ＜ｄ５０）という要件のほか、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴは、ｄ５０＊ｓｉｎ（α）よりも小さいのが好ましい（Ｔ＜ｄ５０＊（ｓｉｎα））。

[063]一実施形態によれば、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における板状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び前記粒子の仰角γは、（図３Ａ～図３ＤでエリアＡ及びＡ’として示す）１つ又は複数のエリアにおいて、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露することにより得られるが、この磁界は、実質的に不均一である（すなわち、（１つ又は複数の）関心エリア全体で磁界が実質的に一定の大きさ及び方向を有していない（１軸配向の場合））、又は、実質的に平面に閉じ込められることがなく（２軸配向の場合）、角度αは、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の磁界の磁力線の接線とがなし、前記角度αは、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である。２つ以上のエリア（例えば、図３Ａ及び図３Ｃに示す２つのエリア）において板状磁性又は磁化可能顔料粒子が磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露される場合は、２つの角度α及びα’が記載され、角度α’が１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる。２つ以上のエリア（例えば、図３Ａ及び図３Ｃに示す２つのエリア）において板状磁性又は磁化可能顔料粒子が磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露される一実施形態によれば、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）は、角度α及びα’で前記２つ以上にエリアに設けられ、角度αが１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）である場合は、角度α’が１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）である。

[064]磁界発生装置（ｘ３０）の磁界が実質的に不均一である１つ又は複数のエリアにおける板状磁性又は磁化可能顔料粒子の曝露により得られるＯＥＬは、配向ステップにおいて、前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が本明細書に記載の異なる角度αとなるが（すなわち、エリアＡの角度αがエリアＡ’の角度α’と異なる）、これらの角度は、本明細書に記載の範囲内の値を有することが前提となる。板状磁性又は磁化可能顔料の配向に適し、Ａ及びＡ’として表示された１つ又は複数のエリアにおいて磁界が実質的に不均一となる磁界発生装置の一例は、図３に示すとともに後述する通り、磁気軸が基材（ｘ２０）の表面と実質的に平行な棒状双極子磁石である。板状磁性又は磁化可能顔料の配向に適し、１つ又は複数のエリアにおいて磁界が実質的に不均一となる磁界発生装置の他の例については、後述の通り、米国特許第７，０４７，８８３号の図５Ａ、図５Ｂ、図９Ｂ～図９Ｅ、図１０Ａ、及び図１０Ｂに開示されている。本発明は、曝露ステップが不均一な磁界により実行される場合であっても、広い表面で顔料の配向が均一なＯＥＬを生成するための方法を提供するため都合が良い。

[065]一実施形態によれば、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における板状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び前記粒子の仰角γは、（図４でエリアＡとして示す）１つ又は複数のエリアにおいて、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露することにより得られるが、この磁界は、実質的に均一である（すなわち、（１つ又は複数の）関心エリア全体で磁界が実質的に一定の大きさ及び方向を有する（１軸配向の場合））、又は、実質的に平面に閉じ込められており（２軸配向の場合）、角度αは、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の磁界の磁力線の接線とがなし、前記角度αは、１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である。磁界発生装置（ｘ３０）の磁界が実質的に均一である１つ又は複数のエリアにおける板状磁性又は磁化可能顔料粒子の曝露により得られるＯＥＬは、配向ステップにおいて、前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に、本明細書に記載の同じ角度αとなる。

[066]本明細書に記載のステップｂ）は、本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸又は２軸配向させるために実行される。主軸のみが磁界の制約を受けるように磁性又は磁化可能顔料粒子が配向する１軸配向とは対照的に、２軸配向を実行することは、２つの主軸Ｘ及びＹが制約を受けるように板状磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させることを意味する。すなわち、板状磁性又は磁化可能顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面内に長軸を有し、顔料粒子の面内に直交する短軸を有するものと考えられる。板状磁性又は磁化可能顔料粒子の軸Ｙ及びＹはそれぞれ、磁界に従って配向する。実用上は、これにより、空間中で互いに近く隣接する板状磁性顔料粒子が実質的に相互平行となる。言い換えれば、２軸配向によって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が（全方向に）隣接する板状磁性又は磁化可能顔料粒子の平面に対して実質的に平行となるように配向するように、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が整列される。

[067]一実施形態によれば、ステップｂ）は、本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸配向させるために実行される。本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１軸配向させるための好適な磁界発生装置には制限がない。

[068]図３Ａ～図３Ｄに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸配向させるための好適な磁界発生装置（３３０）は、磁気軸が基材（ｘ２０）の表面と実質的に平行な棒状双極子磁石から成る。図３Ａ～図３Ｄに示すように、基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、（エリアＡ及びＡ’として示す）１つ又は複数のエリアにおいて、本明細書に記載の磁界発生装置（３３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露されるが、この磁界は、実質的に不均一であり、コーティング層（３１０）を有する基材（３２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つ又は複数のエリアに設けられている。

[069]図４に示すとともに以下の実施例に使用する一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備えた長方形アセンブリから成る。基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、（点線の長方形Ａとして示す）１つ又は複数のエリアにおいて、磁界発生装置（４３０）の磁界（Ｎ極からＳ極へと向かう矢印付き線として示す磁力線）に曝露されるが、この磁界は、実質的に均一であり、磁力線は、前記エリアにおいて互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を有する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つ又は複数のエリアに設けられている。図４に示す磁界発生装置（４３０）は、同じ磁場方向及び同じ長さを有する２つの離隔した棒状双極子（Ｍ１、Ｍ２）と、同じ長さを有する２つの離隔した磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備え、これらが長方形アセンブリとして配置されている。Ｍ１は、Ｍ２と隣り合わずに対向し、Ｐ１は、Ｐ２と隣り合わずに対向し、Ｐ１は、Ｐ２から、Ｍ１／Ｍ２の長さに対応する距離に配置されている。

[070]別の実施形態によれば、米国特許第７，０４７，８８３号の図５Ａ、図５Ｂ、図９Ｂ～図９Ｅ、図１０Ａ、及び図１０Ｂに示すような板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）において、基材上のコーティング層中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数のエリアにおいて磁界発生装置の磁界に曝露されるが、この磁界は、実質的に不均一であり、コーティング層（４１０）を有する基材は、本明細書に記載の角度αで前記１つ又は複数のエリアに設けられている。特に、米国特許第７，０４７，８８３号の図５Ａ及び図５Ｂに示す磁界発生装置は、Ｎ極を基材に向けた状態で磁性基部６２に配置された２つの離隔した磁石８４を備え、米国特許第７，０４７，８８３号の図９Ｂに示す磁界発生装置は、磁石１４０を備え、顔料物品が磁石軸に対するオフセット位置で配置されており、米国特許第７，０４７，８８３号の図９Ｃに示す磁界発生装置は、２つの磁石１４２と、菱形状の断面を有する１つの磁石１４２’と、を備え、２つの磁石１４２がＮ極を基材に向ける一方、両者間の磁石１４２’がＳ極を基材に向けており、米国特許第７，０４７，８８３号の図９Ｄに示す磁界発生装置は、２つの磁石１４４と、屋根形状、六角形、円形、台形、又は他の断面を有する１つの磁石１４４’を有する１つの磁石１４２’と、を備え、２つの磁石１４４がＮ極を基材に向ける一方、両者間の磁石１４４’がＳ極を基材に向けており、米国特許第７，０４７，８８３号の図９Ｅに示す磁界発生装置は、５つの磁石（Ｎ極を基材に向けた菱形状の磁石である第１の磁石１４２、Ｓ極を基材に向けた長方形の磁石である第２の磁石１４６、Ｎ極を基材に向けた円形頂部の磁石である第３の磁石１４８、Ｓ極を基材に向けた屋根形状の磁石である第４の磁石１５０、及びＮ極を基材に向けた同じく屋根形状の磁石である第５の磁石１５２）を備える。

[071]別の実施形態によれば、ステップｂ）は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために実行される。本明細書に記載の方法がコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露することにより、磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるステップを含む実施形態の場合、コーティング層（ｘ１０）は、前記磁界発生装置に対して２回以上曝露されるようになっていてもよい。本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させるための好適な磁界発生装置には制限がない。当業者が把握する通り、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向には、方向及び／又は強度が変化することにより、両主軸（Ｘ軸及びＹ軸）が整列するまで粒子を振動させる動的な磁界（すなわち、時間可変／時間依存磁界）を必要とする。言い換えると、２軸配向には、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）の磁界発生装置に対する非同伴移動を必要とする。

[072]国際公開第２０１８／０１９５９４号の図１０Ａ及び図１０Ｂに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、千鳥状又はジグザグ状に配置された少なくとも４つの磁石（Ｍ１～Ｍ４）の線形配列から成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。欧州特許出願公開第２１５７１４１号は、図５において、類似の好適な磁界発生装置を開示しており、この磁界発生装置は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部の２軸配向に用いられるようになっていてもよく、千鳥状又はジグザグ状に配置された少なくとも３つ、好ましくは少なくとも４つの磁石の線形配列から成る。

[073]国際公開第２０１８／０１９５９４号の図８Ａ及び図８Ｂに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、磁場方向が反対の２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[074]国際公開第２０１８／０１９５９４号の図７Ａ及び図７Ｂに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、磁場方向が同一の２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[075]国際公開第２０１８／０１９５９４号の図３Ａに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、５つの双極子磁石（Ｍ１～Ｍ５）を含むハルバッハアレイから成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[076]国際公開第２０１６／０８３２５９号の図１２Ａに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置は、磁石ワイヤコイル（図示せず）に囲まれた磁気棒をそれぞれ備えた４つの構造体（Ｍ１～Ｍ４）を含むハルバッハ円筒アセンブリから成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[077]同時係属の欧州特許出願第２０１７６５０６．２号の図２Ａに示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置（４３０）は、第１の棒状双極子磁石（Ｍ４）及び２つの第２の棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ６）を含む第１の集合と、第１の棒状双極子磁石（Ｍ５）及び２つの第２の棒状双極子磁石（Ｍ３、Ｍ８）を含む第２の集合と、第１の一対の第３の棒状双極子磁石（Ｍ２、Ｍ７）と、を含む８つの棒状双極子磁石（Ｍ１～Ｍ８）のアセンブリから成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[078]同時係属の欧州特許出願第２０１９４０６０．８号の図５Ａ１～図５Ａ３に示す一実施形態によれば、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるための好適な磁界発生装置は、Ｎ－Ｓ磁場方向が交互で一列に配置された９つの棒状双極子磁石（Ｍ１～Ｍ５）を含むアセンブリから成るが、これは、コーティング層を有する基材が本明細書に記載の角度α値で装置の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。

[079]一実施形態によれば、本明細書に記載のステップｂ）は、国際公開第２０１５／０８６２５７号に記載の２つの磁気配向ステップから成り、前記ステップは、ｉ）板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）を上述又は国際公開第２０１５／０８６２５７号に記載のような第１の磁界発生装置の動的な磁界に曝露することにより、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるステップと、ｉｉ）コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載のような第２の磁界発生装置の静的な磁界に曝露することにより、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を１軸再配向させるステップと、から成るが、これは、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が本明細書に記載の角度α値で第２の磁界発生装置の第２の磁界の１つ又は複数のエリアに設けられていることが前提となる。これら２つのステップｉ）及びｉｉ）が実行される場合は、少なくとも第２のステップｉｉ）の使用により、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）を本明細書に記載の角度α値で本明細書に記載の１つ又は複数のエリアに設けることによって、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させる。

[080]本明細書に記載の磁性又は磁化可能顔料粒子の磁気配向の間、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）は、１つ又は複数の非金属材料で構成された非磁性支持板（ｘ４０）上に配設されるようになっていてもよい。

[081]本明細書に記載の方法は、ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、ステップｃ）コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、コーティング層（ｘ１０）中の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を固定して、厚さＴを有する少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップをさらに含む。「一部同時」によって、両ステップの一部が同時に実行される。すなわち、各ステップの実行タイミングが部分的に重なることになる。本明細書に記載の背景において、配向ステップｂ）と一部同時に硬化が実行される場合は、ＯＥＬの完全又は部分的な硬化又は固化の前に顔料粒子が配向する時間を有するように、配向後に硬化が有効となることが了解される必要がある。

[082]ステップｃ）が本明細書に記載のステップｂ）の後に実行され場合、前記ステップ間のタイミングは、好ましくは約０．１秒～約１．５秒、より好ましくは約０．１秒～０．５秒である。

[083]本明細書に記載の方法が本明細書に記載のＯＥＬを生成し、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する。

[084]好適な硬化ユニット（ｘ５０）には、化学線源として、高出力発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ又は中圧水銀アーク（ＭＰＭＡ）若しくは金属蒸気アークランプ等のアーク放電ランプを備えた紫外・可視光硬化用機器を含む。本明細書に記載の選択的硬化ユニットは、コーティング層の一部として形成されるパターンに対応する１つ又は複数のボイドを含む１つ又は複数の固定又は取り外し可能フォトマスクを備えていてもよい。１つ又は複数の選択的硬化ユニットは、欧州特許出願公開第２４６８４２３号に開示の走査レーザビーム、国際公開第２０１７／０２１５０４号に開示の発光ダイオード（ＬＥＤ）のアレイ、又は国際公開第２０２０／１４８０７６号に開示の個別アドレス指定可能な化学線放出器のアレイを含む化学線ＬＥＤ源等、アドレス指定可能であってもよい。

[085]図２Ａ～図２Ｅは、厚さ（Ｔ、Ｔ’等）を有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた１つ又は複数の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０、２４１）を備えた本明細書に記載のＯＥＬの断面を開示している。

[086]例えば図２Ａに示す一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、厚さＴを有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２１０）を備え、１つ又は複数の領域における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、顔料粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する。

[087]例えば図２Ｂに示す一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、厚さＴを有し、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）に、板状磁性又は磁化可能顔料粒子を１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）に含む単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）を独立して備え、１つ又は複数の第１の領域（２４０－ａ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、１つ又は複数の第２の領域（２４０－ｂ）における実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有する。

[088]例えば図２Ｃ～図２Ｆに示す一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）を独立して備え、実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有しており、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）をさらに備え、実質的にすべての板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有しており、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）における顔料粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における顔料粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）は、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）に少なくとも部分的又は完全に重なるか（図２Ｃ及び図２Ｄ参照）、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）に隣り合うか（図２Ｅ参照）、又は少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ１０）から離隔している（図２Ｆ参照）。

[089]図２Ｃは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に部分的に重なり、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の顔料粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[090]図２Ｄは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）に完全に重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[091]図２Ｅは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）に隣り合い、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[092]図２Ｆは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）から離隔しており、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[093]図２Ｇは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）に部分的に重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[094]図２Ｈは、厚さＴを有し、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）と、厚さＴ’を有し、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）と、を備えたＯＥＬの断面を模式的に示しており、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）が少なくとも部分的に硬化したコーティング層（２４０）に完全に重なり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における実質的にすべての第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における実質的にすべての第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が実質的に同じ別の仰角γ’を有し、前記仰角γ及び別の仰角γ’が互いに相違及び／又は非同一平面であり、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（２４０）における第１の粒子がＴよりも大きなｄ５０値を有し、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（２４１）における第２の粒子がＴ’よりも大きなｄ５０値を有する。

[095]一実施形態によれば、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）で構成された本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬ（例えば、図２Ａ参照）を生成するための本明細書に記載の方法は、
ａ）本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、コーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
ｂ）本明細書に記載のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露するステップであり、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が本明細書に記載の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、本明細書に記載の角度αが１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部をそれぞれの採用された位置及び配向に固定して、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さな厚さＴを有する単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップと、
を含む。

[096]別の実施形態によれば、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）で独立して構成され、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に含む本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬを生成するための本明細書に記載の方法であり、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）が、１つ又は複数の第１の領域（ｘ４０－ａ）並びに１つ又は複数の第２の領域（ｘ４０－ｂ）を含む（例えば、図２Ｂ参照）、方法は、
ａ）本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、１つ又は複数の第１の領域（ｘ１０－ａ）並びに１つ又は複数の第２の領域（ｘ１０－ｂ）を含むコーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
ｂ）本明細書に記載のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０－ａ）の磁界に曝露するステップであり、コーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が本明細書に記載の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、本明細書に記載の角度αが１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、単一のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数の第１の領域（ｘ１０ａ）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に選択硬化させることにより、板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部をそれぞれの採用された位置及び配向に固定するステップと、
ｄ）単一のコーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）の磁界に曝露することにより、１つ又は複数の第２の領域（ｘ１０ｂ）において、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の第２の磁界の磁力線の接線とがなす角度α’が、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）が、ステップｂ）の磁界発生装置（ｘ３０－ａ）と同異いずれかであり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる、ステップと、
ｅ）ステップｄ）と一部同時又はステップｄ）の後に、単一のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップであり、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の第１の領域（ｘ４０－ａ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の第２の領域（ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する、ステップと、
を含む。

[097]別の実施形態によれば、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）に含み、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）に含む本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬを生成するための本明細書に記載の方法であり、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）が、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）に少なくとも部分的又は完全に重なる（例えば、図２Ｃ、図２Ｄ、図２Ｇ、及び図２Ｈ参照）、方法は、
ａ）本明細書に記載の第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、第１のコーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である第１の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
ｂ）本明細書に記載のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０－ａ）の磁界に曝露するステップであり、第１のコーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が本明細書に記載の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、本明細書に記載の角度αが１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、第１のコーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、第１の板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部をそれぞれの採用された位置及び配向に固定して、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）を生成するステップと、
ｄ）ステップｃ）の後に、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するような第１の液体状態である第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）に部分的（図２Ｃ若しくは図２Ｇ）又は完全（図２Ｄ若しくは図２Ｈ）に塗布するステップであり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同異いずれかである、ステップと、
ｅ）第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）の第２の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、第２のコーティング層（ｘ１１）を前記第２の磁界に曝露することにより、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、第２のコーティング層（ｘ４１）を有する基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の第２の磁界の磁力線の接線とがなす角度α’が、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）が、ステップｂ）の磁界発生装置と同異いずれかであり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる、ステップと、
ｆ）第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界に曝露するステップｅ）と一部同時又はステップｅ）の後に、第２のコーティング層（ｘ１１）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、第２のコーティング層（ｘ１１）において第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定して、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）を生成するステップであり、隣接する磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）における磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子と異なる仰角を有する、ステップと、
を含む。

[098]別の実施形態によれば、磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）に含み、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）に含む本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬを生成するための本明細書に記載の方法であり、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）が、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）に隣り合うか（例えば、図２Ｅ参照）、又は、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）から離隔している（図２Ｆ）、方法は、
ａ）本明細書に記載の第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、第１のコーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である第１の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
ｂ）本明細書に記載の第１のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露するステップであり、第１のコーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が本明細書に記載の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、本明細書に記載の角度αが１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と一部同時又はステップｂ）の後に、第１のコーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、第１の板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部をそれぞれの採用された位置及び配向に固定して、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）を生成するステップと、
ｄ）ステップｃ）の後に、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するような第１の液体状態である第２の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、前記第２のコーティング層（ｘ１１）が、コーティング層（ｘ４０）に隣り合うか（図２Ｅ）、又は、コーティング層（ｘ４０）から離隔しており（図２Ｆ）、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同異いずれかである、ステップと、
ｅ）第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界発生装置の第２の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において前記第２の磁界に曝露することにより、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、第２のコーティング層（ｘ４１）を有する基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の第２の磁界の磁力線の接線とがなす角度α’が、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）が、ステップｂ）の磁界発生装置と同異いずれかであり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる、ステップと、
ｆ）第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界に曝露するステップｅ）と一部同時又はステップｅ）の後に、第２のコーティング層（ｘ１１）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、第２のコーティング層（ｘ１１）において第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定して、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）を生成するステップであり、隣接する磁気配向された第１の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ４０）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における磁気配向粒子が、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）における磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子と異なる仰角を有する、ステップと、
を含む。

[099]本明細書に記載のＯＥＬは、場合により、本明細書に記載の磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）及び少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）に含み、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の厚さＴ（例えば、図２Ａ～図２Ｅ参照）は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さく、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）の厚さＴ’（例えば、図２Ｃ～図２Ｅ参照）は、板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さい。通常、本明細書に記載の板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、（直接光学粒度測定法による測定の場合に）約５μｍ～約３０μｍのｄ５０サイズを有し、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）は、約３μｍ～約３０μｍの厚さ（特に、スクリーン印刷により塗布された層の場合は約６μｍ～約３０μｍの厚さ、グラビア印刷により塗布された層の場合は約３μｍ～約２０μｍの厚さ、フレキソ印刷により塗布された層の場合は約３μｍ～約２０μｍの厚さ）を有するが、これは、前記厚さが板状磁性又は磁化可能顔料粒子のｄ５０値よりも小さいことが前提となる。少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０、ｘ４１等）の厚さ（Ｔ、Ｔ’等）は、前記厚さ及び粒子のｄ５０値の結果として、粒子に最大仰角γを採用させることにより、磁界発生装置の磁界への曝露において、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の仰角γに直接的な影響を及ぼす。これにより、磁界の均一性／不均一性に関わらず、磁界発生装置を自由に選定して上述のＯＥＬを生成可能となるため都合が良い。

[0100]本明細書に記載の通り、ＯＥＬは、基材上の少なくとも部分的に硬化したコーティング層に磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、紙又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー等のその他繊維材料（織布及び不織布繊維材料を含む）、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの２つ以上の混合物又は組合せから成る群から選択するのが好ましい。代表的な紙、紙状、又はその他の繊維材料は、アバカ、綿、麻、木材パルプ、及びこれらの混合等、様々な繊維で構成されるが、これらに限定されない。当業者には周知の通り、紙幣には綿及び綿／麻混合が好ましく、紙幣以外のセキュリティ文書には、木材パルプが一般的に用いられている。別の実施形態によれば、本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの２つ以上の混合物若しくは組合せに基づく。プラスチック及びポリマーの好適な例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及び２軸配向ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）を含むポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン ２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）等のポリエステル、並びにポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等が挙げられる。基材としては、例えばＴｙｖｅｋ（登録商標）という商標で販売されているスパンボンドオレフィン繊維も使用可能である。金属化プラスチック又はポリマーの代表例としては、表面に連続的又は不連続的に配設された金属を有する上述のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の代表例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、これらの合金、及びこれら金属の２つ以上の組合せが挙げられるが、これらに限定されない。上述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われるようになっていてもよい。複合材の代表例としては、紙及び上記のような少なくとも１つのプラスチック若しくはポリマー材料の多層構造又は積層並びに上記のような紙状又は繊維材料に組み込まれたプラスチック及び／若しくはポリマー繊維等が挙げられるが、これらに限定されない。当然のことながら、基材には、充填剤、サイジング剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤等、当業者に既知の別の添加剤を含むことも可能である。例えばネイルラッカー等の装飾又は化粧を目的として、本明細書に記載のＯＥＬが使用される場合、前記ＯＥＬは、爪、人工爪、又は動物若しくは人間の他の部位を含む他種の基材上に生成されるようになっていてもよい。本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、ウェブ、シート、スレッドリール、フィルムリール、ロールのラベル、又はラベルストックの形態であってもよい。

[0101]本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬがセキュリティ文書上にある場合は、前記セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くすることを目的として、上記基材は、印刷、被覆、レーザマーキング、又はレーザ穿孔証印、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組合せを備えていてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くするという同じ目的で、上記基材は、１つ又は複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含んでいてもよい。

[0102]一実施形態によれば、本明細書に記載の基材（ｘ２０）並びに１つ若しくは複数のＯＥＬを含むセキュリティ文書及び装飾物品は、１つ又は複数の下塗層をさらに備え、前記１つ又は複数の下塗層は、基材（ｘ２０）と１つ又は複数のＯＥＬとの間に存在する。これにより、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬの品質が向上するか、又は密着性が促進される可能性がある。このような下塗層の例は、国際公開第２０１０／０５８０２６号に見ることができる。一実施形態によれば、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬは、基材（ｘ２０）と少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）との間に存在する１つ又は複数の印刷証印をさらに含んでいてもよい（言い換えると、１つ又は複数のＯＥＬが１つ又は複数の証印に少なくとも部分的に重なる）。本明細書に記載の１つ若しくは複数のＯＥＬ並びに本明細書に記載の１つ若しくは複数の証印がそれぞれ、証印の形状を独立して有するのが好ましい。本明細書において、用語「証印（ｉｎｄｉｃｉｕｍ及びｉｎｄｉｃｉａ）」は、識別マーキング、標識、又はパターンから成る（１つ又は複数の）連続層及び不連続層を意味するものとする。本明細書に記載の証印は、コード、記号、英数字記号、モチーフ、幾何学的パターン（例えば、円、三角形、並びに正多角形若しくは不規則な多角形）、文字、単語、数字、ロゴ、図面、肖像画、及びこれらの組合せから成る群から選択される。コードの例としては、符号化英数字データ、１次元バーコード、２次元バーコード、ＱＲコード、データマトリックス、及びＩＲ読み取りコード等の符号化マークが挙げられる。本明細書に記載の１つ又は複数の証印は、固体証印及び／又はラスター証印であってもよい。

[0103]本発明は、本明細書に記載の１つ若しくは複数のＯＥＬ並びに基材（ｘ２０）と少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）との間に存在する１つ若しくは複数の印刷証印を生成するための方法であって、本明細書に記載のステップａ）の前に、本明細書に記載の１つ又は複数の証印の形態の組成物を塗布するステップと、前記組成物を少なくとも部分的に硬化又は固化させるステップと、をさらに含む、方法を提供する。本明細書に記載の１つ又は複数の証印の形態の組成物を塗布するステップは、カーテン被覆、スプレー被覆、エアロゾルジェット印刷、電気流体力学的印刷、及びインクジェット印刷等の非接触流体マイクロディスペンシングプロセスにより実行されるようになっていてもよいし、オフセット、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、凹版印刷（当技術分野においては銅版凹版印刷、鋼製金型凹版印刷とも称する）から成る群から選択される印刷プロセスにより実行されるようになっていてもよい。本発明は、本明細書に記載の１つ若しくは複数のＯＥＬ並びに基材（ｘ２０）と少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）との間のほか、例えば図２Ｅに示す２つの少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０、ｘ４１）を備えたＯＥＬの場合、基材（ｘ２０）と少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）との間に存在する１つ若しくは複数の印刷証印を生成するための方法であって、本明細書に記載のステップａ）の前に、本明細書に記載の１つ又は複数の証印の形態の組成物を塗布するステップと、前記組成物を少なくとも部分的に硬化又は固化させるステップと、をさらに含む、方法を提供する。

[0104]本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬを備えたセキュリティ文書又は装飾物品の汚染耐性若しくは耐化学性及び清浄度ひいては流通寿命を向上させる目的又はその美的外観（例えば、光沢）を改良する目的で、１つ又は複数のＯＥＬ上には、１つ又は複数の保護層が塗布されていてもよい。１つ又は複数の保護層が存在する場合、当該層は通常、保護ワニスで構成されている。保護ワニスは、放射線硬化性組成物、熱乾燥組成物、又はこれらの任意の組合せであってもよい。１つ又は複数の保護層は、好ましくは放射線硬化性組成物、より好ましくは紫外・可視光硬化性組成物である。また、保護層は通常、ＯＥＬの形成後に塗布される。

[0105]本明細書に記載のＯＥＬは、基材（ｘ２０）上に直接設けて、永久に残るようにしてもよい（例えば、紙幣用途又はラベル用途の場合）。或いは、製造のための暫定的な基材上にＯＥＬを設け、後でＯＥＬを取り外すようにしてもよい。

[0106]或いは、１つ若しくは複数のＯＥＬ又は基材（ｘ２０）上に１つ又は複数の接着層が存在していてもよく、前記１つ又は複数の接着層は、１つ若しくは複数のＯＥＬが設けられた面と反対側の基材面並びに／又は１つ若しくは複数のＯＥＬと同じ面で１つ若しくは複数のＯＥＬの上に存在していてもよい。したがって、１つ若しくは複数のＯＥＬ又は基材に１つ又は複数の接着層が塗布されていてもよく、前記１つ又は複数の接着層は、硬化ステップの完了後に塗布される。このような物体は、機械類や大きな労力を伴う印刷等のプロセスなく、あらゆる種類の文書又は他の物品に取り付けられるようになっていてもよい。或いは、本明細書に記載の１つ又は複数のＯＥＬを備えた本明細書に記載の基材は、独立した転写ステップにおいて文書又は物品に適用可能な転写箔の形態であってもよい。この目的のため、基材には剥離コーティングが設けられ、その上において、１つ又は複数のＯＥＬが生成される。

[0107]実施例及び比較例は、表１に記載の調合のＵＶ・可視硬化性フレキソ印刷インク並びに後述の第１及び第２の磁性体アセンブリを使用することにより実行した。

[0108]サンプルごとに、以下の方法によって、実施例Ｅ１～Ｅ３及び比較例Ｃ１～Ｃ３の準備を行った。
ａ）上述の通り、表１に記載のＵＶ・可視硬化性インクを基材（ｘ２０）に塗布して、コーティング層（ｘ１０）を形成した。
ｂ）（図３Ａ及び図４でＡ／Ａ’として示す）１つ又は２つのエリアにおいて、コーティング層（ｘ１０）を上述の磁界発生装置（ｘ３０）の磁界に曝露することにより、板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させた。
ｃ）磁界への曝露と一部同時又は磁界への曝露の後（表２参照）、コーティング層（ｘ１０）を硬化させて、表２に記載の仰角γを有する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ４０）を形成した。

[0109]図３Ａ及び図４は、磁界発生装置（ｘ３０）の磁界の（Ａ、Ａ’として示す）１つ又は複数のエリアにおける１つ又は複数のエリアにおいて、顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）が前記磁界に曝露される異なる例を模式的に示しており、この磁界は、不均一（図３Ａ）又は実質的に均一（図４参照）であり、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と図３Ａの２つのエリアＡ及びＡ’又は図４の１つのエリアＡ内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αは、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は約１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である。

[0110]図５Ａ及び図５Ｂには、少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）中の顔料粒子の仰角γの変化を示しており、ｘ軸（ｍｍ）が、少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の縁部からの距離に対応し、１５ｍｍという値が、図３Ａに示す磁界発生装置の中心及び少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の中心に対応する。図５Ａ及び図５Ｂに示す実施例に見られるように、０ｍｍ～２ｍｍ及び２８ｍｍ～３０ｍｍの対応する角度γは、コノスコープ散乱測定法では測定できなかった。

[0111]図３Ａに示す磁界発生装置の場合について、粒子の位置における基材（ｘ２０）の２次元表面と１つ又は複数のエリア内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αをソフトウェアＶｉｚｉｍａｇ ３．１９で計算したが、これを表３に記載する。

ステップａ）
[0112]表１に記載のＵＶ・可視硬化性インクをＰＥＴ（ＦｏｌｅｘのＢＧ７１カラーレーザプリンタ＆コピー機用ＯＨＰフィルム（１００マイクロメートル厚、４５ｍｍ×３０ｍｍ））（ｘ２０）に塗布してコーティング層（４５ｍｍ×３０ｍｍ）（ｘ１０）を形成した。前記塗布ステップは、Ｃ１～Ｃ３に対してコーティングバーＮｒ ４（公称コーティング層厚３６μｍ、硬化コーティング層の測定コーティング層厚２４μｍ）、Ｅ１～Ｅ３に対してコーティングバーＮｒ ２（公称コーティング層厚１２μｍ、硬化コーティング層の測定コーティング層厚８μｍ）を使用することにより、半自動ラボ用コータ（Ｋ１０１コントロールコータ（ＲＫ Ｐｒｉｎｔ））で実行した。

[0113]実施例Ｅ１～Ｅ３及び比較例Ｃ１～Ｃ３に使用したインクは、フレキソ印刷に適した粘度であるため、フレキソプロセスを模倣した塗布方法を使用した。

ステップｂ）
不均一磁界内での配向用の磁界発生装置（図３Ａ）
[0114]図３Ａに示す磁界発生装置（３３０）（図面の明瞭化のため、縮尺通りには示していない）を使用して、顔料粒子を配向させた。磁界発生装置（３３０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成され、３０ｍｍ（Ｌ１）×３０ｍｍ（Ｌ２）×６ｍｍ（Ｌ３）の寸法を有する棒状双極子磁石（Ｍ１）とした。基材（３２０）に対向する磁界発生装置（３３０）の表面とコーティング層（３１０）との間の距離は、６ｍｍとした。

均一磁界内での配向用の磁界発生装置（図４）
[0115]図４に示す磁界発生装置（４３０）（図面の明瞭化のため、縮尺通りには示していない）を使用して、顔料粒子を配向させた。磁界発生装置（４３０）は、２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備えるものとした。

[0116]２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成され、４０ｍｍ（Ｌ１）×４０ｍｍ（Ｌ２）×１０ｍｍ（Ｌ３）の寸法を有するものとした。

[0117]２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）は、互いに約４０ｍｍの距離（ｄ１）に配置した。２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）それぞれの磁気軸は、前記磁石の長さ（Ｌ１）と実質的に平行であり、前記２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）の磁場方向は、同じ方向を指すものとした。

[0118]２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）はそれぞれ、６０ｍｍ（Ｌ４）×４０ｍｍ（Ｌ５）×３ｍｍ（Ｌ６）の寸法を有するものとした。２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）は、鉄（アームコ（ＡＲＭＣＯ）（登録商標））で構成した。

[0119]２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）は、磁界が実質的に均一で、磁力線が互いに実質的に平行なエリアＡから成る直方体のボイドを中央に有する直方体を形成することにより、２つ磁極片（Ｐ１、Ｐ２）間の距離（ｄ２）が約４０ｍｍ（すなわち、２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）の長さ（Ｌ１））となり、２つの棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）間の距離が４０ｍｍとなるように配設した。

[0120]基材（４２０）及びコーティング層（４１０）は、粒子の位置における基材（４２０）の２次元表面と磁界が均一なエリアＡ内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αが約３０°の値となるようにして、図４に示す磁界発生装置（４３０）のボイドの中央に配設した。

ステップｃ）
[0121]磁界発生装置（ｘ３０）の磁界への曝露と一部同時又は磁界への曝露の後（表２参照）、ＰｈｏｓｅｏｎのＵＶ－ＬＥＤランプ（Ｔｙｐｅ ＦｉｒｅＦｌｅｘ（５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２））への約０．５秒間の曝露により、コーティング層（ｘ１０）を硬化させて、表２に記載の仰角γを有する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を形成した。

[0122]実施例Ｅ２及び比較例Ｃ２の場合は、ＵＶ－ＬＥＤランプを磁界発生装置（３３０）の縁部から１０ｃｍの距離に配設した。すなわち、基材（３２０）を磁界発生装置（３３０）から離してＵＶ－ＬＥＤランプに曝露した。また、ＵＶ－ＬＥＤランプとコーティング層（３２０）との間の距離を約１ｃｍ、曝露時間を約０．５秒とした。

[0123]実施例Ｅ３及び比較例Ｃ３の場合は、約１秒後、図４に示すような硬化ユニット（４５０）（ＵＶ－ＬＥＤランプ（ＰｈｏｓｅｏｎのＦｉｒｅＦｌｙ（３９５ｎｍ、４Ｗ／ｃｍ^２）））によって、コーティング層（６１０）を少なくとも部分的に硬化させた。

コノスコープ散乱測定法による仰角の測定
[0124]国際公開第２０１９／０３８３７１号の図４Ａに記載のようなコノスコープ散乱計（Ｅｃｋｈａｒｔｄ Ｏｐｔｉｃｓ ＬＬＣ、５４３０ Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｔ、Ｗｈｉｔｅ Ｂｅａｒ Ｌａｋｅ、ＭＮ ５５１１０（ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍ）より入手可能）を使用することにより、コノスコープ散乱測定を実行した。仰角γは、約１ｍｍ^２のコーティング層表面で測定した。すなわち、報告値は、約１０００個の顔料粒子で平均したものである。表２に記載の測定した硬化コーティング層厚は、被覆前後の基材の重量差を測定し、これをコーティング層の表面積及びコーティング組成物の密度で除することにより決定した。

[0125]図５Ａ及び図５Ｂに示すように、本発明に係るサンプルＥ１及びＥ２により構成された光学効果層（ＯＥＬ）は、プラトー値に達する曲線に従った顔料粒子の仰角γの変化を示した（領域Ａ及びＡ’）。このように得られた光学効果層（ＯＥＬ）では、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれ、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の第１の領域（磁界のエリアＡに対応）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれ、少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の第２の領域（磁界のエリアＡ’に対応）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が前記第１及び第２の領域において異なる仰角を有する。

[0126]本発明に係るサンプルＥ１及びＥ２により構成された光学効果層（ＯＥＬ）とは対照的に、比較サンプルＣ１及びＣ２により構成された光学効果層（ＯＥＬ）は、プラトー絶対値のない一定増加線に従った顔料粒子の仰角γの変化を示した。

[0127]本発明に係るサンプルＥ３により構成された光学効果層（ＯＥＬ）は、磁界が実質的に均一な１つのエリア（Ａとして示す）における磁界発生装置（ｘ４０）の磁界に対するコーティング層（４１０）の曝露の結果として、ＯＥＬの表面全体で一定の仰角γを示した。仰角γは、層厚の結果として（８マイクロメートルは顔料粒子のｄ５０値（２０マイクロメートル）よりも小さい（すなわち、本発明の一部））、角度αよりもはるかに小さかった。

[0128]比較サンプルＣ３により構成された光学効果層（ＯＥＬ）は、磁界が実質的に均一な１つのエリア（Ａとして示す）における磁界発生装置（ｘ４０）の磁界に対するコーティング層（４１０）の曝露の結果として、ＯＥＬの表面全体で一定の仰角γを示した。ただし、仰角γは、層厚の結果として（２４マイクロメートルは顔料粒子のｄ５０値（２０マイクロメートル）よりも大きい（すなわち、本発明の一部ではない））、角度αに類似していた。

[0129]比較を目的として、図６は、同時係属の欧州特許出願第２０１９４０６０．８号に係る一例を開示しており、顔料粒子を含むコーティング層（５１０）が（Ｂとして示す）エリアにおいて磁界発生装置（５３０）の磁界に曝露されている。この磁界は、実質的に均一であり、コーティング層（５１０）を有する基材（５２０）は、磁界が実質的に均一な前記エリアにおいて、コーティング層（５１０）と磁界が実質的に均一なエリアＢ内の磁界の磁力線の接線とがなす角度αが０°超３０°未満（０°＜α＜３０°）又は１５０°超１８０°未満（１５０°＜α＜１８０°）（すなわち、本発明において使用するものと大幅に異なる角度）で設けられている。

Claims (15)

1. ２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための方法であって、
   ａ）主軸Ｘ及びｄ５０値を有する板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、コーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の液体状態である放射線硬化性コーティング組成物を前記基材（ｘ２０）の表面に塗布するステップと、
   ｂ）磁界発生装置（ｘ３０）の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、前記コーティング層（ｘ１０）を前記磁界に曝露することにより、前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、前記コーティング層（ｘ１０）を有する前記基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、前記粒子の位置における前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面と前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の前記磁界の磁力線の接線とがなす角度αが、１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）である、ステップと、
   ｃ）ステップｂ）と一部同時又は前記ステップｂ）の後に、前記コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、前記コーティング層（ｘ１０）中の前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を固定して、厚さＴを有する少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップであり、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の前記厚さＴが、前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の前記ｄ５０値よりも小さく、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する、ステップと、
   を含む、方法。
2. 前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の前記厚さＴが、ｄ５０＊ｓｉｎ（α）よりも小さい（Ｔ＜ｄ５０＊（ｓｉｎα））、請求項１に記載の方法。
3. 前記放射線硬化性コーティング組成物を前記基材（ｘ２０）の表面に塗布する前記ステップａ）が、スクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセス、好ましくはフレキソ印刷により実行される、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が、板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子により構成される、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子が、板状磁性薄膜干渉顔料、板状磁性コレステリック液晶顔料、干渉被覆磁性顔料粒子、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項４に記載の方法。
6. 前記板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部が、金属色、好ましくは銀色又は金色を示す板状磁性又は磁化可能顔料粒子により構成される、請求項４又は５に記載の方法。
7. 前記磁界発生装置（ｘ３０）が、磁気軸が前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して実質的に平行な棒状双極子磁石であり、前記ステップｂ）が、前記磁界発生装置（ｘ３０）の前記磁界の前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、前記コーティング層（ｘ１０）を前記磁界に曝露することを含み、前記磁界が、前記１つ又は複数の関心エリア全体で実質的に一定の大きさ及び方向を有していない、又は、実質的に平面に閉じ込められることがなく、前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、異なる角度αとなる、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記ステップｂ）が、前記磁界発生装置（ｘ３０）の前記磁界の前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、前記コーティング層（ｘ１０）を前記磁界に曝露することを含み、前記磁界が、前記１つ又は複数の関心エリア全体で実質的に一定の大きさ及び方向を有する、又は、実質的に平面に閉じ込められており、前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、実質的に同じ角度αとなる、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記ステップｂ）が、前記１つ又は複数の関心エリア全体で実質的に一定の大きさ及び方向を有する、又は、実質的に平面に閉じ込められた磁界に前記コーティング層（ｘ１０）を曝露することを含み、前記磁界発生装置（ｘ３０）が、同じ磁場方向及び同じ長さを有する２つの離隔した棒状双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）と、同じ長さを有し、長方形アセンブリとして配置された２つの離隔した磁極片（Ｐ１、Ｐ２）と、を備え、Ｍ１が、Ｍ２と隣り合わずに対向し、Ｐ１が、Ｐ２と隣り合わずに対向し、Ｐ１が、Ｐ２から、Ｍ１／Ｍ２の長さに対応する距離に配置される、請求項１～６及び８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記磁力線が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、互いに実質的に平行である、請求項９に記載の方法。
11. 前記１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）で独立して構成され、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）が、１つ又は複数の第１の領域（ｘ４０－ａ）並びに１つ又は複数の第２の領域（ｘ４０－ｂ）を含み、当該方法が、
    ａ）本明細書に記載の前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む前記放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の前記基材（ｘ２０）の表面に塗布することにより、１つ又は複数の第１の領域（ｘ１０－ａ）並びに１つ又は複数の第２の領域（ｘ１０－ｂ）を含む単一のコーティング層（ｘ１０）を生成するステップと、
    ｂ）本明細書に記載の前記単一のコーティング層（ｘ１０）を有する前記基材（ｘ２０）が前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、前記角度αが１２°以上約７５°以下（１２°≦｜α｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α｜≦１６８°）の状態で、前記単一のコーティング層（ｘ１０）を前記磁界発生装置（ｘ３０）の前記磁界に曝露するステップと、
    ｃ）前記ステップｂ）と一部同時又は前記ステップｂ）の後に、前記単一のコーティング層（ｘ１０）の前記１つ又は複数の第１の領域（ｘ１０ａ）を前記硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に選択硬化させることにより、前記板状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部をそれぞれの採用された位置及び配向に固定するステップと、
    ｄ）前記単一のコーティング層（ｘ１０）を第２の磁界の磁界に曝露することにより、前記１つ又は複数の第２の領域（ｘ１０ｂ）において、前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、前記基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置における前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面と前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の前記第２の磁界の磁力線の接線とがなす角度α’が、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、前記第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）が、ステップｂ）の前記磁界発生装置と同異いずれかであり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる、ステップと、
    ｅ）前記ステップｄ）と一部同時又は前記ステップｄ）の後に、前記単一のコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の前記硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）を生成するステップであり、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の前記１つ又は複数の第１の領域（ｘ４０－ａ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記単一の少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の前記１つ又は複数の第２の領域（ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する、ステップと、
    を含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 前記１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に含み、磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）に含み、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）が、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に少なくとも部分的又は完全に重なるか、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）に隣り合うか、又は前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）から離隔しており、当該方法が、
    ｄ）ステップｃ）の後に、前記第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するような第１の液体状態である第２の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の前記放射線硬化性コーティング組成物と同異いずれかである、ステップと、
    ｅ）第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）の第２の磁界の１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）において、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を前記第２の磁界に曝露することにより、前記第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を有する前記基材（ｘ２０）が、前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）に設けられ、前記第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置における前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面と前記１つ又は複数のエリア（Ａ、Ａ’、Ａ^ｉ’）内の前記第２の磁界の磁力線の接線とがなす角度α’が、１２°以上７５°以下（１２°≦｜α’｜≦７５°）又は１０５°以上１６８°以下（１０５°≦｜α’｜≦１６８°）であり、前記第２の磁界発生装置（ｘ３０－ｂ）が、ステップｂ）の前記磁界発生装置と同異いずれかであり、α’がαと異なり、好ましくはα’及びαが少なくとも３０°異なる、ステップと、
    ｆ）前記第２のコーティング層（ｘ１１）を前記第２の磁界に曝露する前記ステップｅ）と一部同時又は前記ステップｅ）の後に、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化させることにより、前記第２のコーティング層（ｘ１１）において前記第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定して、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）を生成するステップであり、隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、隣接する磁気配向された第２の板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記第２のコーティング層（ｘ４１）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有し、前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）における前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ４１）における前記磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子と異なる仰角を有する、ステップと、
    を含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
13. １つ又は複数の証印の形態の組成物を塗布するステップと、前記組成物を少なくとも部分的に硬化又は固化させるステップと、をさらに含み、前記１つ又は複数の証印が、前記基材（ｘ２０）と前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）との間に存在し、前記複数のステップが、前記放射線硬化性コーティング組成物を前記基材（ｘ２０）の表面に塗布する前記ステップａ）に先立って実行される、請求項１～１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法によって得られる光学効果層（ＯＥＬ）であり、厚さＴを有し、主軸Ｘ及びｄ５０値を有する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物により構成された少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）を備える、光学効果層（ＯＥＬ）であって、
    前記少なくとも部分的に硬化したコーティング層（ｘ４０）の前記厚さＴが、前記板状磁性又は磁化可能顔料粒子の前記ｄ５０値よりも小さく、
    隣接する磁気配向板状磁性又は磁化可能顔料粒子が少なくともそれぞれ、前記少なくとも部分的に硬化した層（ｘ４０）の１つ又は複数の領域（ｘ４０－ａ、ｘ４０－ｂ）において、互いに実質的に平行な主軸Ｘを有する、光学効果層（ＯＥＬ）。
15. 前記基材（ｘ２０）と、請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法によって得られる前記１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）或いは請求項１４に記載の前記１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）と、を備える、セキュリティ文書又は装飾物品。
    
    

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