JP6703434B2 - 扁平粉末 - Google Patents
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Description
2・Si% − Al% ≦ 15.0
A = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% - 3 ・ AR (I)
この数式(I)において、Cr%は合金におけるCrの質量含有率を表し、Mo%は合金におけるMoの質量含有率を表し、ARはこの粉末のアスペクト比を表す。
B = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% + 170 ・ MB% - 3 ・ AR (II)
この数式(II)において、MB%は合金における金属元素MBの質量含有率を表す。
A = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% - 3 ・ AR (I)
この数式(I)において、Cr%は合金におけるCrの質量含有率を表し、Mo%は合金におけるMoの質量含有率を表し、ARはこの粉末のアスペクト比を表す。
B = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% + 170 ・ MB% - 3 ・ AR (II)
この数式(II)において、MB%は合金における金属元素MBの質量含有率を表す。
[扁平金属粉末]
本発明に係る扁平金属粉末は、多数の扁平金属粒子の集合である。本発明において扁平金属粒子とは、扁平形状を有し、かつ単一金属又は合金からなる粒子のことを意味する。図1に、この扁平金属粒子2が示されている。図2に、この扁平金属粉末を含む磁性シート4が示されている。
μ = μ’ + jμ”
この数式において、jは虚数を表す。jの二乗は、−1である。透磁率μ、実部透磁率μ’及び虚部透磁率μ”のそれぞれは、真空透磁率との比である比透磁率を表す。高周波での磁気損失tanδは、下記数式によって導出される。
tanδ = μ” / μ’
この数式から明らかな通り、μ’が小さい場合及びμ”が大きい場合に、磁気損失tanδが大きい。渦電流損失及び磁気共鳴により、μ’の低下及びμ”の上昇が生じうる。
A = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% - 3 ・ AR (I)
この数式(I)において、Cr%は合金におけるCrの質量含有率を表し、Mo%は合金におけるMoの質量含有率を表し、ARは粉末のアスペクト比を表す。値Aが−600以上である粉末を含むシート4は、周波数が10MHzから10GHzである高周波領域での磁気損失が小さい。値Aは−500以上がより好ましく、−400以上が特に好ましい。値Aは800以下が好ましい。
B = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% + 170 ・ MB% - 3 ・ AR (II)
この数式(II)において、MB%は合金における金属元素MBの質量含有率を表す。値Bが−600以上3500以下である粉末を含むシート4は、高周波領域での磁気損失が小さい。値Bは−500以上がより好ましく、−400以上が特に好ましい。値Bは3000以下がより好ましく、2500以下が特に好ましい。
[扁平複合粉末]
本発明に係る扁平複合粉末は、多数の扁平複合粒子の集合である。本発明において扁平複合粒子とは、扁平金属粒子の表面に絶縁皮膜が形成された粒子のことを意味する。図3に、1つの扁平複合粒子8が示されている。この複合粒子8は、金属10(扁平金属粒子)と、この金属10に積層された皮膜12とを有している。皮膜12は、金属10に接合されている。皮膜12は、金属10の全体を覆っている。皮膜12が、金属10を部分的に覆ってもよい。複合粒子8が、金属10と皮膜12との間に他の皮膜を有してもよい。複合粒子8が、皮膜12を覆う他の皮膜を有してもよい。
表1に示された成分を有する母粉末を準備した。この母粉末(10kg)をアトライタに投入し、粉砕及び扁平化を行って、扁平金属粉末を得た。この扁平金属粉末のアスペクト比AR、数式(I)によって導出される値A、かさ密度、タップ密度、タップ密度に対するかさ密度の比R1及び平均粒径が、下記の表1に示されている。
表2に示された成分に表3に示された元素を加え、母粉末を準備した。この母粉末(10kg)をアトライタに投入し、粉砕及び扁平化を行って、扁平金属粉末を得た。この扁平金属粉末のアスペクト比AR、数式(I)によって導出される値A、数式(II)によって導出される値B、かさ密度、タップ密度、タップ密度に対するかさ密度の比R1及び平均粒径が、下記の表3に示されている。
表4に示された成分を有する母粉末を準備した。この母粉末(10kg)をアトライタに投入し、粉砕及び扁平化を行って、扁平金属粉末を得た。この扁平金属粉末のアスペクト比AR、数式(I)によって導出される値A、及び数式(II)によって導出される値Bが、下記の表4に示されている。
4・・・磁性シート
6・・・マトリクス
8・・・扁平複合粒子
10・・・金属
12・・・皮膜
Claims (7)
- 多数の扁平金属粒子からなり、
上記扁平金属粒子の材質が、0.01質量%以上3.0質量%以下のCと、0.1質量%以上5.0質量%以下のSiと、Cr及び/又はMoとを含み、かつ残部がFe及び不可避的不純物である合金であり、
上記合金におけるCrとMoとの合計量が10質量%以上30質量%以下であり、
上記合金の、下記数式(I)で導出される値Aが、−600以上800以下である扁平金属粉末。
A = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% - 3 ・ AR (I)
(この数式(I)において、Cr%は上記合金におけるCrの質量含有率を表し、Mo%は上記合金におけるMoの質量含有率を表し、ARは上記粉末のアスペクト比を表す。) - 上記合金が、Fe、Cr及びMo以外の、体心立方格子を有する1又は2以上の金属元素MBをさらに含んでおり、
上記合金における上記金属元素MBの含有率が、1.0質量%以上7.0質量%以下であり、
上記合金の、下記数式(II)で導出される値Bが、−600以上3500以下である請求項1に記載の扁平金属粉末。
B = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% + 170 ・ MB% - 3 ・ AR (II)
(この数式(II)において、MB%は上記合金における金属元素MBの質量含有率を表す。) - タップ密度に対するかさ密度の比R1が0.5以上1.0以下である請求項1又は2に記載の扁平金属粉末。
- 平均粒径が20μm以上150μm以下である請求項1から3のいずれかに記載の扁平金属粉末。
- 多数の扁平複合粒子からなり、
それぞれの扁平複合粒子が、金属と、この金属を覆う皮膜とを有しており、
上記金属の材質が、0.01質量%以上3.0質量%以下のCと、0.1質量%以上5.0質量%以下のSiと、Cr及び/又はMoとを含み、かつ残部がFe及び不可避的不純物である合金であり、
上記合金におけるCrとMoとの合計量が10質量%以上30質量%以下であり、
上記合金の、下記数式(I)で導出される値Aが、−600以上800以下であり、
上記皮膜の材質が、チタンアルコキシド類及びケイ素アルコキシド類を含む混合物から得られる重合物である、磁性部材用の扁平複合粉末。
A = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% - 3 ・ AR (I)
(この数式(I)において、Cr%は上記合金におけるCrの質量含有率を表し、Mo%は上記合金におけるMoの質量含有率を表し、ARは上記粉末のアスペクト比を表す。) - 上記合金が、Fe、Cr及びMo以外の、体心立方格子を有する1又は2以上の金属元素MBをさらに含んでおり、
上記合金における上記金属元素MBの含有率が、1.0質量%以上7.0質量%以下であり、
上記合金の、下記数式(II)で導出される値Bが、−600以上3500以下である請求項5に記載の扁平複合粉末。
B = 50 ・ Cr% + 80 ・ Mo% + 170 ・ MB% - 3 ・ AR (II)
(この数式(II)において、MB%は上記合金における金属元素MBの質量含有率を表す。) - 上記扁平複合粉末の真密度の、この扁平複合粉末の原料である多数の金属の粉末の真密度に対する比R2が、0.70以上0.95以下である請求項5又は6に記載の扁平複合粉末。
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