JP6701745B2 - 三次元形状測定方法、変位測定方法、三次元形状測定装置、変位測定装置、構造物製造方法、構造物製造システム、及び三次元形状測定プログラム - Google Patents
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Description
三次元形状を算出することは、信号強度Iと、オフセット量α j と、振幅β j と、位相送り量δ i との値を使用して、位相θ j を算出することと、算出された位相θ j に基づいて測定対象物の三次元形状を算出することと、を含む三次元形状測定方法が提供される。
本発明の第1態様に従えば、位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影することと、複数の構造光が投影された測定対象物の測定像をそれぞれ撮像することと、撮像された複数の測定像に基づいて、位相シフト法を用いて測定対象物の三次元形状を算出することと、を含む三次元形状測定方法であって、撮像された複数の測定像について、測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
三次元形状を算出することは、信号強度Iと、オフセット量αjと、振幅βjと、位相送り量δiとの値に基づいて、位相θjを算出することと、算出された位相θjに基づいて測定対象物の三次元形状を算出することと、を含む三次元形状測定方法が提供される。
測定対象物の変位量を求めることは、信号強度Iと、オフセット量α j と、振幅β j と、位相θ j との値を使用して、位相送り量δ i を算出することと、算出された位相送り量δ i に基づいて測定装置に対する測定対象物の変位量を求めることと、を含む変位測定方法が提供される。
本発明の第2態様に従えば、位相の初期送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定装置から測定対象物に順次、投影することと、複数の構造光が投影された測定対象物の測定像を測定装置でそれぞれ撮像することと、撮像された複数の測定像に基づいて、位相シフト法を用いて測定装置に対する測定対象物の変位量を求めることと、を含む変位測定方法であって、撮像された複数の測定像について、測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
変位量を求めることは、信号強度Iと、オフセット量αjと、振幅βjと、位相送り量δiとの値に基づいて、位相送り量δiを算出することと、算出された位相δiに基づいて測定装置に対する前記測定対象物の変位量を求めることと、を含む変位測定方法が提供される。
演算部は、信号強度Iと、オフセット量α j と、振幅β j と、位相送り量δ i との値を使用して、位相θ j を算出し、算出された位相θ j に基づいて測定対象物の三次元形状を算出する、三次元形状測定装置が提供される。
本発明の第3態様に従えば、位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次投影する投影部と、複数の構造光が投影された測定対象物の測定像をそれぞれ撮像する撮像部と、撮像された複数の測定像に基づいて、位相シフト法を用いて測定対象物の三次元形状を算出する演算部と、を備える三次元形状測定装置であって、撮像された複数の測定像について、測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは、数1のように示され、
演算部は、信号強度Iと、オフセット量αjと、振幅βjと、位相送り量δiとの値に基づいて、位相θjを算出し、算出された位相θjに基づいて測定対象物の三次元形状を算出する、三次元形状測定装置が提供される。
演算部は、信号強度Iと、オフセット量α j と、振幅β j と、位相θ j との値を使用して、位相送り量δ i を算出し、算出された位相送り量δ i に基づいて変位測定装置に対する測定対象物の変位量を求める、変位測定装置が提供される。
本発明の第4態様に従えば、位相の初期送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影する投影部と、複数の構造光が投影された測定対象物の測定像をそれぞれ撮像する撮像部と、撮像された複数の測定像に基づいて、位相シフト法を用いて測定対象物の変位量を求める演算部と、を含む変位測定装置であって、撮像された複数の測定像について、測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
演算部は、信号強度Iと、オフセット量αjと、振幅βjと、位相送り量δiとの値に基づいて、位相送り量δiを算出し、算出された位相δiに基づいて変位測定装置に対する測定対象物の変位量を求める、変位測定装置が提供される。
信号強度Iと、オフセット量α j と、振幅β j と、位相送り量δ i との値を使用して、位相θ j を算出する処理と、算出された位相θ j に基づいて測定対象物の三次元形状を算出する処理と、を実行させる三次元形状測定プログラムが提供される。
本発明の第7態様に従えば、位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影し、複数の構造光が投影された測定対象物の測定像をそれぞれ撮像し、撮像された複数の測定像に基づいて、位相シフト法を用いて測定対象物の三次元形状を算出する三次元形状測定装置に含まれるコンピュータに、撮像された複数の測定像について、測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
信号強度Iと、オフセット量αjと、振幅βjと、位相送り量δiとの値に基づいて、位相θjを算出する処理と、算出された位相θjに基づいて測定対象物の三次元形状を算出する処理と、を実行させる三次元形状測定プログラムが提供される。
図1は、第1実施形態に係る形状測定装置の一例を示す図である。なお、図1において、紙面の右方向をX軸とし、X軸と直交するある方向をY軸とし、X軸及びY軸と直交する方向をZ軸としている。形状測定装置(三次元形状測定装置)1は、位相シフト法を用いて測定対象物2の三次元形状を測定する装置である。形状測定装置1は、図1に示すように、投影部10と、撮像部50と、演算処理部60と、表示装置70と、音声出力装置80と、筐体90とを備える。形状測定装置1は、投影部10、撮像部50、演算処理部60、表示装置70及び音声出力装置80が持ち運び可能な筐体90に収容された構成となっている。
操作部61は、形状測定装置1の使用者の操作に応じた操作信号を制御部62に出力する。この操作部61は、例えば、使用者によって操作されるボタン、スイッチである。また、表示装置70には例えばタッチパネルが形成されている。このタッチパネルも操作部61として用いられる。
ここで、測定像の画素の信号強度Iは、数1のように示される。
数式1を、pj、qj、rj、si、tiで表すと、数2のように示される。
表示装置70は、表示制御部67の制御により、測定対象物2の三次元形状の画像や参照像(静止画像及びライブビュー画像)を表示する装置である。この表示装置70は、例えば液晶表示装置や有機EL表示装置などが用いられる。
位相シフト法は、三角測量の原理に基づいて、測定対象物2へ投影した正弦波状の光強度分布を有する縞パターンPの縞の位相をシフトさせて撮像した画像(つまり、縞パターンPが投影された測定対象物2の測定像)を解析することにより、三次元的に形状を計測する手法である。本実施形態において、縞パターンPは、縞の位相を第2の方向D2に沿ってπ/2ずつシフトさせた4種類の縞パターンPである。ここで、縞パターンPの位相送り量は、縞パターンPの光強度の分布である正弦波の位相送り量と言い換えることができる。つまり、光強度の分布である正弦波をπ/2ずつ第2の方向D2に沿ってシフトさせて4種類の縞パターンPを生成する。
測定対象物2と形状測定装置1との相対的な変位が生じる場合において、測定対象物2が変位せず形状測定装置1のみが変位する場合と、測定対象物2のみが変位し形状測定装置1が変位しない場合とは、同値として扱うことができる。したがって、以下、測定対象物2と形状測定装置1との相対的な変位を説明するに当たり、便宜的に測定対象物2のみが変位し形状測定装置1が変位しないものとする。
形状測定装置1の電源がオンとなった状態で、使用者によりシャッター操作が行われると、本実施形態において、制御部62は、光生成部20及び走査部40に対して指令信号を出力し、測定対象物2に4種類の縞パターンP1〜P4(図4(a)〜(d)参照)を投影させる(ステップS01)。制御部62は、各縞パターンPが投影される第1タイミング〜第4タイミングで測定対象物2の測定像をそれぞれCCDカメラ52aに撮像させる(ステップS02)。
第1実施形態において、任意の位相ステップ数の測定像について、像全体で位相送り量δは一定とした。つまり、形状測定装置1の使用者の手ぶれなどによる測定対象物2と形状測定装置1との間の相対的な変位に伴い、投影される構造光101が測定対象物2に対してずれた量(つまり、二次送り量)は測定像全体で一定とした。しかしながら、測定対象物2の形状や、形状測定装置1と測定対象物2との相対的な変位の方向によっては、測定像全体で位相送り量δを一定とすると、算出される測定像における正弦波の位相θjの一部に誤差が発生したり、数2におけるsi、tiが収束せずに発散することによって、測定対象物2の三次元形状の精度が改善しないことがある。
ここで、図7に示すように、測定像における全体画素領域300(本実施形態では画素が512×512=262144個)の一部の画素を含む領域を画素領域300Aと表記する。より具体的には、画素領域300Aを2画素×16画素を含む領域として、測定像の全体画素領域300を8192個の画素領域300Aに分割して画素領域300Aを設定する。各画素領域300Aは、同一の形状(大きさ)に設定される。また、初期送り量は全ての画素領域300Aで一定とし、二次送り量は分割した画素領域300A毎に一定とする。
次に、第2実施形態を説明する。
図8は、第2実施形態に係る変位測定装置1Aの一例を示す図である。図9は、図8に示す変位測定装置1Aの詳細構成の一例を示すブロック図である。
図8及び図9に示すように、変位測定装置1Aの演算処理部60Aには、操作部61A、制御部62A、設定情報記憶部63A、取込メモリ64A、演算部65A、画像記憶部66A、及び表示制御部67Aが設けられている。変位測定装置1Aの他の構成については、第1実施形態の形状測定装置1と同様であり、同一の符号を付してその説明を省略または簡略化する。
次に、第3実施形態を説明する。
図11は、第3実施形態に係る形状測定装置1Bの一例を示す図である。
図11に示すように、筐体90の内部には、投影部10の動作不良の有無を判定するための判定機構91が設けられている。判定機構91は、光反射部材92と、投影部材93とを有している。
図12は、構造物製造システムの実施形態の一例を示すブロック図である。図12に示す構造物製造システムSYSは、各実施形態に記載した形状測定装置1(又は1B)、設計装置710、成形装置720、制御装置(検査装置)730、及びリペア装置740を有している。第2実施形態の変位測定装置1Aを本システムの形状測定装置として用いてもよい。
Claims (17)
- 基準となる位相からの位相の変化量を表す位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影することと、
前記複数の構造光が投影された前記測定対象物の測定像をそれぞれ撮像することと、
撮像された複数の前記測定像に基づいて、位相シフト法を用いて前記測定対象物の三次元形状を算出することと、
を含む三次元形状測定方法であって、
撮像された複数の前記測定像について、前記測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
前記三次元形状を算出することは、
前記信号強度Iと、前記オフセット量αjと、前記振幅βjと、前記位相送り量δiとの値を使用して、位相θjを算出することと、
前記算出された位相θjに基づいて前記測定対象物の三次元形状を算出することと、
を含む三次元形状測定方法。 - 前記θjを算出することは、
cosδiと、sinδiの値を算出することと、
前記算出された前記cosδiと前記sinδiとの値に基づいて、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出することと、
前記算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出することと、
を含む請求項1に記載の三次元形状測定方法。 - 前記θjを算出することは、
前記算出されたαjと、βjcosθjと、βjsinθjに基づいて、再度、cosδiと、sinδiの値を算出することと、
前記、再度算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、再度、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出することと、
前記、再度算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出することと、
を含む請求項2に記載の三次元形状測定方法。 - 前記θjを算出することは、
αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出することと、
前記算出されたαjと、βjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて、cosδiと、sinδiの値を算出することと、
前記算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、再度、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出することと、
前記、再度算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出することと、
を含む請求項1に記載の三次元形状測定方法。 - 前記数1においてpj=αj、qj=βjcosθ、rj=βjsinθ、si=cosδi、ti=sinδiとする場合に、
行列A、ベクトルxj、bjを以下の数3のように定義すると、
前記αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出することは、算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、|Axj−bj|の値が最小となるpj、qj、rjの値を求める、
請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定方法。 - 前記数1においてpj=αj、qj=βjcosθ、rj=βjsinθ、si=cosδi、ti=sinδiとする場合に、
行列C、ベクトルyi、diを以下の数4のように定義すると、
請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定方法。 - 位相の初期送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定装置から測定対象物に順次、投影することと、
前記複数の構造光が投影された前記測定対象物の測定像を前記測定装置でそれぞれ撮像することと、
撮像された複数の前記測定像に基づいて、位相シフト法を用いて前記測定装置に対する前記測定対象物の変位量を求めることと、
を含む変位測定方法であって、
前記位相の初期送り量は、前記測定対象物と前記測定装置とが相対的に変位していないと仮定した場合に、基準となる位相からの位相の変化量を表し、
撮像された複数の前記測定像について、前記測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
前記測定対象物の変位量を求めることは、
前記信号強度Iと、前記オフセット量αjと、前記振幅βjと、前記位相θ j との値を使用して、位相送り量δiを算出することと、
算出された位相送り量δiに基づいて前記測定装置に対する前記測定対象物の変位量を求めることと、
を含む変位測定方法。 - 基準となる位相からの位相の変化量を表す位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影する投影部と、
前記複数の構造光が投影された前記測定対象物の測定像をそれぞれ撮像する撮像部と、
撮像された複数の前記測定像に基づいて、位相シフト法を用いて前記測定対象物の三次元形状を算出する演算部と、
を備える三次元形状測定装置であって、
撮像された複数の前記測定像について、前記測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは、数1のように示され、
前記演算部は、前記信号強度Iと、前記オフセット量αjと、前記振幅βjと、前記位相送り量δiとの値を使用して、位相θjを算出し、算出された位相θjに基づいて前記測定対象物の三次元形状を算出する、
三次元形状測定装置。 - 前記演算部は、
cosδiと、sinδiの値を算出し、
前記算出された前記cosδiと前記sinδiとの値に基づいて、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出し、
前記算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出する、
請求項8に記載の三次元形状測定装置。 - 前記演算部は、
前記算出されたαjと、βjcosθjと、βjsinθjに基づいて、再度、cosδiと、sinδiの値を算出し、
前記、再度算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、再度、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出し、
前記、再度算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出する、
請求項9に記載の三次元形状測定装置。 - 前記演算部は、
αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出し、
前記算出されたαjと、βjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて、cosδiと、sinδiの値を算出し、
前記算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、再度、αjと、βjcosθjと、βjsinθjの値を算出し、
前記、再度算出されたβjcosθjと、βjsinθjの値に基づいて位相θjを算出する、
請求項8に記載の三次元形状測定装置。 - 前記数1においてpj=αj、qj=βjcosθ、rj=βjsinθ、si=cosδi、ti=sinδiとする場合に、
行列A、ベクトルxj、bjを以下の数3のように定義すると、
前記演算部は、前記算出されたcosδiと、sinδiの値に基づいて、|Axj−bj|の値が最小となるpj、qj、rjの値を求める、
請求項8から請求項11のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定装置。 - 前記数1においてpj=αj、qj=βjcosθ、rj=βjsinθ、si=cosδi、ti=sinδiとする場合に、
行列C、ベクトルyi、diを以下の数4のように定義すると、
請求項8から請求項12のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定装置。 - 位相の初期送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影する投影部と、
前記複数の構造光が投影された前記測定対象物の測定像をそれぞれ撮像する撮像部と、
撮像された複数の前記測定像に基づいて、位相シフト法を用いて前記測定対象物の変位量を求める演算部と、
を含む変位測定装置であって、
前記位相の初期送り量は、前記測定対象物と前記変位測定装置とが相対的に変位していないと仮定した場合に、基準となる位相からの位相の変化量を表し、
撮像された複数の前記測定像について、前記測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
前記演算部は、前記信号強度Iと、前記オフセット量αjと、前記振幅βjと、前記位相θ j との値を使用して、位相送り量δiを算出し、算出された位相送り量δiに基づいて前記変位測定装置に対する前記測定対象物の変位量を求める、
変位測定装置。 - 構造物の形状に関する設計情報を作製することと、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作製することと、
作製された前記構造物の三次元形状を測定する請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定方法と、
前記三次元形状測定方法によって得られた前記構造物の三次元形状に関する形状情報と前記設計情報とを比較することと
を含む構造物製造方法。 - 構造物の形状に関する設計情報を作製する設計装置と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形装置と、
作製された前記構造物の三次元形状を測定する請求項8から請求項13のうちいずれか一項に記載の三次元形状測定装置と、
前記三次元形状測定装置によって得られた前記構造物の三次元形状に関する形状情報と前記設計情報とを比較する検査装置と
を含む構造物製造システム。 - 基準となる位相からの位相の変化量を表す位相送り量が異なる複数の構造光を所定の投影角で測定対象物に順次、投影し、前記複数の構造光が投影された前記測定対象物の測定像をそれぞれ撮像し、撮像された複数の前記測定像に基づいて、位相シフト法を用いて前記測定対象物の三次元形状を算出する三次元形状測定装置に含まれるコンピュータに、
撮像された複数の前記測定像について、前記測定像の各画素の信号強度をIとすると、該信号強度Iは数1のように示され、
前記信号強度Iと、前記オフセット量αjと、前記振幅βjと、前記位相送り量δiとの値を使用して、位相θjを算出する処理と、
前記算出された位相θjに基づいて前記測定対象物の三次元形状を算出する処理と、
を実行させる三次元形状測定プログラム。
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