JP6700642B2 - 画像振動抑制装置および画像振動抑制方法 - Google Patents

Description

本発明は、画像振動抑制装置および画像振動抑制方法に関するものである。

電子顕微鏡の画像には装置周辺部に置かれたポンプやモーターなどが発生する装置設置環境に依存する外部から入り込む振動（外部振動）、あるいは電子顕微鏡装置に内蔵されたターボポンプなどが発生する装置自身が発生する振動（自家振動）の両方により、取得された画像に振動が生じる。

最先端の電子顕微鏡においては、サブナノメートルの画像分解能が必要とされる。サブナノメートルよりも大きな画像振動は画像ぼけ、先鋭度低下、ＳＮＲ低下などの画像品質劣化引き起こし、本来装置に必要とされる顧客要求仕様を満たすことが困難となる。

従来、画像振動の抑制には、高性能除振台を設置してこれに電子顕微鏡を搭載して外部振動を低減したり、電子顕微鏡に装着したレーザー干渉位置測定装置の出力信号を電子ビーム偏向装置にフィードバックして振動を低減したりしていた。

しかしながら、前者の高性能除振台を設置しても除振には限外あり十分に除振し得ないという課題があった。

また、後者のレーザー干渉位置測定装置を用いたレーザーフィードバック方法において、画像に複数の振動周波数成分が存在する場合、正確に複数の振動を除去出来ないという課題があった。

特に、後者において、複数の振動成分が同時に存在する場合に、画像振動を正確に除去できない理由としては、図１５に示したように、レーザー干渉位置測定装置に使用するバーミラー１３と画像取得対象のフォトマスク１２との間にばね要素があるため、伝達強度や位相の周波数依存性が存在するためであることが本発明者の実験から判明した。

その結果、バーミラー基準で位置を測定しているレーザー干渉位置測定装置の出力信号をそのまま電子ビーム偏向装置にフィードバックして画像の振動を抑制制御すると、周波数毎にフォトマスク１２とバーミラー１３との位置関係が変化するため、フィードバック信号には誤差が含まれてしまう結果となり、制御自身は正しく行われているにも関わらず、完全に画像振動を除去することが出来ないという課題があった。

以下、図１５を用いて従来技術の課題を詳述する。

図１５は、従来技術の説明図を示す。

図１５の（ａ）はレーザー干渉位置測定装置の概略配置図を示す。

図１５の（ａ）において、フォトマスク１２は、走査型電子顕微鏡で画像を取得する対象の試料である。

バーミラー１３は、フォトマスク１２のＸ方向およびＹ方向の位置をレーザー干渉位置測定装置で精密かつリアルタイム測定するためのミラーである。

支持系１４は、フォトマスク１２を保持する機構である。

図１５の（ｂ）は、図１５の（ａ）のレーザー干渉位置測定装置によって測定される測定値と、走査型電子顕微鏡で取得される画像との間の変位量（Δｘ，Δｙ）の関係を説明するものである。

ここで、「ＤＣからドリフト」，「高い周波数」とに分けた場合、
・「ＤＣからドリフト」の場合には、Δｘ，Δｙ＝δｘ，δｙ
・「高い周波数」の場合には、Δｘ，Δｙ≠δｘ，δｙ
（バーミラー１３とフォトマスク１２間にばね要素があり、周波数依存性があり、両者は一致しない）
となった。これは、画像のドリフトは、「ＤＣからドリフト」に相当、即ち一定方向の移動（ドリフト）および低い周波数の振動の一方あるいは両者を合わせたものに相当し、図１６の（ａ）の装置で十分に補正できた。

一方、「高い周波数」の場合には、バーミラー１３とフォトマスク１２との間にばね要素があり、周波数依存性があり、両者が一致しない、つまり、周波数によって振幅と位相とがそれぞれ異なり、従来の一様な振幅、位相をもとにした負帰還制御では十分に画像振動を低減できないということが判明した。

本発明は、前記判明した実験結果をもとに、電子顕微鏡の画像に現れるＤＣ（ドリフト）を含めた複数の周波数成分から構成される画像の振動を精密に抑制できる装置およびその仕組みを開示したものである。

そのため、本発明は、電子を細く絞って試料に照射しつつ平面走査して試料から放出あるいは反射された電子を検出・増幅して生成する画像の振動を抑制する画像振動抑制装置において、電子を細く絞って試料に照射する位置を偏向する偏向装置と、試料を固定した移動部と移動部をＸ方向およびＹ方向に移動可能なステージと、試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するために移動部あるいはステージに固定したミラーと、ミラーにレーザーを照射してその入射波および反射波をもとに試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するレーザー干渉位置測定装置と、レーザー干渉位置測定装置で測定した試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動のうち、Ｘ方向およびＹ方向のドリフトに関して当該ドリフトに従い偏向装置にフィードバック制御して試料を照射する位置のドリフトを無くしあるいは低減すると共に、Ｘ方向およびＹ方向の高い周波数に関して共振周波数あるいは振幅の大きい周波数あるいは両者について１つあるいは複数の周波数を抽出し、抽出した１つあるいは複数の周波数の振幅および位相に従い偏向装置にフィードバック制御して試料を照射する位置の抽出した１つあるいは複数の周波数の振幅および位相の差をそれぞれ個別かつ独立に制御して無くしあるいは低減する制御手段と
を備えるように構成する。

この際、Ｘ方向およびＹ方向の振動の共振周波数あるいは振幅の大きい周波数は、試料を固定したステージあるいはステージを固定した装置あるいは装置を設置した接地面を強制的に加振し、そのときの試料の振動をレーザー干渉位置測定装置で測定して制御手段で制御するパラメータを、共振周波数あるいは振幅の大きい周波数あるいは両者について１つあるいは複数の周波数についてそれぞれ取得し、これを予めそれぞれ設定するようにしている。

また、画像の共振周波数および位相は、取得した画像に対して２次元周波数分析を行って共振周波数毎に振幅および位相をそれぞれ算出するようにしている。

また、試料のドリフトは、レーザー干渉位置測定装置の出力信号をローパスフィルタを通過させて当該ＤＣあるいはＤＣ成分と低周波成分のドリフト量を算出するようにしている。

また、試料の振動は、レーザー干渉位置測定装置の出力信号をバンドパスフィルタを通過させて試料の振動成分の周波数および位相をそれぞれ算出するようにしている。

また、制御手段は、試料のドリフトおよび試料の振動から算出したドリフト量と、１あるいは複数の周波数と位相の組をもとに、偏向装置をフィードバック制御するようにしている。

また、制御手段は、ステージをＸ方向あるいはＹ方向のいずれか１方向に連続移動させ、移動方向の直角方向についてそのドリフト量と、１あるいは複数の周波数と位相の組をもとに、偏向装置にフィードバック制御するようにしている。

本発明は、レーザー干渉位置測定装置などの精密位置測定装置で測定した試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動量を実際の振動抑制対象点におけるドリフトおよび振動振幅に変換する効果を持つため、非常に正確に振動抑制対象点における画像振動を静止させることができるようになる。

これらにより、従来は不可能であったドリフトや共振周波数あるいは振幅の大きい振動を個別かつ独立に補正して試料の振動を抑制して高分解能画像を取得することが可能となる。

図１は、本発明の１実施例構成図を示す。

図１の（ａ）は側面図を示し、図１の（ｂ）は上面図を示す。

図１の（ａ）において、電子銃１は、所定加速電圧で加速した電子ビーム２を発生するものである。

電子ビーム２は、電子銃１で発生された所定加速電圧の電子ビームである。

電子ビームコラム３は、電子銃１、電子ビーム偏向装置４、電子検出装置５、対物レンズ８などから構成されるものである。

電子ビーム偏向装置４は、細く絞られた電子ビーム２を試料（フォトマスク）１２上で平面走査（Ｘ方向およびＹ方向の走査）するものであって、ここでは、試料１２の振動（ドリフト、高い周波数）を検出して補正するためのものである。尚、補正は、電子ビーム偏向装置４で行ってもよいし、あるいは対物レンズ８の内部（あるいは近傍）に設けた図示外の空芯の偏向コイルあるいは偏向静電電極を用いてシフト補正してもよい。

電子検出装置５は、電子ビーム２を細く絞って試料１２に照射してそのときに放出された２次電子、反射電子を検出するものである。

真空チャンバー６は、移動部１０、ＸＹステージ１１、試料１２などを真空中に設置するための真空排気可能な容器である。

天板７は、真空チャンバー６の上側の頑丈な板であって、電子ビームコラム３を固定するためのものである。

対物レンズ８は、電子ビーム２を細く絞って試料（フォトマスク）１２の表面に照射するためのものである。

参照ミラー９は、対物レンズ８に固定したミラー（Ｘ軸参照ミラー、Ｙ軸参照ミラー）であって、当該対物レンズ８のドリフト、高い周波数を精密にリアルタイムに測定するためのものである。尚、参照ミラー９は、コーナーキューブ等を用いてもよい（後述する）。

移動部１０は、試料１２を装着してＸＹステージ１１上に固定するためのものであって、ここでは、レーザー干渉位置測定装置２３で当該試料１２のＸ方向およびＹ方向の位置をリアルタイムに精密に測定したり、更に、本発明に係る試料１２のドリフト、および高い周波数を精密に測定したりなどするためのバーミラーなどを固定したものである。

ＸＹステージ１１は、試料１２をＸ方向およびＹ方向の任意場所に移動させるためのものである。

試料（フォトマスク）１２は、振動の抑制対象となる試料（フォトマスク、ウェハなど）である。

電子ビームコラム制御装置３１は、電子ビームコラム３に搭載された各種装置等を制御するものであって、ここでは、電子銃１を制御して所定加速電圧の電子ビーム１を発生させたり、電子ビーム偏向装置４に所定電圧（あるいは電流）を供給して細く絞った電子ビーム２を試料１２の表面に照射しつつ平面走査したりなどするものである。

フィードバック制御装置３２は、本発明に係る試料１２のドリフト、振動を抑制するものであって、試料１２のドリフトおよび１つあるいは複数の共振周波数あるいは振幅の大きい周波数についてレーザー干渉位置測定装置２３で測定したパラメータをもとに電子ビーム偏向装置４（あるいは図示外の偏向コイル、偏向静電電極）に当該試料１２のドリフト、および１つあるいは複数の周波数による振動を抑制する制御信号を供給して当該試料１２のドリフト、振動を抑制したりなどするものである（後述する）。

画像形成装置３３は、電子検出装置５によって検出・増幅した試料１２から放出された２次電子、反射電子、吸収電流をもとに画像（２次電子画像、反射電子画像、吸収電流画像など）を形成するものである。

ステージ制御装置３４は、ＸＹステージ１１をＸ方向およびＹ方向に、レーザー干渉位置測定装置２３からの信号をもとに精密に所定位置に移動制御するものである。

ＰＣ３５は、パソコンであって、ソフトウェアにより全体を統括制御するものである。

ＤＩＳＰＬＡＹ３６は、画像や各種操作画面などを表示するものである。

図１の（ｂ）において、バーミラー１３は、ＸＹステージ１１に上に搭載した移動部１０（あるいはフォトマスク１２）の側面に取り付けたバー状のミラー（レーザーを反射する平面性の優れたミラー）である。ここでは、Ｘ軸およびＹ軸の方向の距離を測定するためのバーミラー１３がそれぞれ図示の位置に取り付けられている。

支持系１４は、バーミラー１３を固定した部分がフォトマスク１２を支持する模式的に表した系（機構）であって、フォトマスク１２のドリフト、および１つあるいは複数の固有振動周波数を有する支持系である（図２、図３など参照）。

レーザー２１は、所定波長のレーザーを照射するものである。

干渉装置２２は、レーザーをバーミラー１３に照射したときの入射波と反射波とを干渉させる装置である。

レーザー干渉位置測定装置２３は、レーザー２１から所定波長のレーザーをバーミラー１３に照射してそのときの入射波と反射波とを干渉装置２２で干渉させてそのときの干渉波をもとにバーミラー１３の位置を精密にリアルタイムに測定するものである。

次に、図１のレーザー干渉位置測定装置２３によるフォトマスク１２の振動測定について説明する。

図１のレーザー干渉位置測定装置２３は、波長６３３ｎｍのＨｅＮｅレーザーが干渉することによって生じる干渉縞の個数およびコントラスト変化を測定することで、バーミラー１３と干渉装置２２との間の相対位置を精密測定する装置である。測定精度は０．３ｎｍよりも十分に良く、測定時間も１０ＫＨｚよりも十分に早い。電子ビーム２を細く絞ってフォトマスク１２に照射して放出された２次電子を検出・増幅して得た画像に現れる機械振動は、精々数ＫＨｚ以下なのでこの性能の装置を用いれば、所望とするサブナノメートルのフォトマスク１２の振動抑制を行うために必要なステージ振動をリアルタイムに検出することが出来る。Ｘ軸、Ｙ軸方向の振動抑制するためには、少なくともＸ軸、Ｙ軸用のレーザー干渉位置測定装置１３の２組を配置する。

ここで、画像のＸ軸、Ｙ軸方向の振動だけでなく、画像の回転方向の振動（回転振動）を抑制するためには回転量を知ることが必要であり、そのために、Ｘ軸あるいはＹ軸方向に２つのレーザーパスをそれぞれ設け、その差分からステージの回転振動を検出できるようにする。尚、振動量が極めて小さいときは、回転はＸ，Ｙ軸並進移動と同等に扱えるため、殆どの場合は、ＸＹ２軸で十分に振動抑制が出来る。

同様に、上下方向の振動などその他の振動に対する成分を検出するためには振動の運動方向に応じてさらに多くのレーザーパスや位置測定装置を設け、振動を検出できる構成とする。

レーザー干渉位置測定装置２３は差動方式を採用することがサブナノメートルの振動抑制には重要である。画像振動は測定対象物であるフォトマスク１２の振動と電子ビーム２のフォトマスク１２への着地点の振動との差振動である。電子ビーム２を発生する電子ビームコラム３自身も僅かに振動しているため、差動方式を用いてフォトマスク１２を支えるＸＹステージ１１以外の振動成分を除去し画像振動を引き起こしている振動成分のみを正確に抽出することが必要である。

電子ビーム２のフォトマスク１２への着地点に対するＸＹステージ１１の振動が正確に計測できるように、コーナーキューブ等の参照ミラー９を電子ビームコラム３あるいは電子ビーム２が放出される対物レンズ８の先端近傍に配置して差動位置測定構成とすることが望ましい。

図２は、本発明の説明図（その１）を示す。図２は、図１のフォトマスク１２のドリフト、および高い周波数の例を模式的に表したものであって、横軸は周波数を表し、縦軸はその振幅（周波数０のときは単位時間当たりの変位（ドリフト量））を表す。

図２中において、ドリフトは、フォトマスク１２が一定方向に移動あるいは低周波で移動（変動）する部分であって、例えば熱変位や粘りなどでゆっくりと一定方向にフォトマスク１２が移動する振動（振動成分）である。

共振周波数１、共振周波数２は、高い周波数の部分であって、図１の（ｂ）のフォトマスク１２の共振周波数の例であり、具体的には主にＸＹステージ１１を含む系の共振周波数である。共振周波数１、共振周波数２は、本発明ではその振幅および位相を組みしてそのパラメータをそれぞれ算出し、独立にフィードバック制御できるようにする。

以上の系において、ドリフト、共振周波数１、共振周波数２などを図１のレーザー干渉位置測定装置２３で測定してフィードバック制御装置３２で電子ビーム偏向装置４にドリフト、共振周波数１（振幅１、位相１）、共振周波数２（振幅２、位相２）をもとに負帰還制御することにより、ドリフト、共振周波数１、共振周波数２毎に独立に負帰還制御し、画像振動をドリフト、共振周波数１、共振周波数２毎に独立に画像振動を無くし、ないし低減することが可能となる。説明の都合上、高い周波数について共振周波数１、共振周波数２を例に説明したが、これに限られず、高い周波数のうち、振幅の大きい周波数１、周波数２などの振幅と位相の組を求め、これらで独立に負帰還制御し、画像振動のドリフト、周波数１、周波数２を無くし、ないし低減するようにしてもよい。以下順次詳細に説明する。

図３は、本発明の説明図（その２）を示す。図３は、図２の詳細説明図を示す。

図３の（ａ）はフォトマスク２、バーミラー１３の関係を模式的に示し、図３の（ｂ）は「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」に分けて振動抑制した例を示す。

図３の（ａ）において、フォトマスク１２は、振動を抑制する対象であって、ここでは、図示のように、移動量（ΔＸ、ΔＹ）で振動しているとする（具体的には、細く絞った電子ビーム２をフォトマスク１２に照射してそのときに放出された２次電子の画像を取得し、当該画像の振動（ΔＸ、ΔＹ）を測定する）。

バーミラー１３は、振動を測定する対象であって、ここでは、図示のように、図１のレーザー干渉位置測定装置２３で振動を測定する対象であり、移動量（δＸ、δＹ）とリアルタイムに測定できたとする。

図３の（ｂ−１）は、「ＤＣからドリフト」の場合には、フォトマスク１２における移動量（ΔＸ、ΔＹ）であり、レーザー干渉位置測定装置２３で検出した移動量（∂Ｘ、δＹ）であるから、
・（ΔＸ、ΔＹ）＝（Ｋ１δＸ、Ｋ２δＹ）
となる。

同様に、図３の（ｂ−２）は、「共振周波数１」の場合には、フォトマスク１２における移動量（ΔＸ、ΔＹ）であり、レーザー干渉位置測定装置２３で検出した移動量（∂Ｘ、δＹ）であるから、
・（ΔＸ、ΔＹ）＝（Ｋ３δＸ、Ｋ４δＹ）
となる。

同様に、図３の（ｂ−３）は、「共振周波数２」の場合には、フォトマスク１２における移動量（ΔＸ、ΔＹ）であり、レーザー干渉位置測定装置２３で検出した移動量（∂Ｘ、δＹ）であるから、
・（ΔＸ、ΔＹ）＝（Ｋ５δＸ、Ｋ６δＹ）
となる。

以上により、「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」について独立にそれぞれフォトマスク２の振動の移動量と、レーザー干渉位置測定装置２３によって測定された移動量との間のパラメータを算出できたから、これらパラメータをもとにフォトマスク２の振動の移動量（「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２）の各移動量）をもとに、電子偏向装置４に負帰還制御することにより、「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」毎に画像振動を無くし、ないし低減することが可能となった（図４参照）。

図４は、本発明の説明図（その４）を示す。図４は、図３で求めたパラメータ（Ｋ１からＫ６）をもとに、フィードバック制御装置３２が電子偏向装置４に負帰還制御（フィードバック）する場合の手順を説明するものである。

図４において、「レーザー干渉計出力Ｘ軸」は、例えば図３の（ｂ−１）の「ＤＣからドリフト」の場合において、「ＤＣからドリフト」（ＤＣ成分から低周波数成分の間）の移動量（δＸ、δＹ））のうち、Ｘ軸用のレーザー干渉位置測定装置２３の出力Ｘ軸から移動量δＸを取り出し、図１の「伝達関数フィードバック制御装置３２のＸ軸」に入力する。

「伝達関数フィードバック装置Ｘ軸」は、上記入力された「δＸ」をもとに、既述した図３の（ｂ−１）の右側の式中の「Ｋ１δＸ」に代入して移動量を算出し、当該移動量に対応する信号（電圧あるいは電流）を「Ｘ軸電子ビーム偏向装置４」に入力する。

「Ｘ軸電子ビーム偏向装置４」は、電子ビーム２を偏向し、「ＤＣからドリフト」の画像振動を無くし、ないし低減する。

同様に、「ＤＣからドリフト」のＹ軸についても実施する。

同様に、「共振周波数１」、「共振周波数２」のＸ、Ｙについても既述した図３の（ｂ−２），（ｂ−３）の式に従い、電子ビーム２を偏向し、「共振周波数１」、「共振周波数２）の画像振動を無くし、ないし低減する。

以上によって、レーザー干渉位置測定装置で測定したフォトマスク１２のバーミラー１３の振動をもとに（あるいは後述する画像から求めた振動をもとに）、図３の（ｂ−１）から（ｂ−３）で求めたパラメータ（振幅と位相の組）にそれぞれ従い、電子ビーム２をそれぞれ偏向して画像振動を「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」について独立して無くし、ないし低減することが可能となる。

図５は、本発明の説明図（その４）を示す。図５は、電子ビーム装置４１を強制加振し、既述した図３の（ｂ−１）、（ｂ−２），（ｂ−３）のパラメータ（Ｋ１からＫ６）を算出し、フィードバック制御装置３２に設定し、負帰還制御して画像振動を無くし、ないし低減する様子を示す。

図５において、電子ビーム装置４１は、画像振動の抑制の対象となる例えば走査型電子顕微鏡である。

加振装置４２は、強制的に加振信号４３を電子ビーム装置４１に供給するものである。

加振信号４３は、加振装置４２で加振されて電子ビーム装置４１を振動を与える信号である。

画像解析装置４４は、電子ビーム装置４１である例えば走査型電子顕微鏡で細く絞った電子ビームをフォトマスクなどに照射してそのときに放出された２次電子を検出・増幅して生成した画像（２次電子画像）を画像解析（例えば２次元周波数分析）し、既述した「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」における振動の振幅と位相の組（パラメータ）を算出するものである（例えば既述した図３の（ｂ）のＫ１からＫ６）。

ディスプレイ４５は、画像解析装置４４の結果（「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」における振動の振幅と位相の組（パラメータ））などを表示するものである。

キーボード４６は、ディスプレイ４５上に表示されたパラメータを、パラメータ入力装置４７を介して入力するものである。

フィードバック制御装置３２は、図１で既述したフィードバック制御装置であって、パラメータの設定された式（例えば既述した図３の（ｂ−１）、（ｂ−２），（ｂ−３）のパラメータの設定された式）に従い、電子ビーム２を偏向し、画像振動を「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」などについて個別、独立に画像の振動を無くし、ないし低減するように補正するものである。

ここで、図５において、画像振動の主成分はステージ共振であり、おおよそ５０Ｈｚから２００Ｈｚの範囲にある。エネルギー一定の元では機械系の振幅は周波数の自乗分の１で急速に小さくなるため、周波数が１ケタ上がると、振幅は２ケタ小さくなるため、振幅の大きい順に上位２つ程度の共振周波数を制御することで実用上十分画像の振動抑制が実現できる。

設置環境振動による自然振動は振動振幅が小さいので、パラメータの精密抽出や調整には不都合である。装置の共振周波数をより正確に知るためには、図５に示したような加振機を利用して０Ｈｚから１ＫＨｚ程度までの振動成分を含む十分な振幅のサイン波やスイープ波あるいは疑似ホワイトノイズを加振して、画像に含まれている共振周波数を特定することが望ましい。

図６および図７をもとに、共振周波数を特定する方法について説明する。

図６は、本発明の説明図（その５）を示す。図６は、画像を２次元周波数分析して共振周波数Ｆ１，共振周波数Ｆ２などの振幅と位相の組を算出する様子を模式的に示したものである。

図６の（ａ）は２次元フーリエ変換式の公知の例を示し、図６の（ｂ）は取得画像から共振周波数Ｆ１、Ｆ２の大きさ（振幅）と位相の組を求める様子を模式的に示す。

図６の（ｂ−１）は、取得画像を示す。取得画像は、疑似ノイズ振動加振した状態で取得したものであって、例えば既述した図５で加振装置４２で加振信号４３を電子ビーム装置４１に印加した状態で、画像を取得する（細く絞った電子ビーム２をフォトマスク１２に照射しつつ平面走査し、そのときに放出された２次電子を検出・増幅して画像を生成する）。

図６の（ｂ−２）は、ＦＦＴ（２次元周波数分析）を行う。これは、図６の（ｂ−１）で取得した画像について、既述した図６の（ａ）の２次元フーリエ変換を行う。

図６の（ｂ−３）は、成分分離（Ｘ軸）を行う様子を示す。これにより、画像振動のうちのＸ軸について、例えば図示の
・共振周波数Ｆ１（Ｈｚ），大きさＡ１，位相Ｐ１
・共振周波数Ｆ２（Ｈｚ），大きさＡ２，位相Ｐ２
が算出される。

図６の（ｂ−４）は、成分分離（Ｙ軸）を行う様子を示す。これにより、画像振動のうちのＹ軸について、例えば図示の
・共振周波数Ｆ１（Ｈｚ），大きさＡ３，位相Ｐ３
・共振周波数Ｆ２（Ｈｚ），大きさＡ４，位相Ｐ４
が算出される。

図６の（ｂ−５）は、ピクセルクロックから実時間周波数に戻す。

以上によって、取得画像から２次元周波数分析を行い、共振周波数１、共振周波数２の振幅と位相の組をそれぞれ算出することが可能となる。

図７は、本発明の説明図（その６）を示す。図７は、２次元ＦＦＴ画像の例を示す。これは、既述した図６の（ｂ−２）の２次元ＦＦＴを行った後の画像の例を示す。横方向がＸ軸を表し、縦方向が軸を表す。

・Ｘ軸 空間周波数１、およびＸ軸 空間周波数２は、縦方向のラインとして図示のように現れる。

同様に、
・Ｙ軸 空間周波数１、およびＹ軸 空間周波数２は、横方向のラインとして図示のように現れる。

以上のように、図６の（ａ）で取得した画像を２次元ＦＦＴ解析すると、図７に示すような縦線あるいは横線を含む図形が得られる。例えばＸ軸に垂直に立つ線は画像にＸ軸方向に空間周波数Ｆ１、Ｆ２を持つ成分が含まれていることを示している。同様にＹ軸方向の線は図形に空間周波数Ｆ1、Ｆ２が含まれていることを示している。

これらは、静止図形に含まれる空間周波数の値なので、その値にピクセルクロックを掛けることにより、実時間における振動数に変換する（サイクル/ピクセルからサイクル/秒）。これにより、実時間で計測されているレーザー干渉位置装置２３の出力結果と比較できるようになる。大きな振幅を持つものを制御対象として選定する。装置の機械的共振周波数は装置の材料や寸法で決定され、パラメータは装置固有値である。大きな経年変化やハードウエアー交換をしない限りほぼ一定であり、一度装置の共振周波数を測定すれば、長期間にわたって同じ測定値を使用できる。

図８は、本発明の説明図（その７）を示す。

図８の（ａ）は、ＸおよびＹ軸のレーザー干渉位置測定装置２３の実測の出力信号の例を示す。レーザー干渉位置測定装置２３の出力信号は干渉計を構成するレーザーパスの距離の時間変化を表現したもので、実時間信号である。

図８の（ｂ）は、実時間フィルターとして共振周波数以下のローパスフィルターの例を示す。ここでは、０から１０Ｈｚのローパスフィルターを用いた。

図８の（ｃ）は、図８の（ｂ）のローパスフィルターを通過後の信号の例を示す。図８の（ｃ）の信号には、図示のように、レーザー干渉位置測定装置２３の出力波形にドリフト成分と複数の振動成分を含んでいる。この波形は、制御対象の共振周波数より十分に低い周波数にカットオフ周波数を持つ（例えば０から１０Ｈｚ）実時間ローパスフィルターを用いてレーザー干渉位置測定装置２３の出力波形に対して信号処理を行うと、振動成分が除去されて図８の（ｃ）に示したようなステージのドリフト成分がリアルタイムで抽出できる。この信号がドリフト補正信号の元に成る。低い周波数成分に関しては、振幅や位相のずれがほとんどないため、ほぼ上記方法で分離した信号を電子ビーム偏向制御装置４に入力することで、ドリフト（「ＤＣからドリフト」）を止める（無くし、ないし低減する）ことが出来る。

図９は、本発明の説明図（その８）を示す。

図９の（ａ）は、ＸおよびＹ軸のレーザー干渉位置測定装置２３の実測の出力信号の例を示す。レーザー干渉位置測定装置２３の出力信号は干渉計を構成するレーザーパスの距離の時間変化を表現したもので、実時間信号である。

図９の（ｂ）は、実時間フィルターとして共振周波数に一致したバンドパスフィルター群の例を示す。ここでは、共振周波数１、共振周波数２を中心周波数とした２つのバンドパスフィルターである。

図９の（ｃ）はバンドパスフィルターを作用させた例を示す。

図９の（ｃ−１），（ｃ−２）は、図９の（ａ）の出力信号に対して図９の（ｂ）の共振周波数１、２に対応する実時間バンドパスフィルターをそれぞれ作用させて、それぞれの共振周波数１，２に対応する信号をリアルタイムで抽出したものである。ここで、図９の（ｃ−１）は例えばステージ振動成分である第１の共振成分（共振周波数１）を表している。図９の（ｃ−２）は例えばステージ振動成分である第２の共振成分（共振周波数２）を表している。これら信号が振動を制御するための電子ビーム２のフィードバック制御信号の元に成る。

レーザー干渉位置測定装置２３から出力される信号は単純な１次元の信号であるため、ここで用いるフィルターは実時間のアナログフィルターあるいはデジタルフィルターを利用することが出来る。振幅あるいは位相あるいは両者を数値で精密に制御できるのでデジタルフィルターが望ましい。

図１０は、本発明の説明図（その９）を示す。図１０は、電子ビーム偏向制御信号の合成例であって、「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」の３つについて個別かつ独立に制御するためのパラメータの設定について説明する。、
（１）パラメータ調整方法：
電子ビーム偏向装置４に入力する信号（画像振動を無くし、あるいは低減する信号）は図１０に示す形式をしている。

・具体的には、振動制御したい振動周波数成分毎に、レーザー出力信号を分離し、それぞれの信号に信号振幅を決めるパラメータと位相を決めるパラメータを設定して波形変換を行い、最終的に全ての振動周波数信号成分を足し算して電子ビーム偏向装置４に出力する。このパラメータを設定することで画像ドリフト（「ＤＣからドリフト」）および画像振動（「共振周波数１」、「共振周波数２」）を止めることが出来る。

（２）ドリフト調整（「ＤＣからドリフト」成分のフィードバック）：
ステージ制御装置を用いて、ステージがＸおよびＹ軸方向に１ミクロン移動したとレーザー干渉位置測定装置２３が出力する移動量の時に、電子ビーム２がＸおよびＹ軸方向に１ミクロンステージ移動方向に偏向するように電子ビーム２の偏向フィードバックゲインを調節することで、電子ビーム走査可能範囲内の任意のステージドリフトが生じた際に画像がドリフトしないようにする（ステージドリフトを打ち消す方向に電子ビームを偏向させてキャンセルし、画像がドリフトしないようにする）ことが出来る。ドリフト調整の場合には、位相の調整はほぼ不要である。

（３）振動調整 （高周波成分（「共振周波数１」、「共振周波数２」）のフィードバック）：
（３−１）図１０の（ａ）は、Ｘ軸について「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」をそれぞれパラメータを設定し、これをもとに振動を電子ビーム２を偏向して画像振動を無くし、ないし低減する。ここで、「ＤＣからドリフト」は（２）で上述した通りである。「共振周波数１」、「共振周波数２」について、振幅と位相のパラメータ（Ａ１，Ｂ１，Ｃ１，Ｄ，Ｅ，Ｆ）を図示のように算出して設定し、これに従い電子ビームを偏向することにより、画像振動を無くし、ないし低減することができる。振動調整については、図１１以降で再度詳細に説明する。

（３−２）同様に、図１０の（ｂ）は、Ｙ軸について「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」をそれぞれパラメータを設定し、これをもとに振動を電子ビーム２を偏向して画像振動を無くし、ないし低減する。

図１１は、本発明の説明図（その１０）を示す。図１１は、１つの高周波成分を調整する例を示す。

図１１の（ａ）は調整前の画像の例を示し、図１１の（ｂ）は調整後の画像の例を示す。

図１１において、フィードバック制御装置３２に設定するパラメータは図１の装置の設置環境に存在する自然振動を用いて行うことも出来るが、振動が小さいとパラメータの精密設定が困難となる。そこで、パラメータ設定が容易になるように、装置の外部あるいは内部に加振装置を既述した図５に示すように配置して自然振動よりも十分大きく揺らし、画像振動の観測および調節がしやすいようにする。加振装置４２としては、Ｂ＆Ｋ等のボイスコイル型加振機、スピーカー、ピエゾセラミック、あるいはインパクトハンマーを利用することも出来る。ボイスコイル型加振機等大きさおよび周波数が一定の連続波が発生できる装置が望ましい。

図１１に示したように、画像に含まれるそれぞれの共振周波数に相当する振動をＸ軸、Ｙ軸それぞれ図５の加振装置４２によって装置に与えながら、画像を取得、ＦＦＴ解析を行い、画像上の振動が現れなくなるように電子ビーム偏向装置３に対して行うフィードバック信号の振幅および位相のパラメータをそれぞれ調節して、事実上振動が無い状態に調節することで、電子顕微鏡として画像観察あるいは測定を行うための任意の画像から振動を除去できるようになる。

（１）先ず、０から１ＫＨｚ程度の周波数から構成される疑似ノイズを用いて加振している状態で、ＳＥＭ画像（２次電子画像）を取得する。取得する画像は解析容易な画像が望ましく、フォトマスク１２上のライン・スペースパターンやドットパターンなど、画像の空間周波数が判明している物が望ましい。画像は蓄積画像でも良いが、周波数分離を容易にするため、必要なＳＮが得られるように照射電流量を増加した状態で１回だけスキャンして得られた画像が望ましい。

（２）得られた画像に対して２次元フーリエ変換を行い、画像に含まれる空間振動成分を抽出する。図１１の（ａ）は、振動を１つだけ含む場合の２次元フーリエ解析結果を示す。図１１の（ａ）で、縦方向に見えるラインが共振周波数成分を現している。Ｘ軸を切る場所が周波数を示しており、空間周波数成分が判明する。この空間周波数に上記ピクセルクロックを掛けることで、実時間上の周波数（Ｈｚ）が判明する。各ピクセルのグレイスケール値が振動の大きさを表している。

（３）この共振振動を制御するためのフィードバックパラメータを調節（既述した図１０の共振周波数１、２のパラメータ、Ｂ１，Ｂ２，Ｃ１，Ｃ２，Ｅ，Ｆなどを調整）して、図１１の（ｂ）に示すように２次元フーリエ解析の結果に共振周波数成分が現れないようにする。２次元フーリエ変換の解析に先ほどの共振振動に由来するパターンが見えなくなったら、フィードバック制御が成功したとする。これらを各軸（Ｘ軸、Ｙ軸）で起こるそれぞれの共振周波数成分に対して行う。

図１２は、本発明の動作説明フローチャートを示す。画像解析等から明らかになっている共振周波数１，２などで加振して振幅と位相のパラメータの組を算出する動作説明フローチャートを示す。

図１２において、Ｓ１は、第１の共振周波数で加振する。これは、画像解析等から予め明らかになっている共振周波数１、２などのうち、最初に第１の共振周波数（共振周波数１）と同一の周波数で加振（サイン波形の周波数で加振）し、強制的に第１の共振周波数で電子ビーム装置４１全体（あるいは必要に応じてＸＹステージなどの部分）を加振し、フォトマスク１２を当該第１の共振周波数で強制的に振動させる。

Ｓ２は、調整用画像を取得し、振動振幅を測定する。これは、Ｓ１で第１の共振周波数でフォトマスク１２を加振した状態で、既述した図９の（ｂ）で第１の共振周波数を通過させるバンドパスフィルターを用いてレーザー干渉位置測定装置２３からの出力信号（Ｘ軸、Ｙ軸別）にフィルターリングして当該第１の共振周波数のみを図９の（ｃ−１）に図示のように抽出し、その振動振幅を測定する。尚、バンドパスフィルタ―として、第１の共振周波数および第２の共振周波数をそれぞれ通過させるバンドパスフィルターを用いれば、図９の（ｃ−１）に図示の第１の共振周波数および図９の（ｃ−２）に図示の第２の共振周波数の振動振幅を同時並列に測定可能となる。この場合には、Ｓ１で第１の共振周波数に加えて第２の共振周波数の両者の加振を行う。また、図９のバンドパスフィルターを用いる代わりに、取得画像から図１１の（ａ）に示す２次元ＦＦＴ画像を取得し、共振周波数の振動成分を測定してもよい。

Ｓ３は、振動が０になるようにパラメータを設定（係数ＡからＣを求めて設定）する。これは、Ｓ２で振動振幅（振動成分）をリアルタイムに表示させた例えば図９の（ｃ−１）の第１の共振周波数の振幅（あるいは図１１の（ａ）の第１の共振周波数の縦棒）が０（振幅が０、あるいは縦棒が消滅）になるように、既述した図１０の（ａ）の振幅の係数Ａ１、Ｂ１、Ｃ１（更に位相の係数Ｄ，Ｅ，Ｆ））を調整（人手で調整あるいは自動的に振動が０となるように調整）し、電子ビーム２を強制的に同期（周波数、振幅、位相）して偏向を行い、結果として、取得画像が振動しないように調整する。

Ｓ４からＳ６は、同様に、第２の共振周波数についてＳ１からＳ３を行う。これにより、第２の共振周波数、更に第３の共振周波数などについて、取得画像の振動が０となる、図１０のパラメータ（振幅の係数Ａ，Ｂ，Ｃ，位相の係数Ｄ，Ｅ，Ｆ）をそれぞれ算出することが可能となる。

Ｓ７は、調整完了する。

以上のＳ１からＳ７によって、電子ビーム装置４１を強制的に共振周波数１，２などで加振して取得画像の振動が０となるパラメータ（周波数、Ｘ軸およびＹ軸用の図１０の振幅の係数Ａ，Ｂ，Ｃ，位相の係数Ｄ，Ｅ，Ｆ）を算出することが可能となる。そして、パラメータの設定した図１０の信号が電子ビーム偏向装置４に送られ、「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」などのドリフト、振動を無くし、ないし低減することができる。

図１３は、本発明の動作説明フローチャート（その２）を示す。図１３は、自動的にパラメータを設定する手順を示す。ここでは、
図１３において、Ｓ１１は、疑似ノイズで加振を行う。共振周波数を求めるために、ＤＣから所定周波数（例えば１ＫＨｚ）までを含む疑似ノイズを発生させて、図５の加振装置４２で加振を行う。

Ｓ１２は、調整用画像を取得する。これは、Ｓ１１で加振した状態で画像を取得する。

Ｓ１３は、２次元ＦＦＴを行う。これは、Ｓ１２で加振した状態で取得した画像について２次元ＦＦＴ解析を行い、例えば既述した図１１の（ａ）の調整前の調整用画像を取得する（そして、ピクセルクロックを勘案して実時間の振動に戻す）。

Ｓ１４は、Ｘ軸、Ｙ軸毎の共振周波数の強度、位相を測定する。これは、Ｓ１３で２次元ＦＦＴ解析した後の画像、例えば図１１の（ａ）の画像上でＸ軸、Ｙ軸毎の共振周波数とその強度、位相を測定する。

以上のＳ１１からＳ２４によって、疑似ノイズ加振した状態における、フォトマスク１２の画像の画像振動（振動情報：Ｘ軸、Ｙ軸毎の共振周波数とその強度、位相）を測定できたこととなる。

Ｓ１５は、Ｘ軸、Ｙ軸レーザー信号を取得する。これは、Ｓ１１の疑似ノイズ加振状態で、Ｓ１１からＳ１４と同時刻におけるレーザー干渉位置測定装置２３からのＸ軸、Ｙ軸毎のレーザー信号（バーミラー１３の振動信号）を取得する。

Ｓ１６は、画像振動とレーザー信号の差を求める。これは、Ｓ１１からＳ１４で取得した疑似ノイズ加振状態における画像振動と、Ｓ１５で取得したレーザー信号との差を求める。

Ｓ１７は、差０となるようにパラメータを設定する。これは、差が０となるように、例えば既述した図１０のパラメータを設定する。そして、図１の電子ビーム偏向装置４に供給してフィードバックし、画像振動を無くし、ないし低減することが可能となる。

Ｓ１８は、調整完了する。

以上により、自動的にパラメータを算出して設定し、画像振動を除去することが出来る。

図１４は、本発明の説明図（その１１）を示す。図１４は、ＸＹステージ１１を一定方向（通常はＹ軸の方向あるいは所定角度方向）に連続移動しつつ直角方向（通常はＸ軸方向あるいは所定角度方向に直角方向）に電子ビーム２で高速走査し、Ｙ軸方向に帯状の連像画像（長い画像）を取得するシステムがある。このシステムでは、ＸＹステージ１１の移動方向が一定でなく左右にドリフトすることが知られている。これを本発明の既述した「ＤＣからドリフト」で目標方向に補正し、かつ「共振周波数１」、「共振周波数２」などの振動補正を行うことが可能である。更に、ＸＹステージ１１の移動方向と直角方向では、「ＤＣからドリフト」、「共振周波数１」、「共振周波数２」などの全ての画像振動を補正できる。以下詳細に説明する。

図１４の（ａ）は、意図した軌道との差分を０にする例を示す。ここで、起点から右上の目標点の向かう直線は、ＸＹステージ１１で移動させたい移動方向（意図して軌道）である。しかし、現実には、ＸＹステージ１１の機械精度や温度変化などにより移動させたい方向がドリフトしてしまい、取得画像が意図した軌道から所定時間で図示のδＳ１やδＳ２だけずれる事態が発生する。このＸＹステージ１１によるずれδＳ１、δＳ２を、既述した電子ビーム２によりその走査位置のフィードバックを掛けるようにする。そうすると、電子ビーム走査位置は両者の位置誤差のみを修正するフィードバックとなるため、ＸＹステージ１１の移動が電子ビーム２の着地点に反映され、かつ、ＸＹステージ１１の移動速度むらが補正され、真っ直ぐに移動するように出来る。さらに、高周波数に関して既述した同様にフィードバックを掛けることにより、画像の縦横両方向（ＸＹ両方向）の画像振動を除去できる。

本制御方法は、ＸＹステージ１１の移動方向が１軸であっても、斜め方向に移動する２軸の移動を行っても同じ制御を用いることが出来る。また、ＸＹステージ１１の速度を変化させても良い。

図１４の（ｂ）は、Ｙ軸に沿ってステージを連続移動したときのＸ軸方向のゆらぎの様子を模式的に示す。ＸＹステージ１１の図示のＸ軸方向の揺らぎにより、既述した図１４の（ａ）の起点から目標点に向かう直線（意図した軌道）からのずれδＳ１、δＳ２が発生する。このずれδＳ１、δＳ２は、上述したように、電子ビーム２で補正（「ＤＣからドリフト」と同様に補正）することが可能である。

本実施例では、レーザー干渉位置測定装置を用いた例を主に説明したが、レーザースケールやマグネスケール、加速度センサー、その他の精密位置測定手段を利用しても測定点の振動と振動抑制したい場所の振動間に伝達効果が存在する場合には本発明は同じ効果が期待できることは言うまでもない。

本発明の１実施例構成図である。 本発明の説明図（その１）である。 本発明の説明図（その２）である。 本発明の説明図（その３）である。 本発明の説明図（その４）である。 本発明の説明図（その５）である。 本発明の説明図（その６）である。 本発明の説明図（その７）である。 本発明の説明図（その８）である。 本発明の説明図（その９）である。 本発明の説明図（その１０）である。 本発明の動作説明フローチャートである。 本発明の動作説明フローチャート（その２）である。 本発明の説明図（その１１）である。 従来技術の説明図である。

１：電子銃
２：電子ビーム
３：電子ビームコラム
４：電子ビーム偏向装置
５：電子検出装置
６：真空チャンバー
７：天板
８：対物レンズ
９：参照ミラー
１０：移動部
１１：ＸＹステージ
１２：フォトマスク
１３：バーミラー
１４：支持系
２１：レーザー
２２：干渉装置
２３：レーザー干渉位置測定装置
３１：弟子ビームコラム制御装置
３２：フィードバック制御装置
３３：画像形成装置
３４：ステージ制御装置
３５：ＰＣ（パソコン）
３６：ＤＩＳＰＬＡＹ
４１：電子ビーム装置
４２：加振装置
４３：加振信号
４４：画像解析装置
４５：ディスプレイ
４６：キーボード
４７：パラメータ入力装置

Claims (9)

1. 電子を細く絞って試料に照射しつつ平面走査して当該試料から放出あるいは反射あるいは吸収された電子を検出・増幅して生成する画像の振動を抑制する画像振動抑制装置において、
   前記電子を細く絞って試料に照射する位置を偏向する偏向装置と、
   前記試料を固定した移動部と該移動部をＸ方向およびＹ方向に移動可能なステージと、
   前記試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するために、前記移動部あるいは前記ステージに固定したミラーと、
   前記ミラーにレーザーを照射してその入射波および反射波をもとに試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するレーザー干渉位置測定装置と、
   前記レーザー干渉位置測定装置で測定した試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動のうち、Ｘ方向およびＹ方向のドリフトに関して当該ドリフトに従い前記偏向装置にフィードバック制御して試料を照射する位置のドリフトを無くしあるいは低減すると共に、Ｘ方向およびＹ方向の高い周波数の振動成分に関して共振周波数あるいは振幅の大きい周波数あるいは両者について１つあるいは複数の周波数を抽出し、当該抽出した１つあるいは複数の周波数の振幅および位相に従い前記偏向装置にフィードバック制御して試料に電子線を照射する位置の当該抽出した１つあるいは複数の周波数の振動成分の振幅および位相の差をそれぞれ個別かつ独立に制御して無くしあるいは低減する制御手段と
   を備えたことを特徴とする画像振動抑制装置。
2. 前記Ｘ方向およびＹ方向の振動の共振周波数あるいは振幅の大きい周波数は、前記試料を固定したステージあるいは該ステージを固定した装置あるいは装置を設置した接地面を強制的に加振し、そのときの試料の振動を前記レーザー干渉位置測定装置で測定して前記制御手段で制御するパラメータを、共振周波数あるいは振幅の大きい周波数あるいは両者について１つあるいは複数の周波数についてそれぞれ取得し、これを予めそれぞれ設定することを特徴とする請求項１記載の画像振動抑制装置。
3. 前記画像の共振周波数および位相は、取得した画像に対して２次元周波数分析を行って共振周波数毎に振幅および位相をそれぞれ算出したことを特徴とする請求項１から請求項２のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
4. 前記試料のドリフトは、前記レーザー干渉位置測定装置の出力信号をローパスフィルタを通過させてＤＣあるいはＤＣ成分と低周波成分のドリフト量を算出したことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
5. 前記試料の振動は、前記レーザー干渉位置測定装置の出力信号をバンドパスフィルタを通過させて当該試料の振動成分の周波数および位相をそれぞれ算出したことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
6. 前記制御手段は、前記試料のドリフトおよび前記試料の振動から算出したドリフト量と、１あるいは複数の周波数と位相の組をもとに、前記偏向装置をフィードバック制御することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
7. 前記制御手段は、前記ステージをＸ方向あるいはＹ方向のいずれか１方向に連続移動させ、ステージ移動方向の直角方向についてそのドリフト量と、１あるいは複数の周波数と位相の組をもとに、前記偏向装置にフィードバック制御することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
8. 前記レーザー干渉位置測定装置が
   前記移動部あるいは前記ステージに固定したミラーと、
   前記ミラーにレーザーを照射してその入射波および反射波をもとに試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するレーザー干渉計と
   からなることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の画像振動抑制装置。
9. 電子を細く絞って試料に照射しつつ平面走査して当該試料から放出あるいは反射あるいは吸収された電子を検出・増幅して生成する画像の振動を抑制する画像振動抑制方法において、
   前記電子を細く絞って試料に照射する位置を偏向する偏向装置と、
   前記試料を固定した移動部と該移動部をＸ方向およびＹ方向に移動可能なステージと、
   前記試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するために、前記移動部あるいは前記ステージに固定したミラーと、
   前記ミラーにレーザーを照射してその入射波および反射波をもとに試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動を検出するレーザー干渉位置測定装置とを設け、
   制御手段は、前記レーザー干渉位置測定装置で測定した試料のＸ方向およびＹ方向のドリフトおよび振動のうち、Ｘ方向およびＹ方向のドリフトに関して当該ドリフトに従い前記偏向装置にフィードバック制御して試料を照射する位置のドリフトを無くしあるいは低減すると共に、Ｘ方向およびＹ方向の高い周波数の振動成分に関して共振周波数あるいは振幅の大きい周波数あるいは両者について１つあるいは複数の周波数を抽出し、当該抽出した１つあるいは複数の周波数の振幅および位相に従い前記偏向装置にフィードバック制御して試料に電子線を照射する位置の当該抽出した１つあるいは複数の周波数の振幅および位相の差をそれぞれ個別かつ独立に制御して無くしあるいは低減する
   ことを特徴とする画像振動抑制方法。