JP2006252800A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
走査型電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006252800A JP2006252800A JP2005063770A JP2005063770A JP2006252800A JP 2006252800 A JP2006252800 A JP 2006252800A JP 2005063770 A JP2005063770 A JP 2005063770A JP 2005063770 A JP2005063770 A JP 2005063770A JP 2006252800 A JP2006252800 A JP 2006252800A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image information
- unit
- stage
- image
- information
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20292—Means for position and/or orientation registration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/221—Image processing
Abstract
【解決手段】 画像処理部26において、計測手段18から、電子ビームを走査する際のステージおよび試料室の壁面の相対位置情報を取得し、この相対位置情報に基づいて、画素位置補正手段97は、この走査で取得された画像情報に画素位置補正を行い、画像生成手段98は、この画素位置補正で生じる画素抜けあるいは画素の重複を無くす画像生成を行い、画像切り出し手段99は、表示画像の切り出しを行うこととしているので、電子ビームの走査中にステージが振動する際の画像情報への影響を、簡便にしかも確実に除去することを実現させる。
【選択図】 図1
Description
また、請求項3に記載の発明にかかる走査型電子顕微鏡は、請求項2の発明において、前記計測手段が、前記平面内の直交する2方向の相対位置情報を計測することを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明にかかる走査型電子顕微鏡は、請求項1ないし3のいずれか1つの発明において、前記計測手段が、前記相対位置情報を取得するレーザー測長計、リニアスケール位置計あるいは静電容量変位計を備えることを特徴とする。
また、請求項5に記載の発明にかかる走査型電子顕微鏡は、請求項1ないし4のいずれか1つの発明において、前記計測手段が、前記相対位置情報を、前記走査の垂直走査の繰り返しで取得される画像情報であるフレームごと、前記走査の水平走査の繰り返しで取得される画像情報であるラインごとあるいは前記ラインを整数分の1にした画像情報である分割ラインごとに計測することを特徴とする。
また、請求項7に記載の発明にかかる走査型電子顕微鏡は、請求項1ないし6のいずれか1つの発明において、前記画像生成手段が、前記位置補正により複数の画像情報を有する画素位置で、前記複数の画像情報の平均値を新たな画像情報とすることを特徴とする。
また、請求項8に記載の発明にかかる走査型電子顕微鏡は、請求項1ないし7のいずれか1つの発明において、前記画像生成手段が、前記位置補正により画像情報が欠落する画素位置で、前記欠落する画素位置に隣接する複数の画素位置の画像情報あるいは取得時間が隣接する複数枚の画像情報の同一画素位置の画像情報による補間演算値を新たな画像情報とすることを特徴とする。
まず、本実施の形態にかかる走査型電子顕微鏡10の全体構成について、図2を用いて説明する。図2は、走査型電子顕微鏡10の全体構成を示す断面図である。走査型電子顕微鏡10は、鏡筒部20、試料室30および回路部40からなる。そして、鏡筒部20は、電子銃11、集束レンズ12、偏向コイル13および対物レンズ14を含み、試料室30は、ステージ部17および試料15を含み、回路部40は、駆動回路22〜24、制御部25、センサ21を含む検出部16、入力部27、表示部19、計測手段18および画像処理部26を含む。
Xn′=Xn−ΔXn
Yn′=Yn−ΔYn
で表される。
また、本実施の形態では、計測手段18としてレーザー測長計を用いた例を示したが、ステージ部17に取り付けられるステージ73と基盤71の相対位置を計測するリニアスケールあるいはステージ73と試料室30あるいは鏡筒部20間に設けられた静電容量変位計等を用いることもできる。
2 レーザー光線
10 走査型電子顕微鏡
11 電子銃
12 集束レンズ
13 偏向コイル
14 対物レンズ
15 試料
16 検出部
17 ステージ部
18 計測手段
19 表示部
20 鏡筒部
21 センサ
22 駆動回路
25 制御部
26 画像処理部
27 入力部
30 試料室
40 回路部
71 基盤
72 ベース
73 ステージ
74 ミラー
76 Yアーム駆動部
77 Yアーム
78 Xアーム
79 Xアーム駆動部
81 干渉形ユニット
83 光透過窓
85 ベンダー
87 レシーバ
89 ビームスプリッタ
90 レーザー発信器
96 保存手段
97 画素位置補正手段
98 画像生成手段
99 画像切り出し手段
Claims (8)
- 電子ビームを発生し、前記電子ビームを走査して試料に照射する鏡筒部と、
前記鏡筒部と一体をなす試料室の内部に配設され、前記試料を載置するステージを有するステージ部と、
前記鏡筒部あるいは前記試料室に配設され、前記照射により前記試料から発生する放射線を検出する検出部と、
前記放射線の強度情報を、前記照射の照射位置と対応するメモリ上の画素位置に、画像情報として保存する保存手段と、
前記鏡筒部あるいは前記試料室、並びに、前記ステージの間の相対位置情報を前記走査に同期して計測する計測手段と、
前記相対位置情報の変化に基づいて、前記保存された画像情報の画素位置に、前記変化を打ち消す位置補正を行う画素位置補正手段と、
前記位置補正により画像情報が欠落あるいは重複する画素位置で、新たな画像情報を生成する画像生成手段と、
を備えることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 前記ステージ部は、前記ステージを、前記電子ビームの進行方向と概ね直交する平面内で移動させる駆動部を備えることを特徴とする請求項1に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記計測手段は、前記平面内の直交する2方向の相対位置情報を計測することを特徴とする請求項2に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記計測手段は、前記相対位置情報を取得するレーザー測長計、リニアスケール位置計あるいは静電容量変位計を備えることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記計測手段は、前記相対位置情報を、前記走査の垂直走査の繰り返しで取得される画像情報であるフレームごと、前記走査の水平走査の繰り返しで取得される画像情報であるラインごとあるいは前記ラインを整数分の1にした画像情報である分割ラインごとに計測することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記画素位置補正手段は、前記位置補正を、前記フレーム、前記ラインあるいは前記分割ラインごとに取得される画像情報を1つの補正単位として行うことを特徴とする請求項5に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記画像生成手段は、前記位置補正により複数の画像情報を有する画素位置で、前記複数の画像情報の平均値を新たな画像情報とすることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記画像生成手段は、前記位置補正により画像情報が欠落する画素位置で、前記欠落する画素位置に隣接する複数の画素位置の画像情報あるいは取得時間が隣接する複数枚の画像情報の同一画素位置の画像情報による補間演算値を新たな画像情報とすることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記載の走査型電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005063770A JP4607624B2 (ja) | 2005-03-08 | 2005-03-08 | 走査型電子顕微鏡 |
US11/344,804 US7351970B2 (en) | 2005-03-08 | 2006-02-01 | Scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005063770A JP4607624B2 (ja) | 2005-03-08 | 2005-03-08 | 走査型電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006252800A true JP2006252800A (ja) | 2006-09-21 |
JP4607624B2 JP4607624B2 (ja) | 2011-01-05 |
Family
ID=37069187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005063770A Expired - Fee Related JP4607624B2 (ja) | 2005-03-08 | 2005-03-08 | 走査型電子顕微鏡 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7351970B2 (ja) |
JP (1) | JP4607624B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014191862A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Hitachi High-Tech Science Corp | 荷電粒子ビーム装置および観察像形成方法 |
JP2015162396A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP2015170539A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥観察装置及びその方法 |
JP2016139466A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社ホロン | 画像振動低減装置 |
KR20200112638A (ko) * | 2019-03-22 | 2020-10-05 | 주식회사 히타치하이테크 | 전자빔 장치 및 화상 처리 방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3163597A1 (en) * | 2015-11-02 | 2017-05-03 | FEI Company | Charged particle microscope with vibration detection/correction |
JP6633986B2 (ja) * | 2016-07-20 | 2020-01-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6123317A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH05290787A (ja) * | 1992-04-08 | 1993-11-05 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH10208679A (ja) * | 1997-01-27 | 1998-08-07 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH11213932A (ja) * | 1998-01-23 | 1999-08-06 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における試料装置 |
JP2001155673A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6172363B1 (en) * | 1996-03-05 | 2001-01-09 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
JP3349504B1 (ja) | 2001-08-03 | 2002-11-25 | 株式会社日立製作所 | 電子線描画装置および電子顕微鏡 |
-
2005
- 2005-03-08 JP JP2005063770A patent/JP4607624B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-02-01 US US11/344,804 patent/US7351970B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6123317A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH05290787A (ja) * | 1992-04-08 | 1993-11-05 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH10208679A (ja) * | 1997-01-27 | 1998-08-07 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH11213932A (ja) * | 1998-01-23 | 1999-08-06 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における試料装置 |
JP2001155673A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014191862A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Hitachi High-Tech Science Corp | 荷電粒子ビーム装置および観察像形成方法 |
JP2015162396A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP2015170539A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥観察装置及びその方法 |
JP2016139466A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社ホロン | 画像振動低減装置 |
KR20200112638A (ko) * | 2019-03-22 | 2020-10-05 | 주식회사 히타치하이테크 | 전자빔 장치 및 화상 처리 방법 |
KR102319824B1 (ko) * | 2019-03-22 | 2021-11-02 | 주식회사 히타치하이테크 | 전자빔 장치 및 화상 처리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4607624B2 (ja) | 2011-01-05 |
US7351970B2 (en) | 2008-04-01 |
US20060219911A1 (en) | 2006-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4607624B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP3767341B2 (ja) | 電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 | |
JP2006332296A (ja) | 電子ビーム応用回路パターン検査における焦点補正方法 | |
JP2001116869A (ja) | サンプル検査及び/又は処理装置 | |
JP2010080144A (ja) | 複合型顕微鏡装置及び試料観察方法 | |
JP2018005974A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2014142236A1 (ja) | 気体中走査型電子顕微鏡 | |
JP2006173038A (ja) | 荷電粒子線装置、試料像表示方法及びイメージシフト感度計測方法 | |
JP2011003480A (ja) | Sem式外観検査装置およびその画像信号処理方法 | |
JP5477718B2 (ja) | 形状測定装置 | |
JP2002286663A (ja) | 試料分析および試料観察装置 | |
JP4111218B2 (ja) | 電子線画像処理方法及びその装置 | |
JP6499871B2 (ja) | 画像振動低減装置 | |
JP5103253B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2012015227A (ja) | 電子線装置の位置決め方法及び装置 | |
JP2022015158A (ja) | 走査透過電子顕微鏡 | |
KR20160067750A (ko) | 하전 입자 빔 장치 및 화상 취득 방법 | |
JP6565601B2 (ja) | 画像補正装置 | |
JP6796609B2 (ja) | 収差測定方法および電子顕微鏡 | |
JP6450153B2 (ja) | X線像撮像用ユニット、電子顕微鏡及び試料像取得方法 | |
JP6782803B2 (ja) | 画像振動低減装置および方法 | |
JP2007194060A (ja) | 走査型電子顕微鏡における電子レンズの自動軸調整方法及び装置 | |
JP2019053927A (ja) | 測定方法および電子顕微鏡 | |
JP7428578B2 (ja) | マルチビーム画像生成装置およびマルチビーム画像生成方法 | |
JP2010015731A (ja) | 走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡における画像の改良方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101005 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101007 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |