JP6927904B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
F(s)=(s2+ω2) / (s2+Qωs+ω2)
ここで、sはラプラス演算子、ωは除外される振動周波数成分の角周波数、Qは除外される振動周波数成分の先鋭度である。
yd(fi)=ys(fi)-y0(fi) (i=1,2,…m)
ここで、yd は差分の計算結果、ysは移動直後のSEM画像の周波数解析の結果、y0は参照画像の周波数解析の結果、fiは任意の周波数である。
A(t)=A0exp(−t/ζ)
ここで、A(t)は時刻tのときの振幅、A0は定数、ζは減衰係数である。
ζ=1/2×ln(a1/a3) / (2×π)
S908では、特定された振動周波数をXYステージの駆動信号から除外する制御パラメータが算出される。算出された制御パラメータは移動開始点及び移動終了点と対応付けられて記憶部305のパラメータマップ401に格納される。パラメータマップ401が十分に満たされるまでS901からS908までの処理の流れが繰り返されることにより、パラメータマップ401が作成される。
タプログラムまたはコンピュータ読み取り可能なCD−ROMなどの記録媒体で実現され
てもよく、装置、システム、集積回路、コンピュータプログラム及び記録媒体の任意な組
み合わせで実現されてもよい。
Claims (7)
- 試料が配置されるXYステージと、前記試料へ荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって前記試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号に基づいて前記試料のSEM画像を生成する画像生成部と、を備える荷電粒子線装置であって、
前記XYステージの移動開始点と移動終了点に基づいて制御パラメータを設定し、前記XYステージを移動させる駆動部を前記制御パラメータにより制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、移動開始点と移動終了点の組毎に前記制御パラメータが格納されるパラメータマップを記憶する記憶部を有し、
与えられた移動開始点及び移動終了点と前記パラメータマップとに基づいて前記制御パラメータを設定し、
前記パラメータマップは、前記XYステージを移動させた後に取得されるSEM画像の周波数解析の結果に基づいて作成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料が配置されるXYステージと、前記試料へ荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって前記試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号に基づいて前記試料のSEM画像を生成する画像生成部と、を備える荷電粒子線装置であって、
前記XYステージの移動開始点と移動終了点に基づいて制御パラメータを設定し、前記XYステージを移動させる駆動部を前記制御パラメータにより制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、移動開始点と移動終了点の組毎に前記制御パラメータが格納されるパラメータマップを記憶する記憶部を有し、
与えられた移動開始点及び移動終了点と前記パラメータマップとに基づいて前記制御パラメータを設定し、
前記パラメータマップは、前記XYステージが定常状態であるときのSEM画像である参照画像と前記XYステージを移動させた後に取得されるSEM画像との周波数解析の結果に基づいて作成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料が配置されるXYステージと、前記試料へ荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって前記試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号に基づいて前記試料のSEM画像を生成する画像生成部と、を備える荷電粒子線装置であって、
前記XYステージの移動開始点と移動終了点に基づいて制御パラメータを設定し、前記XYステージを移動させる駆動部を前記制御パラメータにより制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、移動開始点と移動終了点の組毎に前記制御パラメータが格納されるパラメータマップを記憶する記憶部を有し、
与えられた移動開始点及び移動終了点と前記パラメータマップとに基づいて前記制御パラメータを設定し、
前記パラメータマップは、前記XYステージの案内機構または駆動部の変化によって前記SEM画像に含まれる振動の振幅が所定の閾値以上になったときに更新されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置であって、
前記パラメータマップの更新前後のSEM画像をそれぞれ表示することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料が配置されるXYステージと、前記試料へ荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって前記試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号に基づいて前記試料のSEM画像を生成する画像生成部と、を備える荷電粒子線装置であって、
前記XYステージの移動開始点と移動終了点に基づいて制御パラメータを設定し、前記XYステージを移動させる駆動部を前記制御パラメータにより制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、特定の振動周波数成分を除外するフィルタリング処理を行うフィルタ処理部を有し、
前記フィルタ処理部により除外される振動周波数成分は、前記XYステージを移動した後に取得されるSEM画像の周波数解析の結果に基づいて特定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5に記載の荷電粒子線装置であって、
前記フィルタ処理部により除外される振動周波数成分は、前記周波数解析の結果において所定の閾値以上の振幅を有する周波数であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5に記載の荷電粒子線装置であって、
前記フィルタ処理部により除外される振動周波数成分は、前記XYステージを移動した後に異なる時刻で取得される各SEM画像の周波数解析の結果に基づいて求められる振幅の減衰係数が所定の閾値以上の周波数であることを特徴とする荷電粒子線装置。
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