JP6699283B2 - 薬注制御方法及び薬注制御装置 - Google Patents
薬注制御方法及び薬注制御装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6699283B2 JP6699283B2 JP2016061472A JP2016061472A JP6699283B2 JP 6699283 B2 JP6699283 B2 JP 6699283B2 JP 2016061472 A JP2016061472 A JP 2016061472A JP 2016061472 A JP2016061472 A JP 2016061472A JP 6699283 B2 JP6699283 B2 JP 6699283B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor value
- value
- chemical injection
- predicted
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 213
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims description 205
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims description 205
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 125
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 70
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 60
- 229940079593 drug Drugs 0.000 claims description 60
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 24
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000002455 scale inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
水質センサ5による今回の測定(測定時刻Tn)でのセンサ値Snと、前回の測定(測定時刻Tn−1)でのセンサ値Sn−1を用いて、次回の測定(測定時刻Tn+1)での予測センサ値ESn+1を以下の式から算出する。
Sn−Sn−1≧0の場合: 予測センサ値ESn+1=Sn+(Sn−Sn−1)
Sn−Sn−1<0の場合: 予測センサ値ESn+1=Sn
ESn+1<Sminの場合: 薬注濃度Cn=Cmin
Smin≦ESn+1≦Smaxの場合: 薬注濃度Cn=Cmin+(ESn+1−Smin)×(Cmax−Cmin)/(Smax−Smin)
ESn+1>Smaxの場合: 薬注濃度Cn=Cmax
予測センサ値ESn+1の求め方は基本制御と同じである。薬注濃度Cnを以下の式から算出する。
ESn+1<Sminの場合: 薬注濃度Cn=Cmin
Smin≦ESn+1≦SmaxかつSn>Sn−1の場合: 薬注濃度Cn=Cmin+(ESn+1−Smin)×(Cmax−Cmin)/(Smax−Smin)+X1, X1は正の実数
Smin≦ESn+1≦SmaxかつSn≦Sn−1の場合: 薬注濃度Cn=Cmin+(ESn+1−Smin)×(Cmax−Cmin)/(Smax−Smin)
ESn+1>Smaxの場合: 薬注濃度Cn=Cmax
薬注濃度Cn=Cmin+(ESn+1−Smin)×(Cmax−Cmin)×X2/(Smax−Smin), X2は1より大きい実数
第2応用制御では、今回の測定(測定時刻Tn)でのセンサ値Sn、前回の測定(測定時刻Tn−1)でのセンサ値Sn−1に加えて、前々回の測定(測定時刻Tn−2)でのセンサ値Sn−2を用いて予測センサ値ESn+1を算出する。
ΔS(n−2_n−1)=Sn−1−Sn−2
ΔS(n−1_n)=Sn−Sn−1
ΔS(n−1_n)−ΔS(n−2_n−1)≧0の場合: 予測差分ΔS(n_n+1)=ΔS(n−1_n)+(ΔS(n−1_n)−ΔS(n−2_n−1))
ΔS(n−1_n)−ΔS(n−2_n−1)<0の場合: 予測差分ΔS(n_n+1)=ΔS(n−1_n)
予測差分ΔS(n_n+1)≧0の場合: 予測測センサ値ESn+1=Sn+予測差分ΔS(n_n+1)
予測差分ΔS(n_n+1)<0の場合: 予測測センサ値ESn+1=Sn
時刻Tn−1から時刻Tnの間でセンサ値を複数回サンプリングしてセンサ値Sn_mを求める。水質センサ5からセンサ値Sn、Sn−1等をサンプリングする第1サンプリング周期よりも、センサ値Sn_mをサンプリングする第2サンプリング周期の方が短い。センサ値Snがセンサ値Sn−1から減少していた場合でも、時刻Tn−1から時刻Tnの間で複数回サンプリングした内で最も時刻Tnに近いタイミングでサンプリングしたセンサ値Sn_m(last)がセンサ値Sn_m(last)−1から増加していた場合は、その傾き(増加分)を元に、予測センサ値ESn+1を算出する。
Sn−Sn−1≧0の場合: 予測センサ値ESn+1=Sn+(Sn−Sn−1)
Sn−Sn−1<0かつSn_m(last)−Sn_m(last)−1≧0の場合: 予測センサ値ESn+1=Sn+(Sn_m(last)−Sn_m(last)−1)
Sn−Sn−1<0かつSn_m(last)−Sn_m(last)−1<0の場合: 予測センサ値ESn+1=Sn
第3応用制御と同様に、時刻Tn−1から時刻Tnの間でセンサ値を複数回サンプリングしてセンサ値Sn_mを求め、複数のサンプリング値のうちの最大値Sn_m(max)を予測センサ値ESn+1とする。予測センサ値ESn+1から薬注濃度Cnを算出する方法は基本制御と同じである。
予測センサ値ESn+1=Sn_m(max)
表1は、基本制御による制御例を示すものである。
基本制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が増加した後に減少し、その後ほぼ一定となること以外は、実施例1と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表2に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図4に示す。
基本制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が減少後ほぼ一定となること以外は、実施例1と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表3に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図5に示す。
基本制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が減少した後に増加し、その後ほぼ一定となること以外は、実施例1と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表4に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図6に示す。
硬度成分濃度が増加後、ほぼ一定となる給水に対し、第2応用制御による薬注制御を行った。制御結果を表5に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図7に示す。表5の差分ΔS(n−1_n)は当該時刻のセンサ値と、前回測定のセンサ値との差分である。予測差分ΔS(n_n+1)は、当該時刻のセンサ値と予測センサ値との差分であり、予測差分ΔS(n_n+1)に当該時刻のセンサ値を加算したものが予測センサ値となる。
第2応用制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が増加した後に減少し、その後ほぼ一定となること以外は、実施例5と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表6に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図8に示す。
第2応用制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が減少後ほぼ一定となること以外は、実施例5と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表7に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図9に示す。
第2応用制御による薬注制御対象の給水中の硬度成分濃度が減少した後に増加し、その後ほぼ一定となること以外は、実施例5と同様にして薬注制御を行った。制御結果を表8に示し、必要薬注濃度及び薬注濃度Cnの変遷を図10に示す。
3 タンク
4 ユースポイント
5 水質センサ
7 薬注ポンプ
8 流量計
Claims (11)
- 水質センサで給水中の水質を検出し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、薬注装置によって該給水に薬注する薬注制御方法において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、薬注する薬注制御方法であって、
今回センサ値が前回センサ値より大きい場合、今回センサ値と前回センサ値との差分を今回センサ値に加算して予測センサ値を算出することを特徴とする薬注制御方法。 - 水質センサで給水中の水質を検出し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、薬注装置によって該給水に薬注する薬注制御方法において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、薬注する薬注制御方法であって、
今回センサ値が前回センサ値より小さい場合、予測センサ値を今回センサ値と同じにすることを特徴とする薬注制御方法。 - 水質センサで給水中の水質を検出し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、薬注装置によって該給水に薬注する薬注制御方法において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、薬注する薬注制御方法であって、
今回センサ値と前回センサ値との第1差分、及び前回センサ値と前々回センサ値との第2差分を求め、
該第1差分が該第2差分以上の場合、該第1差分に、該第1差分と該第2差分との差分を加算した値を予測差分とし、
該第1差分が該第2差分より小さい場合、該第1差分を予測差分とし、
今回センサ値に該予測差分を加算して予測センサ値を算出することを特徴とする薬注制御方法。 - 水質センサで給水中の水質を検出し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、薬注装置によって該給水に薬注する薬注制御方法において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、薬注する薬注制御方法であって、
前記水質センサによるセンサ値を前記第1サンプリング周期より短い第2サンプリング周期でサンプリングし、
該第1サンプリング周期での今回センサ値が前回センサ値より小さく、かつ該今回センサ値の直前で該第2サンプリング周期でのセンサ値が増加していた場合、増加分を該今回センサ値に加算して予測センサ値を算出し、
該第1サンプリング周期での今回センサ値が前回センサ値より小さく、かつ該今回センサ値の直前で該第2サンプリング周期でのセンサ値が減少していた場合、予測センサ値を該今回センサ値と同じにすることを特徴とする薬注制御方法。 - 水質センサで給水中の水質を検出し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、薬注装置によって該給水に薬注する薬注制御方法において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、薬注する薬注制御方法であって、
前記水質センサによるセンサ値を前記第1サンプリング周期より短い第2サンプリング周期でサンプリングし、
該第1サンプリング周期で前回センサ値をサンプリングしてから今回センサ値をサンプリングする間における、該第2サンプリング周期でのセンサ値の最大値を予測センサ値とすることを特徴とする薬注制御方法。 - 請求項1乃至5のいずれか1項において、蒸気復水処理用pH調整剤、ボイラ用pH調整剤、又は脱酸素剤を薬注することを特徴とする薬注制御方法。
- 水質センサが検出した給水中の水質を取得し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、該給水に薬注する薬注装置を制御する薬注制御装置において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、前記薬注装置を制御する薬注制御装置であって、
今回センサ値が前回センサ値より大きい場合、今回センサ値と前回センサ値との差分を今回センサ値に加算して予測センサ値を算出することを特徴とする薬注制御装置。 - 水質センサが検出した給水中の水質を取得し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、該給水に薬注する薬注装置を制御する薬注制御装置において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、前記薬注装置を制御する薬注制御装置であって、
今回センサ値が前回センサ値より小さい場合、予測センサ値を今回センサ値と同じにすることを特徴とする薬注制御装置。 - 水質センサが検出した給水中の水質を取得し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、該給水に薬注する薬注装置を制御する薬注制御装置において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、前記薬注装置を制御する薬注制御装置であって、
今回センサ値と前回センサ値との第1差分、及び前回センサ値と前々回センサ値との第2差分を求め、
該第1差分が該第2差分以上の場合、該第1差分に、該第1差分と該第2差分との差分を加算した値を予測差分とし、
該第1差分が該第2差分より小さい場合、該第1差分を予測差分とし、
今回センサ値に該予測差分を加算して予測センサ値を算出することを特徴とする薬注制御装置。 - 水質センサが検出した給水中の水質を取得し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、該給水に薬注する薬注装置を制御する薬注制御装置において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、前記薬注装置を制御する薬注制御装置であって、
前記水質センサによるセンサ値を前記第1サンプリング周期より短い第2サンプリング周期でサンプリングし、
該第1サンプリング周期での今回センサ値が前回センサ値より小さく、かつ該今回センサ値の直前で該第2サンプリング周期でのセンサ値が増加していた場合、増加分を該今回センサ値に加算して予測センサ値を算出し、
該第1サンプリング周期での今回センサ値が前回センサ値より小さく、かつ該今回センサ値の直前で該第2サンプリング周期でのセンサ値が減少していた場合、予測センサ値を該今回センサ値と同じにすることを特徴とする薬注制御装置。 - 水質センサが検出した給水中の水質を取得し、検出結果に基づいて薬注濃度を決定し、該給水に薬注する薬注装置を制御する薬注制御装置において、
前記水質センサによるセンサ値を第1サンプリング周期でサンプリングし、
今回センサ値及び前回センサ値から次回のセンサ値を予測して予測センサ値を計算し、
該予測センサ値が第1所定値未満の場合は薬注濃度を第1薬注濃度とし、該予測センサ値が第2所定値以上の場合は薬注濃度を第2薬注濃度とし、該予測センサ値が該第1所定値以上かつ該第2所定値未満の場合は該予測センサ値に応じた薬注濃度として、前記薬注装置を制御する薬注制御装置であって、
前記水質センサによるセンサ値を前記第1サンプリング周期より短い第2サンプリング周期でサンプリングし、
該第1サンプリング周期で前回センサ値をサンプリングしてから今回センサ値をサンプリングする間における、該第2サンプリング周期でのセンサ値の最大値を予測センサ値とすることを特徴とする薬注制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061472A JP6699283B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 薬注制御方法及び薬注制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061472A JP6699283B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 薬注制御方法及び薬注制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017170390A JP2017170390A (ja) | 2017-09-28 |
JP6699283B2 true JP6699283B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=59972556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016061472A Expired - Fee Related JP6699283B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 薬注制御方法及び薬注制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6699283B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2720552B2 (ja) * | 1989-11-14 | 1998-03-04 | 株式会社明電舎 | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
JP3186898B2 (ja) * | 1993-06-02 | 2001-07-11 | 株式会社日立製作所 | ニューラルネットワークを用いた支援システム |
JP5608961B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2014-10-22 | Jfeスチール株式会社 | 焼結装置及び焼結方法 |
JP5320321B2 (ja) * | 2010-02-12 | 2013-10-23 | 株式会社沖データ | 画像形成装置 |
-
2016
- 2016-03-25 JP JP2016061472A patent/JP6699283B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017170390A (ja) | 2017-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101239561B1 (ko) | 물의 경도를 측정하기 위한 방법 및 시스템 | |
US7913433B2 (en) | Measures for keeping a degree of contamination of a steam generator including its contents below a predetermined maximum | |
US20210032135A1 (en) | Chemical Control Systems and Methods for Controlling Disinfectants | |
US8025740B2 (en) | Process for conducting cleaning operations in a fluid-receiving device of a foodstuff-processing apparatus, and fluid-receiving device and foodstuff-processing apparatus therefor | |
JP6699283B2 (ja) | 薬注制御方法及び薬注制御装置 | |
JP2020534505A5 (ja) | ||
US6921193B2 (en) | Chemical concentration control device for semiconductor processing apparatus | |
JP2010247063A (ja) | 冷却水薬品の注入制御方法及び装置 | |
JP4882632B2 (ja) | リン酸含有排水の処理方法及び装置 | |
EP0496877A1 (en) | METHOD AND APPARATUS FOR REGULATING THE CONCENTRATION OF A REAGENT DURING PRECIPITATION REACTIONS. | |
CN108700446B (zh) | 流量测量装置 | |
JP6316712B2 (ja) | 中和処理方法及び中和装置 | |
JP6798994B2 (ja) | UpAセルのpH制御方法 | |
WO2018156470A1 (en) | Measuring total alkalinity in a recirculating fluid system | |
JP7284624B2 (ja) | 残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システム | |
EP2887146A3 (en) | Image forming apparatus and method for controlling image forming apparatus | |
RU2681014C2 (ru) | Устройство и способ регулирования концентрации обрабатывающего реагента внутри несущей жидкость системы | |
JP7032019B2 (ja) | 電解水生成装置 | |
JP2021109139A (ja) | 情報処理装置、情報処理方法及びプログラム | |
JP5987727B2 (ja) | 薬剤添加量制御方法および薬剤添加量制御装置 | |
AU2014375246B2 (en) | Device and method for controlling deposit formation | |
CN116409483B (zh) | 一种定量灌装机的自适应清洗控制方法、设备及存储介质 | |
JP2017170358A (ja) | 薬注制御方法 | |
TWI292170B (en) | Concentration control device for semiconductor processing apparatus | |
JP2017209642A (ja) | 最終沈澱池からの返送汚泥量・余剰汚泥量の調節方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6699283 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |