JP2720552B2 - 処理水の残留塩素一定制御装置 - Google Patents
処理水の残留塩素一定制御装置Info
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- JP2720552B2 JP2720552B2 JP1295588A JP29558889A JP2720552B2 JP 2720552 B2 JP2720552 B2 JP 2720552B2 JP 1295588 A JP1295588 A JP 1295588A JP 29558889 A JP29558889 A JP 29558889A JP 2720552 B2 JP2720552 B2 JP 2720552B2
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- Japan
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- chlorine
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- treated water
- control
- residual chlorine
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Description
【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、下水処理における塩素注入制御装置に係
り、特に残留塩素一定制御装置に関する。
り、特に残留塩素一定制御装置に関する。
B.発明の概要 本発明は、処理水流入量に対する塩素注入比率設定で
処理水に対する塩素注入量を制御する残留塩素一定制御
装置において、 塩素注入量と残留塩素量と塩素消費量の関係から塩素
注入比率を予測制御することにより、 残留塩素一定制御を確実，容易にするものである。
処理水に対する塩素注入量を制御する残留塩素一定制御
装置において、 塩素注入量と残留塩素量と塩素消費量の関係から塩素
注入比率を予測制御することにより、 残留塩素一定制御を確実，容易にするものである。
C.従来の技術 下水処理において、エアレーションタンク等によって
浄化された処理水は塩素注入によって消毒された後に放
流される。塩素注入制御には従来から流入量に対する塩
素注入率制御又は放流水の塩素濃度一定制御によって残
留塩素一定制御が行われ、第２図に示す構成にされてい
る。処理水は流量計１を経てデヒューザ２で塩素注入が
行われ、攪拌池３で攪拌されて放流される。デヒューザ
２における塩素注入は塩素注入機４により塩素を圧力注
入した圧力水として加えられ、この注入量は流量計１に
よる処理水量検出信号に対する比率設定器５の比率設定
によって処理水量に対する比率として目標値設定され、
調節計６によって目標注入量と流量計７からの塩素注入
量とが比較され、塩素注入制御量として塩素注入機４の
バルブ制御が行われる。
浄化された処理水は塩素注入によって消毒された後に放
流される。塩素注入制御には従来から流入量に対する塩
素注入率制御又は放流水の塩素濃度一定制御によって残
留塩素一定制御が行われ、第２図に示す構成にされてい
る。処理水は流量計１を経てデヒューザ２で塩素注入が
行われ、攪拌池３で攪拌されて放流される。デヒューザ
２における塩素注入は塩素注入機４により塩素を圧力注
入した圧力水として加えられ、この注入量は流量計１に
よる処理水量検出信号に対する比率設定器５の比率設定
によって処理水量に対する比率として目標値設定され、
調節計６によって目標注入量と流量計７からの塩素注入
量とが比較され、塩素注入制御量として塩素注入機４の
バルブ制御が行われる。
塩素濃度一定制御では、放流水をサンプリングポンプ
８でサンプリングし、このサンプルの塩素残留分を残留
塩素発信器９に検出し、調節計10による比較で塩素注入
機４の塩素注入量を制御する。切換スイッチ11は塩素注
入率制御と塩素濃度一定制御とを切り換える。
８でサンプリングし、このサンプルの塩素残留分を残留
塩素発信器９に検出し、調節計10による比較で塩素注入
機４の塩素注入量を制御する。切換スイッチ11は塩素注
入率制御と塩素濃度一定制御とを切り換える。
D.発明が解決しようとする課題 従来の塩素注入率制御では、処理水の流入量に比例し
た塩素注入量になるが、処理水の水質変動によって塩素
の消費量が変動するため、処理水に対する塩素の比例注
入では残留塩素の一定化ができないし、塩素の過不足を
生じる。そこで、従来から塩素注入率を水質，天候等を
計測しながら適宜設定変更を行っているが、熟練者でも
不安定，不適切な制御になることが多いし、最適な注入
率の調査にも多くの時間を必要としている。
た塩素注入量になるが、処理水の水質変動によって塩素
の消費量が変動するため、処理水に対する塩素の比例注
入では残留塩素の一定化ができないし、塩素の過不足を
生じる。そこで、従来から塩素注入率を水質，天候等を
計測しながら適宜設定変更を行っているが、熟練者でも
不安定，不適切な制御になることが多いし、最適な注入
率の調査にも多くの時間を必要としている。
また、塩素濃度一定制御では、塩素注入から残留塩素
の検出までの時間遅れが大きくなり、時々刻々変化する
塩素の必要注入量に対する制御周期の選定等を困難にす
る問題があった。
の検出までの時間遅れが大きくなり、時々刻々変化する
塩素の必要注入量に対する制御周期の選定等を困難にす
る問題があった。
本発明の目的は、塩素の必要注入量の変動が大きい処
理水にも確実，容易に残留塩素一定制御ができる制御装
置を提供することにある。
理水にも確実，容易に残留塩素一定制御ができる制御装
置を提供することにある。
E.課題を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するため、処理水流入量に
対する塩素注入比率設定で処理水に対する塩素注入量を
制御する残留塩素一定制御装置において、制御周期毎
に、前回制御から今回制御までの処理水流入量と塩素注
入量を求めると共に、今回制御までの過去の複数回の制
御周期での残留塩素濃度の移動平均値から平均残留塩素
濃度を求める手段と、前記処理水流入量に前記平均残留
塩素濃度を乗算して前回制御から今回制御までの残留塩
素量を求める手段と、前記塩素注入量から前記残留塩素
量を減算して前回制御から今回制御までの塩素消費量を
求める手段と、前記各手段によって求められた前回制御
から今回制御までの処理水流入量と平均残留塩素濃度及
び塩素消費量から次式 に従って今回制御時の前記塩素注入比率を算出及び設定
する手段とを備えたものである。
対する塩素注入比率設定で処理水に対する塩素注入量を
制御する残留塩素一定制御装置において、制御周期毎
に、前回制御から今回制御までの処理水流入量と塩素注
入量を求めると共に、今回制御までの過去の複数回の制
御周期での残留塩素濃度の移動平均値から平均残留塩素
濃度を求める手段と、前記処理水流入量に前記平均残留
塩素濃度を乗算して前回制御から今回制御までの残留塩
素量を求める手段と、前記塩素注入量から前記残留塩素
量を減算して前回制御から今回制御までの塩素消費量を
求める手段と、前記各手段によって求められた前回制御
から今回制御までの処理水流入量と平均残留塩素濃度及
び塩素消費量から次式 に従って今回制御時の前記塩素注入比率を算出及び設定
する手段とを備えたものである。
F.作用 処理水の流入量に対する塩素注入率制御方式におい
て、塩素注入量は処理水流入量に塩素注入比率Ｒを乗算
したものになる。
て、塩素注入量は処理水流入量に塩素注入比率Ｒを乗算
したものになる。
塩素注入量＝処理水入流量×Ｒ ……（１） この塩素注入量に対して、処理水での塩素消費量を減
算したものが残留塩素量になる。即ち、 残留塩素量＝塩素注入量−塩素消費量 ……（２） の関係が成立する。また、残留塩素量は処理水流入量に
残留塩素濃度を乗算したものになることから、 残留塩素量＝処理水流入量×残留塩素濃度 ……（３） の関係が成立する。
算したものが残留塩素量になる。即ち、 残留塩素量＝塩素注入量−塩素消費量 ……（２） の関係が成立する。また、残留塩素量は処理水流入量に
残留塩素濃度を乗算したものになることから、 残留塩素量＝処理水流入量×残留塩素濃度 ……（３） の関係が成立する。
上述までの関係から次の（４）式が成立する。
処理水流入量×Ｒ＝処理水流入量×残留塩素濃度＋塩素消費量 ……（４） この（４）式から塩素注入比率Ｒを求めると として求められ、この塩素注入比率Ｒを塩素注入率とし
て設定することで残留塩素量を一定にすることができ
る。
て設定することで残留塩素量を一定にすることができ
る。
ここで、処理水流入量及び塩素消費量は一定とする場
合に上述の関係は成立するが、この２つの要素が変動す
るも充分短時間内での変動は無視できるものである。そ
こで、上述の塩素注入比率Ｒの算定を充分短時間にした
制御周期毎に前回制御の結果から今回制御時の予測値と
する。
合に上述の関係は成立するが、この２つの要素が変動す
るも充分短時間内での変動は無視できるものである。そ
こで、上述の塩素注入比率Ｒの算定を充分短時間にした
制御周期毎に前回制御の結果から今回制御時の予測値と
する。
G.実施例 第１図は本発明の一実施例を示す装置構成図である。
デイジタルコントローラ12は、マイクロコンピュータと
サンプリング手段を有して処理水の流入量と残留塩素量
と塩素注入量をサンプリング及び演算処理して塩素注入
比率Ｒを求め、比率設定器５の注入比率の予測設定によ
って残留塩素一定制御を行う。
デイジタルコントローラ12は、マイクロコンピュータと
サンプリング手段を有して処理水の流入量と残留塩素量
と塩素注入量をサンプリング及び演算処理して塩素注入
比率Ｒを求め、比率設定器５の注入比率の予測設定によ
って残留塩素一定制御を行う。
デイジタルコントローラ12の積分演算部13は、流量計
７の流入量を制御周期で積算することで前回制御から今
回制御までの処理水流入量を求める。同様に、積分演算
部14は、流量計７の塩素注入量を制御周期で積算するこ
とで前回制御から今回制御までの塩素注入量を求める。
移動平均演算部15は残留塩素発信器９からの残留塩素濃
度の移動平均を取ることで今回制御までの過去の複数回
の制御周期での残留塩素濃度の平均値になる平均残留塩
素濃度を求める。乗算部16は演算部13からの処理水流入
量に演算部15からの平均残留塩素濃度を乗算することで
前回制御から今回制御までの残留塩素量を求め、減算部
17は演算部14からの塩素注入量から乗算部16からの残留
塩素量を減算することで前回制御から今回制御までの塩
素消費量を求める。注入率演算部18は演算部13,15及び
減算部17からの各量から今回制御時の塩素注入率Ｒを前
述の（４）式に従って求め、比率設定器５の比率設定を
更新する。
７の流入量を制御周期で積算することで前回制御から今
回制御までの処理水流入量を求める。同様に、積分演算
部14は、流量計７の塩素注入量を制御周期で積算するこ
とで前回制御から今回制御までの塩素注入量を求める。
移動平均演算部15は残留塩素発信器９からの残留塩素濃
度の移動平均を取ることで今回制御までの過去の複数回
の制御周期での残留塩素濃度の平均値になる平均残留塩
素濃度を求める。乗算部16は演算部13からの処理水流入
量に演算部15からの平均残留塩素濃度を乗算することで
前回制御から今回制御までの残留塩素量を求め、減算部
17は演算部14からの塩素注入量から乗算部16からの残留
塩素量を減算することで前回制御から今回制御までの塩
素消費量を求める。注入率演算部18は演算部13,15及び
減算部17からの各量から今回制御時の塩素注入率Ｒを前
述の（４）式に従って求め、比率設定器５の比率設定を
更新する。
上述の構成において、デイジタルコントローラ12の各
演算部13,14,15は流量計1,7,9でのサンプリング周期毎
に演算して処理水流入量、塩素注入量及び平均残留塩素
濃度を求め、乗算部16と減算部17と演算部18はサンプリ
ング周期のＮ倍の制御周期で各量率を求める。
演算部13,14,15は流量計1,7,9でのサンプリング周期毎
に演算して処理水流入量、塩素注入量及び平均残留塩素
濃度を求め、乗算部16と減算部17と演算部18はサンプリ
ング周期のＮ倍の制御周期で各量率を求める。
また、残留塩素一定制御には、比率設定器５で処理水
の流入量を塩素注入比率Ｒを設定する比率設定によって
調節計６に目標塩素注入量を設定し、フィードバック制
御によって処理水流入量に対する塩素注入比率を一定に
する。
の流入量を塩素注入比率Ｒを設定する比率設定によって
調節計６に目標塩素注入量を設定し、フィードバック制
御によって処理水流入量に対する塩素注入比率を一定に
する。
H.発明の効果 以上のとおり、本発明によれば、塩素注入量と残留塩
素量と塩素消費量の関係から塩素注入比率を予測制御す
ることで残留塩素の一定制御を得るようにしたため、塩
素注入率の適正値を自動的に求めることができ、オペレ
ータの負担を軽減すると共に塩素の過不足を少なくした
確実な制御になる。また、装置構成としては従来の装置
にデイジタルコントローラを付加するのみで済み、特別
な水質計測を不要にする。
素量と塩素消費量の関係から塩素注入比率を予測制御す
ることで残留塩素の一定制御を得るようにしたため、塩
素注入率の適正値を自動的に求めることができ、オペレ
ータの負担を軽減すると共に塩素の過不足を少なくした
確実な制御になる。また、装置構成としては従来の装置
にデイジタルコントローラを付加するのみで済み、特別
な水質計測を不要にする。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
の構成図である。 １……流量計、２……デヒューザ、３……攪拌器、４…
…塩素注入機、５……比率設定器、６……調節計、７…
…流量計、８……サンプリングポンプ、９……残留塩素
発信器、12……デイジタルコントローラ、13,14……積
分演算部、15……移動平均演算部、16……乗算部、17…
…減算部、18……注入率演算部。
の構成図である。 １……流量計、２……デヒューザ、３……攪拌器、４…
…塩素注入機、５……比率設定器、６……調節計、７…
…流量計、８……サンプリングポンプ、９……残留塩素
発信器、12……デイジタルコントローラ、13,14……積
分演算部、15……移動平均演算部、16……乗算部、17…
…減算部、18……注入率演算部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０Ｌ ５５０Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】処理水流入量に対する塩素注入比率設定で
処理水に対する塩素注入量を制御する残留塩素一定制御
装置において、 制御周期毎に、前回制御から今回制御までの処理水流入
量と塩素注入量を求めると共に、今回制御までの過去の
複数回の制御周期での残留塩素濃度の移動平均値から平
均残留塩素濃度を求める手段と、 前記処理水流入量に前記平均残留塩素濃度を乗算して前
回制御から今回制御までの残留塩素量を求める手段と、 前記塩素注入量から前記残留塩素量を減算して前回制御
から今回制御までの塩素消費量を求める手段と、 前記各手段によって求められた前回制御から今回制御ま
での処理水流入量と平均残留塩素濃度及び塩素消費量か
ら次式 に従って今回制御時の前記塩素注入比率を算出及び設定
する手段とを備えたことを特徴とする処理水の残留塩素
一定制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295588A JP2720552B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295588A JP2720552B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03157192A JPH03157192A (ja) | 1991-07-05 |
| JP2720552B2 true JP2720552B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=17822573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295588A Expired - Lifetime JP2720552B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2720552B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100317201B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2001-12-24 | 이두우 | 자동 염소 투입 장치 및 방법 |
| KR20050063259A (ko) * | 2003-12-22 | 2005-06-28 | (주) 팬지아이십일 | 염소 소독 공정의 소독능을 실시간으로 모니터링하기 위한장치 및 방법 |
| JP4643365B2 (ja) * | 2005-06-02 | 2011-03-02 | 株式会社東芝 | 下水の消毒システム |
| KR20070119111A (ko) * | 2006-06-14 | 2007-12-20 | 한국건설기술연구원 | 미생물 불활성비 자동연산에 의한 염소소독공정 제어장치및 방법 |
| JP5998721B2 (ja) * | 2012-08-01 | 2016-09-28 | 三浦工業株式会社 | 水処理システム |
| JP6699283B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2020-05-27 | 栗田工業株式会社 | 薬注制御方法及び薬注制御装置 |
| JP2018001049A (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-11 | 有限会社イシズチコーポレーション | プール水の殺菌方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61133193A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-20 | Toshiba Corp | 浄水場の塩素注入量ガイダンス装置 |
| JPS61141994A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Toshiba Corp | 塩素注入制御装置 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1295588A patent/JP2720552B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03157192A (ja) | 1991-07-05 |
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