JPS61141994A - 塩素注入制御装置 - Google Patents
塩素注入制御装置Info
- Publication number
- JPS61141994A JPS61141994A JP26283184A JP26283184A JPS61141994A JP S61141994 A JPS61141994 A JP S61141994A JP 26283184 A JP26283184 A JP 26283184A JP 26283184 A JP26283184 A JP 26283184A JP S61141994 A JPS61141994 A JP S61141994A
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- Japan
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- chlorine
- water
- injection
- residual
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、塩素を酸化剤または消毒剤に用いる水処理プ
ラントの塩素注入制御装置に関する。
ラントの塩素注入制御装置に関する。
水処理プラントにおける塩素注入制御は、原水の酸化や
消毒のほかに水処理プロセスである沈殿池やろ過池の保
護、塩素の過剰注入による処理水の品質の低下や薬品費
の浪費の防止などのために水処理プラントの重要な運転
操作である。通常の水処理プラントでは、制御の外乱で
ある原水の塩素要求量の急激な変動にたいして、塩素注
入点から検水を取水する点までの流下に要する時間や、
検水を残留塩素濃度計に導水するまでの時間が、制御周
期に比べかなり長いために応答遅れが生じるものである
。そのために処理水の残留塩素濃度は目標値から大きく
づれ、いわゆるフィードバック制御では良好な塩素注入
制御ができず、しばしば残留塩素濃度のきわめて低い沈
殿池流出水がろ過池に流入してろ過砂の性能を劣化させ
てしまい、処理水の水質を不安定にしていた。
消毒のほかに水処理プロセスである沈殿池やろ過池の保
護、塩素の過剰注入による処理水の品質の低下や薬品費
の浪費の防止などのために水処理プラントの重要な運転
操作である。通常の水処理プラントでは、制御の外乱で
ある原水の塩素要求量の急激な変動にたいして、塩素注
入点から検水を取水する点までの流下に要する時間や、
検水を残留塩素濃度計に導水するまでの時間が、制御周
期に比べかなり長いために応答遅れが生じるものである
。そのために処理水の残留塩素濃度は目標値から大きく
づれ、いわゆるフィードバック制御では良好な塩素注入
制御ができず、しばしば残留塩素濃度のきわめて低い沈
殿池流出水がろ過池に流入してろ過砂の性能を劣化させ
てしまい、処理水の水質を不安定にしていた。
従来このような塩素注入制御の外乱にたいして、実行し
た塩素注入率と測定した残留塩素濃度との差から原水の
塩素要求量を計算して、これに残留塩素濃度の目標値を
和した値を塩素注入率とする方法、実行した塩素注入率
と残留塩素濃度の測定値との比から塩素消費率を計算し
、との塩素消費率で残留塩素濃度の目標値を除した値を
基準注入率とし、この基準注入率にさらに残留塩素濃度
の用いるＰＩＤ演算によるフィードバック注入率を加算
した値を実行すべき塩素注入率とする方法などがあった
。
た塩素注入率と測定した残留塩素濃度との差から原水の
塩素要求量を計算して、これに残留塩素濃度の目標値を
和した値を塩素注入率とする方法、実行した塩素注入率
と残留塩素濃度の測定値との比から塩素消費率を計算し
、との塩素消費率で残留塩素濃度の目標値を除した値を
基準注入率とし、この基準注入率にさらに残留塩素濃度
の用いるＰＩＤ演算によるフィードバック注入率を加算
した値を実行すべき塩素注入率とする方法などがあった
。
上記前者の方法は基本的にはフィードフォワード制御で
あるが、原水の塩素要求量の計算に異る時刻の実行した
塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いているために
、これらの差から原水の塩素要求量を正しく計算できな
い。後者の方法では、塩素消費率の計算に同時刻の実行
した塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いることに
よって、前者の従来方法の欠点を改良している。しかし
、後者の方法では、このように計算された塩素消費率は
外乱である原水の塩素要求量が変動しない場合でも、塩
素注入率が高過ぎる場合は残留塩素濃度も高くなり、し
たがって塩素消費率は低下してしまう。また逆に塩素注
入率が低過ぎる場合は残留塩素濃度が低くなって、その
ために塩素消費率が高くなる。このことから後者の塩素
注入制御は、原水の塩素要求量の変動という制御の目的
である外乱を正しく補償するものではない。結局は他の
構成要素であるＰＩＤ演算によるフィードバック制御を
改善するものとはならない。さらに後者の方法は、塩素
消失率の計算に同時刻の実行した塩素注入率と残留塩素
濃度の測定値を用いて前者の方法の欠点を改善している
が、この実行した塩素注入濃度の値は塩素注入点でのも
のであって、残留塩素濃度の測定点の塩素注入濃度では
ない。このため、残留塩素濃度の測定値が塩素注入点と
残留塩素濃度測定点間のプロセス混合特性の影響を受け
、いわゆる積分ないし平滑化されている値であるにもか
かわらず、この塩素消失率を計算する一方の変数である
実行した塩素の注入率の値がこれらのプロセスの混合特
性の影響を受けたものでなく、計算される塩素消失率は
正しい値を示さない。
あるが、原水の塩素要求量の計算に異る時刻の実行した
塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いているために
、これらの差から原水の塩素要求量を正しく計算できな
い。後者の方法では、塩素消費率の計算に同時刻の実行
した塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いることに
よって、前者の従来方法の欠点を改良している。しかし
、後者の方法では、このように計算された塩素消費率は
外乱である原水の塩素要求量が変動しない場合でも、塩
素注入率が高過ぎる場合は残留塩素濃度も高くなり、し
たがって塩素消費率は低下してしまう。また逆に塩素注
入率が低過ぎる場合は残留塩素濃度が低くなって、その
ために塩素消費率が高くなる。このことから後者の塩素
注入制御は、原水の塩素要求量の変動という制御の目的
である外乱を正しく補償するものではない。結局は他の
構成要素であるＰＩＤ演算によるフィードバック制御を
改善するものとはならない。さらに後者の方法は、塩素
消失率の計算に同時刻の実行した塩素注入率と残留塩素
濃度の測定値を用いて前者の方法の欠点を改善している
が、この実行した塩素注入濃度の値は塩素注入点でのも
のであって、残留塩素濃度の測定点の塩素注入濃度では
ない。このため、残留塩素濃度の測定値が塩素注入点と
残留塩素濃度測定点間のプロセス混合特性の影響を受け
、いわゆる積分ないし平滑化されている値であるにもか
かわらず、この塩素消失率を計算する一方の変数である
実行した塩素の注入率の値がこれらのプロセスの混合特
性の影響を受けたものでなく、計算される塩素消失率は
正しい値を示さない。
したがってこのような塩素消失率に従って決定された塩
素注入率の制御は、きわめて不正確なものであった。
素注入率の制御は、きわめて不正確なものであった。
本発明の目的は、正しく計算された実行塩素注入率の値
と残留塩素濃度の測定値とから計算される塩素消費量に
よって、ＰＩ演算によるフィードバック制御を基本とす
る改良された塩素注入制御装置を提供することにある。
と残留塩素濃度の測定値とから計算される塩素消費量に
よって、ＰＩ演算によるフィードバック制御を基本とす
る改良された塩素注入制御装置を提供することにある。
すなわち本発明は、塩素を酸化剤または消毒剤に用いる
水処理プラントにおいて、塩素注入後の処理水の残留塩
素濃度とその目標値とから塩素注入率のフィードバック
補正値を計算する第１の演算手段と、プラントの混合モ
デルで注入塩素の混合濃度を計算する第２の演算手段と
、上記注入塩素の混合濃度と前記残留塩素濃度から塩素
消失量とその時間変化を計算する第３の演算手段と、上
記塩素消失量の時間変化に基づいて所定の計算式から前
記第１の演算手段におけるゲインの修正値を計算する第
４の演算手段とを備えだものである。
水処理プラントにおいて、塩素注入後の処理水の残留塩
素濃度とその目標値とから塩素注入率のフィードバック
補正値を計算する第１の演算手段と、プラントの混合モ
デルで注入塩素の混合濃度を計算する第２の演算手段と
、上記注入塩素の混合濃度と前記残留塩素濃度から塩素
消失量とその時間変化を計算する第３の演算手段と、上
記塩素消失量の時間変化に基づいて所定の計算式から前
記第１の演算手段におけるゲインの修正値を計算する第
４の演算手段とを備えだものである。
以下本発明を浄水場の前塩素注入制御に適用した一実施
例を参照して説明する。
例を参照して説明する。
第１図において、図示しない取水源より取水された原水
は、流量計１が設備されている管路人より着水井２に流
入し、次いで塩素が注入される管路Ｂを通って急速混和
池３に流入する。急速混和池３では図示しない攪拌機で
混合される。その後処理水は管路Ｃを通って流出するが
、その一部は検水取水ポンプ４によって導水され、導水
管りより残留塩素濃度計５に送られる。管路Ｂで注入さ
れる塩素は、薬注パルプ６と薬品流量計７が備えられた
薬注パイプＥによって図示しない塩素水製造機から送ら
れてくる塩素水として導かれる。
は、流量計１が設備されている管路人より着水井２に流
入し、次いで塩素が注入される管路Ｂを通って急速混和
池３に流入する。急速混和池３では図示しない攪拌機で
混合される。その後処理水は管路Ｃを通って流出するが
、その一部は検水取水ポンプ４によって導水され、導水
管りより残留塩素濃度計５に送られる。管路Ｂで注入さ
れる塩素は、薬注パルプ６と薬品流量計７が備えられた
薬注パイプＥによって図示しない塩素水製造機から送ら
れてくる塩素水として導かれる。
流量計１と薬品流量計７と残留塩素濃度計５のそれぞれ
の信号、原水流量Ｑ１塩素水流量ＱＣ１および残留塩素
濃度の測定値ＲＣは、図中鎖線で示した塩素注入制御装
置８に入力される。この塩素注入制御装置において、残
留塩素濃度の測定値ＲＣは第１の演算手段１０に入力さ
れる。この第１の演算手段１０は残留塩素濃度の目標値
ＳＶを設定する接点９を有し、下記の数式に基づいて塩
素注入率のフィードバック修正量ΔＳを計算する。
の信号、原水流量Ｑ１塩素水流量ＱＣ１および残留塩素
濃度の測定値ＲＣは、図中鎖線で示した塩素注入制御装
置８に入力される。この塩素注入制御装置において、残
留塩素濃度の測定値ＲＣは第１の演算手段１０に入力さ
れる。この第１の演算手段１０は残留塩素濃度の目標値
ＳＶを設定する接点９を有し、下記の数式に基づいて塩
素注入率のフィードバック修正量ΔＳを計算する。
ＥＮ二８Ｖ −４Ｃ・・ ・・・・・・・・・・−・・
・（１）△Ｓ二ＫＰ（ＥＮ−ＥＮ’） 十ＫＩ・ＢＮ
・・・・・・ （２）ここで、ＥＮは今回の制御周
期の入力偏差、ＥＮ’は前回の制御周期の入力偏差、Ｋ
Ｐは比例ゲイン、ＫＩは積分ゲインである。
・（１）△Ｓ二ＫＰ（ＥＮ−ＥＮ’） 十ＫＩ・ＢＮ
・・・・・・ （２）ここで、ＥＮは今回の制御周
期の入力偏差、ＥＮ’は前回の制御周期の入力偏差、Ｋ
Ｐは比例ゲイン、ＫＩは積分ゲインである。
原水流量Ｑと塩素水流量ＱＣは第２の演算手段１２に入
力される。この第２の演算手段１２は、塩素水の塩素濃
度Ｃｌｌ０を入力する接点１１を有し、たとえば押出モ
デルや短絡流と完全混合からなる槽列混合モデルによっ
て、管路Ｂで注入した塩素が分解消失しないで混合のみ
を受けたと想定した場合の残留塩素濃度測定点における
その濃度である混合塩素注入率ＣＬ８を次の諸式から計
算する。
力される。この第２の演算手段１２は、塩素水の塩素濃
度Ｃｌｌ０を入力する接点１１を有し、たとえば押出モ
デルや短絡流と完全混合からなる槽列混合モデルによっ
て、管路Ｂで注入した塩素が分解消失しないで混合のみ
を受けたと想定した場合の残留塩素濃度測定点における
その濃度である混合塩素注入率ＣＬ８を次の諸式から計
算する。
ＣＬＩ−ＣＬｒｎ・・ ・・・・・・・・・ ・・・
・・・（３）ＣＬＥ＝Ａ、、ＣＬＩ＋（１−Ａ）・ＣＬ
Ｍ ・・・−・・・・（５）ＣＬＳ＝ＣＬＥＴＯ・
・・・ ・・・ ・ ・ ・ ・・・・（６）ここ
で、ＣＬＩは管路Ｂから急速混和池３に流入する水の混
合塩素注入率、ＣＬＴＢ は管路Ｂでの導水遅れ時間
ＴＢ前の塩素注入点での混合塩素注入率ＣＬ（一般にＣ
Ｌは式（７）で与えられる）、ＣＬＭとＣＬＭ’は今回
の計算周期および前回の制御周期の急速混和池の完全混
合部分の混合塩素注入率、Ａは原水の急速混和池を短絡
する割合（０くＡく１）、ＣＬＥは急速混和池から検水
取水ポンプで汲上げられる検水の混合塩素注入率、ＴＣ
は導水管りでの導水時間遅れである。
・・・（３）ＣＬＥ＝Ａ、、ＣＬＩ＋（１−Ａ）・ＣＬ
Ｍ ・・・−・・・・（５）ＣＬＳ＝ＣＬＥＴＯ・
・・・ ・・・ ・ ・ ・ ・・・・（６）ここ
で、ＣＬＩは管路Ｂから急速混和池３に流入する水の混
合塩素注入率、ＣＬＴＢ は管路Ｂでの導水遅れ時間
ＴＢ前の塩素注入点での混合塩素注入率ＣＬ（一般にＣ
Ｌは式（７）で与えられる）、ＣＬＭとＣＬＭ’は今回
の計算周期および前回の制御周期の急速混和池の完全混
合部分の混合塩素注入率、Ａは原水の急速混和池を短絡
する割合（０くＡく１）、ＣＬＥは急速混和池から検水
取水ポンプで汲上げられる検水の混合塩素注入率、ＴＣ
は導水管りでの導水時間遅れである。
ＣＬｏ、ＱＣ
ｃｈ＝□ ・・・・・・・・ ・・ ・・・・・・・
・・・・ （力残留塩素濃度の測定値ａＣと上記第２
の演算手段１２で計算した混合塩素注入率ＣＬＳば、第
３の演算手段１３に入力される。第３の演算手段１３は
、塩素消費量ＤＣＬとその時間変化△ＤＣＬを次式で計
算する。
・・・・ （力残留塩素濃度の測定値ａＣと上記第２
の演算手段１２で計算した混合塩素注入率ＣＬＳば、第
３の演算手段１３に入力される。第３の演算手段１３は
、塩素消費量ＤＣＬとその時間変化△ＤＣＬを次式で計
算する。
ＤＣＬ−ＣＬ８−ＲＣ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・（８）△ＤＣＬ＝ＤＣＬ −ＤＣ
Ｔ、’ ・・ ・ ・・・・・・・・・・（９）ここ
で、ＤＣＬは今回の制御周期の値、ＤＣＬ’は前回の制
御周期の値である。
・・・・・・・・・・（８）△ＤＣＬ＝ＤＣＬ −ＤＣ
Ｔ、’ ・・ ・ ・・・・・・・・・・（９）ここ
で、ＤＣＬは今回の制御周期の値、ＤＣＬ’は前回の制
御周期の値である。
第４の演算手段１４は、上記のように第３の演算手段１
３で計算された塩素消費量の時間変化△ＤＣＬを入力し
、下記の計算式を用いて第１の演算手段の計算に使用さ
れる積分ゲインＫＩの修正量△ＫＩを計算する。
３で計算された塩素消費量の時間変化△ＤＣＬを入力し
、下記の計算式を用いて第１の演算手段の計算に使用さ
れる積分ゲインＫＩの修正量△ＫＩを計算する。
ΔＫＩ＝ＡＫＩ・１△ＤＣＬ ｌ・・・・・・・・・・
・・・・・・・・Ｃ［Ｏ）’また、第１の演算手段では
、積分ゲインＫＩは次式で修正される。
・・・・・・・・Ｃ［Ｏ）’また、第１の演算手段では
、積分ゲインＫＩは次式で修正される。
ＫＩ：ＫＩ’十△ＫＩ ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・ συここでＫＩ’は修正前の積
分ゲインである。
・・・・・・・・ συここでＫＩ’は修正前の積
分ゲインである。
上述のごとく修正された積分ゲインＫＩで計算された今
回の制御周期の塩素注入率ＭＶは、第１の演算手段で次
式よシ算出され、本発明の塩素注入制御装置８から出力
されて、塩素注入装置１５に設定値として伝送される。
回の制御周期の塩素注入率ＭＶは、第１の演算手段で次
式よシ算出され、本発明の塩素注入制御装置８から出力
されて、塩素注入装置１５に設定値として伝送される。
ＭＶ二Ｓ十△Ｓ ・・・・・・・・・・・・ ・・・
・・・・・・・・・・・・・・・ａ邊ここで、Ｓは前回
の制御周期の塩素注入率ＭＶである。
・・・・・・・・・・・・・・・ａ邊ここで、Ｓは前回
の制御周期の塩素注入率ＭＶである。
第２図は、上記塩素注入制御装置８で計算される諸演算
の流れをフローチャートで示しだものである。本発明の
塩素注入制御装置における混合計算の周期は、制御周期
より短周期または同周期の任意の周期を選ぶことが可能
なものである。さらに原水の酸化や消毒に用いる酸化剤
や消毒剤として塩素以外の物質を用いる場合でも、本発
明の制御装置が適用できる。
の流れをフローチャートで示しだものである。本発明の
塩素注入制御装置における混合計算の周期は、制御周期
より短周期または同周期の任意の周期を選ぶことが可能
なものである。さらに原水の酸化や消毒に用いる酸化剤
や消毒剤として塩素以外の物質を用いる場合でも、本発
明の制御装置が適用できる。
以上説明した本発明の塩素注入制御装置で塩素注入を行
なえば、原水や塩素注入前の処理水の塩素消費量が正確
に計算されかつ積分ゲインを外乱に対して正確にかつ早
く修正できるので、塩素注入後の残留塩素濃度はその目
標値から大きくづれることかなくなり、安定した良質の
処理水が需要家に供給できたり、環境水域に放流したり
することができる。
なえば、原水や塩素注入前の処理水の塩素消費量が正確
に計算されかつ積分ゲインを外乱に対して正確にかつ早
く修正できるので、塩素注入後の残留塩素濃度はその目
標値から大きくづれることかなくなり、安定した良質の
処理水が需要家に供給できたり、環境水域に放流したり
することができる。
第１図は本発明による塩素注入制御装置の一実施例にお
ける構成を示すブロック図、第２図は本発明の一実施例
における制御装置の計算の流れを示すフローチャートで
ある。 】・・・流量計 ２−・・着水井３・・急速
混和池 ４・・・検水取水ポンプ５ ・残留塩素
濃度計 ６ 薬注バルブ７・薬品流量計 ８・
・塩素注入制御装置１０．１２，１３．１４ ・演算手
段 １５・・塩素注入装置（７３１７） 代理人
弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第２図 Ｎθ 弱叫闘か ＥＳ ｔＵＪとみ ５毘合ｌｉｔし主人革のＳ千３１ 制イｌｐＨ１Ｍ力” Ｑ 場索、肖・貴゛量の通１ｆｌ衷−にＪ４１１分ラインう
丙丑」１偽計算 フイードル゛・、７４１蛋正Ｌ ｖ ； ｏ 、ａｃ、 ｐｃ ；ｕ’ｌ走値の↓だ込み ；式゛（３）〜（７） ；式’ ＣＢ）、 ＣＱ） ； 式 （１０） ％式％）（２）
ける構成を示すブロック図、第２図は本発明の一実施例
における制御装置の計算の流れを示すフローチャートで
ある。 】・・・流量計 ２−・・着水井３・・急速
混和池 ４・・・検水取水ポンプ５ ・残留塩素
濃度計 ６ 薬注バルブ７・薬品流量計 ８・
・塩素注入制御装置１０．１２，１３．１４ ・演算手
段 １５・・塩素注入装置（７３１７） 代理人
弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第２図 Ｎθ 弱叫闘か ＥＳ ｔＵＪとみ ５毘合ｌｉｔし主人革のＳ千３１ 制イｌｐＨ１Ｍ力” Ｑ 場索、肖・貴゛量の通１ｆｌ衷−にＪ４１１分ラインう
丙丑」１偽計算 フイードル゛・、７４１蛋正Ｌ ｖ ； ｏ 、ａｃ、 ｐｃ ；ｕ’ｌ走値の↓だ込み ；式゛（３）〜（７） ；式’ ＣＢ）、 ＣＱ） ； 式 （１０） ％式％）（２）
Claims (1)
- 塩素を酸化剤または消毒剤に用いる水処理プラントにお
いて、塩素注入後の処理水の残留塩素濃度とその目標値
とから塩素注入率のフィードバック補正値を計算する第
１の演算手段と、プラントの混合モデルで注入塩素の混
合濃度を計算する第２の演算手段と、上記注入塩素の混
合濃度と前記残留塩素濃度から塩素消失量とおよびその
時間変化を計算する第３の演算手段と、上記塩素消失量
の時間変化に基づいて所定の計算式から前記第１の演算
手段におけるゲインの修正値を計算する第４の演算手段
とからなることを特徴とする水処理プラントの塩素注入
制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26283184A JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26283184A JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61141994A true JPS61141994A (ja) | 1986-06-28 |
| JPH0440079B2 JPH0440079B2 (ja) | 1992-07-01 |
Family
ID=17381217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26283184A Granted JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61141994A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03157192A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-05 | Meidensha Corp | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
| KR100317201B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2001-12-24 | 이두우 | 자동 염소 투입 장치 및 방법 |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP26283184A patent/JPS61141994A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03157192A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-05 | Meidensha Corp | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
| KR100317201B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2001-12-24 | 이두우 | 자동 염소 투입 장치 및 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0440079B2 (ja) | 1992-07-01 |
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