JPH0440079B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0440079B2 JPH0440079B2 JP26283184A JP26283184A JPH0440079B2 JP H0440079 B2 JPH0440079 B2 JP H0440079B2 JP 26283184 A JP26283184 A JP 26283184A JP 26283184 A JP26283184 A JP 26283184A JP H0440079 B2 JPH0440079 B2 JP H0440079B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorine
- concentration
- water
- injection
- calculating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 122
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 122
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 120
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 54
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 7
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 239000012899 standard injection Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、塩素を酸化剤または消毒剤に用いる
水処理プラントの塩素注入制御装置に関するもの
である。
水処理プラントの塩素注入制御装置に関するもの
である。
水処理プラントにおける塩素注入制御には、原
水の酸化や消毒のほかに水処理プロセスである沈
殿池やろ過池の保護、塩素の過剰注入による処理
水の品質の低下や薬品費の浪費の防止などのため
に水処理プラントの重要な運転操作である。通常
の水処理プラントでは、制御の外乱である原水の
塩素要求量の急激な変動にたいして、塩素注入点
から検水を取水する点までの流下に要する時間
や、検水を残留塩素濃度計に導水するまでの時間
が、制御周期に比べかなり長いために応答遅れが
生じるものである。そのために処理水の残留塩素
濃度は目標値から大きくづれ、いわゆるフイード
バツク制御では良好な塩素注入制御ができず、し
ばしば残留塩素濃度のきわめて低い沈殿池流出水
がろ過池に流入してろ過砂の性能を劣化させてし
まい、処理水の水質を不安定にしていた。
水の酸化や消毒のほかに水処理プロセスである沈
殿池やろ過池の保護、塩素の過剰注入による処理
水の品質の低下や薬品費の浪費の防止などのため
に水処理プラントの重要な運転操作である。通常
の水処理プラントでは、制御の外乱である原水の
塩素要求量の急激な変動にたいして、塩素注入点
から検水を取水する点までの流下に要する時間
や、検水を残留塩素濃度計に導水するまでの時間
が、制御周期に比べかなり長いために応答遅れが
生じるものである。そのために処理水の残留塩素
濃度は目標値から大きくづれ、いわゆるフイード
バツク制御では良好な塩素注入制御ができず、し
ばしば残留塩素濃度のきわめて低い沈殿池流出水
がろ過池に流入してろ過砂の性能を劣化させてし
まい、処理水の水質を不安定にしていた。
従来このような塩素注入制御の外乱にたいし
て、実行した塩素注入率と測定した残留塩素濃度
との差から原水の塩素要求量を計算して、これに
残留塩素濃度の目標値を和した値を塩素注入率と
する方法、実行した塩素注入率と残留塩素濃度の
測定値との比から塩素消費率を計算し、この塩素
消費率で残留塩素濃度の目標値を除した値を基準
注入率とし、この基準注入率にさらに残留塩素濃
度の用いるPID演算によるフイードバツク注入率
を加算した値を実行すべき塩素注入率とする方法
などがあつた。
て、実行した塩素注入率と測定した残留塩素濃度
との差から原水の塩素要求量を計算して、これに
残留塩素濃度の目標値を和した値を塩素注入率と
する方法、実行した塩素注入率と残留塩素濃度の
測定値との比から塩素消費率を計算し、この塩素
消費率で残留塩素濃度の目標値を除した値を基準
注入率とし、この基準注入率にさらに残留塩素濃
度の用いるPID演算によるフイードバツク注入率
を加算した値を実行すべき塩素注入率とする方法
などがあつた。
上記前者の方法は基本的にはフイードフオワー
ド制御であるが、原水の塩素要求量の計算に異る
時刻の実行した塩素注入率と残留塩素濃度の測定
値を用いているために、これらの差から原水の塩
素要求量を正しく計算できない。後者の方法で
は、塩素消費率の計算に同時刻の実行した塩素注
入率と残留塩素濃度の測定値を用いることによつ
て、前者の従来方法の欠点を改良している。しか
し、後者の方法では、このように計算された塩素
消費率は外乱である原水の塩素要求量が変動しな
い場合でも、塩素注入率が高過ぎる場合は残留塩
素濃度も高くなり、したがつて塩素消費率は低下
してしまう。また逆に塩素注入率が低過ぎる場合
は残留塩素濃度が低くなつて、そのために塩素消
費率が高くなる。このことから後者の塩素注入制
御は、原水の塩素要求量の変動という制御の目的
である外乱を正しく補償するものではない。結局
は他の構成要素であるPID演算によるフイードバ
ツク制御を改善するものとはならない。さらに後
者の方法は、塩素消失率の計算に同時刻の実行し
た塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いて前
者の方法の欠点を改善しているが、この実行した
塩素注入濃度の値は塩素注入点でのものであつ
て、残留塩素濃度の測定点の塩素注入濃度ではな
い。このため、残留塩素濃度の測定値が塩素注入
点と残留塩素濃度測定点間のプロセス混合特性の
影響を受け、いわゆる積分ないし平滑化されてい
る値であるにもかかわらず、この塩素消失率を計
算する一方の変数である実行した塩素の注入率の
値がこれらのプロセスの混合特性の影響を受けた
ものでなく、計算される塩素消失率は正しい値を
示さない。したがつてこのような塩素消失率に従
つて決定された塩素注入率の制御は、きわめて不
正確なものであつた。
ド制御であるが、原水の塩素要求量の計算に異る
時刻の実行した塩素注入率と残留塩素濃度の測定
値を用いているために、これらの差から原水の塩
素要求量を正しく計算できない。後者の方法で
は、塩素消費率の計算に同時刻の実行した塩素注
入率と残留塩素濃度の測定値を用いることによつ
て、前者の従来方法の欠点を改良している。しか
し、後者の方法では、このように計算された塩素
消費率は外乱である原水の塩素要求量が変動しな
い場合でも、塩素注入率が高過ぎる場合は残留塩
素濃度も高くなり、したがつて塩素消費率は低下
してしまう。また逆に塩素注入率が低過ぎる場合
は残留塩素濃度が低くなつて、そのために塩素消
費率が高くなる。このことから後者の塩素注入制
御は、原水の塩素要求量の変動という制御の目的
である外乱を正しく補償するものではない。結局
は他の構成要素であるPID演算によるフイードバ
ツク制御を改善するものとはならない。さらに後
者の方法は、塩素消失率の計算に同時刻の実行し
た塩素注入率と残留塩素濃度の測定値を用いて前
者の方法の欠点を改善しているが、この実行した
塩素注入濃度の値は塩素注入点でのものであつ
て、残留塩素濃度の測定点の塩素注入濃度ではな
い。このため、残留塩素濃度の測定値が塩素注入
点と残留塩素濃度測定点間のプロセス混合特性の
影響を受け、いわゆる積分ないし平滑化されてい
る値であるにもかかわらず、この塩素消失率を計
算する一方の変数である実行した塩素の注入率の
値がこれらのプロセスの混合特性の影響を受けた
ものでなく、計算される塩素消失率は正しい値を
示さない。したがつてこのような塩素消失率に従
つて決定された塩素注入率の制御は、きわめて不
正確なものであつた。
本発明の目的は、正しく計算された実行塩素注
入率の値と残留塩素濃度の測定値とから計算され
る塩素消費量によつて、PI演算によるフイード
バツク制御を基本とする改良された塩素注入制御
装置を提供することにある。
入率の値と残留塩素濃度の測定値とから計算され
る塩素消費量によつて、PI演算によるフイード
バツク制御を基本とする改良された塩素注入制御
装置を提供することにある。
すなわち本発明は、塩素を酸化剤または消毒剤
に用いる水処理プラントにおいて、塩素注入後の
処理水の残留塩素濃度とその目標値とから塩素注
入率のフイードバツク補正値を計算する第１の演
算手段と、プラントの混合モデルで注入塩素の混
合濃度を計算する第２の演算手段と、上記注入塩
素の混合濃度と前記残留塩素濃度から塩素消失量
とその時間変化を計算する第３の演算手段と、上
記塩素消失量の時間変化に基づいて所定の計算式
から前記第１の演算手段におけるゲインの修正値
を計算する第４の演算手段とを備えたものであ
る。
に用いる水処理プラントにおいて、塩素注入後の
処理水の残留塩素濃度とその目標値とから塩素注
入率のフイードバツク補正値を計算する第１の演
算手段と、プラントの混合モデルで注入塩素の混
合濃度を計算する第２の演算手段と、上記注入塩
素の混合濃度と前記残留塩素濃度から塩素消失量
とその時間変化を計算する第３の演算手段と、上
記塩素消失量の時間変化に基づいて所定の計算式
から前記第１の演算手段におけるゲインの修正値
を計算する第４の演算手段とを備えたものであ
る。
以下本発明を浄水場の前塩素注入制御に適用し
た一実施例を参照して説明する。
た一実施例を参照して説明する。
第１図において、図示しない取水源より取水さ
れた原水は、流量計１が設備されている管路Ａよ
り着水井２に流入し、次いで塩素が注入される管
路Ｂを通つて急速混和池３に流入する。急速混和
池３では図示しない攪拌機で混合される。その後
処理水は管路Ｃを通つて流出するが、その一部は
検水取水ポンプ４によつて導水され、導水管Ｄよ
り残留塩素濃度計５に送られる。管路Ｂで注入さ
れる塩素は、薬注バルブ６と薬品流量計７が備え
られた薬注パイプＥによつて図示しない塩素水製
造機から送られてくる塩素水として導かれる。
れた原水は、流量計１が設備されている管路Ａよ
り着水井２に流入し、次いで塩素が注入される管
路Ｂを通つて急速混和池３に流入する。急速混和
池３では図示しない攪拌機で混合される。その後
処理水は管路Ｃを通つて流出するが、その一部は
検水取水ポンプ４によつて導水され、導水管Ｄよ
り残留塩素濃度計５に送られる。管路Ｂで注入さ
れる塩素は、薬注バルブ６と薬品流量計７が備え
られた薬注パイプＥによつて図示しない塩素水製
造機から送られてくる塩素水として導かれる。
流量計１と薬品流量計７と残留塩素濃度計５の
それぞれの信号、原水流量Ｑ、塩素水流量QC、
および残留塩素濃度と測定値RCは、図中鎖線で
示した塩素注入制御装置８に入力される。この塩
素注入制御装置において、残留塩素濃度と測定値
RCは第１の演算手段１０に入力される。この第
１の演算手段１０は残留塩素濃度の目標値SVを
設定する接点９を有し、下記の数式に基づいて塩
素注入率のフイードバツク修正量ΔSを計算する。
それぞれの信号、原水流量Ｑ、塩素水流量QC、
および残留塩素濃度と測定値RCは、図中鎖線で
示した塩素注入制御装置８に入力される。この塩
素注入制御装置において、残留塩素濃度と測定値
RCは第１の演算手段１０に入力される。この第
１の演算手段１０は残留塩素濃度の目標値SVを
設定する接点９を有し、下記の数式に基づいて塩
素注入率のフイードバツク修正量ΔSを計算する。
En＝SV−RC ……(1)
ΔS＝KP（EN−EN′）＋KI・EN ……(2)
ここで、ENは今回の制御周期の入力偏差、
EN′は前回の制御周期の入力偏差、KPは比例ゲ
イン、KIは積分ゲインである。
EN′は前回の制御周期の入力偏差、KPは比例ゲ
イン、KIは積分ゲインである。
原水流量Ｑと塩素水流量QCは第２の演算手段
１２に入力される。この第２の演算手段１２は、
塩素水の塩素濃度CLOを入力する接点１１を有
し、たとえば押出モデルや短絡流と完全混合から
なる槽列混合モデルによつて、管路Ｂで注入した
塩素が分解消失しないで混合のみを受けたと想定
した場合の残留塩素濃度測定点におけるその濃度
である混合塩素注入率CLSを次の諸式から計算す
る。
１２に入力される。この第２の演算手段１２は、
塩素水の塩素濃度CLOを入力する接点１１を有
し、たとえば押出モデルや短絡流と完全混合から
なる槽列混合モデルによつて、管路Ｂで注入した
塩素が分解消失しないで混合のみを受けたと想定
した場合の残留塩素濃度測定点におけるその濃度
である混合塩素注入率CLSを次の諸式から計算す
る。
CLI＝CLTB ……(3)
CLM＝CLI・Ａ・Ｑ＋CLM′・Vm／Ａ・Ｑ＋Vm……(4)
CLE＝Ａ・CLI＋（１−Ａ）・CLM ……(5)
CLS＝CLETC ……(6)
ここに、CLIは管路Ｂから急速混和池３に流入
する水の混合塩素注入率、CLTBは管路Ｂでの導
水遅れ時間TB前の塩素注入点での混合塩素注入
率CL（一般にCLは式(7)で与えられる）、CLMと
CLM′は今回の計算周期および前回の制御周期の
急速混和池の完全混合部分の混合塩素注入率、Ａ
は原水の急速混和池の短絡する割合（０Ａ
１）、CLEは急速混和池から検水取水ポンプで汲
上げれる検水の混合塩素注入率、TCは導水管Ｄ
での導水時間遅れである。
する水の混合塩素注入率、CLTBは管路Ｂでの導
水遅れ時間TB前の塩素注入点での混合塩素注入
率CL（一般にCLは式(7)で与えられる）、CLMと
CLM′は今回の計算周期および前回の制御周期の
急速混和池の完全混合部分の混合塩素注入率、Ａ
は原水の急速混和池の短絡する割合（０Ａ
１）、CLEは急速混和池から検水取水ポンプで汲
上げれる検水の混合塩素注入率、TCは導水管Ｄ
での導水時間遅れである。
CL＝CLO・QC／Ｑ ……(7)
残留塩素濃度の測定値RCと上記第２の演算手
段１２で計算した混合塩素注入率CLSは、第３の
演算手段１３に入力される。第３の演算手段１３
は、塩素消費量DCLとその時間変化ΔDCLを次式
で計算する。
段１２で計算した混合塩素注入率CLSは、第３の
演算手段１３に入力される。第３の演算手段１３
は、塩素消費量DCLとその時間変化ΔDCLを次式
で計算する。
DCL＝CLS−RC ……(8)
ΔDCL＝DCL−DCL′ ……(9)
ここで、DCLは今回の制御周期の値、DCL′は
前回の制御周期の値である。
前回の制御周期の値である。
第４の演算手段１４は、上記のように第３の演
算手段１３で計算された塩素消費量の時間変化
ΔDCLを入力し、下記の計算式を用いて第１の演
算手段１０の計算に使用される積分ゲインKIの
修正値ΔKIを計算する。
算手段１３で計算された塩素消費量の時間変化
ΔDCLを入力し、下記の計算式を用いて第１の演
算手段１０の計算に使用される積分ゲインKIの
修正値ΔKIを計算する。
ΔKI＝AKI・｜ΔDCL｜ ……(10)
また、第１の演算手段では、積分ゲインKIは
次式で修正される。
次式で修正される。
KI＝KI′＋ΔKI ……（11）
ここでKI′は修正前の積分ゲインである。
上述のごとく修正された積分ゲインKIで計算
された今回の制御周期の塩素注入率MVは、第１
演算手段で次式より算出され、本発明の塩素注入
制御装置８から出力されて、塩素注入装置１５に
設定値として伝送される。
された今回の制御周期の塩素注入率MVは、第１
演算手段で次式より算出され、本発明の塩素注入
制御装置８から出力されて、塩素注入装置１５に
設定値として伝送される。
MV＝Ｓ＋ΔS ……（12）
ここで、Ｓは前回の制御周期の塩素注入率MV
である。
である。
第２図は、上記塩素注入制御装置８で計算され
る諸演算の流れをフローチヤートで示したもので
ある。本発明の塩素注入制御装置における混合計
算の周期は、制御周期より短周期期または同周期
の任意の周期を選ぶことが可能なものである。さ
らに原水の酸化や消毒に用いる酸化剤や消毒剤と
して塩素以外の物質を用いる場合でも、本発明の
制御装置が適用できる。
る諸演算の流れをフローチヤートで示したもので
ある。本発明の塩素注入制御装置における混合計
算の周期は、制御周期より短周期期または同周期
の任意の周期を選ぶことが可能なものである。さ
らに原水の酸化や消毒に用いる酸化剤や消毒剤と
して塩素以外の物質を用いる場合でも、本発明の
制御装置が適用できる。
以上説明した本発明の塩素注入制御装置で塩素
注入を行なえば、原水や塩素注入前の処理水の塩
素消費量が正確に計算されかつ積分ゲインを外乱
に対して正確にかつ早く修正できるので、塩素注
入後の残留塩素濃度はその目標値から大きくづれ
ることがなくなり、安定した良質の処理水が需要
家に供給できたり、環境水域に放流したりするこ
とができる。
注入を行なえば、原水や塩素注入前の処理水の塩
素消費量が正確に計算されかつ積分ゲインを外乱
に対して正確にかつ早く修正できるので、塩素注
入後の残留塩素濃度はその目標値から大きくづれ
ることがなくなり、安定した良質の処理水が需要
家に供給できたり、環境水域に放流したりするこ
とができる。
第１図は本発明による塩素注入制御装置の一実
施例における構成を示すブロツク図、第２図は本
発明の一実施例における制御装置の計算の流れを
示すフローチヤートである。 １……流量計、２……着水井、３……急速混和
池、４……検水取水ポンプ、５……残留塩素濃度
計、６……薬注バルブ、７……薬品流量計、８…
…塩素注入制御装置、１０，１２，１３，１４…
…演算手段、１５……塩素注入装置。
施例における構成を示すブロツク図、第２図は本
発明の一実施例における制御装置の計算の流れを
示すフローチヤートである。 １……流量計、２……着水井、３……急速混和
池、４……検水取水ポンプ、５……残留塩素濃度
計、６……薬注バルブ、７……薬品流量計、８…
…塩素注入制御装置、１０，１２，１３，１４…
…演算手段、１５……塩素注入装置。
Claims (1)
- １ 塩素を酸化剤または消毒剤に用いる水処理プ
ラントにおいて、塩素注入後の処理水の残留塩素
濃度とその目標値とから塩素注入率のフイードバ
ツク補正値を計算する第１の演算手段と、プラン
トの混合モデルで注入塩素の混合濃度を計算する
第２の演算手段と、上記注入塩素の混合濃度と前
記残留塩素濃度から塩素消失量とおよびその時間
変化を計算する第３の演算手段と、上記塩素消失
量の時間変化に基づいて所定の計算式から前記第
１の演算手段におけるゲインの修正値を計算する
第４の演算手段とからなることを特徴とする水処
理プラントの塩素注入制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26283184A JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26283184A JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61141994A JPS61141994A (ja) | 1986-06-28 |
| JPH0440079B2 true JPH0440079B2 (ja) | 1992-07-01 |
Family
ID=17381217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26283184A Granted JPS61141994A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 塩素注入制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61141994A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2720552B2 (ja) * | 1989-11-14 | 1998-03-04 | 株式会社明電舎 | 処理水の残留塩素一定制御装置 |
| KR100317201B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2001-12-24 | 이두우 | 자동 염소 투입 장치 및 방법 |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP26283184A patent/JPS61141994A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61141994A (ja) | 1986-06-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2004223357A (ja) | 凝集剤注入制御装置 | |
| JP5791763B2 (ja) | 生物学的水処理装置の制御装置 | |
| JPH0440079B2 (ja) | ||
| JPH1028981A (ja) | 塩素消毒処理システム | |
| JPS61187991A (ja) | 浄水場の塩素注入制御装置 | |
| JPH0415002B2 (ja) | ||
| JP4679050B2 (ja) | 合流式下水道の消毒設備 | |
| JPS6084199A (ja) | 生物学的脱窒方法 | |
| JPH07132293A (ja) | 浄水場の塩素注入制御装置 | |
| JPS5888091A (ja) | 浄水場の塩素注入制御方法 | |
| JPS62237994A (ja) | 塩素注入制御装置 | |
| JP3103155B2 (ja) | アルカリ剤注入制御装置 | |
| JPS6111192A (ja) | 浄水場の塩素注入制御装置 | |
| JP4249505B2 (ja) | 浄水場におけるｐＨ制御装置 | |
| JPH11244889A (ja) | 生物学的りん除去装置 | |
| JPH0361517B2 (ja) | ||
| JPS58137488A (ja) | 浄水場の塩素注入制御方法 | |
| JP5791762B2 (ja) | 生物学的水処理装置の制御装置 | |
| JPS63197506A (ja) | 浄水場の凝集剤注入制御装置 | |
| JPS621798B2 (ja) | ||
| JPS61133193A (ja) | 浄水場の塩素注入量ガイダンス装置 | |
| JPS57144084A (en) | Control method for chlorine injection in water purifying plant | |
| JPS5962387A (ja) | 塩素注入制御装置 | |
| JPS6328679B2 (ja) | ||
| JPS5962389A (ja) | 塩素注入量制御装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |