JP6698150B2 - 超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法 - Google Patents

超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6698150B2
JP6698150B2 JP2018504734A JP2018504734A JP6698150B2 JP 6698150 B2 JP6698150 B2 JP 6698150B2 JP 2018504734 A JP2018504734 A JP 2018504734A JP 2018504734 A JP2018504734 A JP 2018504734A JP 6698150 B2 JP6698150 B2 JP 6698150B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
assembly
heater
heater assembly
proximal
capsule
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2018504734A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018529507A (ja
Inventor
デニス、レオナルド、ウェルチ
レイモンド、アンソニー、スピッツ
ダグラス、ギーキー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Element Six UK Ltd
Original Assignee
Element Six UK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Element Six UK Ltd filed Critical Element Six UK Ltd
Publication of JP2018529507A publication Critical patent/JP2018529507A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6698150B2 publication Critical patent/JP6698150B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/06Processes using ultra-high pressure, e.g. for the formation of diamonds; Apparatus therefor, e.g. moulds or dies
    • B01J3/065Presses for the formation of diamonds or boronitrides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/04Pressure vessels, e.g. autoclaves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/06Processes using ultra-high pressure, e.g. for the formation of diamonds; Apparatus therefor, e.g. moulds or dies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/1208Containers or coating used therefor
    • B22F3/1216Container composition
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/1208Containers or coating used therefor
    • B22F3/1258Container manufacturing
    • B22F3/1283Container formed as an undeformable model eliminated after consolidation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/14Both compacting and sintering simultaneously
    • B22F3/15Hot isostatic pressing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B30PRESSES
    • B30BPRESSES IN GENERAL
    • B30B11/00Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
    • B30B11/001Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
    • B30B11/002Isostatic press chambers; Press stands therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/064Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B5/00Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
    • F27B5/04Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0605Composition of the material to be processed
    • B01J2203/061Graphite
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0605Composition of the material to be processed
    • B01J2203/062Diamond
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0605Composition of the material to be processed
    • B01J2203/0645Boronitrides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/065Composition of the material produced
    • B01J2203/0655Diamond
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/065Composition of the material produced
    • B01J2203/066Boronitrides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0675Structural or physico-chemical features of the materials processed
    • B01J2203/068Crystal growth
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2203/00Processes utilising sub- or super atmospheric pressure
    • B01J2203/06High pressure synthesis
    • B01J2203/0675Structural or physico-chemical features of the materials processed
    • B01J2203/0685Crystal sintering
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/14Both compacting and sintering simultaneously
    • B22F3/15Hot isostatic pressing
    • B22F2003/153Hot isostatic pressing apparatus specific to HIP

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Press Drives And Press Lines (AREA)

Description

この開示は、一般的に、超高圧、高温(HPHT)プレス機用カプセル、本カプセルを含んでなる合成アセンブリ、およびそれらの使用方法に関する。
米国特許番号8,371,212では、多結晶ダイヤモンド成形体(PDC)の製造に使用され、管状加熱要素を含んでなる高圧立方体プレス機に使用するためのセルアセンブリを開示している。圧力伝達媒体は、少なくとも実質的に管状加熱要素の周りに延在する。
Bach, Kevin Christian(“An Improved Cube Cell Assembly for the Use With High Pressure/High Temperature Cubic Apparatus in Manufacturing Polycrystalline Diamond Compact Inserts” (2009). All Theses and Dissertations, Brigham Young University, Utah, USA. Paper 4244. Pages 7, 8)は、缶アセンブリ、ヒーターアセンブリ及びキューブアセンブリを含んでなる立方体プレス機のカプセルアセンブリを開示する。缶アセンブリは、多結晶ダイヤモンド(PDC)インサートを焼結するための成分を含んでなり、かつ均一な圧力分布を確保し、試料を接地から絶縁するために、塩などの平衡材料からなるライナーが内側に設置される。ヒーターアセンブリは、グラファイトチューブと、一対のグラファイトディスクとを含んでなり、それぞれがアセンブリの各端部にあり、グラファイトチューブおよびディスクは、それらを通って流れる電流に応じて抵抗加熱をすることができる。一旦、ヒーターアセンブリが完成すると、それは、ヒーターアセンブリと圧力媒体キューブとの間に絶縁性ライナーを受け入れるために構成された圧力媒体キューブ中に設置される。耐火金属ディスクは、アンビルからヒーターアセンブリまで電流を導通するために、ヒーターアセンブリと最外側の端部におけるスチールリングとのそれぞれの端部に設置される。圧力媒体ボタンは、変形からスチールリングを支えるためにそれぞれのスチールリングの内側に設置され、圧力を試料に分散し、かつアセンブリ熱からアンビルを絶縁する。ヒーターは、機械加工のグラファイトから形成されてもよい。使用中、電流は、チタンまたはモリブデンディスクによってスチールリングからヒーターアセンブリに流れる。グラファイトディスクは、端部の発熱のため、ヒーターチューブの端部に設置される。
超硬質材料を合成することができる適切な超高圧、高温(HPHT)プレス機用カプセルアセンブリが必要であるが、特に、相対的に長い継続時間を有し、相対的に安定なヒーター機構を有するプロセスであるとは限らない。
第1の態様から見ると、超高圧炉(超高圧プレス機とも呼ばれ得る)用カプセルアセンブリであって、内部サイド表面を有し、かつ中央縦方向軸を画定する格納チューブと、反応アセンブリの収容に適するチャンバーと、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリと、サイドヒーターアセンブリとを含んでなり、使用時に組み立てられた際に、チャンバーは、格納チューブ内に格納され、かつ近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの間に縦方向に配置され、サイドヒーターアセンブリは、内部サイド表面に隣接して並べられ、かつ端部ヒーターアセンブリを互いに電気的に接続し、それぞれの端部ヒーターアセンブリは、内部サイド表面に隣接して並べられた各周囲サイドを有し、端部およびサイドヒーターアセンブリを通って流れる電流に応じて、熱をチャンバー中で生じることができ、ならびに少なくとも近位のサイドヒーター障壁は、その周囲サイドに隣接する少なくとも近位の端部ヒーターアセンブリからサイドヒーターアセンブリを離間するように構成され、端部ヒーターアセンブリが、中央縦方向軸に沿って、カプセルアセンブリに超高圧炉によって適用された力に応じて、互いに向かい合って移動する際に、サイドヒーターアセンブリの一部が、端部ヒーターアセンブリの周囲サイドと、格納チューブとの間に侵入し、近位の端部ヒーターアセンブリの少なくとも一部で短絡することを防止するように作用する、超高圧炉用カプセルアセンブリが提供される。
様々な構成および組合せが想定され、例えば、非限定的で、非包括的なカプセルアセンブリが、その例として以下に開示されている。
いくつかの例示的な構成において、カプセルアセンブリは、遠位のサイドヒーター障壁を含んでもよく、使用時に組み立てられた際に、遠位のサイドヒーター障壁は、その周囲サイドに隣接する遠位の端部ヒーターアセンブリからサイドヒーターアセンブリを離間するように構成され、端部ヒーターアセンブリが、中央縦方向軸に沿ってカプセルアセンブリに超高圧炉によって適用された力に応じて、互いに向かい合って移動する際に、サイドヒーターアセンブリの一部が、遠位の端部ヒーターアセンブリの周囲サイドと、格納チューブとの間に侵入し、遠位の端部ヒーターアセンブリの少なくとも一部で短絡することを防止するように作用する。言い換えれば、例示的なカプセルアセンブリは、サイドヒーターアセンブリの近位、遠位の端部、ならびに遠位および近位の端部ヒーターアセンブリのそれぞれに対応するサイドヒーター障壁を含んでもよく、それぞれのサイドヒーター障壁は、サイドヒーターアセンブリの一部が、端部ヒーターアセンブリの一方または両方の周囲サイドの間に十分に侵入し、端ヒーターアセンブリの少なくとも一部で短絡する危険性を減少させることと同じ機能を果たす。
いくつかの例示的な構成において、近位(およびまた、いくつかの例示的な構成において、遠位)のサイドヒーター障壁は、リングの形態であってもよく、使用時に組み立てられた際に、近位(および遠位)のサイドヒーター障壁は、サイドヒーターアセンブリの近位(および遠位)のフランジ部分に隣接しするようなリングの形態であってもよく、近位(および遠位)のフランジ部分は、内部サイド表面から離れて延在し、および内部サイド表面から遠く、かつ少なくとも近位(および遠位)のサイドヒーター障壁によってそれから離間される接触界面において、近位(および遠位)の端部ヒーターアセンブリに電気的に接触する。
いくつかの例示的な構成において、近位(および遠位)のサイドヒーター障壁は、マイタ表面を有し、使用時に組み立てられた際に、該マイタ表面(または各表面)は、内部サイド表面(または縦方向軸)に対して、少なくとも約10度、少なくとも約20度、少なくとも約30度、もしくは少なくとも約40度の角度に並べられ、および/またはマイタ表面は、内部サイド表面に対して、最大で約80度、最大で約70度、最大で約60度、もしくは最大で約50度の角度に並べられ得るように構成および配置される。端部ヒーターアセンブリが、使用時に適用された力の下で互いに向かい合って移動する際に、該(またはそれぞれの)マイタ表面は、サイドヒーターアセンブリの少なくとも一部を格納チューブから離れる方向にそらせ、サイドヒーターアセンブリと各端部ヒーターアセンブリとの間の電気的接触を維持してもよい。サイドヒーターアセンブリの該(またはそれぞれの)フランジ部分の曲がった領域は、該(または各)マイタ表面に隣接して並べられてもよい。
いくつかの例示的な構成において、近位(およびまた、いくつかの例示的な構成において、遠位)のサイドヒーター障壁は、導電性材料を含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、または電気絶縁性材料を含んでもよいか、もしくはそれからなってもよい。該(またはそれぞれの)サイドヒーター障壁は、カプセルが超高圧下である際には、使用中に内部サイド表面に対して摺動することができるように、内部サイド表面に対して十分に低い摩擦係数を有する材料を含んでもよいか、またはそれからなってもよい。いくつかの例示的な構成において、該(またはそれぞれの)サイドヒーター障壁は、グラファイト、六方窒化ホウ素(hBN)、またはチタン(Ti)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)などの少なくとも1,600℃の融点を有する耐火金属を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。いくつかの例において、それぞれのサイドヒーター障壁は、セラミック、またはパイロフィライト、タルク、マイカもしくはその他の特定のケイ酸塩(フィロケイ酸塩)鉱物などの鉱物材料、またはそれらの合成類似物を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。いくつかの例示的な構成において、近位(および遠位)のサイドヒーター障壁は、グラファイトなどの導電性材料を含んでなる。
いくつかの例示的な構成において、サイドヒーターアセンブリは、内側および外側サイド要素を含んでもよく、それぞれ、異なる導電性材料を含んでなり、かつそれを通って流れる電流に応じて熱を発生させることができ、使用時に組み立てられた際に、内側および外側サイド要素は同軸であり、内側サイド要素は、外側サイド要素によって内部サイド表面から離間され、および両方が、チャンバーの縦方向の全長に沿って端部ヒーターアセンブリの間に延在するように構成される。いくつかの構成において、サイドヒーターアセンブリの1つ以上は、チャンバーを方位的に囲んでもよい。
いくつかの例示的な構成において、内側および外側サイド要素は、それぞれ、グラファイト、少なくとも1,600℃の融点を有する耐火金属、または耐火金属の導電性炭化物から選択される材料を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。様々な例において、サイド要素の少なくとも1つは、Tiを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、かつサイド要素の少なくとも1つは、Taを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、および/またはサイド要素の少なくとも1つは、グラファイトを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、かつサイド要素の少なくとも1つは、TiもしくはTaを含んでもよいか、もしくはそれらからなってもよく、および/または内側サイド要素は、TiもしくはTaを含んでもよいか、もしくはそれらからなってもよく、かつ外側サイド要素は、グラファイトを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよい。
様々な例において、内側および外側サイドヒーター要素の異なる材料は、それらの電気抵抗率が、海面大気圧における約1,000℃の温度において、少なくとも約20パーセント、または少なくとも約2倍、約10倍、もしくは約100倍異なってもよい。サイドヒーター要素の少なくとも1つは、要素または合金の形態において、金属を含んでもよいか、またはそれからなってもよく、およびサイドヒーター要素の少なくとも1つは、グラファイトを含んでもよいか、またはそれからなってもよく、それらは剛体または薄片の形態であってもよい。
いくつかの例示的な構成において、サイドヒーター要素の少なくとも1つの電気抵抗は、25℃〜1,600℃の温度範囲にわたる温度で増加してもよく、および別のサイドヒーター要素の電気抵抗は、前記温度範囲にわたる温度で減少してもよい。
いくつかの例示的な構成において、サイドヒーターアセンブリは、使用時に組み立てられた際に、内側および外側サイド要素は、接触界面領域にわたって互いに電気的な接触状態であり得るように構成されてもよく、ならびに内側および外側ヒーター要素に含まれた各材料、例えば、グラファイトおよびチタンは、25℃〜1,600℃の範囲の温度において化学的に反応し、反応生成物、例えば、炭化チタンを含んでなる中間層を形成する。
サイド要素サイドヒーター要素の少なくとも1つは、使用中に、サイドヒーター要素の1つの金属と、隣接する端部ヒーター要素に含まれた炭素との間の化学反応から生じ得る炭化チタン(TiC)などの耐火金属の導電性炭化物を含んでもよいか、またはそれからなってもよい。第1のヒーター要素が、炭素(グラファイトなどのC)を含んでなるか、またはそれからなり、かつ隣接する第2のヒーター要素がTiを含んでなる際に、炭化チタン(TiC)は、反応プロセスの加熱段階中に、CとTiとの化学反応によって生じ得る。炭化タンタル(TaC)は、Taヒーター要素が、グラファイトヒーター要素に隣接して置かれた場合に生じ得る。
いくつかの例示的な構成において、サイド要素の少なくとも1つは、グラファイトを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、かつサイド要素は、TiまたはTaを含んでもよいか、もしくはそれらからなってもよく、および/またはサイド要素の少なくとも1つは、Tiを含んでもよく、かつサイド要素の少なくとも1つは、Taを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよく、および/または内側サイド要素は、TiまたはTaを含んでもよいか、もしくはそれらからなってもよく、かつ外側サイド要素は、グラファイトを含んでもよいか、もしくはそれからなってもよい。
いくつかの例示的な構成において、使用時に組み立てられた際に、少なくとも反応アセンブリのサイドの領域は、内側ヒーター要素に接触してもよく、かつ塩化ナトリウムまたは臭化カリウムなどの塩化合物を含んでもよい。例えば、外側サイドヒーター要素は、グラファイトを含んでもよいか、またはそれからなってもよく、かつ内側サイドヒーター要素は、チタンなどの材料を含んでもよく、それはグラファイトと反応することができ、中間層、例えばTiC形成し、それは、塩化ナトリウム(NaCl)などの反応アセンブリから材料との反応、およびそれらによる分解からグラファイトを保護する効果を有し得、かつそれらは望ましい電気的および抵抗加熱特性を有し得る。グラファイトを含んでなる外側サイドヒーター要素の効果は、外側サイドヒーター要素と格納チューブの内部サイド表面との間の摩擦が、(高温かつ超高圧において)比較的低くできることであり、カプセルアセンブルは、使用中にその横方向範囲に横切ってより大きな変形が均一に圧縮され得る態様を有し得る。この効果は、柔軟な薄片の形態の外側サイドヒーターアセンブリが延在されたグラファイトを含んでなる場合に、特に明白であり得る。
サイドおよび/または端部ヒーターアセンブリに含まれたヒーター要素は、温度の機能として、相補的な電気的特性を示す異なる各材料を含んでもよい。例えば、使用中に内側および外側サイドヒーター要素を通過する電流の割合は、サイドヒーターアセンブリが所望の全体的な加熱応答を可能な限り示すことができるように、温度が上昇すると、それぞれ変化し得る。いくつかの例示的な構成において、サイドヒーター要素の1つの電気抵抗は、25℃〜1,600℃の温度範囲にわたる温度で増加し得、および別のサイドヒーター要素の電気抵抗は、前記温度範囲にわたる温度で減少し得る。言い換えると、サイドヒーター要素は、異なる材料を含んでもよいか、またはそれらからなってもよく、その電気抵抗率は、周囲温度(約25℃)から反応温度(約1200℃超)への温度の上昇において、異なる向きに変化し得る。例えば、サイドヒーター要素の1つの電気抵抗率は、前記温度範囲にわたる温度で減少し得、および別のヒーター要素の電気抵抗率は、前記範囲にわたる温度で増加し得る。いくつかの例において、サイドまたは端部ヒーターアセンブリは、グラファイトを含んでなるか、またはそれからなるヒーター要素、ならびにチタン(Ti)、タンタル(Ta)またはモリブデン(Mo)を含んでなるか、またはそれらからなる別のヒーター要素を含んでもよく、(増加する温度に応じる)グラファイトの電気抵抗率の係数は、少なくとも約500℃まで、または少なくとも1,000℃まで負であり、およびTi、TaおよびMoの電気抵抗率の係数は、少なくとも反応温度まで正である。例えば、サイドヒーターアセンブリは、グラファイトチューブもしくはシート、およびグラファイトチューブもしくはシートと接触して配置されたチタン(Ti)薄片またはシートを含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。
いくつかの例示的な構成において、サイドヒーター要素の少なくとも1つは、最大で約0.5ミリメートル(mm)の厚さを有する薄片、シートまたは層の形態であってもよく、および/またはそれは少なくとも10ナノメートル(nm)の厚さを有してもよい。いくつかの例において、サイドヒーター要素の少なくとも1つは、(カプセルを組み立てるときに扱う際に)それ自体を支えるのに十分に堅いチューブを含んでもよいか、またはそれからなってもよく、グラファイトもしくは耐火金属を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。サイドヒーター要素のチューブは、約0.5mm〜約10mmの厚さを有してもよい。
いくつかの例示的な構成において、超高圧炉は、ベルト型または立方プレス装置であってもよい。
いくつかの例示的な構成において、それぞれの端部ヒーターアセンブリは、端部ヒーターアセンブリを通って各電気経路を形成する各伝導容積を含んでなり、サイドヒーターアセンブリは、各伝導性容積を互いに電気的に接続し、および伝導性容積を通って流れる電流に応じて、熱がチャンバー中で生じることができ、近位(およびいくつかの例において、遠位)の端部ヒーターアセンブリは、外側絶縁容積を含む第1の絶縁部材を含んでなり、近位(および遠位)の端部ヒーターアセンブリの伝導性容積は、内側伝導性容積を含み、ならびに内側伝導性容積は、外側絶縁容積によって格納チューブから横方向に離間される。
様々な例示的な構成において、少なくとも近位の端部ヒーターアセンブリは、(使用時に組み立てられた際に)協同的に、一方が他方内に配置された1つ以上のディスクおよびリングとして構成され、接触する層アセンブリを形成し、格納チューブに隣接する中央縦方向軸から拡張する、1つ以上の絶縁容積および1つ以上の導電性容積を含んでもよい。1つの絶縁容積または複数の容積は、1つ以上の絶縁部材から形成され、および1つ以上の伝導性容積は、1つ以上の伝導性要素から形成される。少なくとも1つの内側伝導性容積は、少なくとも第1の絶縁部材で形成された少なくとも1つの外側絶縁容積によって、方位的に囲まれてもよい。内側伝導性容積は、ディスクまたは固体円柱の形態であってもよく、外側絶縁容積は、リングの形態であってもよく、それぞれ対応する伝導性要素および絶縁部材は、ディスクおよびリングの形態であってもよい。
いくつかの例示的な構成において、(近位、およびまたいくつかの例において、遠位の端部ヒーターアセンブリの)第1の絶縁部材は、リングの形態であってもよい。第1の絶縁部材の全円周サイド領域は、格納チューブに接触していてもよく、内側導電性容積を通って流れる全電流を抑制するように作用し得る。いくつかの例示的な構成において、外側伝導性容積が、外側絶縁容積によって内側伝導性容積から横方向(または半径方向)に離間されるように、第1の絶縁部材の側面領域の表面の全てまたは一部は、格納チューブから離間されてもよく、および伝導性容積は、格納チューブに接触する外側伝導性容積を含んでもよく、格納チューブに隣接して電流の一部を導通するように作用し得る。
いくつかの例示的な構成において、内側伝導性容積は、中央縦方向軸を含んでもよく、かつ中央縦方向軸から測定して、端部ヒーターアセンブリの横方向範囲(例えば、外側半径)の、最大で2/3または最大で半分まで延在してもよい。内側伝導性容積の横方向の寸法(例えば、半径)は、中央縦方向軸から測定して、最大で約35cm、もしくは最大で約20cm、もしくは最大で約10cmまで延在されてもよく、および/または内側伝導性容積の横方向の寸法(例えば、半径)は、少なくとも約0.5cm、もしくは少なくとも約1cmであってもよい。
いくつかの例示的な構成において、内側伝導性容積は、環状の形態であってもよく、かつ中央縦方向軸と同軸上に配置されてもよく、中央縦方向軸から測定して、端部ヒーターアセンブリの横方向範囲(例えば、外側寸法)の、最大で2/3または最大で半分まで延在する外側横方向の寸法(例えば、半径)を有する。内側伝導性容積の外側横方向の寸法(例えば、半径)は、中央縦方向軸から測定して、最大で約35cm、もしくは最大で約20cm、もしくは最大で約10cmまで延在していてもよく、および/または内側伝導性容積の外側横方向の寸法(例えば、半径)は、少なくとも約0.5cm、もしくは少なくとも約1cmであってもよい。いくつかの例において、内側伝導性容積は、少なくとも約0.1mm、もしくは少なくとも約0.5mm、および/または最大で約10mm、最大で約5mm、もしくは最大で約1mmの半径方向の厚さを有するリングの形態であってもよい。内側絶縁容積は、内側伝導性容積の中央に置かれてもよく、内側伝導性容積によって外側絶縁容積から離間されてもよく、中央縦方向軸を含む。
いくつかの例示的な構成において、外側絶縁容積は、使用時に組み立てられた際に、少なくとも約5mm、もしくは少なくとも約10mm、または(中央縦方向軸から格納チューブの内部サイド表面まで測定して)格納チューブの内側半径の少なくとも10パーセント、もしくは少なくとも20パーセント、格納チューブから内側伝導性容積を離間するように構成されてもよい。いくつかの例において、外側絶縁容積は、環状の形状であってもよく、かつ少なくとも約0.5mm、もしくは少なくとも約10mm、または外側半径の少なくとも約10パーセント、もしくは少なくとも約20パーセントの半径方向の厚さ(外側と内側との半径の間)を有し、および/または外側絶縁容積は、最大で約40mm、もしくは最大で約20mmの半径方向の厚さを有してもよい。外側絶縁容積は、リング形態の絶縁部材によって形成されてもよい。
いくつかの例示的な構成において、近位(およびいくつかの例において、遠位)の端部ヒーターアセンブリは、複数の絶縁部材を含んでもよく、それらは切りばめ細工のように配置することができるように協同的に構成される(例えば、使用時に組み立てられた際に、1つの絶縁部材はリングの形態であってもよく、他方の絶縁部材は、リングにぴったり収まり得るディスクまたはプラグの形態であってもよいが、ディスクまたはプラグはリングと同軸に配置され、伝導性要素によってそれから縦方向に離間される)。
いくつかの例示的な構成において、少なくとも近位の端部ヒーターアセンブリは、それぞれ、外側絶縁容積を含む少なくとも第1の絶縁部材、および内側伝導性容積を含む少なくとも1つの各端部ヒーター要素を含んでなるか、またはそれらからなる複数の端部層アセンブリを含んでもよい。端部層アセンブリは、互いに縦方向に対して積み重ねられてもよく、各端部ヒーター要素は、互いに電気的な接触状態であり、かつ層アセンブリの全てを縦方向に通って流れるように電流の伝導経路を提供する。
いくつかの例示的な構成において、近位(及び遠位)の端部ヒーターアセンブリは、複数の伝導性要素と複数の絶縁部材とを含んでもよく、使用時に組み立てられた際に、近位の端部ヒーターアセンブリは、その横方向領域にわたって実質的に均一な圧縮剛性を示し得るように協同的に構成される。言い換えれば、その横方向領域にわたってそれぞれの点における端部ヒーターアセンブリの加重平均弾性率は均一であり得、その点で縦方向に配置された1つ以上の絶縁部材と1つ以上の伝導性要素とのそれぞれの厚さ加重弾性率を合計することによって算出される。
いくつかの例示的な構成において、近位の端部ヒーターアセンブリ(およびまた、いくつかの例において、遠位の端部ヒーターアセンブリ)の伝導性容積は、それぞれ、グラファイト、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)またはステンレス鋼から選択される材料を含んでなる複数の端部伝導性要素よって形成されてもよい。
いくつかの例示的な構成において、該またはそれぞれの(近位の端部ヒーターアセンブリ、およびまた、いくつかの例において、遠位の端部ヒーターアセンブリの)絶縁部材は、セ氏25度(℃)および海面大気圧で、少なくとも約15ギガパスカル(GPa)、少なくとも約20GPa、または少なくとも約100GPaの弾性率を有するセラミック材料を含んでもよい。いくつかの例において、セラミック材料は、セ氏25度(℃)またはセ氏1,000度(℃)、および海面大気圧で、最大で約500GPaの弾性率を有し得る。
いくつかの例示的な構成において、該またはそれぞれの(近位の端部ヒーターアセンブリ、およびまた、いくつかの例において、遠位の端部ヒーターアセンブリの)絶縁部材は、海面大気圧で測定して、25℃において、最大で約100×10−6Kcal/(cm・s・℃)、最大で約10×10−6Kcal/(cm・s・℃)、もしくは最大で約5×10−6Kcal/(cm・s・℃)、または1,000℃において、最大で約20×10−6Kcal/(cm・s・℃)、もしくは最大で約5×10−6Kcal/(cm・s・℃)の平均熱伝導率を有するセラミック材料を含んでもよい。いくつかの例において、セラミック材料は、海面大気圧で測定して、約25℃または1,000℃において、少なくとも約1×10−6Kcal/(cm・s・℃)の平均熱伝導率を有し得る。
いくつかの例示的な構成において、外側絶縁容積は、伝導性容積から電気的に分離される導電性材料を含んでもよい。
いくつかの例示的な構成において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリは、互いに実質的に同じ構造を有してもよく、他の例示的な構成において、端部ヒーターアセンブリは、実質的に異なった構造を有してもよく、異なる速度において、および/または異なる空間分布に従って、熱を発生させ、それ故に、チャンバー中の反応容積内で異なった温度分布となるように作用し得る。いくつかの例示的な構成において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの両方の伝導容積は、各内側伝導性容積を含んでもよく、かつ各外側絶縁容積を含む各第1の絶縁部材を含んでもよく、および端部ヒーターアセンブリの両方の内側伝導性容積は、各外側絶縁容積によって格納チューブから横方向に離間されてもよい。遠位の端部ヒーターアセンブリの内側伝導性容積は、近位の端部ヒーターアセンブリ(またはその逆)の内側伝導性容積よりも格納チューブからさらに離間してもよく、使用中に、反応容積内に温度勾配が発生するように作用し得る。いくつかの例において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの両方の内側伝導性容積は、実質的に異なった半径を有する伝導性ディスクの形態であり、いくつかの例では、平均半径の大きい方の少なくとも約10パーセント、および最大で約80パーセント異なる。他の例において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの両方の内側伝導性容積は、(リングの外側および内側半径の平均で算出された)実質的に異なる平均半径を有する伝導性リングの形態であり、いくつかの例では、平均半径の大きい方の少なくとも約10パーセント、および最大で約80パーセント異なる。いくつかの例示的な構成において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの各内側伝導性容積の形状および/または寸法は、実質的に異なってもよく、例えば、端部ヒーターアセンブリの1つの内側伝導性容積は、伝導性ディスクの形態であってもよく、他の端部ヒーターアセンブリの内側伝導性容積は、伝導性リングの形態であってもよい。一般的に、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの構造および構成は、使用中に、チャンバー中の反応アセンブリ内で縦方向に所望の温度勾配を発生させるために、実質的の異なってもよい。
いくつかの例示的な構成において、近位(およびまた、いくつかの例示的な構成において、遠位)の端部ヒーターアセンブリは、リングの形態の(外側絶縁容積を含む)第1の絶縁部材と、ディスクの形態の第2の絶縁部材と、リングの形態の第1の伝導性要素と、ディスクの形態である第2の伝導性要素と、を含んでなり、使用時に組み立てられた際に、第1の層アセンブリは、第1の絶縁部材によって画定された貫通孔内に同軸に収容された第2の伝導性要素を含んでなり、第2の層アセンブリは、第1の伝導性要素によって画定された貫通孔内に同軸に収容された第2の絶縁部材を含んでなり、および第3の層アセンブリは、少なくとも1つの伝導性ディスクを含んでなり、第3の層アセンブリは、第1と第2の層アセンブリとの間に積み重ねられることができ、かつ第1および第2の伝導性要素を電気的に接続することができる、ように協同的に構成される。いくつかの例において、第1の伝導性要素によって画定された貫通孔の半径は、第1の絶縁部材によって画定された貫通孔の半径、ならびに第2の伝導性要素および第2の絶縁部材の半径に実質的に等しくてもよい。
いくつかの例示的な構成において、第1および第2の伝導性要素は、それぞれ、グラファイトを含んでもよく、および第3の伝導性要素は、Mo、TiまたはTaなどの、海面大気圧で少なくとも1,600℃の融点を有する金属材料を含んでもよい。
いくつかの例示的な構成において、第1の伝導性要素は、第2の絶縁部材と実質的に同じ厚さを有してもよく、および第2の伝導性要素は、第1の絶縁部材と実質的に同じ厚さを有する。いくつかの例において、該(またはそれぞれの)絶縁部材は、少なくとも1ミリメーター(mm)、少なくとも2mm、もしくは少なくとも5mmの厚さ、および/または最大で約10mmの厚さを有してもよい。
第2の態様から見ると、超高圧炉用カプセルアセンブリであって、内部サイド表面を有し、かつ中央縦方向軸を画定する格納チューブと、反応アセンブリの収容に適するチャンバーと、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリと、サイドヒーターアセンブリと、を含んでなり、使用時に組み立てられた際に、それぞれの端部ヒーターアセンブリは、内部サイド表面に隣接して並べられる各周囲サイドを有し、サイドヒーターアセンブリは、内部サイド表面に隣接して並べられ、かつ端部ヒーターアセンブリを互いに電気的に接続し、かつ内側および外側サイドヒーター要素を含んでなり、それぞれ、異なる材料を含んでなり、それぞれ、それを通って流れる電流に応じて熱を発生させることができ、チャンバーは、端部ヒーターアセンブリの間に並べられ、端部およびサイドヒーターアセンブリを通って流れる電流に応じて、熱がチャンバー中に生じることができ、内側サイドヒーター要素は、外側サイドヒーター要素によって内部サイド表面から離間され、ならびに両方が、チャンバーの縦方向の全長に沿って端部ヒーターアセンブリの間に延在するように構成される、超高圧炉用カプセルアセンブリが提供される。
第2の態様によるカプセルアセンブリの様々な構造および構成は、第1の態様に関して開示された任意の1つまたは1つ以上の例示的な構成との組み合わせを含む本開示によって想定される。
第3の態様から見ると、組み立てられた状態で例示されたカプセルアセンブリを含んでなり、かつチャンバー内に置かれた反応アセンブリを格納する合成アセンブリであって、反応アセンブリが、反応アセンブリに超高圧を適用する超高圧に応じて、超硬質材料を製造することに適する、合成アセンブリが提供される。超硬質材料は、単結晶合成ダイヤモンド、単結晶立方窒化ホウ素、多結晶ダイヤモンド(PCD)材料、多結晶cBN(PCBN)を含む、ダイヤモンドまたは立方窒化ホウ素(cBN)を含んでもよいか、またはそれらからなってもよい。いくつかの例において、合成アセンブリは、少なくとも約0.5mm、少なくとも約1mm、もしくは少なくとも約2mm、および/または最大で約5mmの平均径(球の直径に等しい)を有する単結晶ダイヤモンドの製造に適し得る。いくつかの例において、合成アセンブリは、岩石、コンクリート、金属、複合材料、木、アスファルト、強化高分子材料などを切断もしくは破砕し得る、超硬合金材料に着けられたPCD材料を含んでなるユニットの製造に適し得る。
第4の態様から見ると、例示された合成アセンブリの使用方法であって、超高圧炉を使用して、合成アセンブリを、超硬質材料の発生に適する圧力および温度に少なくとも約5時間、少なくとも約10時間、少なくとも約20時間、少なくとも約48時間、少なくとも約72時間、少なくとも約5日間、少なくとも10日間、および/または最大で約30日間さらすことを含む方法が提供される。比較的長い合成プロセスは、比較的大きい単結晶合成ダイヤモンドの製造に使用してもよい。
非限定的な構成の例を、添付の図面を参照して説明する。
例示的なカプセルアセンブリ、ならびにガスケットの一部、および一対のアンビルの一部、およびベルト型プレス機のダイスの概略的な縦方向断面図を示す図である。 例示的なカプセルアセンブリ、ならびにガスケットの一部、および一対のアンビルの一部、およびベルト型プレス機のダイスの概略的な縦方向断面図を示す図である。 電極アセンブリおよびガスケットの一部を含む例示的なカプセルアセンブの概略的な縦方向断面図を示す図である。 電極アセンブリおよびガスケットの一部を含む例示的なカプセルアセンブリの構成の概略的な縦方向断面図を示す図である。 図4Aの「H」で示された例示的なヒーターアセンブリの一部の拡大図を示す図である。 例示的なヒーターアセンブリの構成の一部の概略的な縦方向断面図を示す図である。 領域Cのより詳細を示す図である。 例示的なカプセルアセンブリの構成の一部の概略的な縦方向断面図を示す図である。 領域Dのより詳細を示す図である。 海面大気圧において、約25℃〜2,700℃の範囲の温度の関数としてのモリブデンの電気抵抗率を示すグラフである。 海面大気圧において、約25℃〜1,050℃の範囲の温度の関数としての99.9パーセント純チタンの電気抵抗率を示すグラフである。 海面大気圧において、約0℃〜2,000℃の範囲の温度の関数としてのグラファイト薄片を例とする電気抵抗率を示す図である。
図1および図2を参照すると、例示的なベルト型超高圧プレス機用カプセルアセンブリの構成は、内部サイド表面111を有する円柱状格納チューブ110、一対のガスケット120A、120B、反応アセンブリ(図示せず)の収容に適する円柱状チャンバー130、一対の端部ヒーターアセンブリ200A、200B、およびサイドヒーターアセンブリ300を含み得る。格納チューブ110およびガスケット120A、120Bは、タルク、パイロフィライト(水酸化アルミニウムケイ酸塩、AlSi10(OH)を含んでなる鉱物)、ムライトもしくは他のフィロケイ酸塩鉱物、またはアルミニウム(Al)およびシリコン(Si)を含んでなる鉱物などの天然または合成鉱物材料を含んでもよく、それらは高温および超高圧に応じて比較的耐火物である。格納チューブは、中央縦方向(円柱状)軸Lに沿って規定され、アンビル600A、600Bは、使用中に互いに向かい合って移動し、カプセルアセンブリを圧縮および加圧する。
チャンバー130は、2つの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bの間に置かれて示される。図1に示された特別な構成において、それぞれの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bは、チャンバー130が、実質的に端部ヒーターアセンブリ200A、200Bの間の途中に置かれるように、チャンバー130の反対側の端部に隣接して置かれる。図2に示された特別な例において、チャンバー130が、近位の端部ヒーターアセンブリ200Aに対してより近くに置かれ、軸方向の温度勾配が、使用中にチャンバー130内で発生するように、遠位の部端ヒーターアセンブリ200Bは、スペーサ―プラグ140によってチャンバーの遠位の端部から離間される。いくつかの例において、スペーサ―プラグ140は、塩化ナトリウム(NaCl)、臭化カルシウム(KBr)、またはパイロフィライト、タルク、マイカもしくはムライトなどのフィロケイ酸塩鉱物を含んでもよい。使用時に組み立てられた際に、図1および図2に示されたように、それぞれの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bは、超高プレス機の各アンビル600A、600Bと当接し、かつ各アンビル600A、600Bを電気的に接続する。
ダイス500およびアンビル600A、600Bは、コバルト超硬炭化タングステン(WC−Co)材料を含んでもよい。使用中に、アンビル600A、600Bは、カプセルアセンブリを圧縮すること、およびカプセルアセンブリを通って流れるように電流を送ることの2重の機能を示す。ぞれぞれのアンビル600A、600Bは、各端部ヒーターアセンブリ200A、200Bに当接し、かつ電気的に接触し、およびアンビル600A、600Bは、油圧機構によってカプセルアセンブリの縦方向軸Lに沿って、互いに向かい合って移動するように促され、この結果として、縦方向軸Lに沿って対向する力Fを加え、それらの間でカプセルアセンブリを圧縮する。使用中に、端部ヒーターアセンブリ200A、200Bおよびサイドヒーターアセンブリ300を通って流れる電流に応じて、チャンバー130内に熱が発生する。ベルト型プレス機において、カプセルアセンブリは、格納チューブ110を取り囲む環状のダイス500によって格納され、ガスケット120A、120Bによって、それぞれのアンビル600A、600Bと、ダイス500の各端部との間で圧縮される。ガスケット120A、120Bは、アンビル600A、600Bが十分に高い力の下でダイス上を前進することを可能にすることができる材料を含んでなると同時に、カプセルアセンブリの内容物が、超高圧で外側に爆発するのを防止する。立方型プレス機(図示せず)において、カプセルアセンブリは、6つのアンビルによって、それぞれ6つの、4つの側面から圧縮され、ガスケットは隣接するアンビルの間に置かれる。
図1および図2に示された例示的な構成において、それぞれの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bは、各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bおよび各端部電極アセンブリ212A、212Bを含んでなる。それぞれの端部電極アセンブリ212A、212Bは、各絶縁リング222A、222Bと絶縁プラグ224A、224Bの間に半径方向に置かれた各スチール電極リング220A、220Bを含んでもよい。それぞれの横方向要素アセンブリ210A、210Bは、1以上の導電性端部ヒーター要素を含んでもよく、それは、所望の半径方向の構成に従って発熱するように、直流電流が横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bを通って流れるように構成および配置されてもよい。それぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bは、格納チューブ110の内部を横方向(半径方向)横切ってに延在し、使用中に、それぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bの周囲サイドが、内部サイド表面111に接触する。この結果として、両方の横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bは、格納チューブ110よって格納され、およびそれぞれの端部電極アセンブリ212A、212Bの絶縁リング222A、222Bは、チューブ110に部分的に挿入され、またその内部サイド表面111に接触する。使用中に、それぞれの導電性リング220A、220Bは、対応する横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bを、対応する(導電性)アンビル600A、600Bに電気的に接続し、この結果として、それぞれのアンビル600A、600Bと、近位の横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bとの間に電流が流れることを可能とする。
一般的に、端部ヒーターアセンブリ210A、210Bおよびサイドヒーターアセンブリ300によって、カプセルアセンブリ内に発生した熱を可能な限り保持して、周囲のアンビル600A、600Bおよびダイス500に失しなわれる熱の量を最小限に抑えることが望ましい。従って、それぞれの端部電極アセンブリ212A、212Bは、その容積の大部分(例えば、その容積の90パーセント超)が、電気絶縁性であり、かつ低い熱伝導率を示す材料からなるように構成されてもよい。この材料は、使用中のカプセルアセンブリの歪みを可能な限り減少するために、約1,000℃〜2,000℃の温度で十分に高い弾性率を有してもよい。図1および図2に示された例示的な構成において、絶縁リング222A、222Bおよび絶縁プラグ224A、224Bの組み合わされた容積は、電極リング220A、220Bの容積よりもはるかに大きくてもよい。
使用中に、格納チューブ110、絶縁プラグ224A、224B、および絶縁リング222A、222Bに含まれた材料は、反応プロセスの期間にわたって、加熱および加圧されることに応じて相変化を受ける可能性があり、相変化は材料の熱伝導特性を変える可能性があり、カプセルアセンブリのいくつかの形状の歪みをもたらす可能性がある。パイロフィライトなどの鉱物は、高温および高圧に晒された際に、一定期間にわたって相変化を受け、結果的に比重および断熱特性が変化する。相変化は、サイドヒーターアセンブリ300および横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bの最も熱い領域に接近して始まる可能性がある。この現象は、完了まで数日または数週間を要する長いプロセスにとって特に重要な可能性があり、端部およびサイドヒーターアセンブリ200A、200B、300を設計する際に、関連性のある考察であり得る。
図1および図2に示された特別な例において、近位および遠位の端部ヒーターアセンブリ200A、200Bの両方の伝導性容積は、各横方向ヒーターアセンブリ210A、210B、および各スチールリング220A、220Bにヒーター要素を含んでなる。スチールリング220A、220Bは、端部ヒーターアセンブリ200A、200Bの各内側伝導性容積を形成し、(各第1の絶縁部材に対応する)それぞれの絶縁リング222A、222Bは、格納チューブ110から各スチールリング220A、220B(伝導性内側容積)を半径方向に離間する各外側絶縁容積を形成する。この「チョーク(choke)」構成は、アンビル600A、600を通って流れる全ての電流を、格納チューブ110から半径方向に離間されたそれぞれの端部ヒーターアセンブリ220A、220Bを通って半径方向内向きに流れるように強制する。この結果として、低周波交流であり得る電流は、格納チューブから半径方向内向きにそれぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bに供給され、電流が横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bを通って半径方向に流れるときに、いくらかの熱を発生させることを確保し、この結果として、中央縦方向軸Lに比較的接近してチャンバー130中の反応アセンブリを加熱する。
電流が、横方向ヒーターアセンブリ210A、210B、およびサイドヒーターアセンブリ300の導電性要素を通り抜けるとき、抵抗加熱(「ジュール」または「オーム」加熱とも呼ばれる)によって熱が発生し、単位時間あたり発生した熱の量は、要素の電気抵抗に乗じた電流の2乗に比例する。チャンバー130の発熱は、ヒーター要素の構成、ひいてはチャンバー130の周りの電流の流れによって空間的に分布する。
図3を参照すると、例示的なカプセルアセンブリは、それぞれ、パイロフィライトを含んでなる各絶縁プラグ224A、224Bを含んでなり、かつ各スチール電極リング220A、220B内に置かれた一対の端部電極アセンブリ212A、212Bを含み得る。図3に示された例示的な構成において、スチール電極リング220A、220Bは、それぞれの端部電極アセンブリ212A、212Bの外側周囲サイドを画定し、かつ格納チューブ110の内部サイド表面に接触状態で摺動する。それぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bは、ステンレス鋼からなり、および電極リング220A、220Bの外径とほぼ同じ外径を有する円形のディスクの形態の1つ以上の端部ヒーターアセンブリを含んでもよい。サイドヒーターアセンブリ300は、半径方向の内側金属薄片310および半径方向の外側グラファイトチューブ320を含んでもよい。金属薄片310およびグラファイトチューブ320は、横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bの間に、それぞれ、各電気的接続を形成し、それらの間の軸方向の全ての向きに延在する。金属薄片310は、チタン(Ti)からなってもよく、かつチャンバー130の周りに、方位角によって全ての向きに延在してもよく、使用時に組み立てられた際に、反応アセンブリの電気絶縁性側面に接触する。グラファイトチューブ320は、格納チューブ110とTi薄片310との間にスリーブを形成する。グラファイトチューブ320およびTi薄片310の電気抵抗率は、それらの各値および向きにおいて実質的に異なり、これらの値は、周囲温度(約25℃)および反応プロセス温度(約1,400℃)との間の温度の関数として変化する。
グラファイトチューブ320および金属薄片310の両方が、横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bの間の軸方向の全ての向きに延在するようにサイドヒーターアセンブリ300を構成すると、格納チューブ110の相変化の縦方向分布がより均一になり、相対的に長い反応プロセスの間に潜在的により低く、かつより安定した縦方向の温度勾配をもたらし得る。ヒーターチューブ320に含まれたグラファイトは、格納チューブ110の内部サイド表面111に対して比較的低い摩擦を示す可能性があり、かつヒーターチューブ320が使用中に軸方向に圧縮されると、それに対して摺動する可能性があり、この結果として、中央縦方向軸Lを通る縦断面で見た際に、カプセルアセンブリを比較的均一な向きで圧縮することを潜在的に許容する。
図3を参照すると、サイドヒーターアセンブリ300の温度が、特定値以上に上昇すると、薄片310のTiは、グラファイトヒーターチューブ320と化学的に反応して、炭化チタン(TiC)の薄い中間層を形成し、この結果として、二重層のサイドヒーターアセンブリ300は、実質的に純粋なTiの最内部層、TiCの中間層(図3に図示せず)およびグラファイトの外層を含んでなる三重層アセンブリに転換される。TiCは、Tiよりもはるかに高い融点を有し、その電気的、化学的および機械的特性は、高温でTiよりも安定であるため、TiCの形成は、サイドヒーターアセンブリ300の安定効果をもたらす可能性がある。
チャンバー130中に置かれたいくつかの例示的な反応アセンブリは、電気的性質を変える可能性がある塩による化学的分解からグラファイトチューブ320を保護し得るTi薄片310と接触する塩化ナトリウム塩(NaCl)ハウジングを含み得る。特に、TiCは、反応アセンブリ中に含まれたNaClまたは他の反応材料による腐食および化学反応に耐久性がある。加えて、TiCは、電流を伝導し、Ti薄片310およびグラファイトチューブ320の未反応部分であるのと同時に、サイドヒーターアセンブリ300内の第3のヒーター要素として寄与する可能性がある。Ti薄片310およびTiCフィルムは、化学障壁として作用する可能性があり、溶融塩が、グラファイトヒーターチューブ320を通って拡散し、その加熱機能を妨害するのを防ぐ。加えて、溶融塩がグラファイトチューブ320を通って拡散した場合、ガスケット120A、120Bは、カプセルの内容物を格納することができず、材料は超高圧でカプセルアセンブリから爆発的に漏れる可能性がある(「ブローアウト」と呼ばれる)。本反応プロセスは、中断される可能性があり、アンビル600A、600Bおよびダイス500は、かなりの費用で損害を受け得る。
この結果として、図3を参照して説明されたグラファイトチューブ320とTiヒーター薄片310との組み合わされた構成は、所望の全体的な抵抗加熱応答、反応プロセスの継続時間にわたる化学的劣化の低減された危険性、反応アセンブリ内の低減された温度勾配、および格納チューブ110の相変化の低減された縦方向の変動の必要性をバランスよく保つ。
図4Aおよび図4Bを参照すると、例示的なカプセルアセンブリは、それぞれ、その周囲サイドに隣接する各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bと、サイドヒーターアセンブリ300の各端部との間に、格納チューブ110の内部サイド表面に隣接して置かれる一対のサイドヒーター障壁400A、400Bを含んでもよい。サイドヒーター障壁400A、400Bは、それぞれ、内向に対向するマイタ表面を有する円形のリングの形態であってもよく、その外側円周サイド表面(および格納チューブ110の内部サイド表面)に対して約45度で傾斜される。それぞれの障壁リング400A、400Bの平面に垂直な断面、かつその中央を通って見た際に、障壁は、マイタ表面が斜辺を画定する実質的に直角三角形の形状を示し得る。組み立てられた際に、円周サイド表面は、格納チューブ110の内部サイド表面に当接してもよく、隣接した直角表面は、横手方向ヒーターアセンブリ210A、210Bに当接してもよく、マイタ表面は、サイドヒーターアセンブリ300の傾斜部分304に当接してもよい。この結果として、それぞれの障壁リング400A、400Bは、サイドヒーターアセンブリ300を、格納チューブ110に隣接する各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bから離間する。障壁リング400A、400Bは、グラファイトまたは他の比較的耐火性の導電性材料からなってもよいか、またはそれらは、セラミックなどの電気絶縁性材料を含んでもよい。
図4Aおよび図4Bに示された例示的な特別な構成において、サイドヒーターアセンブリ300は、一般的に円柱形状であってもよく、かつ縦方向に延在するサイド部分302、ならびに半径方向内向きに折り曲げられた両端部においてフランジ部分306A、306Bを含んでもよい。それぞれのフランジ部分306A、306Bを接続するサイドヒーターアセンブリ300の傾斜部分304は、各障壁リング400A、400Bのマイタ表面に当接し得る。サイドヒーターアセンブリ300のフランジ部分306A、306Bは、各障壁リング400A、400Bによって半径方向に離間された接触領域において、格納チューブ110から半径方向内向きに各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bに接触し得る。他の例示的な構成において、サイドヒーターアセンブリ300の端部は、各障壁リング400A、400Bを遠回しに通って、それぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bと電気的接触を確保し得る(ただし、障壁リング400A、400Bは導電性である)。
障壁リング400A、400Bは、使用中に、特に比較的長い反応プロセス中に、横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bの周囲サイドと、格納チューブ110の内部サイド表面との間に侵入するサイドヒーターアセンブリ300の材料のリスクを低減し得る。この結果として、障壁成分400A、400Bは、使用中のカプセルアセンブリの機械的および電気的安定性を改善し得る。障壁リング(またはサイドヒーター障壁の他の形態)400A、400Bが、グラファイト、または実質的にsp2−結合された一般的な炭素材料からなる場合に、カプセルアセンブリがアンビルによって圧縮された際に、使用中の障壁リングと格納チューブ110の内部サイド表面との摩擦は、超高圧かつ高温において比較的低く、従って、障壁リング400A、400Bは、使用中に格納チューブ110に対して縦方向に摺動する。これは、カプセルアセンブリの圧力および変形における半径方向の差を低減させ、比較的均一な向きで縦方向に圧縮するカプセルアセンブリの可能性を高めるという態様を有する。
図4Bを参照すると、図4Aの「H」で指し示された例示的なカプセルアセンブリの一部が、より詳細に示されている。サイドヒーターアセンブリ300は、一方が他方内に同軸に配置された3つの実質的に共形な金属ヒーター要素を含んでもよい。最外側および中間のヒーター要素330、320は、同じ金属、例えばタンタル(Ta)からなってもよく、チャンバー130に対して最内側のヒーター要素310は、チタン(Ti)薄片からなってもよい。
図4Aおよび図4Bに示されたそれぞれの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bは、各端部電極アセンブリ212A、212Bおよび各横手方向ヒーターアセンブリ210A、210Bを含んでなり、その導電性要素は、示されたように配置された際に、各伝導性容積を形成する。端部電極アセンブリ212A、212Bは、ステンレス鋼からなってもよい各伝導性リング220A、220B、およびリング220A、220Bに置かれたパイロフィライトからなってもよい電気絶縁性ディスク224A、224Bを含んでなる。導電性リング220A、220Bは、格納チューブ110の内部サイド表面に接触し得、かつアンビルと各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bとの間に電流を伝導し、グラファイトリング234によって形成された外側伝導性容積に電流を供給する。それぞれの端部ヒーターアセンブリ200A、200Bは、パイロフィライトからなってもよい絶縁リング252で形成された外側絶縁容積、および外側絶縁リング252内にぴったり収まり、かつ絶縁リング252によって格納チューブ110から半径方向に離間されるグラファイトディスク254で形成された内側伝導性容積を含んでなる。例えば、モリブデンディスクで形成された第3の伝導性容積240は、グラファイトリング234とグラファイトディスク254とを電気的に接続し得る。この構成において、アンビルからステンレス鋼リング220A、220Bを通って、グラファイトリング234に流れる電流は、中央に置かれたグラファイトディスク254を通って、格納チューブ110から半径方向内向きに流れるように強制される。第4の伝導性容積260は、グラファイトリング254をサイドヒーターアセンブリ300に電気的に接続し得る。
それぞれの横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bは、完全に、少なくとも1つの導電性ヒーター要素を含んでなる4つの層アセンブリ230、240、250、260を含んでもよい。各層アセンブリ230および250内の絶縁部材232、252は、ディスク232の外径が、リング252の内径と実質的に等しくなるように、それぞれディスクおよびリングとして構成される。絶縁ディスク232および絶縁リング252は、実質的に同じ弾性率を有する同じ種類の材料からなってもよい。絶縁ディスク232およびリング252が、使用時に同軸に配置された際に、それらは単一の切りばめ細工ディスクを形成するように上下に現れて見ることができる。層アセンブリ230は、金属ジャケット231内で部分的にカプセル化されてもよい。側面から見ると、絶縁ディスク232およびリング252は、絶縁リング252の外径と実質的に同じ径を有するモリブデン(Mo)ディスクからなる中間層アセンブリ240によって、互いに縦方向に離間して見られる。また、絶縁ディスク232を含んでなる層アセンブリ230は、絶縁ディスクを取り囲み、かつ層アセンブリ250内の絶縁リング252を実質的に覆うグラファイトリング234の形態の導電性ヒーター要素を含み得る。また、層アセンブリ250は、絶縁リング252内に置かれ、かつ層アセンブリ230内の絶縁ディスク232の下に実質的に横たわるグラファイトディスク254の形態の導電性ヒーター要素を含み得る。絶縁リング252および絶縁ディスク232、ならびにグラファイトリング234およびグラファイトディスク254の同軸で協同的な重ね合わせの結果として、層アセンブリ230、240および250の縦方向の剛性および圧力応答は、実質的に半径方向の位置において不変であり得る。
電流が、横方向の内向きおよび外向きに流れるように、一般的に環状の絶縁部材(または同様な構造の絶縁部材)で強制される図4Aおよび図4Bを参照して上記に説明された種類の端部ヒーターアセンブリは、電流経路が、縦方向断面で見た際に、「チョーク化(choked)」しているように見え得るため、「チョーク(choke)」ヒーターアセンブリとして呼ばれ得る。言い換えれば、電流は、ヒーターアセンブリ内に1つ以上の縦方向の位置で比較的広い外部領域にわたって分布し、ヒーターアセンブリ内の他の縦方向の位置で比較的小さい領域(大抵は中央縦方向軸により近くかつ同軸に)にわたって集中する。いくつかの例において、電流密度(およびひいては、ヒーターアセンブリの単位面積または体積あたりの熱発生率)は、横方向外側容積よりもヒーターアセンブリの横方向内側容積内で実質的に大きくなり得る。他の例において、内側容積内の電流の詰まり(choking)は、電流密度(単位体積当たり)の差が低減されるか、または実質的に排除されるように、外側容積よりも内側容積のヒーター要素を厚くすることによって相殺される。この結果として、チョークヒーターの構成を使用して、ヒーターアセンブリをその横方向範囲にわたって実質的に均一に相殺し得、この結果として、使用中のヒーターアセンブリの変形の程度を低減し、潜在的(ただし、必ずしもそうではない)に図4Aおよび図4Bを参照して説明された例のように、横方向の電流密度および熱の発生の変動を防止する。
電子密度が中央のヒーターアセンブリ254内に集中している図4Aおよび図4Bに示されたようなチョークヒーターの例において、熱の発生は、中央縦方向軸の近くにも集中する。一般的に、チャンバー130内の反応アセンブリの温度は、サイドヒーターアセンブリ300に隣接する一般的に環状の容積で最も高くなり得、サイドヒーターアセンブリ300および端部ヒーターアセンブリ200A、200Bから離れた中央容積で最も低くなり得る。この結果として、軸方向および半径方向の定常状態温度勾配は、ヒーターアセンブリが、この傾向を相殺するように配置されない限り、使用中の反応アセンブリ内に、確保される傾向がある。熱は、格納チューブ110および電極アセンブリ212A、212Bを通って、特に導電性リング220A、220Bを通って、カプセルアセンブリから失われる傾向がある。温度勾配は、チョークの構成を含むように端部ヒーターアセンブリ220A、220Bを構成し、縦方向軸Lの近くに発熱を集中させることによって、減少させることができる。しかしながら、いくつかの例では、ヒーターアセンブリは、ダイヤモンド結晶が、小さなダイヤモンド粒子の溶解と、カプセルの別の領域に置かれたダイヤモンドの成長への溶質炭素の析出を含む方法によって成長させる際などに、反応アセンブリ内の所望の特別な温度勾配領域をもたらすために構成され得る(図2に示されたスペーサ―成分140は、ヒーターアセンブリ200Bの一方を他方のヒーターアセンブリ200Aよりもチャンバー130からさらに遠ざけて配置することによって所望の縦方向軸の温度勾配を達成することができる)。
図5Aおよび図5Bを参照すると、例示的なカプセルアセンブリは、一方が他方内に同軸に配置された4つの実質的に共形で、一般的に環状の金属ヒーター要素310、320、330、340を含んでなるサイドヒーターアセンブリ300を含み得る。サイドヒーターアセンブリ300の最外側の350および最内側の310のヒーター要素は、チタン(Ti)からなってもよく、および2つの最内側のヒーター要素320、330はタンタル(Ta)からなってもよい。端部ヒーターアセンブリは、それぞれ、チョークとして構成および配置された4つの層アセンブリ230、240、250、260を含んでなる各横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bを含んでなる。縦方向で最内側の層アセンブリ260は、互いに積み重ねられた円形のMoウェーハからなってもよい。これらの軸方向の最内側は、サイドヒーターアセンブリ300のフランジ部分306の最外側のTi層340に接触し、各支持リング400A、400Bに当接する。隣接する層アセンブリ250は、パイロフィライトを含み、外側絶縁容積を形成する電気絶縁性リング252と、第1の伝導性容積によって格納チューブ110から離間した内側伝導性容積を形成する内側グラファイトディスク254とからなってもよい。次の層アセンブリ240は、互いに積み重ねられたMoウェーハからなってもよい。第4の層アセンブリ230は、グラファイトを含んでなる導電性リング234と、パイロフィライトを含んでなる内側電気絶縁性ディスク232からなってもよく、電流が第4の層アセンブリ230を通過するときに、半径方向外向きに電流を流すように構成される。
図6Aおよび図6Bを参照すると、例示的な端部電極アセンブリ212A、212Bは、各スチールディスク215A、215B、電気絶縁性リング222A、222B、電気絶縁性ディスク224A、224B、および電気絶縁性リング222A、222B(外側絶縁容積を形成する)とディスク224A、224Bとの間に置かれた導電性リング220A、220B(伝導性内側容積を形成する)を含み得る。電気絶縁性リング222A、222Bおよびディスク224A、224Bは、パイロフィライトを含んでもよく、かつ同軸に配置されてもよい。導電性リング220A、220Bは、Moを含んでもよく、使用時に、端部電極アセンブリ212A、212Bが組み立てられた際に、伝導性リング220A、220Bは、各スチールディスク215A,215Bと、対応する横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bとを電気的に接続する。格納チューブ110から半径方向内向きのそれぞれのMoリング220A、220Bの位置は、アンビルと横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bとの間に流れる電流の「詰まり(choking)」の効果有し、この結果として、格納チューブ110から半径方向内向きに横方向ヒーターアセンブリ210A、210Bに電流を供給する。これは、ヒーターアセンブリの縦方向軸Lの近くに所望の通りに横方向ヒーターアセンブリ210A、210B内で熱が発生することを確実にする効果を有する。
図6Bを参照すると、横方向ヒーターアセンブリ210Aは、グラファイト薄片材料からなり、かつ異なる半径を有する複数の積層ディスク235、237を含んでもよい。端部電極212により近いグラファイトディスク235は、それからさらに遠ざけたこの237よりも大きな半径を有し、周縁においてサイドヒータースリーブ300のエッジに接触する。直径の差異が生じる場合、端部ヒーターディスク要素235、237は、それらの横方向範囲を横切ってヒーターディスク要素を通って流れる電流密度の差を減少させ得る。言い換えれば、横方向領域の電流密度は、中央領域を通るよりも周囲領域を通ってより低くなり得るにもかかわらず、これは、中央領域内の組み合わされたディスク要素235、237の全体の厚さによって少なくとも部分的に相殺され得、この結果として、横方向ヒーターアセンブリ210の単位体積あたりの電流密度および熱発生率の差が低減される。サイドヒーターアセンブリ300は、グラファイト薄片材料からなる1以上のスリーブを含んでもよい。
図7、図8および図9を参照すると、ヒーターアセンブリ、特にサイドヒーターアセンブリの要素は、温度変化に対して実質的に異なる応答を示し得る実質的に異なる電気抵抗率を有する異なる材料を含み得る。例えば、図7および図8に示すように、MoおよびTiの電気抵抗率は、少なくとも約850℃まで、および約900℃を超えるまで温度上昇の関数として単調に増加する一方で、図9に示すように、特定のグラファイト薄片の電気抵抗率は、約1,000℃までの温度上昇と共に減少し、その後、おおよそその温度を超える温度で増加し始める。従って、TiまたはMo薄片は、グラファイト薄片と組み合わされ、サイドヒーターアセンブリを形成してもよく、金属およびグラファイト薄片の厚さは、温度の関数としてヒーターアセンブリの所望の全体の電気抵抗率を達成するように選択される。
様々な例において、端部およびサイドヒーターアセンブリの構成および構造は、超高圧の際に、反応アセンブリ内の軸方向および/または半径方向の温度勾配を低減して、焼結体アセンブリ全体にわたって十分に均一な焼結を達成する(複数の別個の単位を焼結するように構成され得る)可能性を高めるように選択され得る。特に、カプセルアセンブリおよびヒーターアセンブリを設計する場合の追加の考慮事項は、アセンブリの容易さおよびアセンブリ間のばらつきの低減、および/または反応プロセスの持続時間であり得る。
カプセルアセンブリの例示的な構成は、ヒーターアセンブリが、使用中にカプセルアセンブリに高付加(および結果として超高圧)および高温の適用にもかかわらず、比較的良好な機械的および化学的安定性に起因し得る比較的安定した発熱挙動を示すことができる態様を有し得る。特に(排他的でない)この態様は、例示的なカプセルアセンブリが、比較的大きなダイヤモンドまたは立方晶窒化ホウ素(cBN)結晶の合成のための比較的長い反応プロセスにおいて、またはダイヤモンドまたはcBN粒子を焼結して、多結晶ダイヤモンド(PCD)または多結晶cBN(PCBN)材料を製造するための反応プロセスにおいて使用される場合に役立ち、それぞれ、高度の寸法精度が望ましい場合には、特に有利である。
様々な例示的な構成において、端部および/またはサイドヒーターアセンブリは、層またはシートの形態の1つ以上のヒーター要素を含んでもよく、それぞれのヒーターアセンブリが、抵抗的に熱を発生させ、所望の温度および温度勾配にチャンバー中の反応アセンブリを加熱するのに適した所望の全体の電気的特徴を有するように構成され、かつ配置される。ヒーター要素は、様々な異なる材料を含んでもよく、特別な構造で互いに組み合わせた際に、ヒーターアセンブリ全体が、必要とされた電気的、熱的、機械的および化学的特徴を示すように、それらの電気的、機械的および化学的特性が選択される。化学的特徴の例は、隣接する材料との化学反応の関与に対する実質的な回復力であってもよく、この結果として、反応プロセスの全体にわたって電気的特性の実質的な不変性であり得る。サイドおよび端部ヒーターアセンブリは、反応アセンブリ内の半径方向および/または軸方向の温度勾配を最小限にするために、または半径方向および/または軸方向の所望の温度勾配を達成するために構成されてもよい。
いくつかの例において、ヒーター要素の1つに含まれた材料は、ヒーター要素の別のものを、別の成分との化学反応から保護する効果を有し得、いくつかの例において、隣接するヒーター要素に含まれた材料は、反応プロセス中に、特にプロセスの早い段階で、互いに化学的に反応し得、保護層を形成し、および/または望ましい電気的特性を有し得る反応生成物を含んでなるか、またはそれからなる保護層を形成し得る。
本明細書で使用される特定の用語および概念について簡単に説明する。
本明細書で使用される場合、超高圧は、少なくとも1GPaの圧力である。実際的な目的として、工業的反応プロセスで使用される超高圧は、最大で約15GPa、最大で10GPa、または最大で約8GPaであってもよい。本明細書で使用される場合、超高圧炉(超高圧プレス機と呼ばれてもよい)は、反応アセンブリを超高圧および少なくとも約1,000℃の平均温度にさらすことができる装置である。
本明細書で使用される場合、単語「リング」、「チューブ」、「環状」およびその類似単語は、特に明記しない限り、必ずしも円形または円柱形状を意味するものではなく、一般的に、他の形態および形状を含み、開口中央容積は、中央縦方向軸を画定し、中央縦方向軸の周りに回転する(しかし、必ずしも円柱形状ではない)対称性を有する壁または容積を取り囲む内部サイド表面によって画定される。例えば、断面(横方向に、縦方向軸に垂直)で見たチューブまたはリングは、円形、環状、正方形、菱面体、多面体、長円形、楕円形などであってもよい。
構造に関して本明細書で使用される場合、円柱状(縦方向とも呼ばれる)の軸について実質的に対称であるチューブ、チャンバー、ヒーターアセンブリ、プレス機の態様は、半径および方位座標を含む円柱座標の表現で説明することができる。本明細書で使用される場合、縦方向軸は、一対のアンビルがカプセルアセンブリに圧力をかけるためにカプセルアセンブリに沿って、対向する力を加えるカプセルアセンブリの軸であり、「横方向」とは縦方向軸に関連し、横方向面は、縦方向軸に垂直である。また、単語「半径方向」は、円柱座標が使用された際には、「横方向」と呼ばれて使用されてもよい。「縦方向」は、それを画定する2つのアンビルのみが存在し、一対のアンビル以上が存在することを暗示または示唆するようには意図されず、また、「垂直」を暗示または示唆するようには意図されず、本明細書で使用されるような縦方向は、垂直、水平、または重力に対していくつかの他の方位性であってもよい。同様に、「横方向」は、重力に対して「水平」を暗示または示唆するようには意図されない。例えば、ベルト型プレス機システムは、2つのみのアンビルを有し、カプセルアセンブリのための横方向の支持がダイスによって提供され、立方体プレス機は、6つのアンビルを立方体対象で対向する対として配置され、ダイスではない。従って、立方体プレス機には、カプセルアセンブリために3つの潜在的な縦方向軸が存在する。
本明細書で使用される場合、「グラファイト」とは、グラファイト(単結晶または多結晶グラファイト)、グラファイトもしくは少なくとも約70重量%のグラファイトを含んでなる材料、可撓性膨張グラファイト材料、グラファイトの薄片、シートもしくは生地(商品名Sigraflex(登録商標)でSGL Group(登録商標)から商業的に入手可能であり得るようなもの)、または少なくとも70重量%のsp2−結合された炭素を含んでなる他の材料を含む。例示的なヒーター要素は、ミクロ構造およびその特性が、それを製造のために使用される方法、および使用される原料に実質的に依存し得る任意のグラファイトの特定の形態を含んでもよい。例えば、石油コークスから製造されたグラファイトは、約5〜約15マイクロ−オメガメートル(μΩ・m)の電気抵抗率を有し得、約500℃までの温度の関数として電気抵抗率の負係数を示し、それ以上は正になり得る(言い換えれば、電気抵抗率は、温度が約500℃に上昇するにと減少し、温度がこの値より上昇すると増加する)。カーボンブラックから製造されたグラファイトは、石油コークスから作られたグラファイトよりも数倍高い電気抵抗率を有し得、電気抵抗率の係数は、少なくとも約1600℃まで負であり得る。結晶性グラファイトは、非常に異方性の電気抵抗率を示し、基底面では約0.40μΩ・mであり、横切った基底面では約60μΩ・mである。ヒーターアセンブリのヒーター要素に使用されるグラファイトは、実質的に等方性の平均電気抵抗率を有する多結晶性グラファイトの可能性があり、機械加工された固体、自立チューブ、ディスクもしくはリングの形態、またはグラファイト薄片もしくは生地の形態であってもよい。
本明細書で使用される場合において、セラミック材料は、少なくとも1つ金属(例えば、アルミニウム、ケイ素)、および少なくとも1つの非金属(例えば、酸素、窒素、炭素)を含む組成物から作られた無機、非金属材料である。セラミック材料は、パイロフィライト(水酸化アルミニウムケイ酸塩、AlSi10(OH))、マイカ、ムライト、カオリンなどのフィロケイ酸塩材料、および酸化マグネシウムなどの他のセラミック材料などを含む。

Claims (13)

  1. 超高圧炉用カプセルアセンブリであって、
    内部サイド表面を有し、かつ
    中央縦方向軸を画定する、
    格納チューブと、
    反応アセンブリの収容に適するチャンバーと、
    近位および遠位の端部ヒーターアセンブリと、
    サイドヒーターアセンブリと、
    を含んでなり、
    使用時に組み立てられた際に、
    前記チャンバーが、
    前記格納チューブ内に格納され、かつ
    前記近位および遠位の端部ヒーターアセンブリの間に縦方向に配置され、
    前記サイドヒーターアセンブリが、
    前記内部サイド表面に隣接して並べられ、かつ
    前記端部ヒーターアセンブリを互いに電気的に接続し、
    それぞれの端部ヒーターアセンブリが、前記内部サイド表面に隣接して並べられた各周囲サイドを有し、
    前記端部およびサイドヒーターアセンブリを通って流れる電流に応じて、熱が前記チャンバー中で生じることができ、ならびに
    少なくとも近位のサイドヒーター障壁が、その周囲サイドに隣接して、少なくとも前記近位の端部ヒーターアセンブリから前記サイドヒーターアセンブリを離隔するように構成され、前記近位のサイドヒーター障壁が、円形のリングの形態であり、およびそれぞれの障壁リングの平面に垂直な断面、かつその断面を通って見た際に、実質的に直角三角形の形状を有し、前記直角三角形の形状の斜辺はマイタ表面を画定し、前記端部ヒーターアセンブリが、前記中央縦方向軸に沿って、前記カプセルアセンブリに前記超高圧炉によって適用された力に応じて、互いに向かい合って移動する際に、前記サイドヒーター障壁は、前記サイドヒーターアセンブリの一部が、前記近位の端部ヒーターアセンブリの周囲サイドと、前記格納チューブとの間に侵入することを防止し、このようにして前記近位の端部ヒーターアセンブリの少なくとも一部で短絡することを避けるように作用する、超高圧炉用カプセルアセンブリ。
  2. 遠位のサイドヒーター障壁を含んでなり、
    使用時に組み立てられた際に、
    前記遠位サイドヒーター障壁が、その周囲サイドに隣接する前記遠位の端部ヒーターアセンブリから前記サイドヒーターアセンブリを離隔するように構成され、前記遠位のサイドヒーター障壁が、円形のリングの形態であり、およびそれぞれの障壁リングの平面に垂直な断面、かつその断面を通って見た際に、実質的に直角三角形の形状を有し、前記直角三角形の形状の斜辺はマイタ表面を画定し、前記端部ヒーターアセンブリが、前記中央縦方向軸に沿って前記カプセルアセンブリに前記超高圧炉によって適用された力に応じて、互いに向かい合って移動する際に、前記サイドヒーター障壁は、前記サイドヒーターアセンブリの一部が、前記遠位の端部ヒーターアセンブリの周囲サイドと、前記格納チューブとの間に侵入することを防止し、このようにして前記遠位の端部ヒーターアセンブリの少なくとも一部で短絡することを避けるように作用する、請求項1に記載のカプセルアセンブリ。
  3. 少なくとも前記近位のサイドヒーター障壁が、リングの形態であり、
    使用時に組み立てられた際に、少なくとも前記近位のサイドヒーター障壁が、前記サイドヒーターアセンブリの少なくとも各近位のフランジ部分に隣接するようなリングの形態であり、
    少なくとも前記近位のフランジ部分が、
    前記内部サイド表面から離れて延在し、および
    前記内部サイド表面から遠く、かつ少なくとも前記近位のサイドヒーター障壁によってそれから離隔される接触界面において、前記近位の端部ヒーターアセンブリに電気的に接触する、
    請求項1または2に記載のカプセルアセンブリ。
  4. 少なくとも前記近位のサイドヒーター障壁が、マイタ表面を有し、
    使用時に組み立てられた際に、前記マイタ表面が、前記縦方向軸に対して10〜80度の角度に並べられるように構成および配置される、
    請求項1〜3のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  5. 少なくとも前記近位のサイドヒーター障壁が、グラファイトなどの導電性材料を含んでなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  6. 前記サイドヒーターアセンブリが、
    内側サイド要素と、
    外側サイド要素と、を含んでなり、
    それぞれ、異なる導電性材料を含んでなり、かつ
    それを通って流れる電流に応じて熱を発生させることができ、
    使用時に組み立てられた際に、
    前記内側および外側サイド要素が同軸であり、
    前記内側サイド要素が、前記外側サイド要素によって前記内部サイド表面から離隔され、および
    両方が、前記チャンバーの縦方向の全長に沿って前記端部ヒーターアセンブリの間に延在する、
    ように構成される、
    請求項1〜5のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  7. 前記内側および外側サイド要素が、それぞれ、グラファイト、少なくとも1,600℃の融点を有する耐火金属、または前記耐火金属の導電性炭化物から選択される材料を含んでなる、請求項6に記載のカプセルアセンブリ。
  8. 前記サイド要素の少なくとも1つが、Tiを含んでなり、および
    前記サイド要素の少なくとも1つが、Taを含んでなる、
    請求項6または7に記載のカプセルアセンブリ。
  9. 前記サイド要素の少なくとも1つが、グラファイトを含んでなり、および
    前記サイド要素の少なくとも1つが、TiまたはTaを含んでなる、
    請求項6〜8のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  10. 前記内側サイド要素が、TiまたはTaを含んでなり、および
    前記外側サイド要素が、グラファイトを含んでなる、
    請求項9に記載のカプセルアセンブリ。
  11. 前記サイドヒーター要素の少なくとも1つの電気抵抗が、25℃〜1,600℃の温度範囲にわたる温度で増加し、および
    別の前記サイドヒーター要素の電気抵抗が、前記温度範囲にわたる温度で減少する、
    請求項6〜10のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  12. 前記サイドヒーターアセンブリが、使用時に組み立てられた際に、
    前記内側および外側サイドヒーター要素が、接触界面領域にわたって互いに電気的な接触状態であるように構成され、ならびに
    前記内側および外側サイドヒーター要素に含まれた、グラファイトおよびチタンなどの各材料が、25℃〜1,600℃の範囲の温度において化学的に反応し、炭化チタンなどの反応生成物を含んでなる中間層を形成する、
    請求項6〜11のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
  13. 前記超高圧炉が、ベルト型または立方プレス装置である、請求項1〜12のいずれか一項に記載のカプセルアセンブリ。
JP2018504734A 2015-07-30 2016-07-27 超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法 Expired - Fee Related JP6698150B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB1513446.3A GB201513446D0 (en) 2015-07-30 2015-07-30 Capsule assemblies for ultra-high pressure presses and methods for using them
GB1513446.3 2015-07-30
PCT/EP2016/067878 WO2017017130A1 (en) 2015-07-30 2016-07-27 Capsule assemblies for ultra-high pressure presses and methods for using them

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018529507A JP2018529507A (ja) 2018-10-11
JP6698150B2 true JP6698150B2 (ja) 2020-05-27

Family

ID=54062906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018504734A Expired - Fee Related JP6698150B2 (ja) 2015-07-30 2016-07-27 超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20180214836A1 (ja)
EP (1) EP3328532A1 (ja)
JP (1) JP6698150B2 (ja)
KR (1) KR102068642B1 (ja)
CN (1) CN107921390A (ja)
GB (2) GB201513446D0 (ja)
WO (1) WO2017017130A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201513453D0 (en) * 2015-07-30 2015-09-16 Element Six Uk Ltd And Element Six Technologies Ltd Capsule assemblies for ultra-high pressure presses and methods for using them
CN113813878B (zh) * 2021-10-09 2023-10-13 安徽宏晶新材料股份有限公司 一种双加热层金刚石合成装置
CN114588841B (zh) * 2022-03-31 2024-03-12 河南四方达超硬材料股份有限公司 一种六面顶压机及其温度控制自动调整方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2947617A (en) * 1958-01-06 1960-08-02 Gen Electric Abrasive material and preparation thereof
US4103100A (en) * 1976-10-14 1978-07-25 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Cell adapted for producing high temperatures and high pressures
US4225300A (en) * 1979-08-27 1980-09-30 High Pressure Technology, Inc. Reliable high pressure apparatus
JPS61283332A (ja) * 1985-06-06 1986-12-13 Nippon Oil & Fats Co Ltd 超高圧装置用発熱体装置
JPS6230543A (ja) * 1985-07-31 1987-02-09 Mitsubishi Metal Corp 超高圧高温発生装置
JPS63130133A (ja) * 1986-11-20 1988-06-02 Nippon Oil & Fats Co Ltd 超高圧高温発生装置
US5043120A (en) * 1988-11-10 1991-08-27 The General Electric Company Process for preparing polycrystalline CBN ceramic masses
JPH05309256A (ja) * 1992-04-30 1993-11-22 Ishizuka Kenkyusho:Kk 超高圧高温反応法
US20020081260A1 (en) * 1997-10-17 2002-06-27 Suresh Shankarappa Vagarali High pressure/high temperature production of colorless and fancy colored diamonds
AUPP040297A0 (en) * 1997-11-14 1997-12-11 Australian National University, The A cell for forming a composite hard material and method of forming composite hard materials
US6733907B2 (en) * 1998-03-27 2004-05-11 Siemens Westinghouse Power Corporation Hybrid ceramic material composed of insulating and structural ceramic layers
WO2001014050A1 (en) * 1999-08-25 2001-03-01 General Electric Company High pressure/high temperature production of colored diamonds
ES2258919B2 (es) * 2005-02-21 2007-04-01 Instituto De Monocristales, S.L. Capsula y elementos para la produccion de sintesis del diamante.
GB201108975D0 (en) * 2011-05-27 2011-07-13 Element Six Ltd Superhard structure, tool element and method of making same
US9586376B2 (en) * 2012-04-09 2017-03-07 Smith International, Inc. High pressure high temperature cell
GB201513453D0 (en) * 2015-07-30 2015-09-16 Element Six Uk Ltd And Element Six Technologies Ltd Capsule assemblies for ultra-high pressure presses and methods for using them

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180033269A (ko) 2018-04-02
GB201612954D0 (en) 2016-09-07
CN107921390A (zh) 2018-04-17
GB2543124B (en) 2020-03-11
GB2543124A (en) 2017-04-12
US20180214836A1 (en) 2018-08-02
EP3328532A1 (en) 2018-06-06
KR102068642B1 (ko) 2020-01-22
WO2017017130A1 (en) 2017-02-02
GB201513446D0 (en) 2015-09-16
JP2018529507A (ja) 2018-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6698150B2 (ja) 超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法
KR100380510B1 (ko) 개선된물성을갖는지지된다결정성콤팩트및그의제조방법
US4259090A (en) Method of making diamond compacts for rock drilling
US3743489A (en) Abrasive bodies of finely-divided cubic boron nitride crystals
US10625230B2 (en) Combined field assisted sintering techniques and HTHP sintering techniques for forming polycrystalline diamond compacts and earth-boring tools
JP6698149B2 (ja) 超高圧プレス機用カプセルアセンブリおよびそれらの使用方法
GB2423542A (en) Compact with a TSP layer having a property which varies through the layer
JP2015507087A5 (ja)
AU2009333674A1 (en) Sintered diamond heat exchanger apparatus
US10668539B2 (en) Graphite heater with tailored resistance characteristics for HPHT presses and products made therein
US10280479B2 (en) Earth-boring tools and methods for forming earth-boring tools using shape memory materials
US9643373B1 (en) Proximity heating cell assembly for use in a high-pressure cubic press
US10773480B2 (en) Cell assemblies and methods of using the same
US20230241568A1 (en) Apparatus and methods for the manufacture of synthetic diamonds and cubic boron nitride
US11623194B2 (en) Apparatus for the manufacture of synthetic diamonds using differential expansion
JPS5832069A (ja) ダイヤモンドおよび立方晶系強化ホウ素圧縮体の製法
CN220546923U (zh) 复合片合成内腔体及合成装置
GB2564860A (en) Housing envelope for multi-anvil press, and methods for fabricating same
JPS6211606B2 (ja)
KR101328310B1 (ko) 다이아몬드 제조용 셀 유닛

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190524

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190823

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20191217

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200317

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200403

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200427

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6698150

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees