JP6684998B1 - レジスト剥離液 - Google Patents
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Abstract
Description
2級環状アミン化合物と、3級ポリアミン化合物を含み、
0.0001〜0.15質量%の金属表面保護剤を含み、
前記3級ポリアミン化合物は、テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ジアミノブタン、N,N,N’,N’’,N’’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、2−ジエチレンアミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、トリメチルアミノメチルエタノールアミン、トリス(3−アミノプロピル)アミンの少なくとも1種であり、
さらに沸点が200℃以下の直鎖アミド類と水の混合である極性溶媒を含むことを特徴とする。
シリコン基板上に、モリブデン(Mo)を30nmの厚みで堆積させ、その上に銅(Cu)を500nmの厚みで積層させた。その上に二酸化ケイ素(SiO2)を300nmの厚みで積層させた。これをシリコン積層片と呼ぶ。
レジストを剥離する能力(以下「剥離力」と呼ぶ。)として、それぞれの試験片を40℃に加温した各サンプル剥離液で40秒間処理し、光学顕微鏡でレジストの残留状態を確認した。そして、明らかに表面にレジストが残留している場合は評価を「×」(不合格若しくは失敗の意味である。)とし、レジストが問題ない状態まで剥離していれば「〇」(合格若しくは成功の意味である。)とした。
各サンプル剥離液の組成を示す。以下各化合物を示すのに、以下の略語も用いる場合がある。ピロリジン(Pyrrolidine):PRL(CAS番号:123−75−1)、
トリメチルアミノメチルエタノールアミン(2−[[2−(Dimethylamino)ethyl]methylamino]ethanol):TMEDA(CAS番号:2212−32−0)、
N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン(N,N,N’,N’’,N’’−Pentamethyldiethylenetriamine):PMDETA(CAS番号:3030−47−5)、
ジエチルホルムアミド(N,N−Diethylformamide):DEF(CAS番号:617−84−5)、
ジエチレントリアミン(Diethylenetriamine):DETA(CAS番号:111−40−0)、
ベンゾトリアゾール(1H−Benzotriazole):BTA(CAS番号:95−14−7)、
ベンゾイミダゾール(Benzimidazole):BIZ(CAS番号:51−19−2)、
5−メチル−1H−ベンゾイミダゾール(5−Methylbenzimidazole):5M1H−BIZ(CAS番号:614−97−1)、
モノエタノールアミン(Ethanolamine):MEA(CAS番号:141−43−5)、
γ−ブチロラクトン(gamma−Butyrolactone):γ−BL(CAS番号:96−48−0)。
実施例1のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPRLを1.0g、
3級ポリアミン化合物としてPMDETAを5.0g、
極性溶媒としてDEFを66.99g、
水を27.0g、
金属表面保護剤としてBTA0.01gを混合して実施例1のサンプル剥離液とした。
実施例2のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPRLを1.0g、
3級ポリアミン化合物としてPMDETAを5.0g、
極性溶媒としてDEFを66.99g、
水を27.0g、
金属表面保護剤として5MBTA0.01gを混合して実施例2のサンプル剥離液とした。
比較例1のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPRLを1.0g、
3級ポリアミン化合物としてPMDETAを5.0g、
極性溶媒としてDEFを66.91g、
水を27.0g、
金属表面保護剤としてBIZ0.09gを混合して比較例1のサンプル剥離液とした。
比較例2のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPRLを1.0g、
3級ポリアミン化合物としてPMDETAを5.0g、
極性溶媒としてDEFを66.91g、
水を27.0g、
金属表面保護剤として5M1H−BIZ0.09gを混合して比較例2のサンプル剥離液とした。
比較例3のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPRLを1.0g、
3級ポリアミン化合物としてPMDETAを5.0g、
極性溶媒としてDEFを66.91g、
水を27.0g、
金属表面保護剤として尿酸0.09gを混合して比較例3のサンプル剥離液とした。
比較例4のサンプル剥離液を以下の組成で調製した。
2級環状アミン化合物としてPMDATAを5.0g、
3級ポリアミン化合物としてDETAを10.0g、
極性溶媒としてMEAを5.00g、
γ−BLを80.0g、
を混合して比較例4のサンプル剥離液とした。なお、比較例4には、金属表面保護剤は含まれていない。
Claims (5)
- 2級環状アミン化合物と、3級ポリアミン化合物を含み、
0.0001〜0.15質量%の金属表面保護剤を含み、
前記3級ポリアミン化合物は、テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ジアミノブタン、N,N,N’,N’’,N’’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、2−ジエチレンアミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、トリメチルアミノメチルエタノールアミン、トリス(3−アミノプロピル)アミンの少なくとも1種であり、
さらに沸点が200℃以下の直鎖アミド類と水の混合である極性溶媒を含むことを特徴とするレジスト剥離液。 - 前記2級環状アミン化合物はピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、4−メチルピペリジン、1−メチルピペラジン、1−メチルピペリジン、2−メチルピロール、3−メチルピロールのうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1に記載されたレジスト剥離液。
- 前記直鎖アミドは、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド(177℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(165℃)、N,N−ジエチルアセトアミド(185℃)の少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1または2の何れかの請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記金属表面保護剤は、ベンゾトリアゾール、5−メチル−1H−ベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]−1H−ベンゾトリアゾール、2,2’−メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル−メチルイミノビス−エタノールから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一の請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記2級環状アミン化合物を0.3〜2質量%、前記3級ポリアミン化合物を0.5〜9質量%、水を10〜30質量、残りは前記水以外の極性溶媒であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一の請求項に記載されたレジスト剥離液。
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