JP6683077B2 - Fluid supply device for glass synthesis - Google Patents

Fluid supply device for glass synthesis Download PDF

Info

Publication number
JP6683077B2
JP6683077B2 JP2016172613A JP2016172613A JP6683077B2 JP 6683077 B2 JP6683077 B2 JP 6683077B2 JP 2016172613 A JP2016172613 A JP 2016172613A JP 2016172613 A JP2016172613 A JP 2016172613A JP 6683077 B2 JP6683077 B2 JP 6683077B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
supply line
flow rate
line
purge gas
pneumatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2016172613A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018039679A (en
Inventor
充 高城
充 高城
利已 幅崎
利已 幅崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP2016172613A priority Critical patent/JP6683077B2/en
Priority to CN201710756151.3A priority patent/CN107795546B/en
Publication of JP2018039679A publication Critical patent/JP2018039679A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6683077B2 publication Critical patent/JP6683077B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
    • F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F15B20/00—Safety arrangements for fluid actuator systems; Applications of safety devices in fluid actuator systems; Emergency measures for fluid actuator systems
    • F15B20/002—Electrical failure
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
    • F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F15B13/00—Details of servomotor systems ; Valves for servomotor systems
    • F15B13/02—Fluid distribution or supply devices characterised by their adaptation to the control of servomotors
    • F15B13/021—Valves for interconnecting the fluid chambers of an actuator
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
    • F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F15B20/00—Safety arrangements for fluid actuator systems; Applications of safety devices in fluid actuator systems; Emergency measures for fluid actuator systems
    • F15B20/004—Fluid pressure supply failure
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
    • F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F15B21/00—Common features of fluid actuator systems; Fluid-pressure actuator systems or details thereof, not covered by any other group of this subclass
    • F15B21/08—Servomotor systems incorporating electrically operated control means
    • F15B21/087—Control strategy, e.g. with block diagram

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、ガラス合成用流体供給装置に関する。   The present invention relates to a glass synthesis fluid supply device.

ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体やパージガスを、ガラス合成装置に供給するガラス合成用流体供給装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。   There is known a glass synthesis fluid supply device that supplies a corrosive fluid or a purge gas used when synthesizing glass to a glass synthesis device (see, for example, Patent Document 1).

特開２０１４−１３１９４６号公報JP, 2014-131946, A

例えば、特許文献１に記載されたガラス合成用流体供給装置は、ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体やパージガスをガラス合成装置に供給する経路に、空気式操作弁が設けられている。空気式操作弁は供給される空気圧で弁の開閉を行い、空気圧が作動圧以上で開き、空気圧が作動圧未満の場合は閉じる。この空気式操作弁はノーマルクローズ型（空気圧がかからないと閉じた状態を維持する）である。   For example, in the glass synthesizing fluid supply device described in Patent Document 1, an air operated valve is provided in a path for supplying the glass synthesizing device with a corrosive fluid or a purge gas used when synthesizing glass. The pneumatic control valve opens and closes with the supplied air pressure, opens when the air pressure is above the operating pressure, and closes when the air pressure is below the operating pressure. This pneumatic control valve is a normally closed type (maintains a closed state when no air pressure is applied).

ところが、ノーマルクローズ型の空気式操作弁は、供給される空気圧が作動圧と同等程度の場合、空気式操作弁の個体差などの理由で、複数あるうち一部のノーマルクローズ型の空気式操作弁のみ開く状態となる可能性がある。   However, when the supplied air pressure is about the same as the working pressure, some of the normally closed pneumatically operated valves are normally operated due to individual differences in the pneumatically operated valves. Only the valve may open.

このため、供給される空気圧が低い状態になった場合、一部のノーマルクローズ型の空気式操作弁が開かない場合がある。例えば、流量制御装置よりも下流に設けられた空気式操作弁が開き、上流に設けられた空気式操作弁が閉じると、反応容器内や除害装置内のガスが配管上流側に逆流し、拡散する可能性がある。   Therefore, when the supplied air pressure is low, some of the normally-closed pneumatic control valves may not open. For example, when the pneumatic control valve provided downstream of the flow rate control device is opened and the pneumatic control valve provided upstream is closed, the gas in the reaction vessel or the detoxification device flows back to the upstream side of the pipe, May spread.

一方、空気式操作弁に対する空気圧の供給は、空気圧供給経路に設けられた電磁弁の開閉によって制御されている。電磁弁は電気的に開閉が制御されており、停電等の電源供給が無い場合に、閉じた状態を維持するノーマルクローズ型と、開いた状態を維持するノーマルオープン型がある。   On the other hand, the supply of air pressure to the pneumatic control valve is controlled by opening and closing an electromagnetic valve provided in the air pressure supply path. The solenoid valve is electrically controlled to open and close, and there are a normally closed type that maintains a closed state and a normally open type that maintains an open state when there is no power supply such as a power failure.

通常、ガラス合成用流体供給装置は、各経路に設けられた空気式操作弁を制御する電磁弁に関しノーマルクローズ型とノーマルオープン型を適宜配置して、停電等の異常の発生により電源供給が遮断された場合、流量制御装置前後の配管や流量制御装置にパージガスが流れるようになっている。しかしながら、停電等の異常時から復電する際に、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い状態となる場合があり、このとき例えば、上記のように、反応容器内や除害装置内のガスが配管上流側に逆流し、拡散するなどの現象が発生し、配管または流量制御装置の劣化防止が不十分になるおそれがあった。   Normally, in the glass synthesis fluid supply device, normally closed type and normally open type are appropriately arranged for the solenoid valve controlling the pneumatic operation valve provided in each path, and the power supply is shut off due to the occurrence of an abnormality such as a power failure. In that case, the purge gas is allowed to flow through the pipes before and after the flow rate control device and the flow rate control device. However, when power is restored from an abnormality such as a power failure, the air pressure for operating the pneumatic control valve may be lower than the appropriate range. At this time, for example, as described above, the inside of the reaction vessel or the abatement device may be removed. There was a risk that the gas inside would flow back to the upstream side of the pipe and diffuse, and the prevention of deterioration of the pipe or the flow rate control device would be insufficient.

本発明は、停電等の異常時から復電する際など、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い場合でも、配管または流量制御装置の劣化を抑制することができるガラス合成用流体供給装置を提供することを目的とする。   The present invention provides a glass synthesis fluid supply capable of suppressing deterioration of a pipe or a flow control device even when the air pressure for operating a pneumatic valve is lower than an appropriate range, such as when power is restored from an abnormality such as a power failure. The purpose is to provide a device.

本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
反応容器に腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記腐食性流体の経路において、前記流量制御装置より上流側の前記腐食性流体供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記腐食性流体供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。 A fluid supply device for glass synthesis according to an aspect of the present invention,
A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid to the reaction vessel,
A flow rate control device provided in the corrosive fluid supply line,
Equipped with
In the path of the corrosive fluid flowing through the flow rate control device, the corrosive fluid supply line upstream of the flow rate control device and the corrosive fluid supply line downstream of the flow rate control device are respectively electromagnetically coupled. A pneumatic operated valve operated by the valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided on the downstream side of the flow rate control device has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic operation valve provided on the upstream side of the flow rate control device.

また、本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
反応容器にパージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記パージガスの経路において、前記流量制御装置より上流側の前記パージガス供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記パージガス供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。 Further, a glass synthesis fluid supply device according to an aspect of the present invention,
A purge gas supply line for supplying a purge gas to the reaction vessel,
A flow rate control device provided in the purge gas supply line,
Equipped with
In the path of the purge gas flowing through the flow rate control device, the purge gas supply line upstream of the flow rate control device and the purge gas supply line downstream of the flow rate control device are operated by solenoid valves. Type operation valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided on the downstream side of the flow rate control device has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic operation valve provided on the upstream side of the flow rate control device.

また、本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
パージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインとが合流された合流ラインと、
前記合流ラインに設けられた流量制御装置と、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して反応容器に向かう反応容器ラインと、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して除害装置に向かう排ガスラインと、
を備え、
前記腐食性流体供給ラインと、前記パージガス供給ラインと、前記反応容器ラインと、前記排ガスラインと、はそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルオープン型であり、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルクローズ型であり、
前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有し、
前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。 Further, a glass synthesis fluid supply device according to an aspect of the present invention,
A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid,
A purge gas supply line for supplying purge gas,
A merging line in which the purge gas supply line and the corrosive fluid supply line are merged,
A flow rate control device provided in the merging line,
A reaction vessel line branching from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the reaction vessel,
An exhaust gas line that branches from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the abatement device,
Equipped with
The corrosive fluid supply line, the purge gas supply line, the reaction vessel line, and the exhaust gas line are each provided with a pneumatic operation valve operated by a solenoid valve,
The solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the purge gas supply line, and the solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the exhaust gas line are normally open type,
The electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the corrosive fluid supply line, and the electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the reaction vessel line, are normally closed type,
The pneumatic control valve provided in the reaction vessel line has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic control valve provided in the corrosive fluid supply line,
The pneumatic control valve provided in the exhaust gas line has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic control valve provided in the purge gas supply line.

上記発明によれば、停電等の異常時から復電する際など、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い場合でも、配管または流量制御装置の劣化を抑制することができる。   According to the above invention, when the power is restored after an abnormality such as a power failure, the deterioration of the piping or the flow control device can be suppressed even when the air pressure for operating the pneumatic control valve is lower than the appropriate range.

本実施形態に係るガラス合成用流体供給装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing a schematic structure of a glass synthesis fluid supply device concerning this embodiment.

（本発明の実施形態の説明）
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
（１）反応容器に腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記腐食性流体の経路において、前記流量制御装置より上流側の前記腐食性流体供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記腐食性流体供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。
上記構成によれば、流量制御装置より下流側に設けられた空気式操作弁は、流量制御装置より上流側に設けられた空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有するので、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い状態から高くなっていく場合、上流側の空気式操作弁が先に開き、下流側の空気式操作弁が後で開く。これにより、停電等の異常時から復電する際など、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い場合に、反応容器内のガスが配管上流側に逆流、拡散することを防ぐことができるので、配管または流量制御装置の劣化を抑制することができる。 (Description of Embodiment of the Present Invention)
First, embodiments of the present invention will be listed and described.
A fluid supply device for glass synthesis according to an aspect of the present invention,
(1) A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid to the reaction vessel,
A flow rate control device provided in the corrosive fluid supply line,
Equipped with
In the path of the corrosive fluid flowing through the flow rate control device, the corrosive fluid supply line upstream of the flow rate control device and the corrosive fluid supply line downstream of the flow rate control device are respectively electromagnetically coupled. A pneumatic operated valve operated by the valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided on the downstream side of the flow rate control device has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic operation valve provided on the upstream side of the flow rate control device.
According to the above configuration, the pneumatic operation valve provided on the downstream side of the flow rate control device has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic operation valve provided on the upstream side of the flow rate control device. When the air pressure for operating the valve is higher than the proper range, the upstream pneumatic control valve opens first, and the downstream pneumatic control valve opens later. This prevents the gas in the reaction vessel from backflowing and diffusing to the upstream side of the pipe when the air pressure to operate the pneumatic control valve is lower than the appropriate range, such as when power is restored after an abnormality such as a power failure. Therefore, the deterioration of the piping or the flow rate control device can be suppressed.

また、本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
（２）反応容器にパージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記パージガスの経路において、前記流量制御装置より上流側の前記パージガス供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記パージガス供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。
上記構成によれば、流量制御装置より下流側に設けられた空気式操作弁は、流量制御装置より上流側に設けられた空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有するので、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い状態から高くなっていく場合、上流側の空気式操作弁が先に開き、下流側の空気式操作弁が後で開く。これにより、停電等の異常時から復電する際など、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い場合に、反応容器内のガスが配管上流側に逆流、拡散することを防ぐことができるので、配管または流量制御装置の劣化を抑制することができる。 Further, a glass synthesis fluid supply device according to an aspect of the present invention,
(2) a purge gas supply line for supplying a purge gas to the reaction container,
A flow rate control device provided in the purge gas supply line,
Equipped with
In the path of the purge gas flowing through the flow rate control device, the purge gas supply line upstream of the flow rate control device and the purge gas supply line downstream of the flow rate control device are operated by solenoid valves. Type operation valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided on the downstream side of the flow rate control device has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic operation valve provided on the upstream side of the flow rate control device.
According to the above configuration, the pneumatic control valve provided on the downstream side of the flow rate control device has a higher working pressure than the working pressure of the pneumatic control valve provided on the upstream side of the flow rate control device. When the air pressure for operating the valve is higher than the proper range, the upstream pneumatic control valve opens first, and the downstream pneumatic control valve opens later. This prevents the gas in the reaction vessel from backflowing and diffusing to the upstream side of the pipe when the air pressure to operate the pneumatic control valve is lower than the proper range, such as when power is restored after an abnormality such as a power failure. Therefore, the deterioration of the piping or the flow rate control device can be suppressed.

また、本発明の一態様に係るガラス合成用流体供給装置は、
（３）腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
パージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインとが合流された合流ラインと、
前記合流ラインに設けられた流量制御装置と、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して反応容器に向かう反応容器ラインと、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して除害装置に向かう排ガスラインと、
を備え、
前記腐食性流体供給ラインと、前記パージガス供給ラインと、前記反応容器ラインと、前記排ガスラインと、はそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルオープン型であり、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルクローズ型であり、
前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有し、
前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する。
上記構成によれば、流量制御装置より下流側に設けられた空気式操作弁は、流量制御装置より上流側に設けられた空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有するので、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い状態から高くなっていく場合、腐食性流体供給ラインまたはパージガス供給ラインの空気式操作弁が先に開き、反応容器ラインまたは排ガスラインの空気式操作弁が後で開く。これにより、停電等の異常時から復電する際など、空気式操作弁を作動させる空気圧が適正範囲より低い場合に、反応容器内または除害装置内のガスが配管上流側に逆流、拡散することを防ぐことができるので、配管または流量制御装置の劣化を抑制することができる。 Further, a glass synthesis fluid supply device according to an aspect of the present invention,
(3) A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid,
A purge gas supply line for supplying purge gas,
A merging line in which the purge gas supply line and the corrosive fluid supply line are merged,
A flow rate control device provided in the merging line,
A reaction vessel line branching from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the reaction vessel,
An exhaust gas line that branches from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the abatement device,
Equipped with
The corrosive fluid supply line, the purge gas supply line, the reaction vessel line, and the exhaust gas line are each provided with a pneumatic operation valve operated by a solenoid valve,
The solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the purge gas supply line, and the solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the exhaust gas line are normally open type,
The electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the corrosive fluid supply line, and the electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the reaction vessel line, are normally closed type,
The pneumatic control valve provided in the reaction vessel line has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic control valve provided in the corrosive fluid supply line,
The pneumatic control valve provided in the exhaust gas line has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic control valve provided in the purge gas supply line.
According to the above configuration, the pneumatic control valve provided on the downstream side of the flow rate control device has a higher working pressure than the working pressure of the pneumatic control valve provided on the upstream side of the flow rate control device. When the air pressure to operate the valve rises from a value lower than the proper range, the pneumatic control valve of the corrosive fluid supply line or purge gas supply line opens first, and the pneumatic control valve of the reaction vessel line or exhaust gas line opens after. Open with. As a result, when power is restored from an abnormality such as a power failure, when the air pressure that operates the pneumatic control valve is lower than the proper range, the gas in the reaction vessel or the abatement device will flow back and diffuse to the upstream side of the pipe. Since this can be prevented, deterioration of the pipe or the flow rate control device can be suppressed.

（４）前記パージガス供給ラインに流量絞り弁が設けられていることが好ましい。
パージガス供給ラインに流量絞り弁が設けられているので、停電時のパージガス流量を抑えることができる。これにより、パージガスを節約することができ、また、復電時のパージ圧力の低下を抑止することができる。 (4) It is preferable that a flow rate throttle valve is provided in the purge gas supply line.
Since the flow rate throttle valve is provided in the purge gas supply line, the flow rate of the purge gas at the time of power failure can be suppressed. As a result, the purge gas can be saved, and the purge pressure can be prevented from decreasing when power is restored.

（本発明の実施形態の詳細）
本発明の実施形態に係るガラス合成用流体供給装置の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 (Details of the embodiment of the present invention)
A specific example of the glass synthesis fluid supply apparatus according to the embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
It should be noted that the present invention is not limited to these exemplifications, but is indicated by the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the claims.

図１は、ガラス合成用流体供給装置の一例を示す図である。
図１に示すガラス合成用流体供給装置１は、ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体を反応容器１１に向けて供給する。また、ガラス合成用流体供給装置１は、ガラスの合成に使用されなかった腐食性流体を除害装置１２に排出する。 FIG. 1 is a diagram showing an example of a glass synthesis fluid supply device.
The glass synthesizing fluid supply device 1 shown in FIG. 1 supplies a corrosive fluid used when synthesizing glass toward a reaction vessel 11. Further, the glass synthesizing fluid supply device 1 discharges the corrosive fluid not used for synthesizing glass to the abatement device 12.

反応容器１１では、例えばＯＶＤ法やＶＡＤ法により、光ファイバ用の円柱状ガラス母材等のガラス合成が行われる。ＯＶＤ法の場合、反応容器１１内で出発ガラスロッドを軸方向に往復移動させるとともに回転させながら、その外周に、腐食性流体供給部１３から供給されるガラス原料となる腐食性流体を、Ｈ２等の燃料ガスとＯ２等の助燃ガスとともにバーナーから吹き付ける。そして、火炎加水分解反応によりガラス微粒子を生成して堆積させ、ガラス微粒子堆積体として円柱状ガラス母材を合成する。また、除害装置１２では、ガラスの合成に使用されなかった腐食性流体が清浄化処理される。腐食性流体としては、ガラス合成用原料ガスまたは液体（ＰＯＣｌ３，ＴｉＣｌ４，ＳｉＣｌ４，ＧｅＣｌ４等）や、プロセス用ガスまたは液体（ＢＣｌ３，ＳＦ６，Ｃｌ２，ＳｉＦ４，ＣＦ４等）が用いられる。 In the reaction container 11, for example, glass synthesis of a cylindrical glass preform for an optical fiber or the like is performed by the OVD method or the VAD method. In the case of the OVD method, the starting glass rod is axially reciprocated and rotated in the reaction vessel 11, and a corrosive fluid serving as a glass raw material supplied from the corrosive fluid supply unit 13 is supplied to the outer periphery of the H 2 And the like from a burner together with a fuel gas such as and a supporting gas such as O 2 . Then, glass particles are generated and deposited by the flame hydrolysis reaction, and a cylindrical glass base material is synthesized as a glass particle deposit. Further, in the abatement device 12, the corrosive fluid that has not been used for synthesizing the glass is cleaned. Examples of corrosive fluids are glass synthesis raw material gas or liquid (POCl 3 , TiCl 4 , SiCl 4 , GeCl 4 etc.), process gas or liquid (BCl 3 , SF 6 , Cl 2 , SiF 4 , CF 4 etc.). ) Is used.

ガラス合成用流体供給装置１は、流体を供給する流路として、腐食性流体供給部１３から反応容器１１に向けて腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインＬ１と、パージガス供給部１４から反応容器１１に向けてパージガスを供給するパージガス供給ラインＬ２とを備えている。また、ガラス合成用流体供給装置１は、腐食性流体供給ラインＬ１とパージガス供給ラインＬ２とが合流された合流ラインＬ３と、合流ラインＬ３から分岐して反応容器１１に向かう反応容器ラインＬ４と、合流ラインＬ３から分岐して除害装置１２に向かう排ガスラインＬ５とを備えている。   The glass synthesis fluid supply device 1 uses a corrosive fluid supply line L1 that supplies a corrosive fluid from the corrosive fluid supply unit 13 to the reaction vessel 11 as a flow path for supplying a fluid, and a reaction from the purge gas supply unit 14. A purge gas supply line L2 for supplying a purge gas to the container 11 is provided. In addition, the glass synthesis fluid supply device 1 includes a confluent line L3 in which the corrosive fluid supply line L1 and the purge gas supply line L2 join together, and a reaction vessel line L4 branched from the confluent line L3 toward the reaction vessel 11. An exhaust gas line L5 that branches from the confluence line L3 to the abatement device 12 is provided.

腐食性流体供給ラインＬ１には、電磁弁１６ａで操作される空気式操作弁１７ａが設けられ、パージガス供給ラインＬ２には、電磁弁１６ｂで操作される空気式操作弁１７ｂが設けられている。また、パージガス供給ラインＬ２には、空気式操作弁１７ｂよりも上流側に、通過するパージガスの流量を制御することが可能な流量絞り弁（例えば、ニードル弁等）１８が設けられている。そして、腐食性流体供給ラインＬ１の空気式操作弁１７ａの下流側とパージガス供給ラインＬ２の空気式操作弁１７ｂの下流側とが合流して合流ラインＬ３となっている。   The corrosive fluid supply line L1 is provided with a pneumatic operation valve 17a operated by a solenoid valve 16a, and the purge gas supply line L2 is provided with a pneumatic operation valve 17b operated by a solenoid valve 16b. Further, the purge gas supply line L2 is provided with a flow rate throttle valve (for example, a needle valve) 18 capable of controlling the flow rate of the passing purge gas, on the upstream side of the pneumatic operation valve 17b. Then, the downstream side of the pneumatic operation valve 17a of the corrosive fluid supply line L1 and the downstream side of the pneumatic operation valve 17b of the purge gas supply line L2 join to form a joining line L3.

合流ラインＬ３（腐食性流体供給ラインＬ１かつパージガス供給ラインＬ２）の途中には、通過する流体の流量を制御することが可能な流量制御装置（例えば、Ｍａｓｓ Ｆｌｏｗ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：ＭＦＣ）１５が設けられている。そして、合流ラインＬ３のＭＦＣ１５の下流側で、反応容器ラインＬ４と排ガスラインＬ５とが合流ラインＬ３から分岐している。   A flow rate control device (for example, Mass Flow Controller: MFC) 15 capable of controlling the flow rate of the passing fluid is provided in the middle of the confluent line L3 (corrosive fluid supply line L1 and purge gas supply line L2). There is. Then, the reaction vessel line L4 and the exhaust gas line L5 are branched from the merging line L3 on the downstream side of the MFC 15 of the merging line L3.

反応容器ラインＬ４には、電磁弁１６ｃで操作される空気式操作弁１７ｃが設けられ、排ガスラインＬ５には、電磁弁１６ｄで操作される空気式操作弁１７ｄが設けられている。そして、反応容器ラインＬ４の空気式操作弁１７ｃの下流側に反応容器１１が接続され、排ガスラインＬ５の空気式操作弁１７ｄの下流側に除害装置１２が接続されている。なお、反応容器ラインＬ４には腐食性流体が流れるので、反応容器ラインＬ４のことをＭＦＣ１５より下流側の腐食性流体供給ラインともいう。また、排ガスラインＬ５にはパージガスが流れるので、排ガスラインＬ５のことをＭＦＣ１５より下流側のパージガス供給ラインともいう。   The reaction vessel line L4 is provided with a pneumatic operation valve 17c operated by an electromagnetic valve 16c, and the exhaust gas line L5 is provided with a pneumatic operation valve 17d operated by an electromagnetic valve 16d. The reaction container 11 is connected to the reaction container line L4 downstream of the pneumatic operation valve 17c, and the abatement device 12 is connected to the exhaust gas line L5 downstream of the pneumatic operation valve 17d. Since a corrosive fluid flows through the reaction vessel line L4, the reaction vessel line L4 is also referred to as a corrosive fluid supply line on the downstream side of the MFC 15. Further, since the purge gas flows in the exhaust gas line L5, the exhaust gas line L5 is also referred to as a purge gas supply line on the downstream side of the MFC 15.

空気式操作弁１７ａ〜１７ｄは、駆動用の空気圧によって開閉動作を行う弁である。電磁弁１６ａ〜１６ｄは、ソレノイドのコイルに電流が供給されて開閉動作を行う弁である。電磁弁１６ａ〜１６ｄは、図示を省略する電磁弁制御部によって、それぞれの開閉が制御されている。各電磁弁１６ａ〜１６ｄのオン／オフにより、パージガス供給部１４のパージガスが各空気式操作弁１７ａ〜１７ｄに駆動用の空気圧として作用し、この空気圧によって各空気式操作弁１７ａ〜１７ｄの開閉が操作される。すなわち、各流路（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４，Ｌ５）に設けられた空気式操作弁１７ａ〜１７ｄは、それぞれ駆動用の電磁弁１６ａ〜１６ｄを制御することで動作し、各流路（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４，Ｌ５）を開状態または閉状態にすることができる。   The pneumatic operation valves 17a to 17d are valves that are opened and closed by driving air pressure. The solenoid valves 16a to 16d are valves that are opened and closed by supplying current to coils of solenoids. Each of the solenoid valves 16a to 16d is controlled to open / close by a solenoid valve control unit (not shown). By turning on / off each of the solenoid valves 16a to 16d, the purge gas of the purge gas supply unit 14 acts on each of the pneumatic operation valves 17a to 17d as driving air pressure, and this air pressure opens and closes each of the pneumatic operation valves 17a to 17d. Operated. That is, the pneumatic operation valves 17a to 17d provided in the respective flow paths (L1, L2, L4, L5) operate by controlling the driving electromagnetic valves 16a to 16d, respectively, and the respective flow paths (L1, L1. L2, L4, L5) can be opened or closed.

ＭＦＣ１５より下流側の反応容器ラインＬ４に設けられている空気式操作弁１７ｃには、ＭＦＣ１５より上流側の腐食性流体供給ラインＬ１に設けられている空気式操作弁１７ａよりも作動圧が高い弁が使用されている。また、ＭＦＣ１５より下流側の排ガスラインＬ５に設けられている空気式操作弁１７ｄには、ＭＦＣ１５より上流側のパージガス供給ラインＬ２に設けられている空気式操作弁１７ｂよりも作動圧が高い弁が使用されている。   The pneumatic operating valve 17c provided in the reaction vessel line L4 downstream of the MFC15 has a higher operating pressure than the pneumatic operating valve 17a provided in the corrosive fluid supply line L1 upstream of the MFC15. Is used. Further, the pneumatic operation valve 17d provided in the exhaust gas line L5 downstream of the MFC15 has a valve having a higher operating pressure than the pneumatic operation valve 17b provided in the purge gas supply line L2 upstream of the MFC15. in use.

空気式操作弁１７ａ〜１７ｄには、非動作時に流路が閉状態となるノーマルクローズ型が使用されている。また、電磁弁１６ａ，１６ｃには、ソレノイドの非動作時に流路が閉状態となるノーマルクローズ型が使用され、電磁弁１６ｂ，１６ｄには、ソレノイドの非動作時に流路が開状態となるノーマルオープン型が使用されている。また、ＭＦＣ１５には、非動作時に流路が開状態となるノーマルオープン型が使用されている。   As the pneumatic operation valves 17a to 17d, normally closed valves whose flow paths are closed when not operating are used. Further, the solenoid valves 16a and 16c are normally closed type in which the flow passage is closed when the solenoid is not operated, and the solenoid valves 16b and 16d are normally closed when the solenoid is not operated. The open type is used. Further, as the MFC 15, a normally open type in which the flow path is in an open state when not in operation is used.

次に、ガラス合成用流体供給装置１の動作について説明する。
（ガラス合成時）
ガラス合成時には、ガラス合成用流体供給装置１は、電磁弁１６ｂを閉じることで空気式操作弁１７ｂを閉じ、電磁弁１６ａを開けることで空気式操作弁１７ａを開けるように制御される。これにより、合流ラインＬ３のＭＦＣ１５の上流側には、パージガス供給ラインＬ２からパージガスが供給されず、腐食性流体供給ラインＬ１からガラス原料ガス等の腐食性流体が供給される。そして、ＭＦＣ１５によって流量が適宜制御されて、ＭＦＣ１５の下流側へ腐食性流体が供給される。
また、電磁弁１６ｄを閉じることで空気式操作弁１７ｄを閉じ、電磁弁１６ｃを開けることで空気式操作弁１７ｃを開けるように制御する。これにより、ＭＦＣ１５の下流側から除害装置１２には腐食性流体は供給されず、反応容器１１へ腐食性流体が供給される。 Next, the operation of the glass synthesis fluid supply device 1 will be described.
(During glass synthesis)
At the time of glass synthesis, the glass synthesis fluid supply device 1 is controlled to close the pneumatic operation valve 17b by closing the electromagnetic valve 16b and open the pneumatic operation valve 17a by opening the electromagnetic valve 16a. As a result, the purge gas is not supplied from the purge gas supply line L2 and the corrosive fluid such as the glass raw material gas is supplied from the corrosive fluid supply line L1 to the upstream side of the MFC 15 in the merge line L3. Then, the flow rate is appropriately controlled by the MFC 15, and the corrosive fluid is supplied to the downstream side of the MFC 15.
Further, the solenoid valve 16d is closed to close the pneumatic operation valve 17d, and the solenoid valve 16c is opened to open the pneumatic operation valve 17c. As a result, the corrosive fluid is not supplied to the abatement device 12 from the downstream side of the MFC 15, but the corrosive fluid is supplied to the reaction vessel 11.

（ガラス非合成時）
ガラス非合成時には、ガラス合成用流体供給装置１は、電磁弁１６ａを閉じることで空気式操作弁１７ａを閉じ、電磁弁１６ｂを開けることで空気式操作弁１７ｂを開けるように制御される。これにより、合流ラインＬ３のＭＦＣ１５の上流側には、腐食性流体供給ラインＬ１からガラス原料ガス等の腐食性流体が供給されず、パージガス供給ラインＬ２からパージガスが供給される。そして、ＭＦＣ１５によって流量が適宜制御されて、ＭＦＣ１５の下流側へパージガスが供給される。
そして、電磁弁１６ｃを閉じることで空気式操作弁１７ｃを閉じ、電磁弁１６ｄを開けることで空気式操作弁１７ｄを開けるように制御される。これにより、ＭＦＣ１５の内部やＭＦＣ１５の前後のラインに残留している腐食性流体がパージガスと共に排ガスラインＬ５を通って除害装置１２へ排出される。 (When glass is not synthesized)
During non-synthesizing of glass, the glass synthesizing fluid supply device 1 is controlled to close the pneumatic operation valve 17a by closing the electromagnetic valve 16a and open the pneumatic operation valve 17b by opening the electromagnetic valve 16b. As a result, the corrosive fluid such as the glass raw material gas is not supplied from the corrosive fluid supply line L1 and the purge gas is supplied from the purge gas supply line L2 on the upstream side of the MFC 15 in the merge line L3. Then, the flow rate is appropriately controlled by the MFC 15, and the purge gas is supplied to the downstream side of the MFC 15.
Then, the solenoid valve 16c is closed to close the pneumatic operation valve 17c, and the solenoid valve 16d is opened to open the pneumatic operation valve 17d. As a result, the corrosive fluid remaining inside the MFC 15 and in the lines before and after the MFC 15 is discharged to the abatement device 12 through the exhaust gas line L5 together with the purge gas.

以下、停電等の異常が発生した場合のガラス合成用流体供給装置１の動作について、動作例を挙げて説明する。
（動作例１）
停電等の異常が生じて電源の供給が遮断された場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。
電磁弁１６ａは、ノーマルクローズ型であるため、電源の遮断により、自動的に閉状態を維持する。このため、ノーマルクローズ型である空気式操作弁１７ａは、駆動用の空気圧（パージガス）が加わらず閉状態となる。また、電磁弁１６ｂは、ノーマルオープン型であるため、電源の遮断により、自動的に開状態を維持する。このため、空気式操作弁１７ｂは、駆動用の空気圧が加わり開状態となる。これにより、合流ラインＬ３のＭＦＣ１５の上流側には、腐食性流体供給ラインＬ１から腐食性流体は供給されず、パージガス供給ラインＬ２からパージガスが供給される状態となる。 Hereinafter, the operation of the glass synthesizing fluid supply device 1 when an abnormality such as a power failure occurs will be described with reference to an operation example.
(Operation example 1)
When an abnormality such as a power failure occurs and the power supply is cut off, the glass synthesis fluid supply apparatus 1 operates as follows.
Since the solenoid valve 16a is a normally closed type, it is automatically closed by shutting off the power supply. Therefore, the pneumatic valve 17a, which is a normally closed type, is in a closed state without being applied with the driving air pressure (purge gas). Further, since the solenoid valve 16b is a normally open type, it is automatically maintained in the open state by shutting off the power supply. Therefore, the pneumatic control valve 17b is opened by the driving air pressure. As a result, the corrosive fluid is not supplied from the corrosive fluid supply line L1 and the purge gas is supplied from the purge gas supply line L2 on the upstream side of the MFC 15 in the merge line L3.

ＭＦＣ１５は、ノーマルオープン型であるため、電源の遮断により、自動的に開状態となる。このため、ＭＦＣ１５の上流側のパージガスは、ＭＦＣ１５の下流側に供給される。電磁弁１６ｃは、ノーマルクローズ型であるので、電源の遮断により、自動的に閉状態を維持する。このため、ノーマルクローズ型である空気式操作弁１７ｃは、駆動用の空気圧が加わらず閉状態となる。また、電磁弁１６ｄは、ノーマルオープン型であるため、電源の遮断により、自動的に開状態を維持する。このため、空気式操作弁１７ｄは、駆動用の空気圧が加わり開状態となる。これにより、ＭＦＣ１５の下流側のパージガスは、反応容器１１へは供給されず、排ガスラインＬ５から除害装置１２に供給される。このとき、例えばＭＦＣ１５の内部やＭＦＣ１５の前後のラインに残留している腐食性流体は、パージガスと共に排ガスラインＬ５を通って除害装置１２へ排出される。   Since the MFC 15 is a normally open type, it automatically opens when the power is cut off. Therefore, the purge gas on the upstream side of the MFC 15 is supplied on the downstream side of the MFC 15. Since the solenoid valve 16c is a normally closed type, it is automatically closed by shutting off the power supply. For this reason, the pneumatic valve 17c, which is a normally closed type, is in a closed state without the driving air pressure applied thereto. Further, since the solenoid valve 16d is a normally open type, it is automatically maintained in an open state when the power is cut off. Therefore, the pneumatic control valve 17d is opened by the driving air pressure. As a result, the purge gas on the downstream side of the MFC 15 is not supplied to the reaction container 11, but is supplied to the abatement device 12 from the exhaust gas line L5. At this time, for example, the corrosive fluid remaining inside the MFC 15 or in the lines before and after the MFC 15 is discharged to the abatement device 12 through the exhaust gas line L5 together with the purge gas.

また、停電等の異常が発生した場合、ＭＦＣ１５がノーマルオープン型であるため全開となるが、流量絞り弁１８により流量が絞られる。これにより、パージガス供給部１４から供給されるパージガスの流量が抑制される。   When an abnormality such as a power failure occurs, the MFC 15 is a normally open type so that it is fully opened, but the flow rate throttle valve 18 throttles the flow rate. As a result, the flow rate of the purge gas supplied from the purge gas supply unit 14 is suppressed.

（動作例２）
停電等の異常時に、空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）が低下する異常が生じた場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。 (Operation example 2)
When an abnormality occurs such that the driving air pressure (pressure of the purge gas) for operating the pneumatic control valve decreases at the time of abnormality such as power failure, the glass synthesizing fluid supply device 1 operates as follows.

上記のように停電時には、空気式操作弁１７ｂと空気式操作弁１７ｄとが開状態となり、パージガス供給部１４から供給されるパージガスがパージガス供給ラインＬ２、合流ラインＬ３、及び排ガスラインＬ５を通過して除害装置１２に流れる。   As described above, at the time of power failure, the pneumatic control valve 17b and the pneumatic control valve 17d are opened, and the purge gas supplied from the purge gas supply unit 14 passes through the purge gas supply line L2, the merge line L3, and the exhaust gas line L5. And flows to the abatement device 12.

このような状態においてパージガスの圧が低下していくと、開状態になっている空気式操作弁１７ｂと空気式操作弁１７ｄのうち、作動圧が高い空気式操作弁１７ｄの動作に先ず変化が現れる。パージガスの圧が空気式操作弁１７ｄの作動圧を下回ると、空気式操作弁１７ｄが閉状態となる。このとき、空気式操作弁１７ｄよりも作動圧が低い空気式操作弁１７ｂは、開状態を維持する。そして、さらにパージガスの圧が低下していき空気式操作弁１７ｂの作動圧を下回ったとき、空気式操作弁１７ｂが閉状態となる。このように、下流側の空気式操作弁１７ｄが上流側の空気式操作弁１７ｂよりも先に閉状態になる。   When the pressure of the purge gas decreases in such a state, the operation of the pneumatic control valve 17d having a high operating pressure, among the pneumatic control valves 17b and 17d in the open state, first changes. appear. When the pressure of the purge gas falls below the operating pressure of the pneumatic control valve 17d, the pneumatic control valve 17d is closed. At this time, the pneumatic control valve 17b having a lower working pressure than the pneumatic control valve 17d maintains the open state. Then, when the pressure of the purge gas further decreases and falls below the operating pressure of the pneumatic control valve 17b, the pneumatic control valve 17b is closed. In this way, the downstream pneumatic control valve 17d is closed before the upstream pneumatic control valve 17b.

（動作例３）
停電等の異常時から復電した際に、空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）が低下する異常が生じた場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。 (Operation example 3)
When an abnormality occurs in which the driving air pressure (purge gas pressure) for operating the pneumatic control valve decreases when power is restored from an abnormality such as a power failure, the glass synthesis fluid supply device 1 Works like.

復電した直後でシステムが起動中の場合、パージガスの圧が安定せず低下することが発生しうる。
ガラス合成用流体供給装置１は、復電した場合、例えば上記動作例１と同様の状態を維持するように設定されている。すなわち空気式操作弁１７ｂ，１７ｄが開状態とされ、パージガスがパージガス供給ラインＬ２、合流ラインＬ３、及び排ガスラインＬ５を通過して除害装置１２に流れるように設定されている。
このため、復電時にパージガスの圧が低下した場合、上記動作例２と同様に、下流側の空気式操作弁１７ｄが上流側の空気式操作弁１７ｂよりも先に閉状態になる。 If the system is starting immediately after the power is restored, the pressure of the purge gas may become unstable and drop.
The glass synthesizing fluid supply apparatus 1 is set so as to maintain the same state as that of the above-described operation example 1 when power is restored. That is, the pneumatic operation valves 17b and 17d are opened, and the purge gas is set to pass through the purge gas supply line L2, the joining line L3, and the exhaust gas line L5 to flow to the abatement device 12.
Therefore, when the pressure of the purge gas is reduced at the time of power recovery, the downstream pneumatic control valve 17d is closed before the upstream pneumatic control valve 17b, as in the second operation example.

（動作例４）
ガラス合成時に空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）が低下する異常が生じた場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。
ガラス合成時には、前述のように、空気式操作弁１７ｂを閉じ、空気式操作弁１７ａを開けるように制御され、空気式操作弁１７ｄを閉じ、空気式操作弁１７ｃを開けるように制御される。これにより、腐食性流体は、反応容器ラインＬ４を通過して反応容器１１に供給される。 (Operation example 4)
When an abnormality occurs in which the driving air pressure (purge gas pressure) for operating the pneumatic control valve during glass synthesis decreases, the glass synthesis fluid supply apparatus 1 operates as follows.
During glass synthesis, as described above, the pneumatic control valve 17b is closed and the pneumatic control valve 17a is controlled to be opened, and the pneumatic control valve 17d is controlled to be closed and the pneumatic control valve 17c is controlled to be controlled. As a result, the corrosive fluid is supplied to the reaction container 11 through the reaction container line L4.

このような状態においてパージガスの圧が低下していくと、開状態になっている空気式操作弁１７ａ，１７ｃのうち、作動圧が高い空気式操作弁１７ｃが先ず閉状態となる。そして、さらにパージガスの圧が低下していくと、空気式操作弁１７ｃよりも作動圧が低い空気式操作弁１７ａが閉状態となる。このように、下流側の空気式操作弁１７ｃが上流側の空気式操作弁１７ａよりも先に閉状態になる。   When the pressure of the purge gas decreases in such a state, the pneumatic operation valve 17c having a high operating pressure, among the pneumatic operation valves 17a and 17c in the open state, is first closed. Then, when the pressure of the purge gas further decreases, the pneumatic control valve 17a having a lower working pressure than the pneumatic control valve 17c is closed. In this way, the downstream pneumatic control valve 17c is closed before the upstream pneumatic control valve 17a.

（動作例５）
ガラス非合成時に空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）が低下する異常が生じた場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。
ガラス非合成時には、前述のように、空気式操作弁１７ａを閉じ、空気式操作弁１７ｂを開け、空気式操作弁１７ｃを閉じ、空気式操作弁１７ｄを開けるように制御される。これにより、パージガスは、排ガスラインＬ５を通過して除害装置１２に供給される。 (Operation example 5)
When an abnormality occurs in which the driving air pressure (purge gas pressure) for operating the pneumatically operated valve during glass non-synthesis occurs, the glass synthesis fluid supply device 1 operates as follows.
When the glass is not synthesized, as described above, the pneumatic operation valve 17a is closed, the pneumatic operation valve 17b is opened, the pneumatic operation valve 17c is closed, and the pneumatic operation valve 17d is controlled. As a result, the purge gas passes through the exhaust gas line L5 and is supplied to the abatement device 12.

このような状態においてパージガスの圧が低下していくと、作動圧が高い空気式操作弁１７ｄが先ず閉状態となる。そして、さらにパージガスの圧が低下していくと、空気式操作弁１７ｄよりも作動圧が低い空気式操作弁１７ｂが閉状態となる。このように、下流側の空気式操作弁１７ｄが上流側の空気式操作弁１７ｂよりも先に閉状態になる。   When the pressure of the purge gas decreases in such a state, the pneumatic control valve 17d having a high operating pressure is first closed. Then, when the pressure of the purge gas further decreases, the pneumatic operation valve 17b having an operating pressure lower than that of the pneumatic operation valve 17d is closed. In this way, the downstream pneumatic control valve 17d is closed before the upstream pneumatic control valve 17b.

（動作例６）
上記動作例２〜動作例５において、空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）が空気式操作弁１７ａ〜１７ｄの作動圧よりも低下した後、段々と上昇していくような異常が生じた場合、ガラス合成用流体供給装置１は、以下のように動作する。
動作例２，３，５の場合、閉状態になっている空気式操作弁１７ｂ，１７ｄのうち、上流側のパージガス供給ラインＬ２の空気式操作弁１７ｂが先に開状態となり、下流側の排ガスラインＬ５の空気式操作弁１７ｄが後で開状態となる。また、動作例４の場合、閉状態になっている空気式操作弁１７ａ，１７ｃのうち、上流側の腐食性流体供給ラインＬ１の空気式操作弁１７ａが先に開状態となり、下流側の反応容器ラインＬ４の空気式操作弁１７ｃが後で開状態となる。 (Operation example 6)
In the above operation example 2 to operation example 5, after the driving air pressure (purge gas pressure) for operating the pneumatic operation valve is lower than the operating pressure of the pneumatic operation valves 17a to 17d, it gradually rises. When some kind of abnormality occurs, the glass synthesis fluid supply apparatus 1 operates as follows.
In the case of the operation examples 2, 3 and 5, among the pneumatically operated valves 17b and 17d which are in the closed state, the pneumatically operated valve 17b of the upstream purge gas supply line L2 is first in the opened state and the downstream side exhaust gas is exhausted. The pneumatic control valve 17d on the line L5 is later opened. Further, in the case of the operation example 4, the pneumatic operation valve 17a of the corrosive fluid supply line L1 on the upstream side of the closed pneumatic operation valves 17a and 17c is opened first, and the reaction on the downstream side is performed. The pneumatic control valve 17c of the container line L4 is later opened.

このように、本実施形態のガラス合成用流体供給装置１によれば、空気式操作弁を作動させるための駆動用の空気圧（パージガスの圧）に異常が発生し、例えばパージガスの圧が段々と低下していった場合、下流側の空気式操作弁が先に閉状態となり、上流側の空気式操作弁が後から閉状態となる。また、例えばパージガスの圧が空気式操作弁の作動圧未満に低下した後に段々と上昇していった場合、上流側の空気式操作弁が先に開状態となり、下流側の空気式操作弁が後から開状態となる。このため、例えば停電時、復電時、ガラス合成時、及びガラス非合成時においてパージガスの圧が低下する異常が生じた場合でも、反応容器１１あるいは除害装置１２からガスが配管上流側に逆流、拡散することを抑止することができる。これにより、配管またはＭＦＣ１５の劣化を抑制することができる   As described above, according to the glass synthesizing fluid supply device 1 of the present embodiment, an abnormality occurs in the driving air pressure (purge gas pressure) for operating the pneumatic control valve, and for example, the purge gas pressure gradually increases. When the air pressure decreases, the downstream pneumatic control valve is closed first, and the upstream pneumatic control valve is closed later. Further, for example, when the pressure of the purge gas decreases gradually below the operating pressure of the pneumatic control valve and then gradually increases, the upstream pneumatic control valve is opened first and the downstream pneumatic control valve is opened. It will be opened later. Therefore, for example, even when an abnormality occurs in which the pressure of the purge gas decreases during power failure, power recovery, glass synthesis, and glass non-synthesis, the gas flows backward from the reaction vessel 11 or the abatement device 12 to the upstream side of the pipe. , Can be prevented from spreading. Thereby, the deterioration of the pipe or the MFC 15 can be suppressed.

ところで、停電時にはＭＦＣが全開状態になるため過大な流量のパージガスが流れる。このため、停電が長時間継続すると、パージガス供給部のガスが枯渇してパージできなくなったり、ガスのロスが多くコストが増大する。また、パージガスと空気式操作弁の駆動ガスとの供給元が同じ場合、パージガスの枯渇により空気式操作弁の駆動ができなくなってしまう。
これに対して、ガラス合成用流体供給装置１によれば、パージガス供給ラインＬ２に流量絞り弁１８が設けられているので、流量絞り弁１８の調節により、停電時に供給されるパージガス流量を抑えることができる。これにより、パージガスを節約することができ、また、復電時のパージ圧力の低下を抑止することができる。 By the way, at the time of a power failure, the MFC is in a fully opened state, so an excessive flow of purge gas flows. For this reason, if the power failure continues for a long time, the gas in the purge gas supply unit will be exhausted and it will not be possible to carry out purging, or there will be a lot of gas loss and cost will increase. Further, when the purge gas and the drive gas for the pneumatic control valve are supplied from the same source, the purge of the purge gas causes the pneumatic control valve to be unable to be driven.
On the other hand, according to the glass synthesis fluid supply device 1, since the flow rate throttle valve 18 is provided in the purge gas supply line L2, the flow rate throttle valve 18 is adjusted to suppress the flow rate of the purge gas supplied during a power failure. You can As a result, the purge gas can be saved, and the purge pressure can be prevented from decreasing when power is restored.

以上、本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。また、上記説明した構成部材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好適な数、位置、形状等に変更することができる。   While the present invention has been described in detail and with reference to particular embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Further, the number, position, shape, etc. of the constituent members described above are not limited to those in the above-mentioned embodiment, and can be changed to the number, position, shape, etc. suitable for carrying out the present invention.

１ ガラス合成用流体供給装置
１１ 反応容器
１２ 除害装置
１３ 腐食性流体供給部
１４ パージガス供給部
１５ 流量制御装置（ＭＦＣ）
１６ａ〜１６ｄ 電磁弁
１７ａ〜１７ｄ 空気式操作弁
１８ 流量絞り弁
Ｌ１ 腐食性流体供給ライン
Ｌ２ パージガス供給ライン
Ｌ３ 合流ライン
Ｌ４ 反応容器ライン
Ｌ５ 排ガスライン 1 Glass Synthesis Fluid Supply Device 11 Reaction Vessel 12 Harmful Removal Device 13 Corrosive Fluid Supply Unit 14 Purge Gas Supply Unit 15 Flow Control Device (MFC)
16a to 16d Solenoid valve 17a to 17d Pneumatic control valve 18 Flow rate throttle valve L1 Corrosive fluid supply line L2 Purge gas supply line L3 Combined line L4 Reaction vessel line L5 Exhaust gas line

Claims (4)

反応容器に腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記腐食性流体の経路において、前記流量制御装置より上流側の前記腐食性流体供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記腐食性流体供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する、ガラス合成用流体供給装置。 A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid to the reaction vessel,
A flow rate control device provided in the corrosive fluid supply line,
Equipped with
In the path of the corrosive fluid flowing through the flow rate control device, the corrosive fluid supply line upstream of the flow rate control device and the corrosive fluid supply line downstream of the flow rate control device are respectively electromagnetically coupled. A pneumatic operated valve operated by the valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided downstream of the flow rate control device has a working pressure higher than the working pressure of the pneumatic operation valve provided upstream of the flow rate control device. . 反応容器にパージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインに設けられた流量制御装置と、
を備え、
前記流量制御装置を流れる前記パージガスの経路において、前記流量制御装置より上流側の前記パージガス供給ラインと、前記流量制御装置より下流側の前記パージガス供給ラインと、にはそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御装置より下流側に設けられた前記空気式操作弁は、前記流量制御装置より上流側に設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する、ガラス合成用流体供給装置。 A purge gas supply line for supplying a purge gas to the reaction vessel,
A flow rate control device provided in the purge gas supply line,
Equipped with
In the path of the purge gas flowing through the flow rate control device, the purge gas supply line upstream of the flow rate control device and the purge gas supply line downstream of the flow rate control device are operated by solenoid valves. Type operation valve is provided,
All the pneumatic control valves are normally closed type,
The pneumatic operation valve provided downstream of the flow rate control device has a working pressure higher than the working pressure of the pneumatic operation valve provided upstream of the flow rate control device. . 腐食性流体を供給する腐食性流体供給ラインと、
パージガスを供給するパージガス供給ラインと、
前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインとが合流された合流ラインと、
前記合流ラインに設けられた流量制御装置と、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して反応容器に向かう反応容器ラインと、
前記流量制御装置より下流側の前記合流ラインから分岐して除害装置に向かう排ガスラインと、
を備え、
前記腐食性流体供給ラインと、前記パージガス供給ラインと、前記反応容器ラインと、前記排ガスラインと、はそれぞれ電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルオープン型であり、
前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁用の電磁弁と、はノーマルクローズ型であり、
前記反応容器ラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記腐食性流体供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有し、
前記排ガスラインに設けられた前記空気式操作弁は、前記パージガス供給ラインに設けられた前記空気式操作弁の作動圧より高い作動圧を有する、ガラス合成用流体供給装置。 A corrosive fluid supply line for supplying a corrosive fluid,
A purge gas supply line for supplying purge gas,
A merging line in which the purge gas supply line and the corrosive fluid supply line are merged,
A flow rate control device provided in the merging line,
A reaction vessel line branching from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the reaction vessel,
An exhaust gas line that branches from the merging line on the downstream side of the flow rate control device toward the abatement device,
Equipped with
The corrosive fluid supply line, the purge gas supply line, the reaction vessel line, and the exhaust gas line are each provided with a pneumatic operation valve operated by a solenoid valve,
The solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the purge gas supply line, and the solenoid valve for the pneumatic operation valve provided in the exhaust gas line are normally open type,
The electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the corrosive fluid supply line, and the electromagnetic valve for the pneumatic operation valve provided in the reaction vessel line, are normally closed type,
The pneumatic control valve provided in the reaction vessel line has an operating pressure higher than the operating pressure of the pneumatic control valve provided in the corrosive fluid supply line,
The glass synthesizing fluid supply device, wherein the pneumatic control valve provided in the exhaust gas line has a working pressure higher than a working pressure of the pneumatic control valve provided in the purge gas supply line. 前記パージガス供給ラインに流量絞り弁が設けられた、請求項２または請求項３に記載のガラス合成用流体供給装置。   The fluid supply device for glass synthesis according to claim 2 or 3, wherein a flow rate throttle valve is provided in the purge gas supply line.
JP2016172613A 2016-09-05 2016-09-05 Fluid supply device for glass synthesis Expired - Fee Related JP6683077B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016172613A JP6683077B2 (en) 2016-09-05 2016-09-05 Fluid supply device for glass synthesis
CN201710756151.3A CN107795546B (en) 2016-09-05 2017-08-29 Fluid supply device for glass synthesis

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016172613A JP6683077B2 (en) 2016-09-05 2016-09-05 Fluid supply device for glass synthesis

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018039679A JP2018039679A (en) 2018-03-15
JP6683077B2 true JP6683077B2 (en) 2020-04-15

Family

ID=61531581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016172613A Expired - Fee Related JP6683077B2 (en) 2016-09-05 2016-09-05 Fluid supply device for glass synthesis

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6683077B2 (en)
CN (1) CN107795546B (en)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61254242A (en) * 1985-05-01 1986-11-12 Sumitomo Electric Ind Ltd Apparatus for supplying stock material
JPS6340739A (en) * 1986-08-06 1988-02-22 Sumitomo Electric Ind Ltd Method and apparatus for calibrating mass flow rate controller
JPS6483665A (en) * 1987-09-25 1989-03-29 Furukawa Electric Co Ltd Liquid raw material evaporating device
JP3442604B2 (en) * 1996-02-15 2003-09-02 株式会社フジキン Method of supplying mixed gas, mixed gas supply device, and semiconductor manufacturing apparatus provided with these
JP3515894B2 (en) * 1997-12-16 2004-04-05 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
JP2003212554A (en) * 2002-01-24 2003-07-30 Sumitomo Electric Ind Ltd Method and apparatus for manufacturing fine glass particle deposit
JP2003277072A (en) * 2002-03-25 2003-10-02 Sumitomo Electric Ind Ltd Cycle purge method for flow controller
JP4502590B2 (en) * 2002-11-15 2010-07-14 株式会社ルネサステクノロジ Semiconductor manufacturing equipment
JP2009102207A (en) * 2007-10-25 2009-05-14 Sumitomo Electric Ind Ltd Method and apparatus for manufacturing fine glass particle deposit
JP4933414B2 (en) * 2007-12-11 2012-05-16 大陽日酸株式会社 Compound thin film semiconductor manufacturing apparatus and ammonia gas supply apparatus and method
JP4917158B2 (en) * 2010-03-03 2012-04-18 中外炉工業株式会社 High pressure dry air supply system
JP6102261B2 (en) * 2013-01-04 2017-03-29 住友電気工業株式会社 Fluid supply equipment for glass synthesis

Also Published As

Publication number Publication date
CN107795546A (en) 2018-03-13
CN107795546B (en) 2020-09-15
JP2018039679A (en) 2018-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101928120B1 (en) Refillable ampoule with purge capability
JP2018050041A5 (en)
JP2015204461A (en) Device and method for exhaust gas purification in cvd reactor
KR101669689B1 (en) Apparatus and method for controlling flow rate of liquid, and storage medium
JP6683077B2 (en) Fluid supply device for glass synthesis
JP4996328B2 (en) Cylinder cabinet
CN106988890A (en) The method and system of reliable gas liquid transformation
JP6536041B2 (en) Combustion system
RU2615873C1 (en) System and method for feeding ammonium containing fluid into incinerator exhaust gas duct
JP6102261B2 (en) Fluid supply equipment for glass synthesis
JP5478666B2 (en) Fluid control apparatus and gas processing apparatus using the same
JP6663874B2 (en) Mixed gas supply device
JP2006285661A (en) Pressure governing device
JP5849610B2 (en) Apparatus and method for manufacturing glass preform for optical fiber
JP2002168139A (en) Feeding system for waste plastic generating oil
JP2021072405A5 (en)
RU2714589C1 (en) Controlled pressure raising system of low-pressure gas
WO2022080322A1 (en) Chemical spray system and operation method thereof
JP6161939B2 (en) Biogas equipment
KR101394669B1 (en) Gas flux dispenser and etching apparatus for substrate comprising the same
JP5063531B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, program, and storage medium
JP6329688B1 (en) Gas supply device
JP5479467B2 (en) Burner assembly with improved adaptability and furnace having the burner assembly
CN209654730U (en) A kind of gas transmission and distribution pressure regulator valve
JP2008038918A (en) Vibration control apparatus for gas piping system and pressure regulator

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190521

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200309

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6683077

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees