JP2003277072A - Cycle purge method for flow controller - Google Patents
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- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、流量調整器の内
部の残留ガスを除去する方法に係り、特に腐食性ガスを
除去することのできる流量調整器のサイクルパージ方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for removing a residual gas inside a flow rate controller, and more particularly to a cycle purge method for a flow rate controller capable of removing a corrosive gas.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、例えば図３に示すような、ガ
ラスパイプ３０の内側に石英微粒子３１を積層し、透明
ガラス化させる装置３２では、ガラスパイプ３０に、流
量調整器（以後「ＭＦＣ；Mass Flow Controller」と
いう）３３を介して液体のSiCl 4が収容されているタン
ク３５等が接続されている。タンク３５のまわりには、
ヒータ３４が備え付けられている。このようなＭＦＣ３
３を故障等で交換する際に、その内部にSiCl4ガスが残
留していると、内部が腐蝕して、その周囲の配管と共に
使用できなくなることがある。そこで、ＭＦＣ３３内部
の残留ガスを除去するために、図４に示すような装置が
用いられている。すなわち、残留ガスを除去したいＭＦ
Ｃ３３は、一方に第１のエアバルブＡＶ１を介して例え
ばN2等の不活性ガス、かつ、非腐蝕性の加圧ガスを圧入
する加圧ガス供給源３６に接続されている。また、他方
には第２のエアバルブＡＶ２を介して圧力計３７および
真空ポンプ３８が接続されている。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, as shown in FIG.
Quartz particles 31 are laminated inside the lath pipe 30 to make it transparent.
In the vitrification device 32, the glass pipe 30 flows
Volume regulator (hereinafter referred to as "MFC; Mass Flow Controller")
Liquid SiCl through 33) FourTan is housed in
35 and the like are connected. Around the tank 35,
A heater 34 is provided. Such MFC3
When replacing 3 due to malfunction, etc.,FourGas remains
If it stays, the inside will be corroded and the pipes around it will corrode.
It may become unusable. Therefore, inside the MFC33
In order to remove the residual gas in the
It is used. That is, the MF whose residual gas is desired to be removed
C33 is, for example, one side through the first air valve AV1
If N2Inert gas such as, and non-corrosive pressurized gas
Connected to the pressurized gas supply source 36. On the other hand
Via the second air valve AV2 to the pressure gauge 37 and
A vacuum pump 38 is connected.
【０００３】図５には、ＭＦＣ３３内部の残留ガスを除
去する際の各バルブＡＶ１、ＡＶ２の開閉状態が示され
ている。すなわち、１サイクルを３０秒の真空引き工程
（減圧工程）→２０秒の加圧工程→１０秒のパージ工程
から成る１分の工程とすると、真空引き工程では第１の
エアバルブＡＶ１を閉じて第２のエアバルブＡＶ２を開
け、真空ポンプ３８によりＭＦＣ３３内部の真空引きを
行う。また、加圧工程では第１のエアバルブＡＶ１を開
けて第２のエアバルブＡＶ２を閉じ、加圧ガス供給源３
６から加圧ガスを圧入する。さらに、パージ工程では第
１のエアバルブＡＶ１および第２のエアバルブＡＶ２を
開け、加圧ガス供給源３６から加圧ガスを圧入してＭＦ
Ｃ３３内部に通してパージする。ＭＦＣ３３の容量がお
およそ５SLM以上の場合には、上述した工程をおよそ１
８０サイクル（３時間）繰り返し実行することで、ＭＦ
Ｃ３３内部のガスが完全に除去することができる。FIG. 5 shows the open / closed state of the valves AV1 and AV2 when removing the residual gas inside the MFC 33. That is, assuming that one cycle is a 1-minute process consisting of a vacuuming process (pressure reducing process) for 30 seconds, a pressurizing process for 20 seconds, and a purging process for 10 seconds, the first air valve AV1 is closed in the vacuuming process. The second air valve AV2 is opened, and the vacuum pump 38 evacuates the inside of the MFC 33. In the pressurizing step, the first air valve AV1 is opened and the second air valve AV2 is closed, so that the pressurized gas supply source 3
Pressurized gas is injected from 6. Further, in the purging step, the first air valve AV1 and the second air valve AV2 are opened, and the pressurized gas is injected from the pressurized gas supply source 36 to cause the MF.
Purge through C33. When the capacity of MFC33 is about 5 SLM or more, the above-mentioned steps should be performed in about 1
By repeating 80 cycles (3 hours), MF
The gas inside C33 can be completely removed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＭＦＣ３３の
容量が１SLM以下、特に１００SCCM以下である場合に
は、ＭＦＣ３３内の流路が狭いため、３０秒の真空引き
工程および２０秒の加圧工程では、所望の圧力に達する
前に次の工程へ移行してしまい、十分にガスを除去する
ことが難しい。従って、この場合、ＭＦＣ内部の残留ガ
スを除去するには、各工程の時間を延ばす等の条件更新
が必要となり、最低でも２４時間を要する。さらにＭＦ
Ｃ３３の容量が１０SCCMの場合には４８時間程度要す
る。However, when the capacity of the MFC 33 is 1 SLM or less, especially 100 SCCM or less, since the flow path in the MFC 33 is narrow, the vacuuming step for 30 seconds and the pressurizing step for 20 seconds are not possible. However, the process proceeds to the next step before the desired pressure is reached, and it is difficult to sufficiently remove the gas. Therefore, in this case, in order to remove the residual gas inside the MFC, it is necessary to update the conditions such as extending the time of each step, and at least 24 hours are required. Further MF
It takes about 48 hours when the capacity of C33 is 10 SCCM.
【０００５】本発明の目的は、短時間で流量調整器内部
の残留ガスを確実に除去することのできる流量調整器の
サイクルパージ方法を提供することにある。It is an object of the present invention to provide a cycle purge method for a flow rate regulator that can reliably remove residual gas inside the flow rate regulator in a short time.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明に係る流量調整器のサイクルパージ方法
は、請求項１に記載したように、流量調整器を含む配管
内に残存するガスを除去するサイクルパージ方法におい
て、前記流量調整器の上流側と下流側とを結ぶバイパス
配管を設け、前記バイパス配管の途中位置に開閉弁を設
置し、前記開閉弁の開閉を制御することで前記流量調整
器内の残留ガスを除去することを特徴としている。In order to achieve the above-mentioned object, the method of cycle purging of a flow rate regulator according to the present invention remains in a pipe including the flow rate regulator as described in claim 1. In the cycle purge method for removing gas, a bypass pipe connecting the upstream side and the downstream side of the flow rate regulator is provided, and an opening / closing valve is installed at an intermediate position of the bypass pipe to control opening / closing of the opening / closing valve. The residual gas in the flow rate controller is removed.
【０００７】このように構成された流量調整器のサイク
ルパージ方法においては、バイパス管に設けられた開閉
弁を開けて、流量調整器の両側から残留ガスを吸引し、
加圧ガスを供給するので、残留ガスが速やかに吸引さ
れ、流量調整器内部の隅々まで加圧ガスが行き届く。ま
た、前記開閉弁を閉じて加圧ガスを流量調整器の内部に
通してパージする。これにより、短時間で確実に流量調
整器の内部ガスを除去することができる。In the cycle purge method of the flow rate controller thus configured, the on-off valve provided in the bypass pipe is opened to suck the residual gas from both sides of the flow rate controller,
Since the pressurized gas is supplied, the residual gas is quickly sucked, and the pressurized gas reaches every corner inside the flow rate regulator. Further, the on-off valve is closed and the pressurized gas is passed through the inside of the flow rate regulator to be purged. Thereby, the internal gas of the flow rate regulator can be reliably removed in a short time.
【０００８】また、本発明に係る流量調整器のサイクル
パージ方法は、請求項２に記載したように、請求項1に
記載した流量調整器のサイクルパージ方法において、減
圧工程（真空引き工程）では前記流量調整器を含む配管
内を減圧（真空引き）し、加圧工程では前記流量調整器
を含む配管内に加圧ガスを圧入し、パージ工程では前記
流量調整器を含む配管内をパージし、これらの減圧工程
と加圧工程とパージ工程のサイクルを繰り返すようにし
てもよい。Further, as described in claim 2, the cycle purge method of the flow rate regulator according to the present invention is the cycle purge method of the flow rate regulator according to claim 1, wherein the depressurizing step (vacuum drawing step) is performed. The inside of the pipe including the flow rate regulator is decompressed (vacuum is evacuated), the pressurized gas is injected into the pipe including the flow rate regulator in the pressurizing step, and the inside of the pipe including the flow rate regulator is purged in the purging step. The cycle of the depressurizing step, the pressurizing step, and the purging step may be repeated.
【０００９】また、本発明に係る流量調整器のサイクル
パージ方法は、請求項３に記載したように、請求項１ま
たは２に記載した流量調整器のサイクルパージ方法にお
いて、前記流量調整器の容量が、１００SCCM以下の場
合、特に効果が大きい。According to a third aspect of the present invention, there is provided a cycle purging method for a flow rate adjusting device according to the first aspect or the second aspect, wherein the capacity of the flow rate adjusting device is equal to the capacity of the flow rate adjusting device. However, when it is 100 SCCM or less, the effect is particularly large.
【００１０】また、本発明に係る流量調整器のサイクル
パージ方法は、請求項４に記載したように、請求項２に
記載した流量調整器のサイクルパージ方法において、前
記加圧ガスとしてヘリウムガスを使用することによっ
て、更に、大きな効果が得られる。According to the cycle purge method of the flow rate regulator of the present invention, as described in claim 4, in the cycle purge method of the flow rate regulator according to claim 2, helium gas is used as the pressurized gas. By using it, a great effect can be obtained.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る流量調整器の
サイクルパージ方法の実施形態を図面に基づいて詳細に
説明する。なお、以下に説明する実施の形態において、
既に図３ないし図５において説明した部材等について
は、図中に同一符号あるいは相当符号を付すことにより
説明を簡略化あるいは省略する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a cycle purge method for a flow rate regulator according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the embodiments described below,
The members and the like already described in FIGS. 3 to 5 are denoted by the same or corresponding reference numerals in the drawings to simplify or omit the description.
【００１２】図１には、ガラスパイプ３０の内側に石英
微粒子３１を積層させると共に、ＭＦＣ３３の内部に残
留している例えばSiCl4等の塩素系ガスを除去すること
のできる装置１０の構成が示されている。すなわち、N2
やHe等の加圧ガスを供給する加圧ガス供給部１１は、第
１のエアバルブＡＶ１を介してフィルター１２に接続さ
れている。一方、SiCl4ガスを供給する原料ガス供給部
１３は、第２のエアバルブＡＶ２を介してフィルター１
２に接続されている。フィルター１２はＭＦＣ３３の上
流側配管１４Ｕに接続されている。ＭＦＣ３３の上流側
配管１４Ｕおよび下流側配管１４Ｌを接続するバイパス
配管１５がＭＦＣ３３と並列に設けられている。このバ
イパス配管１５には、開閉弁としての第３のエアバルブ
ＡＶ３が設けられている。さらに、ＭＦＣ３３は、第４
のエアバルブＡＶ４を介してガラスパイプ３０に接続さ
れ、さらに第６のエアバルブＡＶ６を介して真空ポンプ
３８に接続されている。尚、ガラスパイプ３０には、Ｍ
ＦＣ３９で流量制御された酸素が第５のエアバルブＡＶ
５、逆止弁１６を通じて原料ガスとともに供給されるよ
うになっている。FIG. 1 shows the construction of an apparatus 10 capable of laminating quartz fine particles 31 inside a glass pipe 30 and removing chlorine-based gas such as SiCl 4 remaining inside the MFC 33. Has been done. That is, N 2
A pressurized gas supply unit 11 that supplies a pressurized gas such as He or He is connected to the filter 12 via a first air valve AV1. On the other hand, the raw material gas supply unit 13 that supplies the SiCl 4 gas has the filter 1 through the second air valve AV2.
Connected to 2. The filter 12 is connected to the upstream pipe 14U of the MFC 33. A bypass pipe 15 that connects the upstream pipe 14U and the downstream pipe 14L of the MFC 33 is provided in parallel with the MFC 33. The bypass pipe 15 is provided with a third air valve AV3 as an opening / closing valve. In addition, MFC33 is the fourth
Is connected to the glass pipe 30 via the air valve AV4, and is further connected to the vacuum pump 38 via the sixth air valve AV6. The glass pipe 30 has an M
Oxygen whose flow rate is controlled by FC39 is the fifth air valve AV
5, it is supplied with the source gas through the check valve 16.
【００１３】次に、図２を参照して、ガラス微粒子のガ
ラスパイプ内への積層（ガラス生成）および上述した残
留ガスを除去する装置１０によるサイクルパージの各工
程におけるエアバルブの開閉状態を説明する。まず、ガ
ラスの生成工程では、第１のエアバルブＡＶ１を閉じ、
第２のエアバルブＡＶ２を開け、第３のエアバルブＡＶ
３を閉じ、第４のエアバルブＡＶ４を開けてSiCl4ガス
を、ＭＦＣ３３を通して流量を調整しながらガラスパイ
プ３０に供給する。この時、第５のエアバルブＡＶ５を
開け、ＭＦＣ３９で流量調整された酸素を同時に流す。
なお、第６のエアバルブＡＶ６は閉じられている。SiCl
4ガスは、バーナ４０の熱で酸化反応を起こしてガラス
微粒子３１となり、該ガラス微粒子３１がガラスパイプ
３０の内壁に積層して層をなす。Next, referring to FIG.
Lamination in the lath pipe (glass formation) and the above-mentioned residue
Each cycle purge process by the device 10 for removing the residual gas
The open / closed state of the air valve will be described. First, moth
In the lath generation process, the first air valve AV1 is closed,
Open the second air valve AV2 to open the third air valve AV
3 closed, the fourth air valve AV4 opened and SiClFourgas
The glass pie while adjusting the flow rate through MFC33.
Supply to the 30. At this time, the fifth air valve AV5
Open it, and let the oxygen whose flow rate is adjusted by the MFC 39 flow at the same time.
The sixth air valve AV6 is closed. SiCl
FourThe gas causes an oxidation reaction due to the heat of the burner 40 to generate glass.
The fine particles 31 become the glass fine particles 31, and the glass fine particles 31 are glass pipes.
Layers are laminated on the inner wall of 30.
【００１４】一方、サイクルパージにおいては、減圧工
程では、第１のエアバルブＡＶ１を閉じ、第２のエアバ
ルブＡＶ２も閉じて、ガスの供給を停止する。そして、
第３のエアバルブＡＶ３を開けて、ＭＦＣ３３の上流側
および下流側からＭＦＣ３３の減圧を行う。このとき、
第４のエアバルブＡＶ４を閉じ、第６のエアバルブＡＶ
６を開けて真空ポンプ３８に接続する。これにより、Ｍ
ＦＣ３３および上流側配管１４Ｕ、下流側配管１４Ｌ内
の減圧を行う。第５のエアバルブＡＶ５は閉じている方
が望ましが、第４のエアバルブＡＶ４が閉じた状態とな
っているため第５のエアバルブＡＶ５は開いていてもよ
い。On the other hand, in the cycle purge, in the depressurizing step, the first air valve AV1 is closed and the second air valve AV2 is also closed to stop the gas supply. And
The third air valve AV3 is opened to reduce the pressure of the MFC 33 from the upstream side and the downstream side of the MFC 33. At this time,
The fourth air valve AV4 is closed, and the sixth air valve AV
Open 6 and connect to vacuum pump 38. This makes M
The FC 33, the upstream pipe 14U, and the downstream pipe 14L are depressurized. Although it is desirable that the fifth air valve AV5 be closed, the fifth air valve AV5 may be open because the fourth air valve AV4 is in a closed state.
【００１５】また、加圧工程では、第１のエアバルブＡ
Ｖ１を開け、第２のエアバルブＡＶ２を閉じて、Ｎ2ガ
スやＨｅガスを供給する。そして、第３のエアバルブＡ
Ｖ３を開け、第４のエアバルブＡＶ４、第６のエアバル
ブＡＶ６を閉じることにより、ＭＦＣ３３の内部の隅々
まで、上流側および下流側からＮ2やＨｅを圧入する。In the pressurizing step, the first air valve A
V1 is opened, the second air valve AV2 is closed, and N 2 gas or He gas is supplied. And the third air valve A
By opening V3 and closing the fourth air valve AV4 and the sixth air valve AV6, N 2 and He are press-fitted into all the inside of the MFC 33 from the upstream side and the downstream side.
【００１６】また、パージ工程では、第１のエアバルブ
ＡＶ１を開け、第２のエアバルブＡＶ２を閉じて、Ｎ2
ガスやＨｅガスを供給する。そして、第３のエアバルブ
ＡＶ３、第４のエアバルブＡＶ４を閉じ、第６のエアバ
ルブＡＶ６を開けることにより、圧入されたＮ2やＨｅ
はＭＦＣ３３の内部を通ってパージした後に、真空ポン
プ３８を通ってスクラバーへ排気される。Further, in the purging step, the first air valve AV1 is opened, the second air valve AV2 is closed, and N 2
Gas or He gas is supplied. Then, the third air valve AV3 and the fourth air valve AV4 are closed, and the sixth air valve AV6 is opened, so that the press-fitted N 2 and He are injected.
Is purged through the interior of MFC 33 and then exhausted through a vacuum pump 38 to a scrubber.
【００１７】従って、前述した流量調整器のサイクルパ
ージ方法によれば、第３のエアバルブＡＶ３を開けるこ
とによりＭＦＣ３３の上流側および下流側の両側から加
圧工程ではガスを供給し、減圧工程ではガスを吸引し、
パージ工程の際には第３のエアバルブＡＶ３を閉じるこ
とによりガスをＭＦＣ３３の内部に通すので、各工程を
繰り返し実施することにより、ＭＦＣ３３内部の通路が
狭い場合でも、短時間で確実にＭＦＣ３３内部の残留ガ
スを除去することができる。特に、Ｈｅを加圧ガスとし
て用いた場合には、分子量が小さいのでＭＦＣ３３の隅
々まで達して、残留ガスを短時間で確実に除去すること
ができる。Therefore, according to the above-described cycle purge method for the flow rate controller, by opening the third air valve AV3, gas is supplied from both upstream and downstream sides of the MFC 33 in the pressurizing step and gas is supplied in the depressurizing step. Aspirate
During the purging step, the gas is passed through the inside of the MFC 33 by closing the third air valve AV3. Therefore, by repeating each step, even if the passage inside the MFC 33 is narrow, the inside of the MFC 33 can be surely kept in a short time. Residual gas can be removed. In particular, when He is used as the pressurized gas, since the molecular weight is small, it reaches every corner of the MFC 33, and the residual gas can be reliably removed in a short time.
【００１８】[0018]
【実施例】図１、２に示すサイクルパージ方法を用い
て、容量の異なるＭＦＣ使用し、ＭＦＣ内部に残留して
いる残留ガスの除去時間を測定してみた。
（実施例１）ＭＦＣの容量が５ＳＭＬ、加圧ガスとして
窒素（Ｎ2）を用いて、図１、２に示す方法でサイクル
パージを行った。その結果、ＭＦＣ内のＳｉＣｌ4の除
去時間は１時間（６０サイクル）であった。
（実施例２）ＭＦＣの容量が１００ＳＣＣＭ、加圧ガス
として窒素（Ｎ2）を用いて、図１、２に示す方法でサ
イクルパージを行った。その結果、ＭＦＣ内のＳｉＣｌ
4の除去時間は５時間（３００サイクル）であった。
（実施例３）ＭＦＣの容量が１０ＳＣＣＭ、加圧ガスと
して窒素（Ｎ2）を用いて、図１、２に示す方法でサイ
クルパージを行った。その結果、ＭＦＣ内のＳｉＣｌ4
の除去時間は８時間（４８０サイクル）であった。ま
た、加圧ガスとしてヘリウム（Ｈｅ）を使用した場合に
は、ＭＦＣ内のＳｉＣｌ4の除去時間は６時間（３６０
サイクル）であった。
（実施例４）ＭＦＣの容量が１０ＳＣＣＭ、加圧ガスと
してヘリウム（Ｈｅ）を用いて、図１、２に示す方法で
サイクルパージを行った。その結果、ＭＦＣ内のＦ2ガ
スの除去時間は４時間（２４０サイクル）であった。EXAMPLES Using the cycle purge method shown in FIGS. 1 and 2, MFCs having different capacities were used, and the removal time of the residual gas remaining inside the MFCs was measured. (Example 1) A cycle purge was performed by a method shown in FIGS. 1 and 2 using MFC having a capacity of 5 SML and nitrogen (N 2 ) as a pressurized gas. As a result, the removal time of SiCl 4 in the MFC was 1 hour (60 cycles). (Example 2) Using an MFC of 100 SCCM and nitrogen (N 2 ) as a pressurized gas, cycle purging was performed by the method shown in FIGS. As a result, SiCl in MFC
The removal time for 4 was 5 hours (300 cycles). (Example 3) A cycle purge was performed by the method shown in FIGS. 1 and 2 using MFC with a capacity of 10 SCCM and nitrogen (N 2 ) as a pressurized gas. As a result, SiCl 4 in MFC
Removal time was 8 hours (480 cycles). Further, when helium (He) is used as the pressurized gas, the removal time of SiCl 4 in the MFC is 6 hours (360
Cycle). (Example 4) Cycle purge was performed by the method shown in FIGS. 1 and 2 using MFC with a capacity of 10 SCCM and helium (He) as a pressurized gas. As a result, the removal time of the F 2 gas in the MFC was 4 hours (240 cycles).
【００１９】なお、本発明に係る流量調整器のサイクル
パージ方法は、前述した実施形態に限定されるものでな
く、適宜な変形、改良等が可能である。例えば、ＭＦＣ
３３の容量は特に限定するものではないが、１００SCCM
以下のような小さなものに適用することができる。ま
た、ＳｉＣｌ4ガスを供給する装置を例として説明した
が、他のガスをＭＦＣに供給する装置であっても、当該
ＭＦＣ内部に残留したガスを除去する場合にも、本発明
は適用可能である。除去する残留ガスとしては種々のも
のが考えられるが、前述した塩素系ガス以外にもフッ素
系ガス、臭素系ガス、その他の腐蝕性ガス、毒性ガスを
対象とすることができる。The cycle purging method for the flow rate regulator according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be appropriately modified and improved. For example, MFC
The capacity of 33 is not particularly limited, but 100 SCCM
It can be applied to the following small items. Further, although the apparatus for supplying the SiCl 4 gas has been described as an example, the present invention can be applied to the case of removing the gas remaining inside the MFC even if the apparatus supplies another gas to the MFC. is there. Various types of residual gas can be considered as the residual gas to be removed, but fluorine-based gas, bromine-based gas, other corrosive gas, and toxic gas can be used in addition to the chlorine-based gas described above.
【００２０】[0020]
【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る流
量調整器のサイクルパージ方法によれば、短時間で確実
に流量調整器の内部ガスを除去することができる。As described above, according to the cycle purge method of the flow rate regulator according to the present invention, the internal gas of the flow rate regulator can be reliably removed in a short time.
【図１】本発明に係る流量調整器のサイクルパージ方法
を実施するための配管を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a pipe for carrying out a cycle purge method for a flow rate regulator according to the present invention.
【図２】図１において本発明に係る流量調整器のサイク
ルパージ方法を実施する際の各エアバルブの開閉状態を
示す表である。FIG. 2 is a table showing the open / closed state of each air valve when performing the cycle purge method of the flow rate regulator according to the present invention in FIG.
【図３】従来の一般的な流量調整器の使用例を示す構成
図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a usage example of a conventional general flow rate regulator.
【図４】従来における流量調整器のサイクルパージ方法
を実施するための配管を示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing piping for carrying out a conventional cycle purge method for a flow rate controller.
【図５】図４における流量調整器のサイクルパージ方法
を実施する際の各エアバルブの開閉状態を示す表であ
る。5 is a table showing the open / closed state of each air valve when carrying out the cycle purge method of the flow rate regulator in FIG. 4. FIG.
１２ フィルター １４Ｕ 上流側配管（配管） １４Ｌ 下流側配管（配管） １５ バイパス配管 １６ 逆止弁 ３３ ＭＦＣ（流量調整器） ４０ バーナー ＡＶ３ 第３のエアバルブ（開閉弁） 12 filters 14U upstream pipe (pipe) 14L Downstream piping (piping) 15 Bypass piping 16 Check valve 33 MFC (flow regulator) 40 burners AV3 Third air valve (open / close valve)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G014 AH12 4G021 EA02 EB06 5H307 AA20 BB01 CC13 DD15 DD17 DD20 EE02 FF06 GG15 HH04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 4G014 AH12 4G021 EA02 EB06 5H307 AA20 BB01 CC13 DD15 DD17 DD20 EE02 FF06 GG15 HH04
Claims (4)
を除去するサイクルパージ方法において、 前記流量調整器の上流側と下流側とを結ぶバイパス配管
を設け、前記バイパス配管の途中位置に開閉弁を設置
し、前記開閉弁の開閉を制御することで前記流量調整器
内の残留ガスを除去することを特徴とする流量調整器の
サイクルパージ方法。1. A cycle purge method for removing gas remaining in a pipe including a flow rate regulator, wherein a bypass pipe connecting an upstream side and a downstream side of the flow rate regulator is provided, and opening and closing is performed at an intermediate position of the bypass pipe. A cycle purge method for a flow rate regulator, characterized in that a residual gas in the flow rate regulator is removed by installing a valve and controlling opening / closing of the on-off valve.
内を減圧し、加圧工程では前記流量調整器を含む配管内
に加圧ガスを圧入し、パージ工程では前記流量調整器を
含む配管内をパージし、これらの減圧工程と加圧工程と
パージ工程のサイクルを繰り返すことを特徴とする請求
項1に記載した流量調整器のサイクルパージ方法。2. The depressurizing step depressurizes the pipe including the flow rate regulator, the pressurizing step pressurizes a pressurized gas into the pipe including the flow rate regulator, and the purging step includes the pipe including the flow rate regulator. 2. The cycle purging method for a flow rate controller according to claim 1, wherein the inside of the flow rate regulator is purged and the cycle of the pressure reducing step, the pressurizing step and the purging step is repeated.
下であることを特徴とする請求項１または２に記載した
流量調整器のサイクルパージ方法。3. The method according to claim 1, wherein the flow regulator has a capacity of 100 SCCM or less.
することを特徴とする請求項２に記載した流量調整器の
サイクルパージ方法。4. The cycle purging method for a flow rate regulator according to claim 2, wherein helium gas is used as the pressurized gas.
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- 2002-03-25 JP JP2002083862A patent/JP2003277072A/en active Pending
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