JP6677583B2 - 排気ガス浄化装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態にかかるエンジンシステム100の構成を示す概略図である。なお、図1中、信号の流れを破線の矢印で示す。図1に示すように、エンジンシステム100には、中央処理装置(CPU)、プログラム等が格納されたROM、ワークエリアとしてのRAM等を含むマイクロコンピュータでなるECU(Engine Control Unit)110が設けられ、ECU110によりエンジン120全体が統括制御される。ただし、以下では、本実施形態に関係する構成や処理について詳細に説明し、本実施形態と無関係の構成や処理については説明を省略する。
図2は、第1の実施形態にかかる排気ガス浄化装置200の構成を示す概略図であり、図2(a)は排気ガス浄化装置200の斜視図を示し、図2(b)は排気ガス浄化装置200における触媒層220の概念を説明する図を示す。なお、図2中、排気ガスの流れを白抜き矢印で示す。また、本実施形態にかかる図2では、垂直に交わるX軸、Y軸(排気ガスの流れ方向、排気路140の延在方向)、Z軸を図示の通り定義している。
NO + O2 → NO2 …式(1)
NO2 → NO + O2 …式(2)
こうして上記式(2)の反応が進行すると、酸素が生成されることとなるが、この酸素が、還元環境下(リッチスパイク時)の排気ガス中の炭化水素や一酸化炭素と反応してしまい、NOの浄化効率が低下する。また、NOの浄化効率を上げるためには、炭化水素および一酸化炭素を増量する必要があり、つまり、空燃比をよりリッチにしなければならず、燃費が低下してしまう。
図3は、変形例にかかる触媒層220の概念を説明する図である。図3(a)に示すように、第1の実施形態の触媒層220では、第2層244のみが吸蔵剤を含む構成について説明した。
第1の実施形態では、担体210がハニカム構造である場合を例に挙げて説明した。しかし、担体の構造に限定はない。
210 担体
230 上流側触媒層
240 下流側触媒層
242 第1層
244 第2層
320 フィルタユニット
324 フィルタ壁
326 セル
328a 上流開口部
328b 下流開口部
330 上流プラグ部
340 下流プラグ部
350 触媒層(NOx還元触媒層)
352 上流側触媒層
354 下流側触媒層
354a 第1触媒層
354b 第2触媒層
Claims (2)
- 排気ガスに含まれる窒素酸化物を取り除くウォールフロー型の排気ガス浄化装置であって、
フィルタ壁で区画された複数のセルが形成されるフィルタユニットと、
前記複数のセルのうち、第1セル群に分類されるセルにおける前記排気ガスの流れ方向上流側の上流開口部を封止する上流プラグ部と、
前記複数のセルのうち、前記第1セル群とは異なる第2セル群に分類されるセルにおける前記排気ガスの流れ方向下流側の下流開口部を封止する下流プラグ部と、
前記フィルタ壁に担持され、前記窒素酸化物を還元するNOx還元触媒層と、
を備え、
前記NOx還元触媒層は、上流側触媒層と、前記フィルタ壁内の排気ガスの流れ方向における該上流側触媒層の下流側に位置する下流側触媒層とで構成され、
前記上流側触媒層は、少なくともPtを含み、
前記下流側触媒層は、第1触媒層と、前記フィルタ壁内の排気ガスの流れ方向における該第1触媒層の下流側に位置する第2触媒層とで構成され、
前記第1触媒層は、Rhと、窒素酸化物を吸蔵する吸蔵剤とを少なくとも含み、
前記第2触媒層は、前記上流側触媒層より少量のPtを少なくとも含むことを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 担体と、
前記担体上に形成された上流側触媒層と、
前記担体における前記上流側触媒層の下流側に形成された下流側触媒層と、
を備え、
前記上流側触媒層は、窒素酸化物を吸蔵する吸蔵剤を含まず、少なくともPtを含み、
前記下流側触媒層は、前記担体上に形成された第1層と、該第1層上に形成された第2層とを備え、
前記第1層は、前記上流側触媒層より少量のPtを少なくとも含み、
前記第2層は、Rhと、前記吸蔵剤とを少なくとも含むことを特徴とする排気ガス浄化装置。
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