JP6654250B2 - 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池 - Google Patents
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Description
本発明の光吸収層は、光吸収剤として、ペロブスカイト化合物と、ハロゲン元素及び有機配位子を含む量子ドットとを含有する。なお、本発明の光吸収層は、本発明の効果を損なわない範囲で前記以外の光吸収剤を含有していてもよい。
(式中、Rは1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
(式中、R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
混合方法に制限はないが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、混合温度は、好ましくは0℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上であり、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下である。また、同様の観点から、混合時間は、好ましくは0時間超、より好ましくは0.1時間以上であり、好ましくは72時間以下、より好ましくは24時間以下、更に好ましくは1時間以下である。また、上記観点から、混合温度は、好ましくは0℃以上50℃以下、より好ましくは10℃以上40℃以下、更に好ましくは20℃以上30℃以下であり、混合時間は、好ましくは0時間超72時間以下、より好ましくは0時間超24時間以下、更に好ましくは0.1時間以上1時間以下である。
本発明の光電変換素子は、前記光吸収層を有するものである。本発明の光電変換素子において、前記光吸収層以外の構成は特に制限されず、公知の光電変換素子の構成を適用することができる。また、本発明の光電変換素子は、前記光吸収層以外は公知の方法で製造することができる。
本発明の太陽電池は、前記光電変換素子を有するものである。本発明の太陽電池において、前記光吸収層以外の構成は特に制限されず、公知の太陽電池の構成を適用することができる。
キセノンランプ白色光を光源(ペクセル・テクノロジーズ株式会社製、PEC-L01)とし、太陽光(AM1.5)相当の光強度(100 mW/cm2)にて、光照射面積0.0363 cm2(2mm角)のマスク下、I−V特性計測装置(ペクセル・テクノロジーズ株式会社製、PECK2400−N)を用いて走査速度0.1 V/sec(0.01 V step)、電圧設定後待ち時間50 msec、測定積算時間50 msec、開始電圧-0.1 V、終了電圧1.1 Vの条件でセルのI-V曲線を測定した。なお、シリコンリファレンス(BS-520、0.5714 mA)で光強度補正を行った。I-V曲線から短絡電流密度(mA/cm2)、開放電圧(V)、フィルファクター(FF)、及び変換効率(%)を求めた。
IPCE(入射光に対する外部変換効率の波長依存性)は、分光感度測定装置(分光計器株式会社製、CEP-2000MLR)を用い、光照射面積0.0363cm2のマスク下、300〜1200nmの波長範囲で測定を行った。波長500nmと900nmの外部量子効率を求めた。
光吸収層の吸収スペクトルは、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、UV-Vis分光光度計(株式会社島津製作所製、SolidSpec-3700)を用い、スキャンスピード中速、サンプルピッチ1 nm、スリット幅20、検出器ユニット積分球の条件で300〜1600nmの範囲を測定した。FTO(Fluorine-doped tin oxide)基板(旭硝子ファブリテック株式会社製、25×25×1.8 mm)でバックグラウンド測定を行った。
PbS量子ドット分散液の吸収スペクトルは、PbS量子ドット粉末0.1mg/mLの濃度のヘキサン分散液において、1cm角石英セルを用いて、同様に測定した。
なお、横軸;波長λ、縦軸;吸光度Aの吸収スペクトルを、横軸;エネルギーhν、縦軸;(αhν)1/2(α;吸光係数)のスペクトルに変換し、吸収の立ち上がる部分に直線をフィッティングし、その直線とベースラインとの交点をバンドギャップエネルギーとした。
光吸収層の発光スペクトルは、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、近赤外蛍光分光計(株式会社堀場製作所製、Fluorolog)を用い、励起波長800nm(実施例1、比較例1)または励起波長815nm(実施例2、比較例2)、励起光スリット幅10nm、発光スリット幅15nm、取り込み時間0.1sec、積算2回平均、ダークオフセットオンの条件で850〜1550nmの範囲を測定した。
PbS量子ドット分散液の発光スペクトルは、PbS量子ドット粉末0.1mg/mLの濃度のヘキサン分散液において、1cm角四面透明セルを用いて、同様に測定した。
光吸収層の表面平滑性は、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、ナノスケールハイブリッド顕微鏡(AFM、株式会社キーエンス製、VN-8010)を用い、DFM-Hモード、測定範囲100μm×75μmにおいて、5か所にて傾き自動補正後のRy(Rmax)を測定し、その平均値を求めた。
光吸収層の被覆率は、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、電界放射型高分解能走査電子顕微鏡(FE-SEM、株式会社日立製作所製、S-4800)を用いて光吸収層表面のSEM写真(拡大倍率20000倍)を測定し、そのSEM写真を画像解析ソフト(Winroof)を用い、ペンツールで光吸収層を指定し、全面積に対する光吸収層の面積比(面積率)から算出した。
光吸収層のペロブスカイト化合物の結晶子径は、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、粉末X線回折装置(株式会社リガク製、MiniFlex600、光源CuKα、管電圧40kV、管電流15mA)を用い、サンプリング幅0.02°、走査速度20°/min、ソーラースリット(入射)5.0°、発散スリット1.250°、縦発散13.0mm、散乱スリット13.0mm、ソーラースリット(反射)5.0°、受光スリット13.0mmの条件で5〜60°の範囲を測定した。ペロブスカイト化合物の結晶子径は、解析ソフト(PDXL、ver.2.6.1.2)を用いてペロブスカイト化合物の最強ピークにおいて算出した。
PbS量子ドットの結晶子径(粒径)は、ガラスホルダー上のPbS量子ドット粉末において、同様に測定し、解析ソフト(PDXL、ver.2.6.1.2)を用いてPbSのcubic(220)ピーク(2θ=42°)において算出した。
PbS量子ドット粉末中のPb濃度は、PbS量子ドット粉末を硝酸/過酸化水素混合溶液に完全溶解後、高周波誘導結合プラズマ発光分光(ICP)分析により定量した。
PbS量子ドット粉末中のオレイン酸アニオン濃度は、重トルエン(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製、99atom%D、TMS0.03vol%含有)溶媒中、ジブロモメタン(和光純薬株式会社製)を内部標準物質として用い、プロトン(1H)核磁気共鳴(NMR)法により定量した。NMR装置(アジレント社製、VNMRS400)を用い、共鳴周波数400HHz、遅延時間60秒、積算32回の条件で測定し、ジブロモメタン(3.9ppm vs.TMS)の積分値に対するオレイン酸アニオンのビニルプロトン(5.5ppm vs.TMS)の積分値の比からPbS量子ドット粉末中のオレイン酸アニオン濃度を求めた。
PbS量子ドット粉末中のCl濃度は、ガラス基板上のPbS量子ドット粉末において、光電子分光法(ESCA)により定量した。ESCA装置(アルバックファイ社製、PHI Quantera SXM)を用い、X線源単色化AlKα(25W,15kV)、ビーム径100μm、測定範囲1mm2、パスエネルギー112eV、ステップ0.2eV、帯電補正ニュウトラライザーおよびAr+照射、光電子取出し角度45°、結合エネルギー補正C1s(284.8eV)の条件でESCA測定し、Pb4f、S2p、Cl2pピークから組成を求めた。
PbS量子ドットのオレイン酸アニオンからペロブスカイト原料への配位子交換時のオレイン酸アニオン除去率は、配位子交換時の上相ヘキサン溶液中のオレイン酸濃度をNMR法により定量し、配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン量に対するヘキサン溶液中のオレイン酸量のモル比を計算した。
オレイン酸アニオン除去率(%)=100×上相ヘキサン溶液中のオレイン酸量/配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン量
光吸収層中のPbS量子ドットを構成するPb元素に対するオレイン酸アニオンのモル比は、配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン量と該オレイン酸アニオン除去率から算出した。
光吸収層中のPbS量子ドットを構成するPb元素に対するオレイン酸アニオンのモル比=(1−オレイン酸アニオン除去率/100)×(配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン/Pbモル比)
光吸収層中のペロブスカイトを構成するPb元素に対するオレイン酸アニオンのモル比は、配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン量と該オレイン酸アニオン除去率と、配合組成(ペロブスカイトを構成するPb元素に対するPbS量子ドットを構成するPb元素のモル比)から算出した。
光吸収層中のペロブスカイトを構成するPb元素に対するオレイン酸アニオンのモル比=(1−オレイン酸アニオン除去率/100)×(配位子交換前のPbS量子ドットのオレイン酸アニオン/Pbモル比)×(PbS量子ドットのPbモル/ペロブスカイトのPbモル比)
塩化鉛(Alfa Aesar社製、99.999%)8.34g、オレイルアミン(Acros Organics社製、C18 80%以上)64.8gを300mL三口フラスコに入れ、80℃で反応系内をダイヤフラム型真空ポンプにより脱気、窒素ガス置換後、140℃で30分間撹拌、30℃まで冷却して、Pb源白濁液を調製した。一方、硫黄結晶(和光純薬株式会社製、99.999%)0.321gをオレイルアミン8.10gに120℃で溶解後、80℃まで冷却して、S源溶液を調製した。窒素ガス雰囲気、強撹拌下、Pb源白濁液(30℃)にS源溶液をシリンジを用いて10秒で注入し、Cl元素とオレイルアミンとを含むPbS量子ドット(黒濁液)を生成させた。更に、40秒撹拌後、冷ヘキサン200mLを添加し、PbS量子ドットの結晶成長を停止させた。遠心分離(日立工機株式会社製、CR21GIII、R12Aローター、4000rpm、3分)により灰色沈殿物(塩化鉛)を除去後、黒色上澄み液に同量のエタノールを添加して黒色沈殿物を得た。減圧乾燥した黒色沈殿物4gをヘキサン100gに再分散後、遠心分離により灰色沈殿物(塩化鉛)を除去後、黒色上澄み液にオレイン酸(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製、90%)10gを添加混合後、18時間静置した。更に、遠心分離により灰色沈殿物(塩化鉛)を除去後、黒色上澄み液に同量のエタノールを添加して黒色沈殿物を得た。減圧ろ過(孔径0.2μm、材質PTFE)、エタノール洗浄後、黒色ろ過物を減圧乾燥してCl元素とオレイン酸アニオンとが配位したPbS量子ドット粉末を製造した。
ESCA分析結果よりPb/S/Cl原子比=1/1.2/0.65、NMRおよびICP分析結果よりオレイン酸アニオン/Pbモル比=0.13、X線回折結果より結晶子径3.6nm、吸収スペクトルより吸収端波長1240nm、発光スペクトルより発光ピーク波長1260nmであった。
PbS core−type quantum dots(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製、オレイン酸コート、蛍光波長1000nm、濃度10mg/mLトルエン)5gに同量のアセトン(和光純薬株式会社製)を混合し、遠心分離(日立工機株式会社製、CR21GIII、R3Sローター、2500rpm、60分)により上澄み除去後、得られた黒色沈殿物を減圧乾燥することにより、Cl元素を含まないPbS量子ドット粉末を製造した。
ESCA分析結果よりPb/S/Cl原子比=1/1.1/0、NMRおよびICP分析結果よりオレイン酸アニオン/Pbモル比=0.62、X線回折結果より結晶子径3.0nm、吸収スペクトルより吸収端波長1050nm、発光スペクトルより発光ピーク波長1050nmであった。
次の(1)〜(7)の工程を順に行い、セルを作製した。
(1)FTO基板のエッチング、洗浄
25mm角のフッ素ドープ酸化スズ(FTO)付ガラス基板(旭硝子ファブリテック株式会社製、25×25×1.8 mm、以下、FTO基板という)の一部をZn粉末と2mol/L塩酸水溶液でエッチングした。1質量%中性洗剤、アセトン、2−プロパノール(IPA)、イオン交換水で、この順に各10分間超音波洗浄を行った。
緻密TiO2層形成工程の直前にFTO基板のオゾン洗浄を行った。FTO面を上にして、基板をオゾン発生装置(メイワフォーシス株式会社製オゾンクリーナー、PC-450UV)に入れ、30分間UV照射した。
エタノール(脱水、和光純薬工業株式会社製)123.24 gにビス(2,4−ペンタンジオナト)ビス(2−プロパノラト)チタニウム(IV)(75 %IPA溶液、東京化成工業株式会社製)4.04 gを溶解させ、スプレー溶液を調製した。ホットプレート(450℃)上のFTO基板に約30cmの高さから0.3MPaでスプレーした。20cm×8列を2回繰り返して約7gスプレー後、450℃で3分間乾燥した。この操作を更に2回行うことにより合計約21gの溶液をスプレーした。その後、このFTO基板を、塩化チタン(和光純薬工業株式会社製)水溶液(50mM)に浸漬し、70℃で30分加熱した。水洗、乾燥後、500℃で20分焼成(昇温15分)することにより、緻密TiO2(cTiO2)層を形成した。
アナターゼ型TiO2ペースト(PST-18NR、日揮触媒化成株式会社製)0.404 gにエタノール(脱水、和光純薬工業株式会社製)1.41gを加え、1時間超音波分散を行い、TiO2コート液を調製した。ドライルーム内において、上記のcTiO2層上にスピンコーター(ミカサ株式会社製、MS-100)を用いてTiO2コート液をスピンコートした(5000rpm×30sec)。125℃のホットプレート上で30分間乾燥後、500℃で30分焼成(昇温時間60分)することにより、メソポーラスTiO2(mTiO2)層を形成した。
光吸収層および正孔輸送層の形成は、グローブボックス内にて行った。臭化鉛(PbBr2、ペロブスカイト前駆体用、東京化成工業株式会社製)0.114g、メチルアミン臭化水素酸塩(CH3NH3Br、東京化成工業株式会社製)0.035g、脱水N,N−ジメチルホルムアミド(脱水DMF、和光純薬工業株式会社製)1 mLを混合、室温撹拌し、0.31M臭素系ペロブスカイト(CH3NH3PbBr3)原料のDMF溶液(無色透明)を調製した。室温(25℃)、撹拌下、上記のCl元素とオレイン酸アニオンとが配位したPbS量子ドット粉末のヘキサン分散液(PbS量子ドット粉末10mg/mLヘキサン)2mLに上記調製した臭素系ペロブスカイト原料のDMF溶液1mLを添加し、10分間撹拌後、1時間静置した。上相の無色透明ヘキサン溶液を除去後、下相の臭素系ペロブスカイト原料が配位したPbS量子ドットを含む分散液(PbSとペロブスカイトの合計含有量に対するPbSの質量比は6.3%)を孔径0.45μmのPTFEフィルターでろ過した。上記のmTiO2層上にスピンコーター(ミカサ株式会社製MS-100)を用いて前記分散液をスピンコートした(5000rpm×30sec)。なお、スピン開始20秒後に貧溶媒であるトルエン(脱水、和光純薬工業株式会社製)1mLをスピン中心部に一気に滴下した。スピンコート後すぐに100℃ホットプレート上で10分間乾燥した。DMFを浸み込ませた綿棒でFTOとのコンタクト部分を拭き取った後、70℃で60分間乾燥させ、光吸収層を形成した。この光吸収層には臭素系ペロブスカイト化合物CH3NH3PbBr3、及びCl元素とオレイン酸アニオンを含むPbS量子ドットが含まれる。ペロブスカイト化合物が生成していることはX線回折パターン、吸収スペクトル及び電子顕微鏡観察により、また、量子ドットが形成していることは蛍光スペクトルから確認した。
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム(LiTFSI、和光純薬工業株式会社製)9.1 mg、[トリス(2−(1H−ピラゾール−1−イル)−4−テrt−ブチルピリジン)コバルト(III) トリス(ビス(トリフルオロメチルスルホニル(イミド))(Co(4−tButylpyridyl−2−1H−pyrazole)3.3TFSI、和光純薬工業株式会社製)8.7 mg、2,2’,7,7’−テトラキス[N,N−ジ−p−メトキシフェニルアミノ]−9,9’−スピロビフルオレン(Spiro-OMeTAD、和光純薬工業株式会社製)72.3 mg、クロロベンゼン(ナカライテスク株式会社製)1 mL、トリブチルホスフィン(TBP、シグマアルドリッチ製)28.8 μLを混合し、室温撹拌して正孔輸送剤(HTM)溶液(黒紫色透明)を調製した。使用直前に、HTM溶液を孔径0.45 μmのPTFEフィルターでろ過した。上記の光吸収層上にスピンコーター(ミカサ株式会社、MS-100)を用いてHTM溶液をスピンコートした(4000 rpm×30sec)。スピンコート後すぐに70℃ホットプレート上で30分間乾燥した。乾燥後、クロロベンゼンを浸み込ませた綿棒でFTOとのコンタクト部分を拭き取った後、DMFを浸み込ませた綿棒で基板裏面全体を拭き取り、更に70℃のホットプレート上で数分間乾燥させ、正孔輸送層を形成した。
真空蒸着装置(アルバック機工株式会社製VTR-060M/ERH)を用い、真空下(4〜5×10−3 Pa)、上記の正孔輸送層上に金を100nm蒸着(蒸着速度8〜9 Å/sec)して、金電極を形成した。
実施例1の(5)光吸収層の形成において、臭化鉛の代わりにヨウ化鉛(PbI2、ペロブスカイト前駆体用、東京化成工業株式会社製)0.143g、メチルアミン臭化水素酸塩の代わりにメチルアミンヨウ化水素酸塩(CH3NH3I、東京化成工業株式会社製)0.049gを用いた以外は、実施例1と同様にして光吸収層を形成し、セルを作製した。
実施例1の(5)光吸収層の形成において、上記のCl元素とオレイン酸アニオンを含むPbS量子ドットの代わりにCl元素を含まないPbS量子ドットを用いた以外は、実施例1と同様にして光吸収層を形成し、セルを作製した。
実施例2の(5)光吸収層の形成において、上記のCl元素とオレイン酸アニオンを含むPbS量子ドットの代わりにCl元素を含まないPbS量子ドットを用いた以外は、実施例2と同様にして光吸収層を形成し、セルを作製した。
2:透明基板
3:透明導電層
4:ブロッキング層
5:多孔質層
6:光吸収層
7:正孔輸送層
8:電極(正極)
9:電極(負極)
10:光
Claims (20)
- ペロブスカイト化合物と、結晶構造を構成する成分以外にハロゲン元素及び有機配位子を含む量子ドットと、を含有し、前記量子ドットを構成する金属元素に対する前記有機配位子のモル比が0.01以上0.4以下であり、
前記ペロブスカイト化合物は、下記一般式(1)で表される化合物から選ばれる1種以上であり、
前記量子ドットは、金属カルコゲナイドを含む、光吸収層。
RMX 3 (1)
(式中、Rはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。) - 前記量子ドットを構成する金属元素に対する前記有機配位子のモル比は、0.05以上0.3以下である請求項1に記載の光吸収層。
- 前記Xは、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、又はヨウ素アニオンである請求項1又は2に記載の光吸収層。
- 前記Mは、Pb2+、Sn2+、又はGe2+である請求項1〜3のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.5eV以上4.0eV以下である請求項1〜4のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.2eV以上前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギー以下である請求項1〜5のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記量子ドットは、金属カルコゲナイドの表面にハロゲン元素及び有機配位子が配位した化合物である請求項1〜6のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記量子ドットは、Pb元素を含む請求項1〜7のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記ペロブスカイト化合物と前記量子ドットの合計含有量に対する前記量子ドットの含有割合は、0.1質量%以上10質量%以下である請求項1〜8のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記量子ドットは、量子ドットを構成する金属元素に対するハロゲン元素の原子比が、0.1以上1以下である請求項1〜9のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記量子ドットは、前記ペロブスカイト化合物を構成する金属元素に対する有機配位子のモル比は、0.001以上0.1以下である請求項1〜10のいずれかに記載の光吸収層。
- 前記有機配位子は、カルボキシ基含有化合物又はアミノ基含有化合物である請求項1〜11のいずれかに記載の光吸収層。
- ペロブスカイト化合物又はその前駆体と、結晶構造を構成する成分以外にハロゲン元素及び有機配位子を含む量子ドットと、を含有し、前記量子ドットを構成する金属元素に対する前記有機配位子のモル比が0.01以上0.4以下であり、
前記ペロブスカイト化合物は、下記一般式(1)で表される化合物から選ばれる1種以上であり、
前記量子ドットは、金属カルコゲナイドを含む、分散液。
RMX 3 (1)
(式中、Rはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。) - 前記分散液は、溶剤を含有し、前記分散液の溶剤は、極性溶剤である請求項13に記載の分散液。
- 前記分散液中のペロブスカイト化合物又はその前駆体の金属濃度は、0.1mol/L以上1.5mol/L以下である請求項13又は14に記載の分散液。
- 前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、1mg/mL以上100mg/mL以下である請求項13〜15のいずれかに記載の分散液。
- ペロブスカイト化合物と、結晶構造を構成する成分以外にハロゲン元素及び有機配位子を含む量子ドットと、を含有する光吸収層の製造方法であって、
前記ペロブスカイト化合物は、下記一般式(1)で表される化合物から選ばれる1種以上であり、
前記量子ドットは、金属カルコゲナイドを含み、
前記光吸収層における前記量子ドットを構成する金属元素に対する前記有機配位子のモル比が0.01以上0.4以下であり、
前記ペロブスカイト化合物又はその前駆体と、前記量子ドットと、を混合する工程を含む光吸収層の製造方法。
RMX3 (1)
(式中、Rはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。) - 前記混合する工程は、ウエットプロセスの工程である請求項17に記載の光吸収層の製造方法。
- 請求項1〜12のいずれかに記載の光吸収層を有する光電変換素子。
- 請求項19に記載の光電変換素子を有する太陽電池。
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