JP6960460B2 - 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池 - Google Patents

光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池 Download PDF

Info

Publication number
JP6960460B2
JP6960460B2 JP2019542642A JP2019542642A JP6960460B2 JP 6960460 B2 JP6960460 B2 JP 6960460B2 JP 2019542642 A JP2019542642 A JP 2019542642A JP 2019542642 A JP2019542642 A JP 2019542642A JP 6960460 B2 JP6960460 B2 JP 6960460B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
light absorption
absorption layer
quantum dots
photoelectric conversion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019542642A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2019198159A1 (ja
Inventor
浩司 細川
拓也 澤田
明徳 小此木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Publication of JPWO2019198159A1 publication Critical patent/JPWO2019198159A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6960460B2 publication Critical patent/JP6960460B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2004Light-sensitive devices characterised by the electrolyte, e.g. comprising an organic electrolyte
    • H01G9/2009Solid electrolytes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/209Light trapping arrangements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/24Lead compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/66Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing germanium, tin or lead
    • C09K11/668Sulfates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/0029Processes of manufacture
    • H01G9/0036Formation of the solid electrolyte layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2059Light-sensitive devices comprising an organic dye as the active light absorbing material, e.g. adsorbed on an electrode or dissolved in solution
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/30Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
    • H10K30/35Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains comprising inorganic nanostructures, e.g. CdSe nanoparticles
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • H10K30/87Light-trapping means
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/30Coordination compounds
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/50Organic perovskites; Hybrid organic-inorganic perovskites [HOIP], e.g. CH3NH3PbI3
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2027Light-sensitive devices comprising an oxide semiconductor electrode
    • H01G9/2031Light-sensitive devices comprising an oxide semiconductor electrode comprising titanium oxide, e.g. TiO2
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/10Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
    • H10K30/15Sensitised wide-bandgap semiconductor devices, e.g. dye-sensitised TiO2
    • H10K30/151Sensitised wide-bandgap semiconductor devices, e.g. dye-sensitised TiO2 the wide bandgap semiconductor comprising titanium oxide, e.g. TiO2
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/50Photovoltaic [PV] devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

本発明は、光吸収層、該光吸収層を有する光電変換素子、及び該光電変換素子を有する太陽電池に関する。
光エネルギーを電気エネルギーに変える光電変換素子は、太陽電池、光センサー、複写機などに利用されている。特に、環境・エネルギー問題の観点から、無尽蔵のクリーンエネルギーである太陽光を利用する光電変換素子(太陽電池)が注目されている。
一般的なシリコン太陽電池は、超高純度のシリコンを利用すること、高真空下でのエピタキシャル結晶成長などの「ドライプロセス」により製造していること、などから、大きなコストダウンが期待できない。そこで、塗布プロセスなどの「ウェットプロセス」により製造される太陽電池が、低コストで得られる次世代太陽電池として期待されている。
「ウェットプロセス」により製造可能な次世代太陽電池として、量子ドット太陽電池がある。量子ドットとは、粒径が約20nm以下の無機ナノ粒子であり、量子サイズ効果の発現により、バルク体とは異なる物性を示すものである。例えば、量子ドットの粒径の減少に伴い、バンドギャップエネルギーが増大(吸収波長が短波長化)することが知られており、粒径約3nmでバンドギャップエネルギー約1.2eVの硫化鉛(PbS)量子ドットを量子ドット太陽電池に用いることが報告されている(ACS Nano 2014,8,614−622)。
また、次世代太陽電池の最有力候補として、近年の光電変換効率の急増が報告されている、ペロブスカイト太陽電池がある。このペロブスカイト太陽電池は、例えば、メチルアンモニウムなどのカチオンとヨウ化鉛(PbI)などのハロゲン化金属塩から構成されるペロブスカイト化合物(CHNHPbI)を光吸収層に用いた光電変換素子を具備する(J.Am.Chem.Soc.2009,131,6050−6051)。カチオン種、ハロゲン元素、金属元素などの組成によりペロブスカイト化合物の化学的、物理的特性が変化することが知られている。例えば、カチオン種としてメチルアンモニウムにセシウムをドープすることにより、ペロブスカイト膜の膜厚が増大し、光吸収量が増大するため、変換効率が向上することが報告されている(Nano Energy 2014,7,80−85)。
更に、ペロブスカイト化合物が光吸収しない近赤外光領域の光電変換を発現させるために、近赤外光を吸収するPbS量子ドットを複合したペロブスカイト太陽電池が報告されている(WO2018/025445)。
本発明は、光電変換効率に優れる光電変換素子及び太陽電池を形成するための光吸収層、当該光吸収層を有する光電変換素子及び太陽電池に関する。
本発明者らは、近赤外光領域の光電変換効率を向上させるために、ペロブスカイト化合物(例えば、CHNHPbI)に複合させる量子ドットの量を増大させた場合、光電変換性能の低いペロブスカイト原料(例えば、PbI)が残存し、結果として光電変換効率が低下する課題を見出した。
そして、本発明者らは、2種以上のカチオン種を含むペロブスカイト化合物を用いることにより、複合させる量子ドットの量を増大させた場合でも、ペロブスカイト原料が残存しにくくなり、優れた光電変換効率を発現する光吸収層が得られることを見出した。
すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散している光吸収層、に関する。
RMX (1)
(式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
n−13n+1 (2)
(式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
2種以上のカチオン種(例えば、CHNH とCs)を含むペロブスカイト化合物を光吸収層の形成材料として用いることにより、複合させる量子ドットの量を増大させた場合でも、ペロブスカイト原料(例えば、PbI)が残存しにくくなり、優れた光電変換効率を発現する光吸収層が得られる。その理由は定かではないが、以下のように推察される。ペロブスカイト原料であるハロゲン化金属塩(例えば、PbI)とハロゲン化カチオン(例えば、CHNHI)の混合溶液から、ペロブスカイト化合物(例えば、CHNHPbI)が結晶析出する。前記混合溶液中に量子ドットが共存すると、ハロゲン化金属塩とハロゲン化カチオンとの反応が阻害され、ペロブスカイト化合物の結晶析出が抑制されるため、ペロブスカイト原料(例えば、PbI)が残存すると推察される。本発明のように、2種以上のカチオン種(例えば、CHNH とCs)を含む2種以上のハロゲン化カチオン(例えば、CHNHIとCsI)を用いると、ハロゲン化金属塩との反応適応性が拡大するとともに、ペロブスカイト化合物の結晶構造が安定化する結果、ペロブスカイト原料(例えば、PbI)が残存しにくくなり、優れた光電変換効率を発現する光吸収層が得られると推察される。更に、ペロブスカイトと量子ドットとの界面に2種以上のカチオンが存在することにより、ペロブスカイトと量子ドットとの結晶構造のひずみ(結晶格子のミスマッチ)が起こり、ペロブスカイトから量子ドットへのキャリア移動が抑制されるため、光電変換効率が向上した可能性も考えられる。
本発明によれば、量子ドットの含有量を増大させた場合であっても、光電変換性能の低いペロブスカイト原料の含有量が少なく、光電変換効率に優れる、光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池を得ることができる。
また本発明者らは、特定の配位子を有する量子ドット固体を利用することにより、ウェットプロセスで光吸収層を製造する方法を見出した。
すなわち、本発明は、次の工程1、工程2及び工程3を含む、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散している光吸収層の製造方法、に関する。
(工程1)有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子を、ハロゲン元素含有物質へ配位子交換して、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット固体を得る工程
(工程2)工程1で得られた量子ドット固体と、下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物、及びその前駆体から選ばれる1種以上の物質を含む溶液又は混合液とを混合して分散液を得る工程
(工程3)工程2で得られた分散液から光吸収層を得る工程

RMX (1)
(式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
n−13n+1 (2)
(式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
本発明の光電変換素子の構造の一例を示す概略断面図である。
発明の詳細な説明
<光吸収層>
本発明の光吸収層は、光吸収剤として、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物、及び前記ペロブスカイト化合物のマトリックス中に分散された量子ドットを含有する。なお、本発明の光吸収層は、本発明の効果を損なわない範囲で前記以外の光吸収剤を含有していてもよい。
RMX (1)
(式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
n−13n+1 (2)
(式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
前記ペロブスカイト化合物は、耐久性の向上と光電変換効率の向上とを両立する観点から、好ましくは前記一般式(1)で表される化合物である。
前記Rは2種以上の1価のカチオンであり、例えば、周期表第一族元素の無機カチオン、及び有機カチオンが挙げられる。周期表第一族元素の無機カチオンとしては、例えば、Li、Na、K、Rb、及びCsが挙げられる。光電変換効率の向上の観点から、好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上であり、より好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはCsである。有機カチオンとしては、例えば、置換基を有していてもよいアンモニウムイオン、及び置換基を有していてもよいホスホニウムイオンが挙げられる。置換基に特段の制限はない。置換基を有していてもよいアンモニウムイオンとしては、例えば、アルキルアンモニウムイオン、ホルムアミジニウムイオン及びアリールアンモニウムイオンが挙げられ、光電変換効率の向上の観点から、好ましくはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より好ましくはモノアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオンである。
2種以上のカチオンの組み合わせとしては、無機カチオンと無機カチオン、有機カチオンと有機カチオン、又は無機カチオンと有機カチオンのいずれでも良く、特段の制限は無いが、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくは無機カチオンと有機カチオンの組み合わせ、より好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上と、アルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上の組み合わせ、更に好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上と、メチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上の組み合わせ、より更に好ましくはCsとメチルアンモニウムイオンの組み合わせである。
前記Rにおいて、最も多く含まれる1価のカチオンは特に制限されないが、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくは有機カチオンである。一方、前記Rにおいて、最少の1価のカチオンは、好ましくは無機カチオンである。1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.08以上、より更に好ましくは0.09以上であり、好ましくは0.4以下、より好ましくは0.3以下、更に好ましくは0.2以下、より更に好ましくは0.15以下である。また、1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、同様の観点から、好ましくは0.3以上、より好ましくは0.5以上、更に好ましくは0.8以上、より更に好ましくは0.85以上であり、好ましくは0.99以下、より好ましくは0.95以下、更に好ましくは0.93以下、より更に好ましくは0.91以下である。
前記R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンである。1価のカチオンとしては、例えば、周期表第一族元素の無機カチオン、及び有機カチオンが挙げられる。周期表第一族元素の無機カチオンとしては、例えば、Li、Na、K、Rb、及びCsが挙げられる。光電変換効率の向上の観点から、好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上であり、より好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはCsである。有機カチオンとしては、例えば、置換基を有していてもよいアンモニウムイオン、及び置換基を有していてもよいホスホニウムイオンが挙げられる。置換基に特段の制限はない。置換基を有していてもよいアンモニウムイオンとしては、例えば、アルキルアンモニウムイオン、ホルムアミジニウムイオン及びアリールアンモニウムイオンが挙げられ、光電変換効率の向上の観点から、好ましくはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より好ましくはモノアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン、ヘキシルアンモニウムイオン、オクチルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、テトラデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、及びオクタデシルアンモニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオンである。
前記R、R、及びRの組み合わせとしては、無機カチオンと無機カチオンと無機カチオン、無機カチオンと無機カチオンと有機カチオン、又は無機カチオンと有機カチオンと有機カチオンのいずれでも良く、特段の制限は無いが、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくは無機カチオンと無機カチオンと有機カチオン、又は無機カチオンと有機カチオンと有機カチオンの組み合わせ、より好ましくは無機カチオンと有機カチオンと有機カチオンの組み合わせである。
前記nは1以上10以下の整数であり、耐久性の向上と光電変換効率の向上とを両立する観点から、好ましくは1以上4以下である。
前記Mは2価の金属カチオンであり、例えば、Pb2+、Sn2+、Hg2+、Cd2+、Zn2+、Mn2+、Cu2+、Ni2+、Fe2+、Co2+、Pd2+、Ge2+、Y2+、及びEu2+などが挙げられる。前記Mは、耐久性(耐湿性)及び光電変換効率に優れる観点から、好ましくはPb2+、Sn2+、又はGe2+であり、より好ましくはPb2+、又はSn2+であり、更に好ましくはPb2+である。
前記Xはハロゲンアニオンであり、例えば、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、及びヨウ素アニオンが挙げられる。前記Xは、光電変換効率向上の観点から、好ましくは塩素アニオン、臭素アニオン、又はヨウ素アニオン、より好ましくは臭素アニオン、又はヨウ素アニオン、更に好ましくはヨウ素アニオンである。
前記一般式(1)で表される化合物としては、例えば、Cs0.1(CHNH0.9PbCl、Cs0.1(CHNH0.9PbBr、Cs0.1(CHNH0.9PbBrI、Cs0.1(CHNH0.9PbBrI、Cs0.1(CHNH0.9PbI、Cs0.1(CHNH0.9SnCl、Cs0.1(CHNH0.9SnBr、及びCs0.1(CHNH0.9SnIなどが挙げられる。これらのうち、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくはCs0.1(CHNH0.9PbBr、及びCs0.1(CHNH0.9PbIから選ばれる1種以上であり、より好ましくはCs0.1(CHNH0.9PbIである。
前記一般式(2)で表される化合物としては、例えば、Cs0.1(C1225NH1.9PbI、Cs0.1(C1225NH1.9(CHNH)Pb、Cs0.1(C1225NH1.9(CHNHPb10、Cs0.1(C1225NH1.9(CHNH)PbBr、及びCs0.1(C1225NH1.9(CHNHPbBr10などが挙げられる。これらのうち、光電変換効率の向上、耐久性の向上、及びコスト低減の観点から、好ましくはCs0.1(C1225NH1.9PbI、Cs0.1(C1225NH1.9(CHNH)Pb、及びCs0.1(C1225NH1.9(CHNHPb10から選ばれる1種以上であり、より好ましくはCs0.1(C1225NH1.9PbI、及びCs0.1(C1225NH1.9(CHNH)Pbから選ばれる1種以上である。
前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、光電変換効率(電圧)を向上させる観点から、好ましくは1.0eV以上、より好ましくは1.3eV以上、更に好ましくは1.5eV以上であり、光電変換効率(電流)を向上させる観点から、好ましくは3.0eV以下、より好ましくは2.0eV以下、更に好ましくは1.7eV以下である。なお、ペロブスカイト化合物及び量子ドットのバンドギャップエネルギーは、後述する実施例に記載の方法で、25℃で測定した吸収スペクトルから求めることができる。吸収スペクトルから求めたバンドギャップエネルギーに対応する波長を吸収端波長という。
光吸収層のペロブスカイト原料(ハロゲン化金属塩)の量は、粉末X線回折(XRD)解析から半定量できる。ペロブスカイト化合物の最強ピーク強度に対するハロゲン化金属塩の最強ピーク強度の比は、光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上であり、好ましくは1以下、より好ましくは0.7以下、更に好ましくは0.4以下である。
光吸収層のペロブスカイト化合物の結晶子径は、光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、更に好ましくは27nm以上であり、同様の観点から、好ましくは1000nm以下である。なお、光吸収層の100nm以下の範囲の結晶子径は、後述する実施例に記載の方法で測定することができる。また、100nmを超える範囲の結晶子径は、後述する実施例に記載の方法等で測定することはできないが、光吸収層の厚さを超えることはない。
前記ペロブスカイト化合物は、例えば、後述のようにペロブスカイト化合物の前駆体から製造することができる。ペロブスカイト化合物の前駆体としては、例えば、ペロブスカイト化合物が前記一般式(1)で表される化合物の場合、MXで表される化合物と、2種以上のRXで表される化合物との組合せが挙げられる。また、ペロブスカイト化合物が前記一般式(2)で表される化合物の場合、MXで表される化合物と、RXで表される化合物、RXで表される化合物及びRXで表される化合物から選ばれる2種以上の化合物との組合せが挙げられる。
光吸収層のペロブスカイト化合物は、例えば、元素分析、赤外(IR)スペクトル、ラマンスペクトル、核磁気共鳴(NMR)スペクトル、X線回折(XRD)パターン、吸収スペクトル、発光スペクトル、電子顕微鏡観察、及び電子線回折などの常法により同定することができる。
量子ドットとは、粒径が約20nm以下の、結晶構造を有する無機ナノ粒子であり、量子サイズ効果の発現により、バルク体とは異なる物性を示すものである。前記量子ドットは公知のものを特に制限なく用いることができるが、前記ペロブスカイト化合物が有しないバンドギャップエネルギーを補完して、近赤外光領域の光電変換効率を向上させる観点から、0.2eV以上前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギー未満のバンドギャップエネルギーを有するものを用いることが好ましい。量子ドットは、1種単独で用いてもよく、バンドギャップエネルギーが異なる2種以上を併用してもよい。なお、バンドギャップエネルギーの異なる2種以上のペロブスカイト化合物を用いる場合、量子ドットのバンドギャップエネルギーの前記上限である「ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギー未満のバンドギャップエネルギー」とは、2種以上のペロブスカイト化合物の有するバンドギャップエネルギーの最大値未満のバンドギャップエネルギーのことである。以下、特に断らない限り、量子ドットの好ましい態様は、光吸収層とその原料とに共通の好ましい態様である。
前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、光電変換効率(電圧)を向上させる観点から、好ましくは0.8eV以上、より好ましくは0.9eV以上、更に好ましくは1.0eV以上であり、光電変換効率(電流)を向上させる観点から、好ましくは1.6eV以下、より好ましくは1.5eV以下、更に好ましくは1.4eV以下、より更に好ましくは1.3eV以下である。
前記量子ドットについては、例えば、電子顕微鏡観察、電子線回折、及びX線回折(XRD)パターンなどにより量子ドットの粒径及び種類が決まれば、粒径とバンドギャップエネルギーとの相関(例えば、ACS Nano,2014,8,6363−6371)から、バンドギャップエネルギーを算出することもできる。
前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.3eV以上、更に好ましくは0.4eV以上、より更に好ましくは0.5eV以上であり、好ましくは2.0eV以下、より好ましくは1.5eV以下、更に好ましくは1.0eV以下、より更に好ましくは0.8eV以下、より更に好ましくは0.7eV以下である。
前記量子ドットの粒径は特に制限されないが、量子効果を発現させる観点、並びに分散性、構造安定性及び光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上、更に好ましくは3nm以上であり、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、更に好ましくは5nm以下である。前記量子ドットの粒径は、XRD(X線回折)の結晶子径解析や透過型電子顕微鏡観察などの常法によって測定することができる。
前記バンドギャップエネルギーを有する量子ドットとしては、例えば、金属酸化物、金属カルコゲナイド(例えば、硫化物、セレン化物、及びテルル化物など)が挙げられ、具体的には、PbS、PbSe、PbTe、CdS、CdSe、CdTe、Sb23、Bi23、Ag2S、Ag2Se、Ag2Te、Au2S、Au2Se、Au2Te、Cu2S、Cu2Se、Cu2Te、Fe2S、Fe2Se、Fe2Te、In23、SnS、SnSe、SnTe、CuInS2、CuInSe2、CuInTe2、EuS、EuSe、及びEuTeなどが挙げられる。前記量子ドットは、耐久性(耐酸化性)及び光電変換効率に優れる観点から、好ましくはPb元素を含み、より好ましくはPbS又はPbSeを含み、更に好ましくはPbSを含む。
前記量子ドットは、光吸収層及び分散液中における分散性、製造容易性、コスト、優れた性能発現などの観点から、好ましくはハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット、又は有機化合物とハロゲン元素含有物質とを配位子として含む量子ドットを含んでも良い。
前記配位子である有機化合物(以下、有機配位子ともよぶ)としては、例えば、カルボキシ基含有化合物、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、及びホスフィノ基含有化合物などが挙げられる。
カルボキシ基含有化合物としては、例えば、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、及びカプリン酸などが挙げられる。
アミノ基含有化合物としては、例えば、オレイルアミン、ステアリルアミン、パルミチルアミン、ミリスチルアミン、ラウリルアミン、カプリルアミン、オクチルアミン、ヘキシルアミン、及びブチルアミンなどが挙げられる。
チオール基含有化合物としては、例えば、エタンチオール、エタンジチオール、ベンゼンチオール、ベンゼンジチオール、デカンチオール、デカンジチオール、及びメルカプトプロピオン酸などが挙げられる。
ホスフィノ基含有化合物としては、例えば、トリオクチルホスフィン、及びトリブチルホスフィンなどが挙げられる。
前記有機配位子は、量子ドットの製造容易性、分散安定性、汎用性、コスト、優れた性能発現などの観点から、好ましくはカルボキシ基含有化合物又はアミノ基含有化合物、より好ましくはカルボキシ基含有化合物、更に好ましくは炭素数8以上の脂肪酸、より更に好ましくは炭素数12以上の脂肪酸、より更に好ましくはオレイン酸である。
量子ドットに有機配位子が含まれる場合、量子ドットを構成する金属元素に対する有機配位子のモル比は、光吸収層中や分散液中の量子ドットの分散性を向上させ、優れた性能を発現させる観点から、好ましくは0.001以上、より好ましくは0.005以上、更に好ましくは0.01以上であり、好ましくは0.6以下、より好ましくは0.1以下、更に好ましくは0.05以下である。
前記配位子であるハロゲン元素含有物質のハロゲン元素は特に制限されず、例えば、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素が挙げられる。前記ハロゲン元素は、量子ドットの製造容易性、分散安定性、汎用性、コスト、優れた性能発現などの観点から、好ましくはヨウ素又は臭素であり、より好ましくはヨウ素である。
前記配位子であるハロゲン元素含有物質としては、例えば、ヨウ素、ヨウ化アンモニウム、ヨウ化メチルアンモニウムなどが挙げられ、量子ドットの製造容易性、分散安定性、汎用性、コスト、優れた性能発現などの観点から、好ましくはヨウ素である。
前記量子ドットを構成する金属元素に対するハロゲン元素の原子比は特に制限されないが、光吸収層中や分散液中の量子ドットの分散性を向上させる観点、及びペロブスカイト化合物から量子ドットへのキャリア移動を抑制する観点から、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上、更に好ましくは0.3以上であり、好ましくは1以下、より好ましくは0.8以下、更に好ましくは0.7以下である。
光吸収層の量子ドットは、例えば、元素分析、赤外(IR)スペクトル、ラマンスペクトル、核磁気共鳴(NMR)スペクトル、X線回折(XRD)パターン、吸収スペクトル、発光スペクトル、小角X線散乱、電子顕微鏡観察、及び電子線回折などの常法により同定することができる。
前記ペロブスカイト化合物と前記量子ドットの好ましい組み合わせとしては、量子ドットの均一分散性、耐久性、及び光電変換効率の観点から、好ましくは同じ金属元素を含む化合物の組み合わせであり、例えば、Cs0.1(CHNH0.9PbBrとPbS、Cs0.1(CHNH0.9PbIとPbS、Cs0.1(CHNH0.9PbBrとPbSe、Cs0.1(CHNH0.9PbIとPbSeなどが挙げられ、好ましくはCs0.1(CHNH0.9PbIとPbSの組み合わせである。
本発明の光吸収層は、中間バンドを有することが好ましい。中間バンドとは、ペロブスカイト化合物のバンドギャップ内に量子ドット間の相互作用により形成されるエネルギー準位であり、量子ドットの伝導帯下端近傍及び/又は価電子帯上端近傍のエネルギー位置に存在する。中間バンドは、例えば、ペロブスカイト化合物のマトリックス中に量子ドットを高密度に規則配列することにより形成される。ペロブスカイト化合物のバンドギャップ内に中間バンドが存在すると、例えば、ペロブスカイト化合物の価電子帯から中間バンドへ光励起した電子が、更に中間バンドからペロブスカイト化合物の伝導帯へ光励起するといった2段階光吸収が起こる。従って、中間バンドの存在は、2段階光吸収の量子効率、すなわち、実施例に記載の外部量子効率差(ΔEQE)を測定することにより確認することができる。
前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、量子ドット間距離を小さくして量子ドット間で相互作用させることにより光吸収層中に中間バンドを形成し、2段階光吸収の量子効率を向上させる観点から、好ましくは7.5質量%以上、より好ましくは10質量%以上、更に好ましくは15質量%以上、より更に好ましくは17質量%以上であり、成膜性と、ペロブスカイト化合物から量子ドットへのキャリア移動を抑制し光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは25質量%以下である。
前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、量子ドット間で相互作用させることにより光吸収層中に中間バンドを形成し、2段階光吸収の量子効率を向上させて光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは10nm以下、より好ましくは6nm以下、更に好ましくは4.5nm以下である。
前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、量子ドット間で相互作用させることにより光吸収層中に中間バンドを形成し、2段階光吸収の量子効率を向上させて光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは1×1010個/cm以上、より好ましくは1×1011個/cm以上、更に好ましくは1×1012個/cm以上、より更に好ましくは2.2×1012個/cm以上であり、成膜性と、ペロブスカイト化合物から量子ドットへのキャリア移動を抑制し光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは1×1014個/cm以下、より好ましくは1×1013個/cm以下、更に好ましくは5×1012個/cm以下である。
本発明において、光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、ペロブスカイト化合物の価電子帯から伝導帯へ光励起した電子が、中間バンドへ移動後、中間バンドからペロブスカイト化合物の伝導帯へ2段階光吸収した量子効率に相当すると推察される。光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.5%以上、更に好ましくは1%以上である。
本発明において、光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、ペロブスカイト化合物の価電子帯から中間バンドへ光励起した電子が、更にペロブスカイト化合物の伝導帯へ2段階光吸収した量子効率に相当すると推察される。光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.03%以上、更に好ましくは0.05%以上である。
本発明において、光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、量子ドットの価電子帯から中間バンドへ光励起した電子が、更にペロブスカイト化合物の伝導帯へ2段階光吸収した量子効率に相当すると推察される。光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.005%以上、より好ましくは0.01%以上、更に好ましくは0.02%以上である。
ペロブスカイト化合物の価電子帯と中間バンドとの間のエネルギー差は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは1.0eV以上、より好ましくは1.2eV以上、更に好ましくは1.3eV以上であり、好ましくは2.0eV以下、より好ましくは1.6eV以下、更に好ましくは1.4eV以下である。
また、中間バンドとペロブスカイト化合物の伝導帯との間のエネルギー差は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.1eV以上、より好ましくは0.2eV以上、更に好ましくは0.3eV以上であり、好ましくは1.5eV以下、より好ましくは0.8eV以下、更に好ましくは0.6eV以下である。
本発明において、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、ペロブスカイト化合物の光吸収に由来する。光吸収層の500nmにおけるEQEは、光電変換効率向上の観点から、好ましくは10%以上、より好ましくは30%以上、更に好ましくは40%以上である。
本発明において、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、量子ドットを含まないペロブスカイト化合物単独に比べて低い場合がある。その場合、ペロブスカイト化合物のバンドギャップ内に量子ドットの価電子帯上端と伝導帯下端のエネルギー準位が存在していることから、ペロブスカイト化合物の光吸収により生成したキャリア(電子、正孔)が、量子ドットへキャリア移動することにより、500nmのEQEが低下すると推察される。ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する本発明の光吸収層のEQE比は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.3以上、更に好ましくは0.55以上である。
本発明において、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、量子ドットの光吸収に由来する。光吸収層の900nmにおけるEQEは、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.1%以上、より好ましくは1%以上、更に好ましくは1.5%以上である。
光吸収層の厚さは特に制限されないが、光吸収を大きくして光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは30nm以上、より好ましくは50nm以上、更に好ましくは80nm以上であり、正孔輸送剤層や電子輸送剤層へのキャリア移動効率を向上させて光電変換効率を向上させる観点から、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは600nm以下、より更に好ましくは500nm以下である。なお、光吸収層の厚さは、膜断面の電子顕微鏡観察などの測定方法で測定できる。
光吸収層の表面平滑性は、正孔輸送剤(HTM)層の強度を向上させる観点から、好ましくは100nm以上、より好ましくは200nm以上、更に好ましくは300nm以上、より更に好ましくは400nm以上であり、光電変換効率向上の観点から、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは700nm以下である。
光吸収層の多孔質層に対する被覆率は、光電変換効率(電流)を向上させる観点から、好ましくは10%以上、より好ましくは20%以上、更に好ましくは30%以上、より更に好ましくは40%以上、より更に好ましくは50%以上であり、100%以下である。
光吸収層における量子ドット(QD)のペロブスカイト化合物(P)に対する吸光度比(QD/P)は、光電変換効率(電圧)を向上させる観点から、好ましくは0.3以下、より好ましくは0.2以下、更に好ましくは0.1以下、より更に好ましくは0である。なお、光吸収層における吸光度比(QD/P)は、下記実施例の記載の方法で測定した光吸収層の吸収スペクトルから、少なくとも1種の量子ドットの吸光度の最大値の少なくとも1種のペロブスカイト化合物の吸光度に対する比率である。ここで、少なくとも1種の量子ドットの吸光度と少なくとも1種のペロブスカイト化合物の吸光度は、それぞれ、それらを単独で測定した場合の吸収ピーク位置における吸光度として得られる。
光吸収層における発光ピークエネルギーは、光電変換効率(電圧)を向上させる観点から、量子ドットのバンドギャップエネルギー以上且つペロブスカイトのバンドギャップエネルギー未満の光で光吸収層を励起した時、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.4eV以上、更に好ましくは0.6eV以上、より更に好ましくは0.8eV以上であり、光電変換効率(電流)を向上させる観点から、好ましくは1.4eV以下、より好ましくは1.3eV以下、更に好ましくは1.2eV以下、より更に好ましくは1.1eV以下である。
光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.4eV、更に好ましくは0.5eV以上であり、好ましくは1.5eV以下、より好ましくは1.0eV以下、更に好ましくは0.7eV以下である。
光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、光電変換効率向上の観点から、好ましくは1.0eV以下、より好ましくは0.5eV以下、更に好ましくは0.3eV以下、より更に好ましくは0eVである。
<光吸収層の製造方法>
光吸収層の製造方法は特に制限されず、例えば、前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と、前記量子ドットとを含む分散液を基板上に塗布し、乾燥する、いわゆるウェットプロセスによる方法が好適に挙げられる。製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率の向上などの観点から、次の工程1、工程2及び工程3を含む製造方法が好ましい。
(工程1)有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子を、ハロゲン元素含有物質へ配位子交換して、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット固体を得る工程
(工程2)工程1で得られた量子ドット固体と、前記一般式(1)で表される化合物、前記一般式(2)で表される化合物、及びその前駆体から選ばれる1種以上の物質を含む溶液又は混合液とを混合して分散液を得る工程
(工程3)工程2で得られた分散液から光吸収層を得る工程
有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子を、ハロゲン元素含有物質へ配位子交換して、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット固体を得る工程(工程1)は、ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と量子ドットとを含む分散液の分散性を向上させる観点や光吸収層中のキャリア移動速度を向上させて光電変換効率を向上させる観点から好ましい。
一般に、量子ドットの粒径制御、凝集抑制、分散性向上などのために、オレイン酸などの比較的分子サイズが大きく疎水的な有機化合物を配位子として用いて量子ドットが合成される場合がある。この場合、量子ドットは、トルエンなどの非(低)極性有機溶媒に対しては優れた分散性を示すが、N,N−ジメチルホルムアミド、メタノールなどの極性有機溶媒に対して分散性は悪い。従って、ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体を分散又は溶解させる溶媒が極性有機溶媒である場合、量子ドットを極性有機溶媒に分散させる必要が有り、極性有機溶媒と相溶性の高い物質を量子ドットに配位させることが好ましい。また、オレイン酸などの比較的分子サイズが大きく疎水的な有機化合物は、導電性が低く光吸収層中のキャリアの拡散を阻害する。従って、光吸収層中のキャリア移動速度を向上させ光電変換効率を向上させる観点から、比較的分子サイズの小さい物質を量子ドットに配位させることが好ましい。以上の観点から、量子ドットの配位子としては、好ましくはヨウ素、ヨウ化アンモニウム、ヨウ化メチルアンモニウム、臭素、臭化アンモニウム、及び臭化メチルアンモニウムなどから選択される1種以上のハロゲン元素含有物質が挙げられ、より好ましくはヨウ素又は臭素であり、更に好ましくはヨウ素である。
有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子をハロゲン元素含有物質へ配位子交換する方法としては、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、分散液中で配位子交換する方法が好ましく、有機配位子を含む量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質の原料溶液とを室温(25℃)、無撹拌下、時間をかけて混合後、静置することにより、配位子交換する方法がより好ましい。
配位子交換に使用するハロゲン元素含有物質の原料としては、ヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)、ヨウ化アンモニウム、ヨウ素、臭化メチルアンモニウム(メチルアミン臭化水素酸塩)、臭化アンモニウム、及び臭素などが好適に挙げられるが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)、ヨウ化アンモニウム、臭化メチルアンモニウム(メチルアミン臭化水素酸塩)、及び臭化アンモニウムから選択される1種以上、より好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)、及び臭化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)から選択される1種以上、更に好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)である。
配位子交換に使用するハロゲン元素含有物質原料の混合量は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、量子ドット表面の有機化合物に対するハロゲン元素のモル比として、好ましくは0.1以上、より好ましくは1以上、更に好ましくは1.5以上、好ましくは10以下、より好ましくは8以下、更に好ましくは5以下である。
配位子交換に使用する溶媒としては、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは量子ドットを良好に分散させる溶媒とハロゲン元素含有物質原料を溶解させる溶媒との混合溶媒である。量子ドットの分散溶媒は、好ましくはトルエン、ヘキサン、及びオクタンなどから選択される1種以上の非(低)極性有機溶媒、より好ましくはトルエンである。ハロゲン元素含有物質原料の溶解溶媒は、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、及びγ−ブチロラクトンなどから選択される1種以上の非プロトン性極性有機溶媒、より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。
配位子交換時に混合する量子ドット分散液中の量子ドット固形分濃度は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは10mg/mL以上、より好ましくは50mg/mL以上、更に好ましくは80mg/mL以上、好ましくは1000mg/mL以下、より好ましくは500mg/mL以下、更に好ましくは200mg/mL以下である。
配位子交換時に混合するハロゲン元素含有物質原料溶液中のハロゲン元素含有物質原料濃度は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは0.01mol/L以上、より好ましくは0.1mol/L以上、更に好ましくは0.2mol/L以上、好ましくは1mol/L以下、より好ましくは0.5mol/L以下、更に好ましくは0.3mol/L以下である。
配位子交換時の量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合方法は、無撹拌下で、時間を掛けて混合する方法であれば特に限定されるものではないが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは連続法又は滴下法(半連続法)、より好ましくは滴下法である。
連続法としては、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を混合する方法でも、ハロゲン元素含有物質原料溶液に量子ドット分散液を混合する方法でも良いが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を混合する方法が好ましい。混合速度は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは25μl/秒以下、より好ましくは5μl/秒以下、更に好ましくは3μl/秒以下、好ましくは0.2μl/秒以上、より好ましくは0.4μl/秒以上、更に好ましくは1.5μl/秒以上である。
滴下法としては、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を滴下する方法でも、ハロゲン元素含有物質原料溶液に量子ドット分散液を滴下する方法でも良いが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を滴下する方法が好ましい。滴下速度は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは1滴/1秒以下、より好ましくは1滴/5秒以下、更に好ましくは1滴/8秒以下、好ましくは1滴/100秒以上、より好ましくは1滴/50秒以上、更に好ましくは1滴/15秒以上である。
量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液とを混合後、静置する時間は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、好ましくは0.1時間以上、より好ましくは1時間以上、更に好ましくは10時間以上、好ましくは100時間以下、より好ましくは48時間以下、更に好ましくは24時間以下である。
配位子交換後、有機化合物とハロゲン元素含有物質とを配位子とする量子ドット固体を得る方法としては、量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合分散液に洗浄溶媒を添加し、ろ過して、量子ドット表面に配位していた有機化合物や過剰のハロゲン元素含有物質原料、溶媒を除去する工程を経て、量子ドット固体を得る方法が好ましい。洗浄溶媒は、配位子交換前後のいずれの量子ドットも分散しにくく、且つ、有機化合物、ハロゲン元素含有物質が可溶な有機溶媒が好ましく、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、より好ましくはアルコール溶媒、更に好ましくはメタノールである。洗浄溶媒の量は、量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合分散液の量に対する洗浄溶媒の体積比として、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.5以上、更に好ましくは1以上、好ましくは10以下、より好ましくは5以下、更に好ましくは2以下である。製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、ろ過時のフィルター孔径は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下である。フィルター材質は、好ましくは疎水性のもの、より好ましくはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である。
工程1で得られた量子ドット固体と、前記一般式(1)で表される化合物、前記一般式(2)で表される化合物、及びその前駆体から選ばれる1種以上の物質を含む溶液又は混合液とを混合する工程(工程2)を経て、前記ペロブスカイト化合物およびその前駆体から選ばれる1種以上と量子ドットとを含む分散液を得ることが好ましい。
前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と、前記量子ドットとを含む分散液は、成膜性、コスト、保存安定性、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは溶剤を含有する。溶剤としては、例えば、エステル類(メチルホルメート、エチルホルメートなど)、ケトン類(γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトンなど)、エーテル類(ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジメトキシメタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、アルコール類(メタノール、エタノール、2−プロパノール、tert−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールなど)、グリコールエーテル(セロソルブ)類、アミド系溶剤(N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなど)、ニトリル系溶剤(アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリルなど)、カーボネート系(エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなど)、ハロゲン化炭化水素(塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルムなど)、炭化水素、及びジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
前記分散液の溶剤は、成膜性、コスト、保存安定性、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは極性溶剤、より好ましくはケトン類、アミド系溶剤、及びジメチルスルホキシドから選ばれる少なくとも1種の溶剤、更に好ましくはアミド系溶剤、より更に好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。
前記分散液中の前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体の金属濃度は、成膜性、コスト、保存安定性、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは0.1mol/L以上、より好ましくは0.2mol/L以上、更に好ましくは0.3mol/L以上であり、好ましくは1.5mol/L以下、より好ましくは1.0mol/L以下、更に好ましくは0.5mol/L以下である。
前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、成膜性、コスト、保存安定性、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは1mg/mL以上、より好ましくは10mg/mL以上、更に好ましくは50mg/mL以上であり、好ましくは100mg/mL以下、より好ましくは80mg/mL以下、更に好ましくは60mg/mL以下である。
前記分散液の調製方法は特に限定されないが、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、混合温度は、好ましくは0℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上であり、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下である。また、同様の観点から、混合時間は、好ましくは0時間超、より好ましくは0.1時間以上であり、好ましくは72時間以下、より好ましくは24時間以下、更に好ましくは1時間以下である。
前記分散液は、粗大粒子を除去するためにろ過されたものであることが好ましく、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、ろ過時のフィルター孔径は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下である。フィルター材質は、好ましくは疎水性のもの、より好ましくはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である。
工程2で得られた分散液から光吸収層を得る工程(工程3)は、工程2で得られた分散液を基板上に塗布(コーティング)するなどのウェットプロセスが好ましく、例えば、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、及びダイコート法などが挙げられ、製造容易性、コスト、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくはスピンコーティング法である。スピンコーティング法の最大回転数は、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは500rpm以上、より好ましくは1000rpm以上、更に好ましくは2000rpm以上であり、好ましくは6000rpm以下、より好ましくは5000rpm以下、更に好ましくは4000rpm以下である。また、製造容易性、コスト、光電変換特性向上などの観点から、スピンコート中に貧溶媒を滴下してペロブスカイト化合物の結晶析出速度を向上させる方法が好ましく、前記貧溶媒としてトルエン又はクロロベンゼンが好ましい。
前記ウェットプロセスにおける乾燥方法としては、製造容易性、コスト、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現などの観点から、例えば、熱乾燥、気流乾燥、真空乾燥などが挙げられ、好ましくは熱乾燥である。熱乾燥の温度は、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは60℃以上、より好ましくは80℃以上、更に好ましくは100℃以上であり、同様の観点及びコストの観点から、好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、更に好ましくは120℃以下である。熱乾燥の時間は、優れた性能(例えば、光電変換特性)発現の観点から、好ましくは1分以上、より好ましくは5分以上、更に好ましくは10分以上であり、同様の観点及びコストの観点から、好ましくは120分以下、より好ましくは60分以下、更に好ましくは30分以下である。
<光電変換素子>
本発明の光電変換素子は、前記光吸収層を有するものである。本発明の光電変換素子において、前記光吸収層以外の構成は特に制限されず、公知の光電変換素子の構成を適用することができる。また、本発明の光電変換素子は、前記光吸収層以外は公知の方法で製造することができる。
以下、本発明の光電変換素子の構成と製造方法を図1に基づいて説明するが、図1は一例にすぎず、図1に示す態様に限定されるものではない。
図1は、本発明の光電変換素子の構造の一例を示す概略断面図である。光電変換素子1は、透明基板2、透明導電層3、ブロッキング層4、多孔質層5、光吸収層6、及び正孔輸送層7が順次積層された構造を有する。光10入射側の透明電極基板は、透明基板2と透明導電層3から構成されており、透明導電層3は外部回路と電気的につなげるための端子となる電極(負極)9に接合している。また、正孔輸送層7は外部回路と電気的につなげるための端子となる電極(正極)8に接合している。
透明基板2の材料としては、強度、耐久性、光透過性があればよく、合成樹脂及びガラスなどを使用できる。合成樹脂としては、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムなどの熱可塑性樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリイミド、及びフッ素樹脂などが挙げられる。強度、耐久性、コストなどの観点から、ガラス基板を用いることが好ましい。
透明導電層3の材料としては、例えば、スズ添加酸化インジウム(ITO)、フッ素添加酸化スズ(FTO)、酸化スズ(SnO2)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)、及び高い導電性を有する高分子材料などが挙げられる。高分子材料としては、例えば、ポリアセチレン系、ポリピロール系、ポリチオフェン系、ポリフェニレンビニレン系の高分子材料が挙げられる。また、透明導電層3の材料として、高い導電性を有する炭素系薄膜を用いることもできる。透明導電層3の形成方法としては、スパッタ法、蒸着法、及び分散物を塗布する方法などが挙げられる。
ブロッキング層4の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミ、酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化タングステン、酸化錫、及び酸化亜鉛などが挙げられる。ブロッキング層4の形成方法としては、上記材料を透明導電層3に直接スパッタする方法、及びスプレーパイロリシス法などが挙げられる。また、上記材料を溶媒に溶解した溶液、又は金属酸化物の前駆体である金属水酸化物を溶解した溶液を透明導電層3上に塗布し、乾燥し、必要に応じて焼成する方法が挙げられる。塗布方法としては、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、及びダイコート法などが挙げられる。
多孔質層5は、その表面に光吸収層6を担持する機能を有する層である。太陽電池において光吸収効率を高めるためには、光を受ける部分の表面積を大きくすることが好ましい。多孔質層5を設けることにより、光を受ける部分の表面積を大きくすることができる。
多孔質層5の材料としては、例えば、金属酸化物、金属カルコゲナイド(例えば、硫化物、及びセレン化物など)、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物(ただし、前記光吸収剤を除く)、ケイ素酸化物(例えば、二酸化ケイ素及びゼオライト)、及びカーボンナノチューブ(カーボンナノワイヤ及びカーボンナノロッドなどを含む)などが挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、チタン、スズ、亜鉛、タングステン、ジルコニウム、ハフニウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イットリウム、ランタン、バナジウム、ニオブ、アルミニウム、及びタンタルの酸化物などが挙げられ、金属カルコゲナイドとしては、例えば、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、硫化カドミウム、及びセレン化カドミウムなどが挙げられる。
ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物としては、例えば、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、ジルコン酸バリウム、スズ酸バリウム、ジルコン酸鉛、ジルコン酸ストロンチウム、タンタル酸ストロンチウム、ニオブ酸カリウム、鉄酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムバリウム、チタン酸バリウムランタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ナトリウム、及びチタン酸ビスマスなどが挙げられる。
多孔質層5の形成材料は、好ましくは微粒子として用いられ、より好ましくは微粒子を含有する分散物として用いられる。多孔質層5の形成方法としては、例えば、湿式法、乾式法、その他の方法(例えば、Chemical Review,第110巻,6595頁(2010年刊)に記載の方法)が挙げられる。これらの方法において、ブロッキング層4の表面に分散物(ペースト)を塗布した後に、焼成することが好ましい。焼成により、微粒子同士を密着させることができる。塗布方法としては、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、及びダイコート法などが挙げられる。
光吸収層6は前述の本発明の光吸収層である。光吸収層6の形成方法は特に制限されず、例えば、前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と、前記量子ドットとを含む分散液を調製し、多孔質層5の表面に調製した分散液を塗布し、乾燥する、いわゆるウェットプロセスによる方法が好適に挙げられる。光吸収層6の形成方法は、製造容易性、コスト、分散液の保存安定性、光電変換効率向上などの観点から、前述の工程1、工程2及び工程3を含む製造方法が好ましい。
正孔輸送層7の材料としては、例えば、カルバゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体、及びポリパラフェニレンビニレン誘導体などが挙げられる。正孔輸送層7の形成方法としては、例えば、塗布法、及び真空蒸着法などが挙げられる。塗布方法としては、例えば、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、及びダイコート法などが挙げられる。
電極(正極)8及び電極(負極)9の材料としては、例えば、アルミニウム、金、銀、白金などの金属;スズ添加酸化インジウム(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)などの導電性金属酸化物;導電性高分子などの有機系導電材料;ナノチューブなどの炭素系材料が挙げられる。電極(正極)8及び電極(負極)9の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、及び塗布法などが挙げられる。
<太陽電池>
本発明の太陽電池は、前記光電変換素子を有するものである。本発明の太陽電池において、前記光吸収層以外の構成は特に制限されず、公知の太陽電池の構成を適用することができる。本発明の太陽電池は、中間バンド型太陽電池であってもよい。
以下に、本発明及び本発明の好ましい実施態様を示す。
<1>
下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散している光吸収層。
RMX (1)
(式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
n−13n+1 (2)
(式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
<2>
前記ペロブスカイト化合物は、好ましくは前記一般式(1)で表される化合物である、<1>に記載の光吸収層。
<3>
前記Rは、周期表第一族元素の無機カチオン、及び有機カチオンであり、前記周期表第一族元素の無機カチオンは、好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上であり、より好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはCsであり、前記有機カチオンは、好ましくは置換基を有していてもよいアンモニウムイオン、及び置換基を有していてもよいホスホニウムイオンから選ばれる1種以上であり、前記置換基を有していてもよいアンモニウムイオンは、好ましくはアルキルアンモニウムイオン、ホルムアミジニウムイオン及びアリールアンモニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より好ましくはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはモノアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオンである、<1>又は<2>に記載の光吸収層。
<4>
前記Rは、好ましくは無機カチオンと有機カチオンの組み合わせ、より好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上と、アルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上の組み合わせ、更に好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上と、メチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上の組み合わせ、より更に好ましくはCsとメチルアンモニウムイオンの組み合わせである、<1>又は<2>に記載の光吸収層。
<5>
前記Rにおいて、最も多く含まれる1価のカチオンは有機カチオンであり、最少の1価のカチオンは無機カチオンである、<1>〜<4>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<6>
1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.08以上、より更に好ましくは0.09以上であり、好ましくは0.4以下、より好ましくは0.3以下、更に好ましくは0.2以下、より更に好ましくは0.15以下であり、
1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、好ましくは0.3以上、より好ましくは0.5以上、更に好ましくは0.8以上、より更に好ましくは0.85以上であり、好ましくは0.99以下、より好ましくは0.95以下、更に好ましくは0.93以下、より更に好ましくは0.91以下である、<5>に記載の光吸収層。
<7>
好ましくは、1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、0.01以上0.4以下であり、1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、0.3以上0.99以下であり、
より好ましくは、1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、0.05以上0.3以下であり、1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、0.5以上0.95以下であり、
更に好ましくは、1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、0.08以上0.2以下であり、1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、0.8以上0.93以下であり、
より更に好ましくは、1価のカチオン全体に対する最少の1価のカチオンのモル比は、0.09以上0.15以下であり、1価のカチオン全体に対する最も多く含まれる1価のカチオンのモル比は、0.85以上0.91以下である、<5>に記載の光吸収層。
<8>
前記R、R、及びRは、周期表第一族元素の無機カチオン、及び有機カチオンであり、前記周期表第一族元素の無機カチオンは、好ましくはK、Rb、及びCsから選ばれる1種以上であり、より好ましくはRb、及びCsから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはCsであり、前記有機カチオンは、好ましくは置換基を有していてもよいアンモニウムイオン、及び置換基を有していてもよいホスホニウムイオンから選ばれる1種以上であり、前記置換基を有していてもよいアンモニウムイオンは、好ましくはアルキルアンモニウムイオン、ホルムアミジニウムイオン及びアリールアンモニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より好ましくはアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、更に好ましくはモノアルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、ブチルアンモニウムイオン、ヘキシルアンモニウムイオン、オクチルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、テトラデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、及びオクタデシルアンモニウムイオンから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくはメチルアンモニウムイオンである、<1>〜<7>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<9>
前記R、R、及びRは、好ましくは無機カチオンと無機カチオンと有機カチオン、又は無機カチオンと有機カチオンと有機カチオンの組み合わせ、より好ましくは無機カチオンと有機カチオンと有機カチオンの組み合わせである、<1>〜<8>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<10>
前記Rは、アルキルアンモニウムイオン又はホルムアミジニウムイオンであり、前記Rは、K、Rb、又はCsである、<1>〜<9>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<11>
前記nは、好ましくは1以上4以下である、<1>〜<10>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<12>
前記Mは、好ましくはPb2+、Sn2+、又はGe2+であり、より好ましくはPb2+、又はSn2+であり、更に好ましくはPb2+である、<1>〜<11>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<13>
前記Xは、好ましくは塩素アニオン、臭素アニオン、又はヨウ素アニオン、より好ましくは臭素アニオン、又はヨウ素アニオン、更に好ましくはヨウ素アニオンである、<1>〜<12>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<14>
前記一般式(1)で表される化合物は、好ましくはCs0.1(CHNH0.9PbBr、及びCs0.1(CHNH0.9PbIから選ばれる1種以上であり、より好ましくはCs0.1(CHNH0.9PbIである、<1>〜<13>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<15>
前記一般式(2)で表される化合物は、好ましくはCs0.1(C1225NH1.9PbI、Cs0.1(C1225NH1.9(CHNH)Pb、及びCs0.1(C1225NH1.9(CHNHPb10から選ばれる1種以上であり、より好ましくはCs0.1(C1225NH1.9PbI、及びCs0.1(C1225NH1.9(CHNH)Pbから選ばれる1種以上である、<1>〜<14>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<16>
前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、好ましくは1.0eV以上、より好ましくは1.3eV以上、更に好ましくは1.5eV以上であり、好ましくは3.0eV以下、より好ましくは2.0eV以下、更に好ましくは1.7eV以下である、<1>〜<15>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<17>
ペロブスカイト化合物の最強ピーク強度に対するハロゲン化金属塩の最強ピーク強度の比は、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上であり、好ましくは1以下、より好ましくは0.7以下、更に好ましくは0.4以下である、<1>〜<16>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<18>
好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上3.0eV以下であり、ペロブスカイト化合物の最強ピーク強度に対するハロゲン化金属塩の最強ピーク強度の比は、0.01以上1以下であり、
より好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.3eV以上2.0eV以下であり、ペロブスカイト化合物の最強ピーク強度に対するハロゲン化金属塩の最強ピーク強度の比は、0.05以上0.7以下であり、
更に好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.5eV以上1.7eV以下であり、ペロブスカイト化合物の最強ピーク強度に対するハロゲン化金属塩の最強ピーク強度の比は、0.1以上0.4以下である、<1>〜<15>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<19>
光吸収層のペロブスカイト化合物の結晶子径は、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、更に好ましくは27nm以上であり、好ましくは1000nm以下である、<1>〜<18>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<20>
前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.2eV以上前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギー未満である、<1>〜<19>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<21>
前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、好ましくは0.8eV以上、より好ましくは0.9eV以上、更に好ましくは1.0eV以上であり、好ましくは1.6eV以下、より好ましくは1.5eV以下、更に好ましくは1.4eV以下、より更に好ましくは1.3eV以下である、<1>〜<20>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<22>
好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上3.0eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.8eV以上1.6eV以下であり、
より好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.3eV以上2.0eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.9eV以上1.5eV以下であり、
更に好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.5eV以上1.7eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上1.4eV以下であり、
より更に好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.5eV以上1.7eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上1.3eV以下である、<1>〜<21>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<23>
前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.3eV以上、更に好ましくは0.4eV以上、より更に好ましくは0.5eV以上であり、好ましくは2.0eV以下、より好ましくは1.5eV以下、更に好ましくは1.0eV以下、より更に好ましくは0.8eV以下、より更に好ましくは0.7eV以下である、<1>〜<22>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<24>
好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上3.0eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.8eV以上1.6eV以下であり、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.2eV以上2.0eV以下であり、
より好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.3eV以上2.0eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.9eV以上1.5eV以下であり、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.3eV以上1.0eV以下であり、
更に好ましくは、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーは、1.5eV以上1.7eV以下であり、前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、1.0eV以上1.4eV以下であり、前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.4eV以上0.7eV以下である、<1>〜<23>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<25>
前記量子ドットの粒径は、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上、更に好ましくは3nm以上であり、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、更に好ましくは5nm以下である、<1>〜<24>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<26>
前記量子ドットは、金属酸化物又は金属カルコゲナイドを含む、<1>〜<25>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<27>
前記量子ドットは、好ましくはPb元素を含み、より好ましくはPbS又はPbSeを含み、更に好ましくはPbSを含む、<1>〜<26>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<28>
前記量子ドットは、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット、又は有機化合物とハロゲン元素含有物質とを配位子として含む量子ドットを含む、<1>〜<27>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<29>
前記配位子である有機化合物は、好ましくはカルボキシ基含有化合物又はアミノ基含有化合物、より好ましくはカルボキシ基含有化合物、更に好ましくは炭素数8以上の脂肪酸、より更に好ましくは炭素数12以上の脂肪酸、より更に好ましくはオレイン酸である、<28>に記載の光吸収層。
<30>
量子ドットを構成する金属元素に対する前記配位子である有機化合物のモル比は、好ましくは0.001以上、より好ましくは0.005以上、更に好ましくは0.01以上であり、好ましくは0.6以下、より好ましくは0.1以下、更に好ましくは0.05以下である、<28>又は<29>に記載の光吸収層。
<31>
前記配位子であるハロゲン元素含有物質のハロゲン元素は、好ましくはヨウ素又は臭素であり、より好ましくはヨウ素である、<28>〜<30>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<32>
前記配位子であるハロゲン元素含有物質は、ヨウ素である、<28>〜<30>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<33>
前記量子ドットを構成する金属元素に対するハロゲン元素の原子比は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上、更に好ましくは0.3以上であり、好ましくは1以下、より好ましくは0.8以下、更に好ましくは0.7以下である、<28>〜<32>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<34>
前記ペロブスカイト化合物と前記量子ドットの組み合わせは、Cs0.1(CHNH0.9PbIとPbSの組み合わせである、<1>〜<33>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<35>
前記光吸収層は、中間バンドを有する、<1>〜<34>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<36>
前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、好ましくは7.5質量%以上、より好ましくは10質量%以上、更に好ましくは15質量%以上、より更に好ましくは17質量%以上であり、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは25質量%以下である、<1>〜<35>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<37>
前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、好ましくは10nm以下、より好ましくは6nm以下、更に好ましくは4.5nm以下である、<1>〜<36>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<38>
前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、好ましくは1×1010個/cm以上、より好ましくは1×1011個/cm以上、更に好ましくは1×1012個/cm以上、より更に好ましくは2.2×1012個/cm以上であり、好ましくは1×1014個/cm以下、より好ましくは1×1013個/cm以下、更に好ましくは5×1012個/cm以下である、<1>〜<37>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<39>
好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、7.5質量%以上40質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、10nm以下であり、
より好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、10質量%以上30質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、6nm以下であり、
更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、15質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、4.5nm以下であり、
より更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、17質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、4.5nm以下である、<1>〜<38>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<40>
好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、7.5質量%以上40質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1010個/cm以上1×1014個/cm以下であり、
より好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、10質量%以上30質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1011個/cm以上1×1013個/cm以下であり、
更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、15質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1012個/cm以上5×1012個/cm以下であり、
より更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、17質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、2.2×1012個/cm以上5×1012個/cm以下である、<1>〜<38>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<41>
好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、7.5質量%以上40質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、10nm以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1010個/cm以上1×1014個/cm以下であり、
より好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、10質量%以上30質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、6nm以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1011個/cm以上1×1013個/cm以下であり、
更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、15質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、4.5nm以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、1×1012個/cm以上5×1012個/cm以下であり、
より更に好ましくは、前記光吸収層中におけるペロブスカイト化合物と量子ドットの合計含有量に対する量子ドットの含有割合は、17質量%以上25質量%以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子間の距離は、4.5nm以下であり、前記光吸収層中における量子ドットの粒子密度は、2.2×1012個/cm以上5×1012個/cm以下である、<1>〜<38>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<42>
前記光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.5%以上、更に好ましくは1%以上である、<1>〜<41>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<43>
前記光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.03%以上、更に好ましくは0.05%以上である、<1>〜<42>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<44>
前記光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、好ましくは0.005%以上、より好ましくは0.01%以上、更に好ましくは0.02%以上である、<1>〜<43>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<45>
好ましくは、前記光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.1%以上であり、前記光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.01%以上であり、前記光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.005%以上であり、
より好ましくは、前記光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.5%以上であり、前記光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.03%以上であり、前記光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.01%以上であり、
更に好ましくは、前記光吸収層の700nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、1%以上であり、前記光吸収層の900nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.05%以上であり、前記光吸収層の1100nmにおける外部量子効率差(ΔEQE)は、0.02%以上である、<1>〜<44>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<46>
ペロブスカイト化合物の価電子帯と中間バンドとの間のエネルギー差は、好ましくは1.0eV以上、より好ましくは1.2eV以上、更に好ましくは1.3eV以上であり、好ましくは2.0eV以下、より好ましくは1.6eV以下、更に好ましくは1.4eV以下である、<35>〜<45>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<47>
中間バンドとペロブスカイト化合物の伝導帯との間のエネルギー差は、好ましくは0.1eV以上、より好ましくは0.2eV以上、更に好ましくは0.3eV以上であり、好ましくは1.5eV以下、より好ましくは0.8eV以下、更に好ましくは0.6eV以下である、<35>〜<46>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<48>
好ましくは、ペロブスカイト化合物の価電子帯と中間バンドとの間のエネルギー差は、1.0eV以上2.0eV以下であり、中間バンドとペロブスカイト化合物の伝導帯との間のエネルギー差は、0.1eV以上1.5eV以下であり、
より好ましくは、ペロブスカイト化合物の価電子帯と中間バンドとの間のエネルギー差は、1.2eV以上1.6eV以下であり、中間バンドとペロブスカイト化合物の伝導帯との間のエネルギー差は、0.2eV以上0.8eV以下であり、
更に好ましくは、ペロブスカイト化合物の価電子帯と中間バンドとの間のエネルギー差は、1.3eV以上1.4eV以下であり、中間バンドとペロブスカイト化合物の伝導帯との間のエネルギー差は、0.3eV以上0.6eV以下である、<35>〜<47>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<49>
光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、好ましくは10%以上、より好ましくは30%以上、更に好ましくは40%以上である、<1>〜<48>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<50>
ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.3以上、更に好ましくは0.55以上である、<1>〜<49>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<51>
好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、10%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、0.1以上であり、
より好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、30%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、好ましくは0.3以上であり、
更に好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、40%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、好ましくは0.55以上である、<1>〜<50>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<52>
光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、好ましくは0.1%以上、より好ましくは1%以上、更に好ましくは1.5%以上である、<1>〜<51>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<53>
好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、10%以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、0.1%以上であり、
より好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、30%以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、1%以上であり、
更に好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、40%以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、1.5%以上である、<1>〜<52>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<54>
好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、10%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、0.1以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、0.1%以上であり、
より好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、30%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、0.3以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、1%以上であり、
更に好ましくは、光吸収層の500nmにおける外部量子効率(EQE)は、40%以上であり、ペロブスカイト化合物単独の光吸収層の500nmのEQEに対する前記光吸収層のEQE比は、0.55以上であり、光吸収層の900nmにおける外部量子効率(EQE)は、1.5%以上である、<1>〜<53>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<55>
光吸収層の厚さは、好ましくは30nm以上、より好ましくは50nm以上、更に好ましくは80nm以上であり、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは600nm以下、より更に好ましくは500nm以下である、<1>〜<54>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<56>
光吸収層の表面平滑性は、好ましくは100nm以上、より好ましくは200nm以上、更に好ましくは300nm以上、より更に好ましくは400nm以上であり、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは700nm以下である、<1>〜<55>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<57>
光吸収層の多孔質層に対する被覆率は、好ましくは10%以上、より好ましくは20%以上、更に好ましくは30%以上、より更に好ましくは40%以上、より更に好ましくは50%以上であり、100%以下である、<1>〜<56>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<58>
光吸収層における量子ドット(QD)のペロブスカイト化合物(P)に対する吸光度比(QD/P)は、好ましくは0.3以下、より好ましくは0.2以下、更に好ましくは0.1以下、より更に好ましくは0である、<1>〜<57>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<59>
光吸収層における発光ピークエネルギーは、量子ドットのバンドギャップエネルギー以上且つペロブスカイトのバンドギャップエネルギー未満の光で光吸収層を励起した時、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.4eV以上、更に好ましくは0.6eV以上、より更に好ましくは0.8eV以上であり、好ましくは1.4eV以下、より好ましくは1.3eV以下、更に好ましくは1.2eV以下、より更に好ましくは1.1eV以下である、<1>〜<58>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<60>
光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、好ましくは0.2eV以上、より好ましくは0.4eV、更に好ましくは0.5eV以上であり、好ましくは1.5eV以下、より好ましくは1.0eV以下、更に好ましくは0.7eV以下である、<1>〜<59>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<61>
光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、好ましくは1.0eV以下、より好ましくは0.5eV以下、更に好ましくは0.3eV以下、より更に好ましくは0eVである、<1>〜<60>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<62>
好ましくは、光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、0.2eV以上1.5eV以下であり、光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、1.0eV以下であり、
より好ましくは、光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、0.4eV以上1.0eV以下であり、光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.5eV以下であり、
更に好ましくは、光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、0.5eV以上0.7eV以下であり、光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.3eV以下であり、
より更に好ましくは、光吸収層における発光ピークエネルギーとペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーとの差は、0.5eV以上0.7eV以下であり、光吸収層における発光ピークエネルギーと量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0eV以下である、<1>〜<61>のいずれか1項に記載の光吸収層。
<63>
前記一般式(1)で表される化合物及び前記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドットとを含有する、<1>〜<62>のいずれかに記載の光吸収層を製造するための分散液。
<64>
前記分散液は、溶剤を含有し、前記溶剤は、好ましくは極性溶剤、より好ましくはケトン類、アミド系溶剤、及びジメチルスルホキシドから選ばれる少なくとも1種、更に好ましくはアミド系溶剤、より更に好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである、<63>に記載の分散液。
<65>
前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、好ましくは1mg/mL以上、より好ましくは10mg/mL以上、更に好ましくは50mg/mL以上であり、好ましくは100mg/mL以下、より好ましくは80mg/mL以下、更に好ましくは60mg/mL以下である、<63>又は<64>に記載の分散液。
<66>
<63>〜<65>のいずれかに記載の分散液から得られる光吸収層。
<67>
次の工程1、工程2及び工程3を含む、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散している光吸収層の製造方法。
(工程1)有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子を、ハロゲン元素含有物質へ配位子交換して、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット固体を得る工程
(工程2)工程1で得られた量子ドット固体と、下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物、及びその前駆体から選ばれる1種以上の物質を含む溶液又は混合液とを混合して分散液を得る工程
(工程3)工程2で得られた分散液から光吸収層を得る工程

RMX (1)
(式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
n−13n+1 (2)
(式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
<68>
前記ハロゲン元素含有物質のハロゲン元素は、好ましくはヨウ素又は臭素であり、より好ましくはヨウ素である、<67>に記載の光吸収層の製造方法。
<69>
有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子をハロゲン元素含有物質へ配位子交換する方法は、好ましくは分散液中で配位子交換する方法、より好ましくは有機配位子を含む量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質の原料溶液とを室温(25℃)、無撹拌下、時間をかけて混合後、静置することにより、配位子交換する方法である、<67>又は<68>に記載の光吸収層の製造方法。
<70>
配位子交換に使用するハロゲン元素含有物質の原料は、好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)、ヨウ化アンモニウム、臭化メチルアンモニウム(メチルアミン臭化水素酸塩)、及び臭化アンモニウムから選択される1種以上、より好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)、及び臭化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)から選択される1種以上、更に好ましくはヨウ化メチルアンモニウム(メチルアミンヨウ化水素酸塩)である、<67>〜<69>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<71>
配位子交換に使用するハロゲン元素含有物質原料の混合量は、量子ドット表面の有機化合物に対するハロゲン元素のモル比として、好ましくは0.1以上、より好ましくは1以上、更に好ましくは1.5以上、好ましくは10以下、より好ましくは8以下、更に好ましくは5以下である、<67>〜<70>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<72>
配位子交換に使用する溶媒は、量子ドットを良好に分散させる溶媒とハロゲン元素含有物質原料を溶解させる溶媒との混合溶媒であり、量子ドットの分散溶媒は、好ましくはトルエン、ヘキサン、及びオクタンから選択される1種以上の非(低)極性有機溶媒、より好ましくはトルエンであり、ハロゲン元素含有物質原料の溶解溶媒は、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、及びγ−ブチロラクトンから選択される1種以上の非プロトン性極性有機溶媒、より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである、<69>〜<71>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<73>
配位子交換時に混合する量子ドット分散液中の量子ドット固形分濃度は、好ましくは10mg/mL以上、より好ましくは50mg/mL以上、更に好ましくは80mg/mL以上、好ましくは1000mg/mL以下、より好ましくは500mg/mL以下、更に好ましくは200mg/mL以下である、<69>〜<72>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<74>
配位子交換時に混合するハロゲン元素含有物質原料溶液中のハロゲン元素含有物質原料濃度は、好ましくは0.01mol/L以上、より好ましくは0.1mol/L以上、更に好ましくは0.2mol/L以上、好ましくは1mol/L以下、より好ましくは0.5mol/L以下、更に好ましくは0.3mol/L以下である、<69>〜<73>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<75>
配位子交換時の量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合方法は、好ましくは連続法又は滴下法(半連続法)、より好ましくは滴下法である、<69>〜<74>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<76>
前記連続法は、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を混合する方法であり、混合速度は、好ましくは25μl/秒以下、より好ましくは5μl/秒以下、更に好ましくは3μl/秒以下、好ましくは0.2μl/秒以上、より好ましくは0.4μl/秒以上、更に好ましくは1.5μl/秒以上である、<75>に記載の光吸収層の製造方法。
<77>
前記滴下法は、量子ドット分散液にハロゲン元素含有物質原料溶液を滴下する方法であり、滴下速度は、好ましくは1滴/1秒以下、より好ましくは1滴/5秒以下、更に好ましくは1滴/8秒以下、好ましくは1滴/100秒以上、より好ましくは1滴/50秒以上、更に好ましくは1滴/15秒以上である、<75>に記載の光吸収層の製造方法。
<78>
量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液とを混合後、静置する時間は、好ましくは0.1時間以上、より好ましくは1時間以上、更に好ましくは10時間以上、好ましくは100時間以下、より好ましくは48時間以下、更に好ましくは24時間以下である、<69>〜<77>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<79>
配位子交換後、有機化合物とハロゲン元素含有物質とを配位子とする量子ドット固体を得る方法は、量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合分散液に洗浄溶媒を添加し、ろ過して、量子ドット表面に配位していた有機化合物や過剰のハロゲン元素含有物質原料、溶媒を除去する工程を経て、量子ドット固体を得る方法である、<67>〜<78>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<80>
前記洗浄溶媒は、好ましくは配位子交換前後のいずれの量子ドットも分散しにくく、且つ、有機化合物、ハロゲン元素含有物質が可溶な有機溶媒、より好ましくはアルコール溶媒、更に好ましくはメタノールである、<79>に記載の光吸収層の製造方法。
<81>
前記洗浄溶媒の量は、量子ドット分散液とハロゲン元素含有物質原料溶液との混合分散液の量に対する洗浄溶媒の体積比として、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.5以上、更に好ましくは1以上、好ましくは10以下、より好ましくは5以下、更に好ましくは2以下である、<79>又は<80>に記載の光吸収層の製造方法。
<82>
ろ過時のフィルター孔径は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下である、<79>〜<81>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<83>
ろ過時のフィルター材質は、好ましくは疎水性のもの、より好ましくはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である、<79>〜<82>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<84>
前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体と、前記量子ドットとを含む分散液は、溶剤を含有する、<67>〜<83>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<85>
前記溶剤は、好ましくは極性溶剤、より好ましくはケトン類、アミド系溶剤、及びジメチルスルホキシドから選ばれる少なくとも1種、更に好ましくはアミド系溶剤、より更に好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである、<84>に記載の光吸収層の製造方法。
<86>
前記分散液中の前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体の金属濃度は、好ましくは0.1mol/L以上、より好ましくは0.2mol/L以上、更に好ましくは0.3mol/L以上であり、好ましくは1.5mol/L以下、より好ましくは1.0mol/L以下、更に好ましくは0.5mol/L以下である、<84>又は<85>に記載の光吸収層の製造方法。
<87>
前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、好ましくは1mg/mL以上、より好ましくは10mg/mL以上、更に好ましくは50mg/mL以上であり、好ましくは100mg/mL以下、より好ましくは80mg/mL以下、更に好ましくは60mg/mL以下である、<84>〜<86>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<88>
好ましくは、前記分散液中の前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体の金属濃度は、0.1mol/L以上1.5mol/L以下であり、前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、1mg/mL以上100mg/mL以下であり、
より好ましくは、前記分散液中の前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体の金属濃度は、0.2mol/L以上1.0mol/L以下であり、前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、10mg/mL以上80mg/mL以下であり、
更に好ましくは、前記分散液中の前記ペロブスカイト化合物及び/又はその前駆体の金属濃度は、0.3mol/L以上0.5mol/L以下であり、前記分散液中の前記量子ドットの固形分濃度は、50mg/mL以上60mg/mL以下である、<84>〜<87>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<89>
前記分散液を調製する際の混合温度は、好ましくは0℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上であり、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下である、<67>〜<88>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<90>
前記分散液を調製する際の混合時間は、好ましくは0時間超、より好ましくは0.1時間以上であり、好ましくは72時間以下、より好ましくは24時間以下、更に好ましくは1時間以下である、<67>〜<89>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<91>
好ましくは、前記分散液を調製する際の混合温度は、0℃以上50℃以下であり、混合時間は、0時間超72時間以下であり、
より好ましくは、前記分散液を調製する際の混合温度は、10℃以上40℃以下であり、混合時間は、0.1時間以上24時間以下であり、
更に好ましくは、前記分散液を調製する際の混合温度は、20℃以上30℃以下であり、混合時間は、0.1時間以上1時間以下である、<67>〜<90>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<92>
前記分散液は、ろ過されたものであり、ろ過時のフィルター孔径は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下であり、ろ過時のフィルター材質は、好ましくは疎水性のもの、より好ましくはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である、<67>〜<91>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<93>
前記工程3は、好ましくはウェットプロセスであり、より好ましくはスピンコーティング法である、<67>〜<92>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<94>
前記スピンコーティング法の最大回転数は、好ましくは500rpm以上、より好ましくは1000rpm以上、更に好ましくは2000rpm以上であり、好ましくは6000rpm以下、より好ましくは5000rpm以下、更に好ましくは4000rpm以下である、<93>に記載の光吸収層の製造方法。
<95>
前記スピンコーティング法において、スピンコート中に貧溶媒を滴下する、<93>又は<94>に記載の光吸収層の製造方法。
<96>
前記貧溶媒は、トルエン又はクロロベンゼンである、<95>に記載の光吸収層の製造方法。
<97>
前記ウェットプロセスにおける乾燥方法は、熱乾燥であり、熱乾燥の温度は、好ましくは60℃以上、より好ましくは80℃以上、更に好ましくは100℃以上であり、好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、更に好ましくは120℃以下であり、熱乾燥の時間は、好ましくは1分以上、より好ましくは5分以上、更に好ましくは10分以上であり、好ましくは120分以下、より好ましくは60分以下、更に好ましくは30分以下である、<93>〜<96>のいずれか1項に記載の光吸収層の製造方法。
<98>
<1>〜<62>及び<66>のいずれか1項に記載の光吸収層を有する光電変換素子。
<99>
<98>に記載の光電変換素子を有する太陽電池。
以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明する。表中に特に示さない限り、各成分の含有量は質量%を示す。また、評価・測定方法は以下のとおりである。なお、特に断らない限り、実施、測定は25℃で行った。
<I−V曲線>
キセノンランプ白色光を光源(ペクセル・テクノロジーズ株式会社製、PEC−L01)とし、太陽光(AM1.5)相当の光強度(100mW/cm)にて、光照射面積0.0363cm(2mm角)のマスク下、I−V特性計測装置(ペクセル・テクノロジーズ株式会社製、PECK2400−N)を用いて走査速度0.1V/sec(0.01V step)、電圧設定後待ち時間50msec、測定積算時間50msec、開始電圧−0.1V、終了電圧1.1Vの条件でセルのI−V曲線を測定した。なお、シリコンリファレンス(BS−520、0.5714mA)で光強度補正を行った。I−V曲線から短絡電流密度(mA/cm)、開放電圧(V)、フィルファクター(FF)、及び変換効率(%)を求めた。
<外部量子効率>
外部量子効率(EQE)スペクトルは、分光感度測定装置(分光計器株式会社製、CEP−2000MLR)を用い、光照射面積0.0363cmのマスク下、300〜1200nmの波長範囲にて直流法で測定を行った。ペロブスカイト化合物の光吸収に由来する波長500nmのEQEと量子ドットの光吸収に由来する900nmのEQEを求めた。なお、ペロブスカイト化合物の光吸収に由来する500nmのEQEにおいて、ペロブスカイト単独セルのEQEに対する量子ドット複合セルのEQEの比を算出した。
<外部量子効率差>
外部量子効率差(ΔEQE)は、分光感度測定装置(分光計器株式会社製、CEP−1500)において、光学チョッパーを用いて赤外バイアス光照射の有無で量子効率(EQE)を測定し、赤外バイアス光照射時のEQEと赤外バイアス光非照射時のEQEとの差(ΔEQE)を求めた。キセノンランプとAM1.5フィルターの擬似太陽光源を850nmと1400nmのロングパスフィルターに通した赤外バイアス光を用いた。赤外チョッパーの変調周波数は、5Hzとした。光照射面積0.0361cmのマスク下、300〜1300nmの波長範囲にて交流法で測定を行った。波長700nm、900nm、及び1100nmの外部量子効率差(ΔEQE)を求めた。
<吸収スペクトル>
光吸収層の吸収スペクトルは、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、UV−Vis分光光度計(株式会社島津製作所製、SolidSpec−3700)を用い、スキャンスピード中速、サンプルピッチ1nm、スリット幅20、検出器ユニット積分球の条件で300〜1600nmの範囲を測定した。FTO(Fluorine−doped tin oxide)基板(旭硝子ファブリテック株式会社製、25×25×1.8mm)でバックグラウンド測定を行った。
PbS量子ドット分散液の吸収スペクトルは、PbS量子ドット固体0.1mg/mLの濃度の分散液において、1cm角石英セルを用いて、同様に測定した。なお、オレイン酸が配位したPbS量子ドットの場合はヘキサンを分散溶媒とし、ヨウ素が配位したPbS量子ドットの場合はN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を分散溶媒とした。
横軸;波長λ、縦軸;吸光度Aの吸収スペクトルを、横軸;エネルギーhν、縦軸;(αhν)1/2(α;吸光係数)のスペクトルに変換し、吸収の立ち上がる部分に直線をフィッティングし、その直線とベースラインとの交点をバンドギャップエネルギーとした。
<発光スペクトル>
PbS量子ドット分散液の発光スペクトルは、PbS量子ドット固体0.1mg/mLの濃度のヘキサン分散液において、1cm角四面透明セルを用いて、近赤外蛍光分光計(株式会社堀場製作所製、Fluorolog)を用い、励起波長800nm、励起光スリット幅10nm、発光スリット幅15nm、取り込み時間0.1sec、積算2回平均、ダークオフセットオンの条件で850〜1550nmの範囲を測定した。
<X線回折解析>
光吸収層のペロブスカイト化合物の結晶子径は、正孔輸送剤を塗布する前の試料において、粉末X線回折装置(株式会社リガク製、MiniFlex600、光源CuKα、管電圧40kV、管電流15mA)を用い、サンプリング幅0.02°、走査速度20°/min、ソーラースリット(入射)5.0°、発散スリット1.250°、縦発散13.0mm、散乱スリット13.0mm、ソーラースリット(反射)5.0°、受光スリット13.0mmの条件で5〜60°の範囲を測定した。ペロブスカイト化合物の結晶子径は、解析ソフト(PDXL、ver.2.6.1.2)を用いてペロブスカイト化合物の最強ピーク(2θ=14°)において算出した。ペロブスカイト化合物の最強ピーク(2θ=14°)強度に対するヨウ化鉛(PbI)の最強ピーク(2θ=12°)強度の比を算出した。
PbS量子ドットの結晶子径(粒径)は、ガラスホルダー上のPbS量子ドット固体において、同様に測定し、解析ソフト(PDXL、ver.2.6.1.2)を用いてPbSのcubic(220)ピーク(2θ=42°)において算出した。
<PbS量子ドット固体の組成>
PbS量子ドット固体中のPb濃度は、PbS量子ドット固体を硝酸/過酸化水素混合溶液に完全溶解後、高周波誘導結合プラズマ発光分光(ICP)分析により定量した。
PbS量子ドット固体中のオレイン酸濃度は、オレイン酸が配位したPbS量子ドットの場合は、重トルエン(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製、99atom%D、TMS0.03vol%含有)溶媒、ヨウ素が配位したPbS量子ドットの場合は、重DMF(東京化成製、99.5atom%D)溶媒中、ジブロモメタン(和光純薬株式会社製)を内部標準物質として用い、プロトン(H)核磁気共鳴(NMR)法により定量した。NMR装置(アジレント社製、VNMRS400)を用い、共鳴周波数400HHz、遅延時間60秒、積算32回の条件で測定した。重トルエン溶媒の場合、ジブロモメタン(3.9ppm vs.TMS)の積分値に対するオレイン酸のビニルプロトン(5.5ppm vs.TMS)の積分値の比からPbS量子ドット固体中のオレイン酸濃度を求めた。重DMF溶媒の場合、ジブロモメタン(3.9ppm vs.TMS)の積分値に対するオレイン酸のメチルプロトン(0.8ppm vs.TMS)の積分値の比からPbS量子ドット固体中のオレイン酸濃度を求めた。
PbS量子ドット固体中のPb/S/I/N原子比は、ガラス基板上のPbS量子ドット固体において、光電子分光法(ESCA)により定量した。ESCA装置(アルバックファイ社製、PHI Quantera SXM)を用い、X線源単色化AlKα(25W,15kV)、ビーム径100μm、測定範囲1mm、パスエネルギー112eV、ステップ0.2eV、帯電補正ニュウトラライザーおよびAr照射、光電子取出し角度45°、結合エネルギー補正C1s(284.8eV)の条件でESCA測定し、Pb4f、S2p、I3d、N1sピークから組成を求めた。
<オレイン酸が配位したPbS量子ドットの合成>
酸化鉛(和光純薬工業株式会社製)0.45g、オクタデセン(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製)10g、オレイン酸(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社製)1.34gを50mL三口フラスコに入れ、80℃で2時間撹拌することにより、Pb源溶液を調製した。反応系内を真空ポンプにより脱気、窒素ガス置換後、更に110℃で30分撹拌した。一方、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラチアン(東京化成工業株式会社製)210μLをオクタデセン4mLに溶解し、S源溶液を調製した。110℃、撹拌、窒素ガス下、シリンジを用いてS源溶液をPb源溶液に一気に注入し、オレイン酸が配位したPbS量子ドットを生成させた。大過剰のアセトンを添加して反応を停止後、遠心分離(日立工機株式会社製、CR21GIII、R15Aローター、2500rpm、2分)により上澄みを除去、沈殿物を減圧乾燥させることにより、オレイン酸が配位したPbS量子ドット固体を得た。
オレイン酸が配位したPbS量子ドット固体中の各濃度は、Pb=55質量%、オレイン酸=24質量%であり、オレイン酸/Pbモル比=0.31であった。ESCA分析結果よりPb/S/I/N原子比=1/0.58/0/0、X線回折結果より結晶子径3.0nm、吸収スペクトルより吸収端波長1050nm、吸収ピーク波長980nm(固定分濃度0.1mg/mLヘキサン分散液のピーク吸光度0.052)、発光スペクトルより発光ピーク波長1050nm(励起波長800nm)であった。
<ヨウ素が配位したPbS量子ドットの合成>
上記のオレイン酸が配位したPbS量子ドット固体0.20gをトルエン(脱水、和光純薬工業株式会社製)2mLに分散させ、黒色透明分散液を得た。一方、メチルアミンヨウ化水素酸塩(CHNHI、東京化成工業株式会社製)0.053gをDMF(脱水、和光純薬工業株式会社製)0.5mLとトルエン(脱水、和光純薬工業株式会社製)1mLに溶解させた(CHNHI/オレイン酸モル比=2)。室温(25℃)、窒素雰囲気(グローブボックス内)、無撹拌下、上記CHNHI溶液をPbS量子ドット分散液に1滴/10秒の滴下速度(滴下時間11分)で滴下後、18時間静置した。更にメタノール5mLを添加、混合後、フィルター(孔径0.2μm、材質PTFE)ろ過、乾燥させることにより、ヨウ素が配位したPbS量子ドット固体を得た。
ヨウ素が配位したPbS量子ドット固体中の各濃度は、Pb=53質量%、オレイン酸=1質量%であり、オレイン酸/Pbモル比=0.01であった。ESCA分析結果よりPb/S/I/N原子比=1/0.51/0.49/0、X線回折結果より結晶子径3.5nm、DMF分散液の吸収スペクトルより吸収端波長1200nm、吸収ピーク波長1000nmであった。
<実施例1>
次の(1)〜(7)の工程を順に行い、セルを作製した。
(1)FTO基板のエッチング、洗浄
25mm角のフッ素ドープ酸化スズ(FTO)付ガラス基板(旭硝子ファブリテック株式会社製、25×25×1.8mm、以下、FTO基板という)の一部をZn粉末と2mol/L塩酸水溶液でエッチングした。1質量%中性洗剤、アセトン、2−プロパノール(IPA)、イオン交換水で、この順に各10分間超音波洗浄を行った。
(2)オゾン洗浄
緻密TiO層形成工程の直前にFTO基板のオゾン洗浄を行った。FTO面を上にして、基板をオゾン発生装置(メイワフォーシス株式会社製オゾンクリーナー、PC−450UV)に入れ、30分間UV照射した。
(3)緻密TiO層(ブロッキング層)の形成
エタノール(脱水、和光純薬工業株式会社製)123.24gにビス(2,4−ペンタンジオナト)ビス(2−プロパノラト)チタニウム(IV)(75%IPA溶液、東京化成工業株式会社製)4.04gを溶解させ、スプレー溶液を調製した。ホットプレート(450℃)上のFTO基板に約30cmの高さから0.3MPaでスプレーした。20cm×8列を2回繰り返して約7gスプレー後、450℃で3分間乾燥した。この操作を更に2回行うことにより合計約21gの溶液をスプレーした。その後、このFTO基板を、塩化チタン(和光純薬工業株式会社製)水溶液(50mM)に浸漬し、70℃で30分加熱した。水洗、乾燥後、500℃で20分焼成(昇温15分)することにより、緻密TiO(cTiO)層を形成した。
(4)メソポーラスTiO層(多孔質層)の形成
アナターゼ型TiOペースト(PST−18NR、日揮触媒化成株式会社製)0.404gにエタノール(脱水、和光純薬工業株式会社製)1.41gを加え、1時間超音波分散を行い、TiOコート液を調製した。ドライルーム内において、上記のcTiO層上にスピンコーター(ミカサ株式会社製、MS−100)を用いてTiOコート液をスピンコートした(5000rpm×30sec)。125℃のホットプレート上で30分間乾燥後、500℃で30分焼成(昇温時間60分)することにより、メソポーラスTiO(mTiO)層を形成した。
(5)光吸収層の形成
光吸収層および正孔輸送層の形成は、グローブボックス内にて行った。ヨウ化鉛(PbI、ペロブスカイト前駆体用、東京化成工業株式会社製)0.207g、メチルアミンヨウ化水素酸塩(CHNHI、東京化成工業株式会社製)0.072g、ヨウ化セシウム(CsI、99.999%、シグマアルドリッチ製)0.012g、DMF(脱水、和光純薬工業株式会社製)1.5mLを混合、室温撹拌し、0.3mol/Lペロブスカイト(Cs0.1(CHNH0.9PbI)原料のDMF溶液(無色透明)を調製した。更に、このDMF溶液に上記のヨウ素が配位したPbS量子ドット固体0.122gを加え、15分間撹拌分散後、孔径0.45μmのPTFEフィルターでろ過することにより、PbS量子ドットとペロブスカイト原料との混合分散液(コート液)を得た。なお、このコート液のDMF溶媒希釈分散液のピーク吸光度(ピーク波長1000nm)から、PbSとペロブスカイトの合計含有量に対するPbSの質量比(PbS換算配合量)18質量%を算出した。
上記のmTiO層上にスピンコーター(ミカサ株式会社製、MS−100)を用いて前記コート液をスピンコートした(500rpm×5sec、スロープ5sec、1000rpm×40sec、スロープ5sec、3000rpm×50sec)。なお、スピン開始20秒後に貧溶媒であるトルエン(脱水、和光純薬工業株式会社製)1mLをスピン中心部に一気に滴下した。スピンコート後すぐに100℃ホットプレート上で10分間乾燥させ、光吸収層を形成した。ペロブスカイト化合物が生成していることはX線回折パターン、吸収スペクトル及び電子顕微鏡観察により、また、量子ドットが存在していることは蛍光スペクトル、電子顕微鏡観察から確認した。
(6)正孔輸送層の形成
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム(LiTFSI、和光純薬工業株式会社製)9.1mg、[トリス(2−(1H−ピラゾール−1−イル)−4−tert−ブチルピリジン)コバルト(III)トリス(ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド)](Co(4−tButylpyridyl−2−1H−pyrazole)3.3TFSI、和光純薬工業株式会社製)8.7mg、2,2’,7,7’−テトラキス[N,N−ジ−p−メトキシフェニルアミノ]−9,9’−スピロビフルオレン(Spiro−OMeTAD、和光純薬工業株式会社製)72.3mg、クロロベンゼン(ナカライテスク株式会社製)1mL、tert−ブチルピリジン(TBP、シグマアルドリッチ製)28.8μLを混合し、室温撹拌して正孔輸送剤(HTM)溶液(黒紫色透明)を調製した。使用直前に、HTM溶液を孔径0.45μmのPTFEフィルターでろ過した。上記の光吸収層上にスピンコーター(ミカサ株式会社、MS−100)を用いてHTM溶液をスピンコートした(4000rpm×30sec)。スピンコート後すぐに70℃ホットプレート上で30分間乾燥した。乾燥後、γ−ブチロラクトン(和光純薬工業株式会社製)を浸み込ませた綿棒でFTOとのコンタクト部分および基板裏面全体を拭き取り、更に70℃のホットプレート上で数分間乾燥させ、正孔輸送層を形成した。
(7)金電極の蒸着
真空蒸着装置(アルバック機工株式会社製、VTR−060M/ERH)を用い、真空下(4〜5×10−3Pa)、上記の正孔輸送層上に金を100nm蒸着(蒸着速度8〜9Å/sec)して、金電極を形成した。
<比較例1>
実施例1の(5)光吸収層の形成において、ヨウ化セシウムを配合せずに、ヨウ素が配位したPbS量子ドット固体の配合量を0.122gから0.085gに変更し、PbSとペロブスカイトの合計含有量に対するPbSの質量比(PbS換算配合量)を15質量%とした以外は、実施例1と同様にして光吸収層を形成し、セルを作製した。
Figure 0006960460
表1から、2種のカチオンを含むペロブスカイト化合物を用いた実施例1の光吸収層は、1種のカチオンを含むペロブスカイト化合物を用いた比較例1の光吸収層に比べて、ペロブスカイト原料(PbI)の残存量が少なく、光電変換効率に優れることがわかる。また、実施例1の光吸収層は、外部量子効率差(ΔEQE)が検出され、2段階光吸収が起こっており、中間バンドを有することがわかる。
本発明の光吸収層及び光電変換素子は、次世代太陽電池の構成部材として好適に使用することができる。
1:光電変換素子
2:透明基板
3:透明導電層
4:ブロッキング層
5:多孔質層
6:光吸収層
7:正孔輸送層
8:電極(正極)
9:電極(負極)
10:光

Claims (13)

  1. 下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散しており、前記ペロブスカイト化合物と前記量子ドットの合計含有量に対する前記量子ドットの含有割合は、7.5質量%以上であり、中間バンドを有する光吸収層。
    RMX (1)
    (式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
    n−13n+1 (2)
    (式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
  2. 前記Xは、塩素アニオン、臭素アニオン、又はヨウ素アニオンである請求項1に記載の光吸収層。
  3. 前記Rは、アルキルアンモニウムイオン及びホルムアミジニウムイオンから選ばれる1種以上と、K、Rb、及びCsから選ばれる1種以上である請求項1又は2に記載の光吸収層。
  4. 前記Rは、アルキルアンモニウムイオン又はホルムアミジニウムイオンであり、前記Rは、K、Rb、又はCsである請求項1〜3のいずれかに記載の光吸収層。
  5. 前記Mは、Pb2+、Sn2+、又はGe2+である請求項1〜4のいずれかに記載の光吸収層。
  6. 前記量子ドットのバンドギャップエネルギーは、0.2eV以上前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギー未満である請求項1〜5のいずれかに記載の光吸収層。
  7. 前記ペロブスカイト化合物のバンドギャップエネルギーと前記量子ドットのバンドギャップエネルギーとの差は、0.2eV以上2.0eV以下である請求項1〜6のいずれかに記載の光吸収層。
  8. 前記量子ドットは、金属酸化物又は金属カルコゲナイドを含む請求項1〜7のいずれかに記載の光吸収層。
  9. 前記量子ドットは、Pb元素を含む請求項1〜8のいずれかに記載の光吸収層。
  10. 次の工程1、工程2及び工程3を含む、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物から選ばれる1種以上のペロブスカイト化合物のマトリックス中に、量子ドットが分散しており、前記ペロブスカイト化合物と前記量子ドットの合計含有量に対する前記量子ドットの含有割合は、7.5質量%以上であり、中間バンドを有する光吸収層の製造方法。
    (工程1)有機配位子を含む量子ドットの該有機配位子を、ハロゲン元素含有物質へ配位子交換して、ハロゲン元素含有物質を配位子として含む量子ドット固体を得る工程
    (工程2)工程1で得られた量子ドット固体と、下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物、及びその前駆体から選ばれる1種以上の物質を含む溶液又は混合液とを混合して分散液を得る工程
    (工程3)工程2で得られた分散液から光吸収層を得る工程

    RMX (1)
    (式中、Rは2種以上の1価のカチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンである。)
    n−13n+1 (2)
    (式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも2つは異なる1価のカチオンであり、R、R、及びRのうちの少なくとも1つは1価の無機カチオンであり、Mは2価の金属カチオンであり、Xはハロゲンアニオンであり、nは1以上10以下の整数である。)
  11. 前記ハロゲン元素含有物質のハロゲン元素がヨウ素である請求項10に記載の光吸収層の製造方法。
  12. 請求項1〜9のいずれかに記載の光吸収層を有する光電変換素子。
  13. 請求項12に記載の光電変換素子を有する太陽電池。
JP2019542642A 2018-04-10 2018-04-10 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池 Active JP6960460B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2018/015118 WO2019198159A1 (ja) 2018-04-10 2018-04-10 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019198159A1 JPWO2019198159A1 (ja) 2020-04-30
JP6960460B2 true JP6960460B2 (ja) 2021-11-05

Family

ID=68164598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019542642A Active JP6960460B2 (ja) 2018-04-10 2018-04-10 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20210104366A1 (ja)
EP (1) EP3780129A4 (ja)
JP (1) JP6960460B2 (ja)
KR (1) KR102540430B1 (ja)
CN (1) CN112088442A (ja)
TW (1) TW201944607A (ja)
WO (1) WO2019198159A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021111503A1 (ja) * 2019-12-02 2021-06-10 花王株式会社 光吸収層及びその製造方法、分散液、光電変換素子、並びに太陽電池
TWI764117B (zh) * 2020-03-23 2022-05-11 國立勤益科技大學 混摻AgInS2及Co提升鈣鈦礦太陽能電池光電轉換效率之結構及其方法
CN112604928B (zh) * 2020-12-17 2022-03-15 华中科技大学鄂州工业技术研究院 一种基于卤素钙钛矿材料的光致超声换能器及其制备方法
TWI807531B (zh) * 2021-01-06 2023-07-01 日商田中貴金屬工業股份有限公司 光電變換元件材料及光電變換元件材料之製造方法以及分散半導體奈米粒子之墨水
US20230082643A1 (en) * 2021-09-13 2023-03-16 Lawrence Livermore National Security, Llc Surface treatment for colloidal stability of in-solution ligand exchanged quantum dots
JPWO2023063429A1 (ja) * 2021-10-14 2023-04-20
TWI810867B (zh) * 2022-03-28 2023-08-01 國立清華大學 自鈣鈦礦太陽能電池回收有價材料的方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7414294B2 (en) * 2005-12-16 2008-08-19 The Trustees Of Princeton University Intermediate-band photosensitive device with quantum dots having tunneling barrier embedded in organic matrix
EP2966703A1 (en) * 2014-07-11 2016-01-13 Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) Template enhanced organic inorganic perovskite heterojunction photovoltaic device
CN107108461B (zh) * 2014-11-06 2020-04-28 浦项工科大学校产学协力团 钙钛矿纳米结晶粒子及利用该粒子的光电元件
US10181538B2 (en) * 2015-01-05 2019-01-15 The Governing Council Of The University Of Toronto Quantum-dot-in-perovskite solids
US9908906B2 (en) * 2015-12-15 2018-03-06 Florida State University Research Foundation, Inc. Luminescent metal halide perovskites and methods
EP3272757A1 (en) * 2016-07-21 2018-01-24 Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) Mixed cation perovskite solid state solar cell and fabrication thereof
WO2018025445A1 (ja) * 2016-08-04 2018-02-08 花王株式会社 光吸収層、光電変換素子、分散液、光電変換素子、及び、太陽電池、並びに、光吸収層の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3780129A1 (en) 2021-02-17
KR20200141999A (ko) 2020-12-21
CN112088442A (zh) 2020-12-15
TW201944607A (zh) 2019-11-16
JPWO2019198159A1 (ja) 2020-04-30
WO2019198159A1 (ja) 2019-10-17
KR102540430B1 (ko) 2023-06-05
US20210104366A1 (en) 2021-04-08
EP3780129A4 (en) 2021-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6960460B2 (ja) 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池
TWI676296B (zh) 光吸收層、光電轉換元件、及中間能帶型太陽電池
JP6317535B1 (ja) 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池
JP6654250B2 (ja) 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池
JP6620246B2 (ja) 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池
WO2021124473A1 (ja) 光吸収層及びその製造方法、コート液、光電変換素子、並びに太陽電池
JP7345498B2 (ja) 光吸収層、光電変換素子、及び太陽電池
WO2021112072A1 (ja) 光吸収層及びその製造方法、分散液、光電変換素子、並びに太陽電池
WO2021002327A1 (ja) 光吸収層及びその製造方法、光電変換素子、並びに中間バンド型太陽電池

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200602

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200731

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210308

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210629

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210902

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210902

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20210909

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20210910

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211005

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211011

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6960460

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151