JP6652701B2 - 化合物半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
化合物半導体装置の一態様には、GaN系のFeドープ層と、前記Feドープ層の上方のGaN系のチャネル層と、前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせる前記チャネル層の上方のGaN系のバリア層と、が含まれる。前記チャネル層には、前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と、前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間の、Al濃度が5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満のAl含有領域と、が含まれる。前記Al含有領域のAl濃度は、前記Feドープ層のFe濃度よりも高い。
化合物半導体装置の製造方法の一態様では、GaN系のFeドープ層の上方にGaN系のチャネル層を形成し、前記チャネル層の上方に前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせるGaN系のバリア層を形成する。前記チャネル層を形成する際には、前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間に、Al濃度が5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満のAl含有領域を形成する。前記Al含有領域のAl濃度は、前記Feドープ層のFe濃度よりも高い。
先ず、第1の実施形態について説明する。第1の実施形態はHEMTを備えた化合物半導体装置の一例に関する。図1は、第1の実施形態に係る化合物半導体装置の構造を示す断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態はHEMTを備えた化合物半導体装置の一例に関する。図4は、第2の実施形態に係る化合物半導体装置の構造を示す断面図である。
次に、第3の実施形態について説明する。第3の実施形態はHEMTを備えた化合物半導体装置の一例に関する。図5は、第3の実施形態に係る化合物半導体装置の構造を示す断面図である。
次に、第4の実施形態について説明する。第4の実施形態は、HEMTのディスクリートパッケージに関する。図9は、第4の実施形態に係るディスクリートパッケージを示す図である。
次に、第5の実施形態について説明する。第5の実施形態は、HEMTを備えたPFC(Power Factor Correction)回路に関する。図10は、第5の実施形態に係るPFC回路を示す結線図である。
次に、第6の実施形態について説明する。第6の実施形態は、HEMTを備えた電源装置に関する。図11は、第6の実施形態に係る電源装置を示す結線図である。
次に、第7の実施形態について説明する。第7の実施形態は、HEMTを備えた増幅器に関する。図12は、第7の実施形態に係る増幅器を示す結線図である。
GaN系のFeドープ層と、
前記Feドープ層の上方のGaN系のチャネル層と、
前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせる前記チャネル層の上方のGaN系のバリア層と、
を有し、
前記チャネル層は、
前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と、
前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間の、Al濃度が5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満のAl含有領域と、
を有することを特徴とする化合物半導体装置。
前記チャネル層のAl濃度が5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満であることを特徴とする付記1に記載の化合物半導体装置。
前記チャネル層の上面におけるAl濃度が5×1017atoms/cm3未満であることを特徴とする付記1に記載の化合物半導体装置。
前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間のAl濃度の最大値が1×1019atoms/cm3未満であることを特徴とする付記1乃至3のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
前記Feドープ層のFe濃度が前記Al含有領域のAl濃度よりも低いことを特徴とする付記1乃至4のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
前記二次元電子ガス領域のFe濃度が5×1015atoms/cm3以下であることを特徴とする付記1乃至5のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
付記1乃至6のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする電源装置。
付記1乃至6のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする増幅器。
GaN系のFeドープ層の上方にGaN系のチャネル層を形成する工程と、
前記チャネル層の上方に前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせるGaN系のバリア層を形成する工程と、
を有し、
前記チャネル層を形成する工程は、前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間に、Al濃度が5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満のAl含有領域を形成する工程を有することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。
前記チャネル層のAl濃度を5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満とすることを特徴とする付記9に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記チャネル層の上面におけるAl濃度を5×1017atoms/cm3未満とすることを特徴とする付記9に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間のAl濃度の最大値を1×1019atoms/cm3未満とすることを特徴とする付記9乃至11のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記Feドープ層のFe濃度を前記Al含有領域のAl濃度よりも低くすることを特徴とする付記9乃至12のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記二次元電子ガス領域のFe濃度を5×1015atoms/cm3以下とすることを特徴とする付記9乃至13のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
103:Feドープ層
104、204、304:チャネル層
105:バリア層
131:二次元電子ガス領域
132:Al含有領域
214、314:Alドープ領域
224、324、334:アンドープ領域
Claims (8)
- GaN系のFeドープ層と、
前記Feドープ層の上方の、Al濃度が5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満とされたGaN系のチャネル層と、
前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせる前記チャネル層の上方のGaN系のバリア層と、
を有し、
前記チャネル層は、
前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と、
前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間の、Al濃度が5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満のAl含有領域と、
を有することを特徴とする化合物半導体装置。 - GaN系のFeドープ層と、
前記Feドープ層の上方のGaN系のチャネル層と、
前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせる前記チャネル層の上方のGaN系のバリア層と、
を有し、
前記チャネル層は、
前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と、
前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間の、Al濃度が5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満のAl含有領域と、
を有し、
前記Al含有領域のAl濃度は、前記Feドープ層のFe濃度よりも高いことを特徴とする化合物半導体装置。 - 前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間のAl濃度の最大値が1×1019atoms/cm3未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載の化合物半導体装置。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする電源装置。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする増幅器。
- GaN系のFeドープ層の上方に、Al濃度を5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満とするGaN系のチャネル層を形成する工程と、
前記チャネル層の上方に前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせるGaN系のバリア層を形成する工程と、
を有し、
前記チャネル層を形成する工程は、前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間に、Al濃度が5×1017atoms/cm3以上1×1019atoms/cm3未満のAl含有領域を形成する工程を有することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。 - GaN系のFeドープ層の上方にGaN系のチャネル層を形成する工程と、
前記チャネル層の上方に前記チャネル層中に二次元電子ガスを生じさせるGaN系のバリア層を形成する工程と、
を有し、
前記チャネル層を形成する工程は、前記二次元電子ガスが存在する二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間に、Al濃度が5×10 17 atoms/cm 3 以上1×10 19 atoms/cm 3 未満のAl含有領域を形成する工程を有し、
前記Al含有領域のAl濃度は、前記Feドープ層のFe濃度よりも高いことを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。 - 前記二次元電子ガス領域と前記Feドープ層との間のAl濃度の最大値を1×1019atoms/cm3未満とすることを特徴とする請求項6又は7に記載の化合物半導体装置の製造方法。
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