JP6643075B2 - インプリント方法、型の製造方法、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係るインプリント装置1の構成を示す概略図である。ここでは、光硬化法を用いたインプリント装置として、紫外線の照射によって基板上の未硬化のインプリント材を硬化させる紫外線硬化型インプリント装置を使用した。ただし、インプリント材の硬化方法として、他の波長域の光の照射による方法や、他のエネルギー(例えば、熱)による方法を用いてもよい。インプリント装置1は、例えば、半導体デバイスの製造に使用され、被処理対象である基板(ウエハ)5上に型(モールド)3の凹凸パターンを転写する。インプリント装置1は、照射部2と、型保持部4と、基板ステージ6と、塗布部7と、制御部8と、保管部9と、ロードポート11と、搬送部12と、を有する。照射部2は、塗布部7により基板5上に塗布されたインプリント材に型3を介して紫外線を照射する。型保持部4は、型3を保持してZ方向に駆動し、基板ステージ6に保持された基板5上のインプリント材に型3の凹凸パターンを接触させる。ここで、Z方向に直交する方向をX方向、Y方向とする。制御部8は、照射部2や型保持部4等をジョブ(インプリントするパターンの種類、処理枚数等)が記憶された不図示の記憶部を参照して制御する。型搬送部12は、ロードポート11に置かれた型3が密封された容器10から保管部9へ型3を搬送する。また型搬送部12は、型3を保管部9から型保持部4への搬送も担う。さらに型搬送部12は、基板5を基板ステージ6に配置したり、基板ステージ6から搬出したりする機能を兼ねてもよい。
本実施形態に係るインプリント方法は、製造履歴情報が近い型を探す方法が第1実施形態と異なる。本実施形態では、マスタの種類および型複製装置の種類に加え、マスタを使用する期間も同一にするようにしている。マスタは、複製を繰り返すことで摩耗したり、複製時に残留するインプリント材が付着したりしてマスタのパターンの表面状態が変化する。したがって、これら要因によっても複製された型に個体差が生じうる。
本実施形態に係るインプリント方法は、製造履歴情報が近い型を探す方法が第1実施形態および第2実施形態と異なる。本実施形態では、マスタの種類、型複製装置の種類およびマスタの使用期間に加え、型複製装置5の使用期間も同一にするようにしている。型複製装置5は、メンテナンス等により装置の状態が変化しうる。これによっても複製された型に個体差が生じる。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターン形成を行なう工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりにパターンを形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
8 制御部
9 保管部
10 容器
15 型複製装置
18 ライン制御部
Claims (12)
- 基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント方法であって、
複数の基板のインプリント処理を行う際に必要となるモールドの数を決定する第一工程と、
モールド複製装置によりマスタモールドから複製された複数のモールドから、前記第一工程で決定された数のモールドを特定し、前記インプリント処理に用いるモールド群として決定する第二工程と、を有し、
前記第二工程では、同一のモールド複製装置および同一のマスタモールドにより複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定する
ことを特徴とするインプリント方法。 - 前記第二工程では、モールド複製装置の複製履歴情報が所定の許容範囲内で複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定することを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記複製履歴情報は、複製回数、調整回数または調整後の複製回数を含むことを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記第二工程では、マスタモールドの複製履歴情報が所定の許容範囲内で複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記複製履歴情報は、複製回数、洗浄回数または洗浄後の複製回数を含むことを特徴とする請求項4に記載のインプリント方法。
- 前記第一工程では、前記インプリント処理を行う基板の枚数に基づいて、インプリント処理を行う際に必要となるモールドの数を決定する
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント方法。 - 基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
複数の基板のインプリント処理を行う際に必要となる数のモールドを、モールド複製装置によりマスタモールドから複製された複数のモールドから特定し、前記インプリント処理に用いるモールド群として決定する制御部を有し、
前記制御部は、同一のモールド複製装置および同一のマスタモールドから複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定する
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、モールド複製装置の複製履歴情報が所定の許容範囲内で複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定する
ことを特徴とする請求項7に記載のインプリント装置。 - 前記複製履歴情報は、複製回数、調整回数または調整後の複製回数を含むことを特徴とする請求項8に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、マスタモールドの複製履歴情報が所定の許容範囲内で複製されたモールドで、前記モールド群が構成されるように決定する
ことを特徴とする請求項7ないし9のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記複製履歴情報は、複製回数、洗浄回数または洗浄後の複製回数を含むことを特徴とする請求項10に記載のインプリント装置。
- 請求項7乃至10のいずれか1項に記載のインプリント装置でパターン形成を基板上に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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JP2015246027A JP6643075B2 (ja) | 2015-12-17 | 2015-12-17 | インプリント方法、型の製造方法、および物品の製造方法 |
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