JP6636865B2 - 表示装置の製造方法及び表示装置 - Google Patents
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Description
図3は、第1の実施形態における表示領域210の断面について概略的に示す図の一例である。図3に示すように、表示パネル200は、基板300と、アレイ層302と、アノード電極304と、リブ306と、発光層308と、第1無機膜310と、第1有機膜312と、第2無機膜314と、第2有機膜316と、第3無機膜318と、を含む。
第1の実施形態においては、下層側に形成される第1有機膜312が、上層側に形成される第2有機膜316よりも薄く形成される場合について説明したが、第1有機膜312が、第2有機膜316よりも厚く形成される構成としてもよい。以下、第2の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同様の構成については説明を省略する。
Claims (6)
- 複数の画素の周辺部にリブを形成する工程と、
第1無機膜を前記リブの上層側に形成する工程と、
前記第1無機膜を覆うように、第1有機膜を形成する工程と、
前記第1有機膜の一部を除去する工程と、
前記第1無機膜と前記第1有機膜のうち前記第1有機膜の一部を除去する工程で除去されなかった領域とを覆うように第2無機膜を形成する工程と、
前記第2無機膜を覆うように第2有機膜を形成する工程と、
前記第2有機膜の一部を除去し、前記第2有機膜の一部を前記第2無機膜の平坦面と傾斜面で構成される凹部を埋めて平坦化する工程と、
前記第2無機膜と前記第2有機膜のうち前記第2有機膜の一部を除去する工程で除去されなかった領域とを覆うように第3無機膜を形成する工程と、を含み、
前記第1有機膜の一部を除去する工程は、前記第1有機膜を、前記リブの高さよりも低い厚さで形成するものであり、
前記第2有機膜を形成する工程は、前記第2有機膜の厚さを前記第1有機膜の厚さはとは異なるように形成するものであり、
前記第2有機膜の一部を除去する工程は、前記第2有機膜の上面が、前記リブの凸形状部の頂面部上の前記第2無機膜の上面よりも低い位置となるようにされるものである、
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 複数の画素の周辺部にリブを形成する工程と、
第1無機膜を前記リブの上層側に形成する工程と、
前記第1無機膜を覆うように、第1有機膜を形成する工程と、
前記第1有機膜の一部を除去し、前記第1有機膜の一部を前記第1無機膜の平坦面と傾斜面で構成される凹部を埋めて平坦化する工程と、
前記第1無機膜と前記第1有機膜のうち前記第1有機膜の一部を除去する工程で除去されなかった領域とを覆うように第2無機膜を形成する工程と、
前記第2無機膜を覆うように第2有機膜を形成する工程と、
前記第2有機膜の一部を除去する工程と、
前記第2無機膜と前記第2有機膜のうち前記第2有機膜の一部を除去する工程で除去されなかった領域とを覆うように第3無機膜を形成する工程と、を含み、
前記第2有機膜を形成する工程は、前記第2有機膜の厚さを前記第1有機膜の厚さとは異なり、前記リブよりも低い高さで形成するものであり、
前記第1有機膜の一部を除去する工程は、前記第1有機膜の上面が、前記リブの凸形状部の頂面部上の前記第1無機膜の上面よりも低い位置となるようにされるものである、
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第1有機膜及び前記第2有機膜の一方は、70乃至500ナノメートルの厚さで形成され、他方は、0.8乃至3.0マイクロメートルの厚さで形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1有機膜または前記第2有機膜の一部を除去する工程はアッシングを含んで行われることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
- 複数の画素を有する表示装置であって、
前記画素の周縁部に形成されたリブと、
前記リブの上層側に形成された第1無機膜と、
前記リブの平坦面と傾斜面の境界付近の上層の領域に、前記第1無機膜と接して形成された第1有機膜と、
前記第1無機膜と前記第1有機膜を覆うように形成された第2無機膜と、
前記リブの凸形状部の頂面部上の前記第2無機膜の上面よりも低い位置に上面が来るように、かつ、前記第2無機膜の平坦面と傾斜面で構成される凹部を埋めて上面を平坦に形成された第2有機膜と、
前記第2無機膜と前記第2有機膜を覆うように形成された第3無機膜と、を有し、
前記第2有機膜は、前記第1有機膜よりも厚く形成され、
隣接する画素に配置される前記第2有機膜は、前記リブにより分離される、
ことを特徴とする表示装置。 - 複数の画素を有する表示装置であって、
前記画素の周縁部に形成されたリブと、
前記リブの上層側に形成された第1無機膜と、
前記リブの凸形状部の頂面部上の前記第1無機膜の上面よりも低い位置に上面が来るように、かつ、前記第1無機膜の平坦面と傾斜面で構成される凹部を埋めて上面を平坦に形成された第1有機膜と、
前記第1無機膜と前記第1有機膜を覆うように形成された第2無機膜と、
前記リブの平坦面と傾斜面の境界付近の上層の領域に、前記第2無機膜と接して形成された第2有機膜と、
前記第2無機膜と前記第2有機膜を覆うように形成された第3無機膜と、を有し、
前記第1有機膜は、前記第2有機膜よりも厚く形成され、
隣接する画素に配置される前記第1有機膜は、前記リブにより分離される、
ことを特徴とする表示装置。
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