JP6634147B2 - オキソカーボン系化合物、樹脂組成物およびインク組成物 - Google Patents

Description

本発明は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格を有するオキソカーボン系化合物と、これを含む樹脂組成物およびインク組成物に関するものである。

スクアリリウム骨格やクロコニウム骨格を化合物中に有するオキソカーボン系化合物は、可視から近赤外領域に吸収域を有する色素として知られており、スクアリン酸やクロコン酸を原料とし、この原料の両端に複素環基を導入することで合成することができる。このようなオキソカーボン系化合物として、例えば以下のような化合物が知られている。

特許文献１には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている（特許文献１の実施例２）。

特許文献２には、下記に示すスクアリリウム化合物やクロコニウム化合物が開示されている（特許文献２の実施例１４，１７）。

特許文献３には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている（特許文献３の実施例１）。

非特許文献１には、下記に示すスクアリリウム化合物が開示されている。

非特許文献２には、下記に示すクロコニウム化合物が開示されている。

近赤外領域に吸収域を有する色素は様々な用途への適用が検討されており、セキュリティインク、近赤外線カットフィルタ等としての利用が期待されている。

セキュリティインクは、偽造防止を目的として、紙幣、金券類、有価証券類、宝くじ等に暗号化された情報（バーコード、２次元コード、ＯＣＲ文字等）を印刷するために用いられたり、物流管理システムの効率化のために、信書や荷物に配送情報等を印刷するのに用いられる。セキュリティインクによって印刷された情報を読み取る手段としては、通常、８５０ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲に発光波長を有する各種レーザーやＬＥＤなどの発光素子が用いられるため、セキュリティインクに用いられる色素には、このような波長域に強い吸収を有することが求められるとともに、可視光下での不可視性に優れることが求められる。例えば特許文献４，５には、近赤外線吸収色素としてフタロシアニン化合物やナフタロシアニン化合物を含有するインクが開示され、また特許文献６には、９００ｎｍ前後に極大吸収波長を有するフタロシアニン化合物が開示されている。

近赤外線カットフィルタは、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等の撮像素子に設置され、これにより、画像処理等の妨げとなる光学ノイズ（例えばゴーストやフレア）を除去することができる。例えば特許文献３には、そのような光学フィルタとして、６６０ｎｍ〜７１０ｎｍの波長域に極大吸収波長を有するスクアリリウム化合物を含有する近赤外線カットフィルタが開示されている。通常の可視光用の撮像素子の場合、７００ｎｍ前後の波長域に極大吸収波長を有する色素を含む光学フィルタを設けることで、光学特性の入射角度依存性が低減し、視野角度を改善することができる。

一方、撮像素子には、一般的なデジタルカメラやビデオカメラ等以外に、監視カメラ等、暗視下での撮影が求められるものもある。夜間などの暗視下での撮影は、人の目では見えない状態での撮影となるので、例えば、近赤外領域の光線を照射して、その反射光を撮像素子で受光することにより行う。暗視用の撮像素子においても、通常の可視光用の撮像素子と同様に、光学特性の入射角度依存性を低減することが求められるが、暗視用の撮像素子では、可視光用の近赤外線カットフィルタを用いても入射角度依存性を低減することは難しく、例えば８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内で所望の波長域の光線を吸収するカットフィルタを設ける必要がある。この場合もまた、このような波長域に強い吸収を有するとともに、可視光領域での光線透過率の高い色素をフィルタに含有させることが求められ、これにより可視光下と暗視下の両方で良好な画像撮影が可能となる。

特開２００８−３０８６０２号公報 特開平６−２５１６５号公報 特開２０１４−１４８５６７号公報 特開平７−１６４７２９号公報 特開２００２−３０９１３１号公報 特開２００７−５６１０５号公報

Tetrahedron Letters, vol.40, p.4067-4068 (1999) Tetrahedron Letters, vol.43, p.8391-8393 (2002)

近赤外吸収色素は、上記に説明したように、セキュリティインクや近赤外線カットフィルタ等への適用が検討されているが、その適用範囲をさらに拡大するために、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収できる色素が求められている。しかし、スクアリリウム化合物やクロコニウム化合物といったオキソカーボン系化合物では、これまでそのような長波長域の光線を吸収できるものは知られていなかった。一方、フタロシアニン化合物では、特許文献６に開示されるように、９００ｎｍ前後の波長域の光線を吸収できるものが知られているが、可視光領域の光線を吸収し、例えば緑色に着色するなど、不可視性の点で改善の余地があった。

本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、より長波長側の近赤外線を吸収でき、可視光領域の光線透過率の高いオキソカーボン系化合物と、これを含む樹脂組成物およびインク組成物を提供することにある。

前記課題を解決することができた本発明のオキソカーボン系化合物とは、下記式（１）または下記式（２）で表されるところに特徴を有する。

［式（１）および式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立して、下記式（３）で表される構造単位を表す。］

［式（３）中、環Ａは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し；Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶は互いに連結して環を形成しており；＊は式（１）中の４員環または式（２）中の５員環との結合部位を表し；環ＡおよびＲ⁷に含まれるπ電子の合計数は１２個以上である。］

本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格から式（３）で示される構造単位にかけてπ電子系が広がって構成され、式（３）の構造単位中の環Ａと置換基Ｒ⁷に含まれるπ電子の合計数が１２個以上となっているため、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物そのものは、可視光領域の光線透過率が高くなるため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。

式（３）中、Ｒ⁵とＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶が互いに連結して形成された、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環を表すことが好ましく、Ｒ⁷は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよいアリール基を表すことが好ましい。

本発明は、本発明のオキソカーボン系化合物と樹脂成分とを含む樹脂組成物も提供する。樹脂組成物は、さらに液媒体を含んでいてもよい。本発明の樹脂組成物は、フィルムに成形したりすることで、例えば暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができるとともに、可視光領域の透過率が高いため、可視光下で使用する撮像素子に対しても好適に適用することができる。本発明の樹脂組成物は、レーザー溶着法による樹脂の溶着に適用することもでき、例えば溶着対象となる樹脂に含ませて用いたり、レーザー光の吸収体として用いることができる。

本発明は、本発明のオキソカーボン系化合物と液媒体とを含むインク組成物も提供する。本発明のインク組成物は、近赤外領域の光線を吸収するとともに、可視光下での不可視性に優れるものとなるため、セキュリティインクとして好適に用いることができる。

本発明はさらに、下記式（５）で表される縮合複素環化合物や、下記式（５）で表される縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させ、上記式（１）または上記式（２）で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有するオキソカーボン系化合物の製造方法も提供する。下記式（５）で表される縮合複素環化合物は、本発明のオキソカーボン系化合物の製造原料として好適に用いることができる。

［式（５）中、環Ａは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し；Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶は互いに連結して環を形成しており；環ＡおよびＲ⁷に含まれるπ電子の合計数は１２個以上である。］

本発明のオキソカーボン系化合物およびこれを含む樹脂組成物およびインク組成物は、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収することができるとともに、可視光領域の光線透過率が高く、可視光下での不可視性に優れるものとなる。

実施例で用いたクロコニウム化合物１と比較クロコニウム化合物１と比較フタロシアニン化合物１の各透過スペクトルを表す。

〔１．オキソカーボン系化合物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格を有する下記式（１）またはクロコニウム骨格を有する下記式（２）で表されるものである。

式（１）および式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立して、下記式（３）で示される構造単位を表す。

式（３）中、環Ａは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、または、これらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表し、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶は互いに連結して環を形成しており、＊は式（１）中の４員環または式（２）中の５員環との結合部位を表し、環ＡおよびＲ⁷に含まれるπ電子の合計数は１２個以上である。

式（１）および式（２）において、Ｒ¹とＲ²は同一または異なっていてもよく、Ｒ³とＲ⁴は同一または異なっていてもよい。Ｒ¹とＲ²が異なる場合またはＲ³とＲ⁴が異なる場合は、オキソカーボン系化合物の分子どうしの会合や凝集が抑制され、溶剤や樹脂に対する溶解性の向上が期待できる。一方、Ｒ¹とＲ²が同一の場合またはＲ³とＲ⁴が同一の場合は、オキソカーボン系化合物の熱や光に対する耐久性の向上が期待できる。

スクアリリウム骨格を有する化合物（以下、「スクアリリウム化合物」と称する）とクロコニウム骨格を有する化合物（以下、「クロコニウム化合物」と称する）には、それぞれ、共鳴関係にある化合物が存在している場合がある。式（１）のスクアリリウム化合物と共鳴関係にある化合物としては、例えば、下記式（１ａ），（１ｂ）で表される化合物が挙げられる。式（２）のクロコニウム化合物と共鳴関係にある化合物としては、例えば、下記式（２ａ）〜（２ｃ）で表される化合物が挙げられる。本発明のオキソカーボン系化合物はこれら全ての共鳴関係にある化合物を含むものとし、具体的には、式（１）のスクアリリウム化合物には、下記式（１ａ），（１ｂ）で表されるような共鳴関係にある化合物が含まれ、式（２）のクロコニウム化合物には、下記式（２ａ）〜（２ｃ）で表されるような共鳴関係にある化合物も含まれる。

スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格に結合する式（３）で示される構造単位において、＊は式（１）で示されるスクアリリウム骨格の４員環または式（２）で示されるクロコニウム骨格の５員環との結合部位を表している。

本発明のオキソカーボン系化合物は、環Ａと置換基Ｒ⁷に含まれるπ電子の合計数が１２個以上となっている。このようにπ電子系が形成されることにより、オキソカーボン系化合物は、より長波長側の近赤外線を効果的に吸収することができ、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物は、可視光領域の光線透過率が高いため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。なお、本発明のオキソカーボン系化合物が８５０ｎｍを超える波長域の光線を吸収する場合、８５０ｎｍを超える全波長域の光線を吸収する必要はなく、例えば８５０ｎｍ〜１３００ｎｍの波長範囲の一部の波長域の光線を一定程度吸収できるものであればよい。

式（３）中、環Ａは、芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。オキソカーボン系化合物は、環Ａを有することにより、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格からピロール環を介して環Ａにかけてπ電子系が広い範囲に広がって形成され、吸収波長の長波長化を実現できる。

環Ａの芳香族炭化水素環は、炭素原子と水素原子から構成され、芳香族性を有する環構造であれば特に限定されず、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環等が挙げられる。芳香族炭化水素環は、環構造を１個のみ有するものであってもよく、２個以上の環構造が縮合したものであってもよい。環Ａの芳香族複素環は、Ｎ（窒素原子）、Ｏ（酸素原子）およびＳ（硫黄原子）から選ばれる１種以上の原子を環構造に含み、芳香族性を有するものであれば特に限定されず、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。芳香族複素環は、環構造を１個のみ有するものであってもよく、２個以上の環構造が縮合したものであってもよい。これらの環構造を含む縮合環は、芳香族炭化水素環と芳香族複素環とが縮環した構造を有するものであり、例えば、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環等が挙げられる。これらの環構造は、任意の位置で式（３）中のピロール環と縮環していればよい。

環Ａに含まれるπ電子の数、すなわち上記の芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環に含まれるπ電子の数は特に限定されず、例えば４個以上であってもよく、６個以上であってもよい。なお、オキソカーボン系化合物のπ電子系を距離的により広い範囲に広げて、吸収波長の長波長化を図りやすくする点から、環Ａに含まれるπ電子の数は１０個以上が好ましく、１２個以上がより好ましく、１４個以上がさらに好ましく、１６個以上がさらにより好ましい。一方、環Ａに含まれるπ電子数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、環Ａに含まれるπ電子数は、２６個以下が好ましく、２４個以下がより好ましく、２２個以下がさらに好ましい。なお、環Ａに含まれるπ電子数とは、環Ａとピロール環とが共有する炭素−炭素結合のπ電子を含む数である。

環Ａが有していてもよい置換基（以下、「置換基Ｘ」と称する）としては、有機基または極性官能基が挙げられる。置換基Ｘの有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基（アルキルチオ基）、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオオキシ基（アリールチオ基）、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミド基、スルホンアミド基、エチレン含有基、イミン含有基、カルボキシ基（カルボン酸基）、ベンゾチアゾール基、ハロゲノアルキル基、シアノ基等が挙げられる。置換基Ｘの極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基（スルホン酸基）等が挙げられる。

前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の脂環式アルキル基；等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜６であり、特に脂環式アルキル基の場合には３以上が好ましい。前記アルキル基は置換基を有していてもよく、アルキル基が有する置換基としては、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等が挙げられる。

前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜５である。前記アルコキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。

前記アルキルチオオキシ基（アルキルチオ基）としては、例えば、メチルチオオキシ基（メチルチオ基）、エチルチオオキシ基（エチルチオ基）、プロピルチオオキシ基（プロピルチオ基）、ブチルチオオキシ基（ブチルチオ基）、ペンチルチオオキシ基（ペンチルチオ基）、ヘキシルチオオキシ基（ヘキシルチオ基）、ヘプチルチオオキシ基（ヘプチルチオ基）、オクチルチオオキシ基（オクチルチオ基）、ノニルチオオキシ基（ノニルチオ基）、デシルチオオキシ基（デシルチオ基）、ウンデシルチオオキシ基（ウンデシルチオ基）、ドデシルチオオキシ基（ドデシルチオ基）、トリデシルチオオキシ基（トリデシルチオ基）、テトラデシルチオオキシ基（テトラデシルチオ基）、ペンタデシルチオオキシ基（ペンタデシルチオ基）、ヘキサデシルチオオキシ基（ヘキサデシルチオ基）、ヘプタデシルチオオキシ基（ヘプタデシルチオ基）、オクタデシルチオオキシ基（オクタデシルチオ基）、ノナデシルチオオキシ基（ノナデシルチオ基）、イコシルチオオキシ基（イコシルチオ基）等が挙げられる。アルキルチオオキシ基の炭素数は、１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜５である。前記アルキルチオオキシ基中のアルキル基は、直鎖状であってもよいし分岐状であってもよい。

前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等の無置換アルコキシカルボニル基の他、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等の置換アルコキシカルボニル基が挙げられる。ここで置換基としては、ハロゲノ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、より好ましくは２〜１０であり、さらに好ましくは２〜５である。前記アルコキシカルボニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。

前記アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基の置換または無置換のアルキルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜５である。前記アルキルスルホニル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよく環状であってもよい。

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基、アズレニル基、フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フェナレニル基等が挙げられる。アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、より好ましくは６〜１５である。前記アリール基は置換基を有していてもよく、アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。

前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。前記アラルキル基は置換基を有していてもよく、アラルキル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数は、７〜２５が好ましく、より好ましくは７〜１５である。

前記アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ピレニルオキシ基、インデニルオキシ基、アズレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ターフェニルオキシ基、クオーターフェニルオキシ基、ペンタレニルオキシ基、ヘプタレニルオキシ基、ビフェニレニルオキシ基、インダセニルオキシ基、アセナフチレニルオキシ基、フェナレニルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基の炭素数は、６〜２５が好ましく、より好ましくは６〜１５である。

前記アリールチオオキシ基（アリールチオ基）としては、例えば、フェニルチオオキシ基、ビフェニルチオオキシ基、ナフチルチオオキシ基、アントリルチオオキシ基、フェナントリルチオオキシ基、ピレニルチオオキシ基、インデニルチオオキシ基、アズレニルチオオキシ基、フルオレニルチオオキシ基、ターフェニルチオオキシ基、クオーターフェニルチオオキシ基、ペンタレニルチオオキシ基、ヘプタレニルチオオキシ基、ビフェニレニルチオオキシ基、インダセニルチオオキシ基、アセナフチレニルチオオキシ基、フェナレニルチオオキシ基等が挙げられる。アリールチオオキシ基の炭素数は、６〜２５が好ましく、より好ましくは６〜１５である。

前記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等の置換または無置換のフェニルオキシカルボニル基；１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基等の置換または無置換のナフチルオキシカルボニル基；等が挙げられる。アリールオキシカルボニル基の炭素数は、７〜２５が好ましく、より好ましくは７〜１５である。

前記アリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、２−フルオロフェニルスルホニル基、３−メチルフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、３−フルオロフェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等の置換または無置換のフェニルスルホニル基；１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基等の置換または無置換のナフチルスルホニル基；等が挙げられる。アリールスルホニル基の炭素数は、６〜２５が好ましく、より好ましくは６〜１５である。

前記アリールスルフィニル基としては、例えば、フェニルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、２−ブトキシフェニルスルフィニル基、２−フルオロフェニルスルフィニル基、３−メチルフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、４−メチルフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等の置換または無置換のフェニルスルフィニル基；１−ナフチルスルフィニル基、２−ナフチルスルフィニル基等の置換または無置換のナフチルスルフィニル基；等が挙げられる。アリールスルフィニル基の炭素数は、６〜２５が好ましく、より好ましくは６〜１５である。

前記ヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の炭素数は、２〜２０が好ましく、より好ましくは３〜１５である。

前記アミド基としては、式：−ＮＨＣＯＲ^a1で表され、Ｒ^a1がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。

前記スルホンアミド基としては、式：−ＮＨＳＯ₂Ｒ^a2で表され、Ｒ^a2がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基としては上記に例示した置換基が具体的に挙げられ、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。

前記エチレン含有基としては、式：−ＣＲ^a3＝ＣＲ^a4−Ｒ^a5で表され、Ｒ^a3〜Ｒ^a5が水素、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基（特にピリジル基）、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基であるもの等が挙げられ、これらの基は置換基を有していていてもよい。Ｒ^a3〜Ｒ^a5の脂肪族炭化水素基は飽和または不飽和のいずれであってもよいが、好ましくは不飽和である。このような脂肪族炭化水素基としては、−（ＣＨ＝ＣＨ）_k−（ｋは１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数である）で表される繰り返し単位を有する基が好ましく、例えばビニル基が挙げられる。また、１，１−ジシアノエチレン基や１−シアノエチレン基なども好ましい。脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０のものが好ましく、より好ましくは１〜１０のものが挙げられる。Ｒ^a3〜Ｒ^a5のアリール基とヘテロアリール基とアルコキシカルボニル基としては、上記に例示したアリール基とヘテロアリール基とアルコキシカルボニル基が挙げられる。

前記イミン含有基としては、式：−ＣＨ＝Ｎ−Ｒ^a6で表され、Ｒ^a6が置換基を有していてもよいアミノ基であるもの等が挙げられる。Ｒ^a6のアミノ基は、置換または無置換のいずれであってもよい。置換基を有するアミノ基としては、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基等が挙げられる。Ｒ^a6のアミノ基に結合するアルキル基やアリール基としては、上記に例示したアルキル基やアリール基が挙げられる。

前記ハロゲノアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、６−フルオロヘキシル基、４−フルオロシクロヘキシル基等のモノハロゲノアルキル基；ジクロロメチル基等のジハロゲノアルキル基；１，１−ジヒドロ−パーフルオロエチル基、１，１−ジヒドロ−パーフルオロ−ｎ−プロピル基、１，１−ジヒドロ−パーフルオロ−ｎ−ブチル基、２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロピル基、２，２，２−トリクロロエチル基等のトリハロメチル単位を有するアルキル基；トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基等のパーハロゲノアルキル基；等が挙げられる。ハロゲノアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜５である。ハロゲノアルキル基のハロゲンとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。

前記ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。

置換基Ｘとしては、上記の中でも、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ハロゲノ基、ニトロ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基、ハロゲノ基、アリール基がより好ましく、これによりオキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めたり、最大吸収波長を所望の波長域へより細かく制御することが容易になる。さらに、オキソカーボン系化合物の製造が容易になるといった効果も得られる。この場合、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオオキシ基の炭素数は１〜５が好ましく、より好ましくは１〜３であり、さらに好ましくは１〜２であり、アルコキシカルボニル基の炭素数は２〜６が好ましく、より好ましくは２〜４であり、さらに好ましくは２〜３であり、アリール基、アリールオキシカルボニル基の炭素数は６〜１２が好ましく、６〜１０がより好ましい。なお、環Ａは置換基Ｘを有さなくてもよい。環Ａが置換基Ｘを有する場合は、その数は１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましい。環Ａが複数の置換基Ｘを有する場合は、複数の置換基Ｘは同一であっても異なっていてもよい。

式（３）中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、それぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶は互いに連結して環を形成している。Ｒ⁵〜Ｒ⁷の有機基または極性官能基としては、置換基Ｘの有機基や極性官能基として例示した基が挙げられる。Ｒ⁵とＲ⁶から形成される環構造としては、炭化水素環や複素環が挙げられ、これらの環構造は芳香族性を有していても有していなくてもよい。

Ｒ⁵とＲ⁶が互いに連結せず独立した基である場合、Ｒ⁵とＲ⁶はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基であることが好ましい。これらの基の具体例は、置換基Ｘとして例示した各基が示される。Ｒ⁵とＲ⁶がこのような基であれば、オキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めたり、最大吸収波長を所望の波長域へより細かく制御することが容易になる。さらに、オキソカーボン系化合物の製造が容易になるといった効果も得られる。

Ｒ⁵またはＲ⁶がアルキル基またはアルコキシカルボニル基である場合、これらの基に含まれるアルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１２であり、さらに好ましくは１〜１０であり、脂環式のアルキル基であれば４〜７が好ましく、より好ましくは５〜６である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が好ましく挙げられる。なお、Ｒ⁵またはＲ⁶がアルキル基である場合、アルキル基が有していてもよい置換基にはアリール基は含まれない。Ｒ⁵またはＲ⁶がアリール基またはアリールオキシカルボニル基である場合、これらの基に含まれるアリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は６〜１０が好ましい。アリール基としては、フェニル基やナフチル基等が好ましく挙げられる。Ｒ⁵またはＲ⁶がアラルキル基である場合、その炭素数（置換基を除く炭素数）は７〜２０が好ましく、より好ましくは７〜１５である。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。Ｒ⁵とＲ⁶の各基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基等が好ましく挙げられる。

Ｒ⁵とＲ⁶が互いに連結して環を形成している場合、上記式（３）の構造単位は下記式（４）のように表される。Ｒ⁵とＲ⁶により形成される環構造、すなわち下記式（４）における環Ｂは任意の環構造であればよく、環Ｂは置換基を有していてもよい。環Ｂとしては、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環であることが好ましい。

環Ｂの炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の炭素数３〜１０の単環のシクロアルカン；シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン（例えば、１，３−シクロヘキサジエン）、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、等の炭素数３〜１０の単環のシクロアルケン等が挙げられる。環Ｂの複素環としては、前記に説明したような炭化水素環の環を構成する炭素原子の１個以上が、Ｎ（窒素原子）、Ｓ（硫黄原子）およびＯ（酸素原子）から選ばれる少なくとも１種以上の原子に置き換わった環構造等が挙げられ、例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、テトラヒドロチオフェン環、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラン環、テトラヒドロピラン環等が挙げられる。これらの炭化水素環や複素環は他の環と縮環した縮合環構造を有していてもよく、そのような環構造としては、例えば、インデン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ベンゾフルオレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。

環Ｂの炭化水素環や複素環は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミド基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。ハロゲノアルキル基は、アルキル基の有する水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子によって置換されたものであればよく、アルキル基の有する水素原子の全てがハロゲン原子によって置換されたパーハロゲノアルキル基であることが好ましい。ハロゲノアルキル基としては、フルオロアルキル基がより好ましく、パーフルオロアルキル基がさらに好ましい。また、ハロゲノアルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましい。

オキソカーボン系化合物の吸収波長の長波長化の観点からは、環Ｂはπ電子を含むことが好ましく、そのような環構造としては、例えば、シクロヘキサジエン環、ピロール環、ピラン環、インデン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾピラン環、フルオレン環、キサンテン環等が挙げられる。この場合の上記式（４）で表される構造単位としては、例えば、下記式（４−１）〜（４−１２）で表される構造単位が示される。

式（４−１）〜（４−１２）中、Ｒ⁸とＲ⁹は、Ｒ⁵とＲ⁶により形成される環構造に結合する基または原子を表し、Ｒ⁸とＲ⁹はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、およびアリールスルホニル基よりなる群から選ばれる基または原子を表すことが好ましい。ハロゲノアルキル基の好適態様等の詳細は、上記に説明した通りである。Ｒ⁸とＲ⁹の各環に結合する数は環構造に応じて変わり、Ｒ⁸またはＲ⁹が複数結合する場合は、複数のＲ⁸またはＲ⁹は同一であっても異なっていてもよい。なかでも、Ｒ⁸とＲ⁹はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる基または原子であることが好ましく、水素原子、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる基または原子であることがより好ましい。この場合、Ｒ⁵とＲ⁶により形成される環構造に結合するＲ⁸とＲ⁹の全てが水素原子ではないことが好ましい。すなわち、Ｒ⁵とＲ⁶により形成される環構造には、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる置換基が結合していることが好ましく、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基よりなる群から選ばれる置換基が結合していることがより好ましい。これにより、オキソカーボン系化合物の吸収波長の長波長化を図ることができる。

環Ｂとしては、置換基を有していてもよい縮合環構造を有する炭化水素環、または、置換基を有していてもよい縮合環構造を有する複素環が好ましく、これによりオキソカーボン系化合物の吸収波長のさらなる長波長化を図ることができる。縮合環構造を有する炭化水素環または複素環は、π電子共役系が縮合環に広がって形成されていることが好ましく、このような観点から、環Ｂに含まれるπ電子数は６以上が好ましく、８以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましく、１２以上がさらにより好ましい。環Ｂに含まれるπ電子数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１６以下がさらに好ましい。なお、環Ｂに含まれるπ電子数とは、環Ｂの環構造中のπ電子数を意味し、環Ｂが縮合環構造を有する場合は縮合環構造に含まれるπ電子も含み、環Ｂの有しうる置換基に含まれるπ電子は含まれない。

環Ｂとしては、インデン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾピラン環、フルオレン環、キサンテン環が好ましく挙げられる。上記の式（４−１）〜（４−１２）で表される構造単位では、式（４−２）、（４−３）、（４−４）、（４−６）、（４−８）、（４−９）、（４−１１）、（４−１２）で表される構造単位が好ましい。吸収波長の長波長化の観点からは、環Ｂとしては、置換基を有していてもよいフルオレン環または置換基を有していてもよいキサンテン環が特に好ましく、上記の式（４−１）〜（４−１２）で表される構造単位では、式（４−４）、（４−１２）で表される構造単位が特に好ましい。これらの構造単位では、フルオレン環またはキサンテン環に含まれるベンゼン環に結合するＲ⁸の全てが水素原子ではなく、かつＲ⁹の全てが水素原子ではなく、上記に挙げた置換基（特に、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、またはシアノ基）が各ベンゼン環に少なくとも１つ結合していることが好ましい。

Ｒ⁷は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよいアリール基であることが好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基と置換基を有していてもよいアリール基の詳細は、上記のＲ⁵とＲ⁶に関する説明が参照される。Ｒ⁷が置換基を有していてもよいアリール基であれば、オキソカーボン系化合物のπ電子系が広がり、吸収波長を長波長シフトできる点で好ましい。このときのＲ⁷に含まれるπ電子数は、オキソカーボン系化合物の製造容易性の点から、６個〜１０個が好ましい。具体的には、Ｒ⁷のアリール基としては、置換基を有していてもよいフェニル基またはナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。なお、Ｒ⁷はπ電子を有しなくてもよく、水素原子やアルキル基（特に炭素数１〜４のアルキル基）であってもよい。この場合、オキソカーボン系化合物の溶剤溶解性を高めやすくなることやオキソカーボン系化合物の製造が容易になる点で好ましい。なお、Ｒ⁷に含まれるπ電子数とは、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格からＲ⁷にかけて繋がって形成されるπ電子系のＲ⁷に含まれるπ電子数を意味する。

オキソカーボン系化合物は、環ＡとＲ⁷に含まれるπ電子の合計数が１２個以上であり、１４個以上がより好ましく、１６個以上がさらに好ましく、これにより、より長波長側の近赤外線（例えば、８５０ｎｍを超える波長域の光線）を効果的に吸収できる。なお、本発明のオキソカーボン系化合物では、環Ａに含まれるπ電子数がこのような範囲にあることがより好ましく、これによりπ電子系が距離的により広い範囲に広がり、吸収波長の長波長化を図りやすくなる。この場合の環Ａとしては、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環、アクリジン環、カルバゾール環等が挙げられる。一方、環ＡとＲ⁷に含まれるπ電子の合計数の上限は特に限定されないが、オキソカーボン系化合物の製造容易性や溶剤溶解性を考慮すると、３０個以下が好ましく、２８個以下がより好ましく、２６個以下がさらに好ましい。

上記式（４）で表される構造単位のうち、製造が比較的容易であり、より長波長域の光線を吸収できるオキソカーボン系化合物を与えることができる構造単位の例を下記に示す。下記式（４−２１）〜（４−２６）に示した構造単位は、上記式（４−４）の構造単位の具体例を表し、下記式（４−２７）〜（４−３２）に示した構造単位は、上記式（４−１２）の構造単位の具体例を表す。下記式（４−２１）〜（４−３２）において、Ｒ⁷〜Ｒ⁹の説明は上記の説明が参照される。式（４−２１）、（４−２２）、（４−２７）、（４−２８）では環Ａとしてフルオランテン環が設けられ、式（４−２３）、（４−２４）、（４−２９）、（４−３０）では環Ａとしてフェナントレン環が設けられ、式（４−２５）、（４−２６）、（４−３１）、（４−３２）では環Ａとしてアントラセン環が設けられている。これらの環構造のピロール環への結合（縮環）様式は、下記式に示した態様に限定されない。また、環Ａとして、これらの環構造以外のものが設けられていてもよい。

上記式（４）で表される構造単位を有するオキソカーボン系化合物としては、より長波長域の光線を吸収できる点から、式（２）で表されるクロコニウム化合物であることが好ましい。また、式（２）において、Ｒ³とＲ⁴の環Ａが同一の環構造を有することが好ましく、Ｒ³とＲ⁴の環Ｂが同一の環構造を有することが好ましい。より好ましくは、式（２）において、Ｒ³とＲ⁴の環Ａが同一の構造（環Ａの環構造とそれに結合し得る置換基も含めた構造）を有し、また、Ｒ³とＲ⁴の環Ｂが同一の構造（環Ｂの環構造とそれに結合し得る置換基も含めた構造）を有する。

本発明のオキソカーボン系化合物は、８５０ｎｍを超える波長域における光線の吸収率を高める点から、極大吸収波長が８３５ｎｍ以上であることが好ましく、８４０ｎｍ以上がより好ましく、８４５ｎｍ以上がさらに好ましい。極大吸収波長の上限は特に限定されず、例えば１３００ｎｍ以下であってもよく、１１００ｎｍ以下であってもよい。

可視光透過率としては、極大吸収波長における透過率を１０％（あるいは１０％以下）としたとき、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの平均透過率が８３％以上であることが好ましく、８４％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。

以上説明したように、本発明のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格またはクロコニウム骨格から環Ａにかけて（あるいはさらに置換基Ｒ⁷にかけて）π電子系が広がって構成され、環Ａと置換基Ｒ⁷に含まれるπ電子の合計数が１２個以上となっているため、より長波長側の近赤外線を吸収することができ、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収することができる。一方、オキソカーボン系化合物そのものは、可視光領域の光線透過率が高くなるため、可視光下での不可視性に優れるものとなる。例えば、フタロシアニン系化合物の中には８５０ｎｍを超える波長域に極大吸収波長を有するものもあるが、フタロシアニン系化合物は４００ｎｍ付近の波長域にｓｏｒｅｔ帯由来の吸収ピークを有し、緑色を呈する場合があるのに対し、本発明のオキソカーボン系化合物は、近赤外吸収色素として機能しつつ、不可視性に優れるものとなる。

本発明のオキソカーボン系化合物は、下記式（５）で表される縮合複素環化合物を、スクアリン酸またはクロコン酸と反応させることにより製造することができる。下記式（５）中、環ＡおよびＲ⁵〜Ｒ⁷は上記の式（３）における意味と同じであり、環ＡおよびＲ⁷に含まれるπ電子の合計数は１２個以上である。環ＡやＲ⁵〜Ｒ⁷の好適態様も上記に説明した通りである。

式（５）で表される縮合複素環化合物は、本発明のオキソカーボン系化合物の原料として好適に用いられ、これにより、本発明のオキソカーボン系化合物を容易に製造することができる。すなわち、式（５）で表される縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させ、式（１）または式（２）で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有する製造方法により、本発明のオキソカーボン系化合物を製造することができる。具体的には、式（１）で表されるスクアリリウム化合物は、式（５）の縮合複素環化合物をスクアリン酸と反応させることにより得ることができ、式（２）で表されるクロコニウム化合物は、式（５）の縮合複素環化合物をクロコン酸と反応させることにより得ることができる。

縮合複素環化合物をスクアリン酸またはクロコン酸と反応させる際の縮合複素環化合物の使用量は、スクアリン酸またはクロコン酸に対し、１倍ｍｏｌ以上が好ましく、より好ましくは１．５倍ｍｏｌ以上であり、さらに好ましくは２倍ｍｏｌ以上であり、また５倍ｍｏｌ以下が好ましく、より好ましくは４倍ｍｏｌ以下であり、さらに好ましくは３倍ｍｏｌ以下である。

スクアリン酸またはクロコン酸と縮合複素環化合物との反応は、溶媒存在下で実施することが好ましい。使用できる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロトルエン、ジクロロベンゼン等の塩素系芳香族類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；等が挙げられる。これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、反応溶媒としてアルコール類を使用する場合は、３級アルコールを使用することが好ましい。前記溶媒の使用量（合計）は、スクアリン酸またはクロコン酸に対して、１質量倍以上が好ましく、５質量倍以上がより好ましく、１０質量倍以上がさらに好ましく、また１００質量倍以下が好ましい。

スクアリン酸またはクロコン酸と縮合複素環化合物との反応において、反応温度は適宜設定すればよく、例えば３０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましく、また１７０℃以下が好ましく、１４０℃以下がより好ましい。当該反応は還流下で行うことが好ましい。反応時間は特に限定されず、反応の進行状況に応じて適宜設定すればよいが、例えば、０．５時間以上が好ましく、１時間以上がより好ましく、また４８時間以下が好ましく、２４時間以下がより好ましい。反応時の雰囲気は、不活性ガス（窒素、アルゴン等）雰囲気とすることが好ましい。

スクアリリウム化合物は、縮合複素環化合物とスクアリン酸とを反応させる公知の合成手法を適宜採用することによって合成できる。例えば、次の論文に記載の合成法によってスクアリリウム化合物を合成することができる：Serguei Miltsov et al.,“New Cyanine Dyes：Norindosquarocyanines”, Tetrahedron Letters, Vol.40, Issue 21, p.4067-4068 (1999)。

クロコニウム化合物の合成方法は特に限定されないが、縮合複素環化合物とクロコン酸とを反応させる公知の合成手法を適宜採用することによって合成できる。例えば、特開２００２−２８６９３１号公報、特開２００７−３１６４４号公報、特開２００７−３１６４５号公報、特開２００７−１６９３１５号公報に記載されている方法でクロコニウム化合物を合成することができる。

式（５）の縮合複素環化合物は、公知の合成手法を適宜採用することによって合成でき、例えば下記の反応式に従って製造することができる。下記反応式において、環ＡおよびＲ⁵〜Ｒ⁷は上記の式（３）における意味と同じである。

例えば、環Ａがフルオランテン環、Ｒ⁵とＲ⁶がメチル基でＲ⁷が水素原子である縮合複素環化合物は、フルオランテニルヒドラジン塩酸塩と３−メチル−２−ブタノンとを反応させることにより合成できる。このように、芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの環構造を含む縮合環のヒドラジン塩酸塩（上記式（６）の化合物）と、ジメチルケトン誘導体（上記式（７）の化合物）とを反応させることにより、式（５）の縮合複素環化合物を合成することができる。縮合複素環化合物の合成は、次の論文も参考にできる：Sajjadifar et al.,“New 3H-Indole Synthesis by Fischer's Method. Part I”, Molecules, Vol.15, p.2491-2498 (2010)。

なお、式（５）の縮合複素環化合物を、スクアリン酸またはクロコン酸と反応させることにより得られたオキソカーボン系化合物は、必要に応じて、ろ過、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、昇華、再結晶、晶析など公知の精製手段によって適宜精製することができる。得られたオキソカーボン系化合物の化学構造は、質量分析法、単結晶Ｘ線構造解析法、フーリエ変換赤外分光法、核磁気共鳴分光法などの公知の分析方法により解析することができる。

〔２．樹脂組成物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、樹脂成分と混合して、樹脂組成物とすることができる。樹脂組成物は、本発明のオキソカーボン系化合物と樹脂成分を少なくとも含むものである。本発明の樹脂組成物は、近赤外領域の光線、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収することができるため、フィルム等の樹脂成形体とすることで、暗視用撮像素子等の光学フィルタに好適に適用することができる。このように形成された光学フィルタは、近赤外領域の短波長側における光学特性の入射角度依存性が低減され、視野角度が改善されたものとなり、また可視光領域の透過率が高く、可視光下で使用する撮像素子に対しても好適に適用することができる。樹脂成形体はまた、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やＣＣＤ用の特定波長吸収フィルタ等への適用も可能である。

本発明の樹脂組成物は、レーザー溶着用途にも好適に用いることができる。レーザー溶着法による樹脂の接合は、レーザー光を透過する光透過性樹脂とレーザー光を吸収する光吸収性樹脂を重ねて、光透過性樹脂側からレーザー光を照射することにより行うことができる。照射されたレーザー光は光透過性樹脂を透過して、光吸収性樹脂の表面でエネルギーが吸収されて発熱し、これにより光吸収性樹脂が溶け、さらに熱伝導により光透過性樹脂も溶けて、両樹脂を溶着することができる。光吸収性樹脂としては、カーボンブラックや黒色染料等を含有した着色樹脂を用いる場合があるが、レーザー溶着には８００ｎｍ〜１３００ｎｍの波長を有するレーザー光（例えば、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、ファイバーレーザー）が用いられるため、光吸収性樹脂を本発明の樹脂組成物から形成することにより、透明樹脂どうしのレーザー溶着が実現できる。つまり、本発明のオキソカーボン系化合物は、レーザー光の吸収材すなわち発熱源として機能させることができる。レーザー溶着法では、本発明の樹脂組成物を、２つの光透過性樹脂の間に挟むレーザー光の吸収体として用いることもできる。

樹脂組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム化合物であってもよいし、クロコニウム化合物であってもよいし、両者が含まれていてもよい。樹脂組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

樹脂組成物には、上記式（１）で表されるスクアリリウム化合物が２種以上含まれていてもよく、あるいは、上記式（２）で表されるクロコニウム化合物が２種以上含まれていてもよい。このように形成された樹脂組成物は、近赤外領域の光線を効果的に吸収できるとともに、オキソカーボン系化合物の樹脂に対する溶解性が向上し、オキソカーボン系化合物を高濃度に含む樹脂組成物を形成することが容易になる。この場合、オキソカーボン系化合物の樹脂に対する溶解性を高める点から、樹脂組成物は、上記式（１）においてＲ¹とＲ²が互いに異なる構造を有するスクアリリウム化合物を少なくとも含むことが好ましく、あるいは、上記式（２）においてＲ³とＲ⁴が互いに異なる構造を有するクロコニウム化合物を少なくとも含むことが好ましい。樹脂組成物はオキソカーボン系化合物を３種以上含むことがより好ましく、そのような樹脂組成物としては、例えば、上記式（１）においてＲ¹とＲ²がともにＲ_xであるスクアリリウム化合物と、Ｒ¹とＲ²がともにＲ_yであるスクアリリウム化合物と、Ｒ¹がＲ_xでありＲ²がＲ_yであるスクアリリウム化合物を含む樹脂組成物や、上記式（２）においてＲ³とＲ⁴がともにＲ_xであるクロコニウム化合物と、Ｒ³とＲ⁴がともにＲ_yであるクロコニウム化合物と、Ｒ³がＲ_xでありＲ⁴がＲ_yであるクロコニウム化合物を含む樹脂組成物が示される。このような樹脂組成物は、オキソカーボン系化合物を複数種含みながら、製造が容易な点で好ましい。なお、ここで説明したＲ_xとＲ_yは、上記式（３）で表される任意の構造単位を表し、Ｒ_xとＲ_yは同一ではない。

本発明のオキソカーボン系化合物は一種の色素と見なすことができるが、本発明の樹脂組成物は、用途に応じた所望の性能が確保される限り、本発明のオキソカーボン系化合物とともに他の色素を含有していてもよい。樹脂組成物に含まれていてもよい色素としては、例えば、本発明のオキソカーボン系化合物以外のスクアリリウム系色素やクロコニウム系色素、中心金属イオンとして銅（例えば、Ｃｕ（ＩＩ））や亜鉛（例えば、Ｚｎ（ＩＩ））等を有していてもよい環状テトラピロール系色素（ポルフィリン類、クロリン類、フタロシアニン類、コリン類等）、シアニン系色素、クアテリレン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素、ジインモニウム系色素、サブフタロシアニン系色素、キサンテン系色素、アゾ系色素、ジピロメテン系色素等が挙げられる。これら他の色素は、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。

本発明の樹脂組成物が他の色素をも含有する場合、他の色素の含有量は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素の合計１００質量％に対し、６０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、他の色素を実質的に含まないことが特に好ましい。

樹脂組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、所望の性能を発現させる点から、樹脂組成物の固形分１００質量％中、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．３質量％以上がより好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。また、樹脂組成物の成形性や成膜性等を高める点から、樹脂組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分１００質量％中、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。樹脂組成物が他の色素も含有する場合は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素との合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。なお、樹脂組成物の固形分の質量は、樹脂組成物から液媒体を除いた質量を意味する。

樹脂組成物に含まれる樹脂成分は、公知の樹脂を用いることができる。樹脂成分としては、透明性が高く、本発明のオキソカーボン系化合物を溶解または分散できるものが好ましい。他の色素を併用する場合は、樹脂成分は、他の色素も溶解または分散できるものが好ましい。このような樹脂成分を選択することにより、透過させたい波長域における高透過率と、遮断したい波長域における高吸収性を両立させることができる。

樹脂成分としては、重合が完結した樹脂のみならず、樹脂原料（樹脂の前駆体、当該前駆体の原料、樹脂を構成する単量体等を含む）であって、樹脂組成物を成形する際に重合反応または架橋反応して樹脂に組み込まれるものも用いることができる。本発明においては、いずれの樹脂も樹脂成分に含まれる。なお後者の場合は、重合反応で得られた反応液中に存在する、未反応物、反応性末端官能基、イオン性基、触媒、酸・塩基性基等により、オキソカーボン系化合物の構造の一部または全部が分解してしまうこともあり得る。従って、そのような懸念がある場合には、重合が完結した樹脂にオキソカーボン系化合物を配合して、樹脂組成物を形成することが望ましい。

樹脂成分としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂（例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等）、シクロオレフィン系樹脂（シクロオレフィンコポリマー、ノルボルネン系樹脂等を含む）、石油樹脂、ロジン系樹脂、ロジンエステル系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂（例えば、ナイロン等）、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアリレート樹脂等）、ポリスルホン樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、セルロース誘導体（例えば、エチルセルロース、酢酸セルロース、ニトロセルロース等）、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂（例えば、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等）、フッ素系樹脂（例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂、フッ素化ポリアリールエーテルケトン、フッ素化ポリイミド、フッ素化ポリアミド酸、フッ素化ポリエーテルニトリル等）、ジアリルフタレート樹脂、クマロンインデン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、キシレン樹脂、アルキド樹脂、マレイン酸樹脂、フマル酸樹脂等が挙げられる。

樹脂成分は透明性が高いことが好ましく、これにより樹脂組成物を光学用途やレーザー溶着用途に好適に適用しやすくなる。樹脂成分は、例えば、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率が７５％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。樹脂成分の前記全光線透過率の上限は特に限定されず、全光線透過率は１００％以下であればよいが、例えば９５％以下であってもよい。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき測定する。

樹脂成分はガラス転移温度（Ｔｇ）が高いことが好ましく、これにより、樹脂組成物やこれから得られる各種成形体の耐熱性を高めることができる。樹脂成分のガラス転移温度は、例えば、５０℃以上が好ましく、７０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましい。樹脂成分のガラス転移温度の上限は特に限定されないが、樹脂組成物の成形加工性を確保する点から、例えば３８０℃以下が好ましい。

樹脂組成物は、射出成形や押出成形等の成形に用いることのできる熱可塑性樹脂組成物であってもよく、スピンコート法、溶媒キャスト法、ロールコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等により塗工できるよう塗料化された樹脂組成物であってもよい。

樹脂組成物が熱可塑性樹脂組成物である場合は、当該樹脂組成物を、射出成形、押出成形、真空成形、圧縮成形、ブロー成形等をすることにより成形品を得ることができる。この方法では、樹脂成分として熱可塑性樹脂を用い、当該熱可塑性樹脂にオキソカーボン系化合物を配合し、加熱成形することにより成形品が得られる。例えば、ベース樹脂の粉体またはペレットにオキソカーボン系化合物を添加し、１５０℃〜３５０℃程度に加熱し、溶解させた後、成形するとよい。成形品の形状は特に限定されるものではないが、板状、シート状、粒状、粉状、塊状、粒子凝集体状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。成形品は任意の異形品であってもよい。また樹脂を混練する際に、紫外線吸収剤、可塑剤等、通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。

樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、オキソカーボン系化合物を含む液状またはペースト状の樹脂組成物を、透明基板（例えば、樹脂板、フィルム、ガラス板等）上に塗工することで、厚さ２００μｍ以下のフィルムや、厚さ２００μｍ超の板状物等の面状成形体を形成することができる。塗料化された樹脂組成物は、オキソカーボン系化合物と樹脂成分と液媒体を含んで構成され、例えば、オキソカーボン系化合物を、樹脂成分を含む溶媒に溶解させたり、オキソカーボン系化合物を、樹脂成分を含む分散媒に分散させることにより、塗料化された樹脂組成物を得ることができる。

樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、樹脂成分としては、有機溶剤に可溶な溶剤可溶性樹脂を用いることが好ましい。なお溶剤可溶性樹脂とは、有機溶剤に可溶な樹脂を意味し、有機溶剤１００質量部に対し、１質量部以上溶解する樹脂が好ましい。樹脂成分が溶剤可溶性樹脂であれば、例えばスピンコート法や溶媒キャスト法等により成膜することで、厚みの薄いフィルムを容易に作製することができる。溶剤可溶性樹脂は、架橋反応（硬化反応）することが可能な反応性基（例えば、エポキシ基やオキセタン環、エチレンスルフィド基等の開環重合性基や、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等のラジカル硬化性基および／または付加硬化性基）を有するものであってもよい。溶剤可溶性樹脂としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、（メタ）アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ウレタン樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

樹脂としては、透明性や耐熱性に優れる観点から、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。

ポリイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にイミド結合を含む重合体であり、例えば、テトラカルボン酸２無水物とジアミンとを重合させてポリアミド酸を得て、これを脱水・環化（イミド化）させることにより製造することができる。ポリイミド樹脂としては、芳香族環がイミド結合で連結された芳香族ポリイミドを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂は、例えば、デュポン社製のカプトン（登録商標）、三井化学社製のオーラム（登録商標）、サンゴバン社製のメルディン（登録商標）、東レプラスチック精工社製のＴＰＳ（登録商標）ＴＩ３０００シリーズ等を用いることができる。

ポリアミドイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にアミド結合とイミド結合を含む重合体である。ポリアミドイミド樹脂は、例えば、ソルベイアドバンストポリマーズ社製のトーロン（登録商標）、東洋紡社製のバイロマックス（登録商標）、東レプラスチック精工社製のＴＰＳ（登録商標）ＴＩ５０００シリーズ等を用いることができる。

フッ素化芳香族ポリマーは、１以上のフッ素原子を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合よりなる群から選ばれる少なくとも１つの結合とを含む繰り返し単位を有する重合体であり、これらの中でも、１以上のフッ素原子を有する芳香族環とエーテル結合とを含む繰り返し単位を必須的に含む重合体であることが好ましい。フッ素化芳香族ポリマーは、例えば、特開２００８−１８１１２１号公報に記載されたものを用いることができる。

（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸またはその誘導体由来の繰り返し単位を有する重合体であり、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂等の（メタ）アクリル酸エステル由来の繰り返し単位を有する樹脂が好ましく用いられる。（メタ）アクリル系樹脂は主鎖に環構造を有するものも好ましく、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、マレイミド環構造等のカルボニル基含有環構造；オキセタン環構造、アゼチジン環構造、テトラヒドロフラン環構造、ピロリジン環構造、テトラヒドロピラン環構造、ピペリジン環構造等のカルボニル基非含有環構造が挙げられる。なお、カルボニル基含有環構造には、イミド基などのカルボニル基誘導体基を含有する構造も含む。カルボニル基含有環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、特開２００４−１６８８８２号公報、特開２００８−１７９６７７号公報、国際公開第２００５／５４３１１号、特開２００７−３１５３７号公報等に記載されたものを用いることができる。

ポリスルホン樹脂は、芳香族環とスルホニル基（−ＳＯ₂−）と酸素原子とを含む繰り返し単位を有する重合体である。ポリスルホン樹脂は、例えば、住友化学社製のスミカエクセル（登録商標）ＰＥＳ３６００ＰやＰＥＳ４１００Ｐ、ソルベイスペシャルティポリマーズ社製のＵＤＥＬ（登録商標）Ｐ−１７００等を用いることができる。

シクロオレフィン系樹脂は、モノマー成分の少なくとも一部としてシクロオレフィンを用い、これを重合して得られる重合体であり、主鎖の一部に脂環構造を有するものであれば特に限定されない。シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプラスチック社製のトパス（登録商標）、三井化学社製のアペル（登録商標）、日本ゼオン社製のゼオネックス（登録商標）およびゼオノア（登録商標）、ＪＳＲ社製のアートン（登録商標）等を用いることができる。

エポキシ樹脂は、エポキシ化合物（プレポリマー）を硬化剤や硬化触媒の存在下で架橋化することで硬化させることができる樹脂である。エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が挙げられ、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ（オグソール（登録商標）ＰＧ−１００）、三菱化学社製のビスフェノールＡ型エポキシ化合物（ＪＥＲ（登録商標）８２８ＥＬ）や水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物（ＪＥＲ（登録商標）ＹＸ８０００）、ダイセル社製の脂環式液状エポキシ化合物（セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ）等を用いることができる。

ポリアリレート樹脂は、２価フェノール化合物と２塩基酸（例えば、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸）とを重縮合して得られる重合体であり、主鎖の繰り返し単位に芳香族環とエステル結合とを含む繰り返し単位を有する。ポリアリレート樹脂は、例えば、クラレ社製のベクトラン（登録商標）、ユニチカ社製のＵポリマー（登録商標）やユニファイナー（登録商標）等を用いることができる。

ポリカーボネート樹脂は、主鎖の繰り返し単位にカーボネート基（−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−）を含む重合体である。ポリカーボネート樹脂としては、帝人社製のパンライト（登録商標）、三菱エンジニアリングプラスチック社製のユーピロン（登録商標）、ノバレックス（登録商標）、ザンター（登録商標）、住化スタイロンポリカーボネート社製のＳＤポリカ（登録商標）等を用いることができる。

樹脂組成物は、有機溶剤などの液媒体を含有するものであってもよく、例えば、樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、液媒体を含むことにより樹脂組成物の塗工が容易になる。液媒体としては、オキソカーボン系化合物の溶媒（溶剤）として機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ＰＧＭＥＡ（２−アセトキシ−１−メトキシプロパン）、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体類（エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等）；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；Ｎ−メチル−ピロリドン（具体的には、１−メチル−２−ピロリドン等）等のピロリドン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジプチルエーテル等のエーテル類；等が挙げられる。これらの液媒体は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

液媒体の含有量としては、樹脂組成物１００質量％中、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、また１００質量％未満が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。液媒体の含有量をこのような範囲内に調整することにより、オキソカーボン系化合物濃度の高い樹脂組成物を得ることが容易になる。

なお、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類等は、オキソカーボン系化合物を分解するおそれがあるため、使用量は少ない方が好ましい。そのためアミド類の含有量は、樹脂組成物１００質量％中、６０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、５質量％以下がさらにより好ましく、０質量％が特に好ましい（すなわち、アミド類を含まない）。

樹脂組成物は、例えば、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物（紫外線吸収剤）を含んでいてもよい。これらの化合物の存在により、３５０ｎｍ〜４００ｎｍ波長域の光に起因する樹脂組成物の劣化を抑制することができる。３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物を併用する場合、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物としては、例えば、ＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）シリーズ、三共化成社製のジスライザー（登録商標）シリーズ、アデカ社製のアデカスタブ（登録商標）シリーズ、住友化学社製のスミソーブ（登録商標）シリーズ、共同薬品社製のバイオソーブ（登録商標）シリーズ、シプロ化成社製のシーソーブ（登録商標）シリーズ等を用いることができる。

樹脂組成物は表面調整剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物を硬化して樹脂層を形成した際に、樹脂層にストライエーションや凹み等の外観上の欠陥を生じることを抑制することができる。表面調整剤の種類は特に限定されず、シロキサン系界面活性剤、アセチレングリコール系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アクリル系レベリング剤などを用いることができる。表面調整剤としては、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ（登録商標）シリーズや信越化学工業社製のＫＦシリーズ等を用いることができる。

樹脂組成物は分散剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物中でのオキソカーボン系化合物の分散性を安定化し、再凝集を抑制することができる。分散剤の種類は特に限定されず、エフカアディティブズ社製のＥＦＫＡシリーズ、ビックケミー社製のＢＹＫ（登録商標）シリーズ、日本ルーブリゾール社製のソルスパース（登録商標）シリーズ、楠本化成社製のディスパロン（登録商標）シリーズ、味の素ファインテクノ社製のアジスパー（登録商標）シリーズ、信越化学工業社製のＫＰシリーズ、共栄社化学社製のポリフローシリーズ、ディーアイシー社製のメガファック（登録商標）シリーズ、サンノプコ社製のディスパーエイドシリーズ等を用いることができる。

本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤、粘度調整剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤、密着性向上剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。

〔３．光学フィルタ（樹脂組成物の適用例）〕
本発明の樹脂組成物は、オプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品、電気・電子部品等の様々な用途で用いられるフィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく使用できる。光学用途のフィルタとしては、特に暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができ、これにより、近赤外領域における光学特性の入射角度依存性が低減され、視野角度が改善された暗視用撮像素子に適した光学フィルタとすることができる。フィルタは、単一または複数の樹脂層から形成されてもよく、支持体と一体化されて形成されてもよい。

支持体と一体化されたフィルタは、例えば、樹脂組成物を、支持体表面（または、支持体と樹脂層との間にバインダー層等の他の層を有する場合は、当該他の層の表面）にスピンコート法や溶媒キャスト法により塗布し、乾燥または硬化することにより形成することができる。また、支持体に対して、樹脂組成物から形成された面状成形体を熱圧着することによりフィルタを形成してもよい。

樹脂組成物から形成された樹脂層は、支持体の一方面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。樹脂層の厚さは特に限定されないが、所望の近赤外線カット性能を確保する点から、例えば０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、また１０ｍｍ以下が好ましく、５ｍｍ以下がより好ましく、３ｍｍ以下がさらに好ましく、１ｍｍ以下が特に好ましい。

支持体としては、樹脂板、樹脂フィルム、ガラス板等の透明基板を用いることが好ましい。支持体に用いられる樹脂板または樹脂フィルムは、例えば、上記に説明した樹脂成分から形成されたものが好ましく用いられる。支持体としてガラス板を用いる場合は、支持体と樹脂層の間に、例えばシランカップリング剤から形成されたバインダー層を設けることが好ましい。これにより樹脂層とガラス支持体との密着性を高めることができる。なお、樹脂層を形成する樹脂組成物に、密着性向上剤としてシランカップリング剤を含めるようにしても、樹脂層とガラス支持体との密着性を高めることができる。

樹脂組成物から形成された樹脂層には、第２の樹脂層として、当該樹脂層と同一または異なる樹脂から構成された保護層を積層させてもよい。保護層を設けることにより、樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物の耐久性（耐分解性）を高めることができる。保護層は、樹脂層の一方面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。樹脂層が支持体上に設けられる場合は、保護層は、樹脂層の支持体とは反対側の面に設けられることが好ましい。

保護層は、樹脂層に含まれるオキソカーボン系化合物の分解を抑える点から、酸素透過率が低く形成されていることが好ましく、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−２法に従って測定した２３℃、ドライ条件での酸素透過率が１００ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下であることが好ましく、７０ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下がより好ましく、５０ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下がさらに好ましい。酸素透過率の下限は特に限定されず、０ｃｃ／ｍ²／ｄａｙであってもよい。なお、酸素透過率の測定は、試験片を挟んだ一方側のチャンバに酸素ガスを導入し、他方側のチャンバに窒素ガスを導入して行う。また、オキソカーボン系化合物の分解を抑える点から、樹脂層および／または保護層に紫外線吸収剤が含まれていてもよい。

本発明の樹脂組成物から光学フィルタを形成する場合、光学フィルタは、蛍光灯等の映り込みを低減する反射防止性や防眩性を有する層（反射防止膜）、傷付き防止性能を有する層、その他の機能を有する透明基材等を有していてもよい。

光学フィルタは、樹脂層上に近赤外線反射膜（例えば、７００ｎｍ〜８００ｎｍの波長域の反射膜）を有していてもよい。近赤外線反射膜は、樹脂層よりも入光側に設けられていることが好ましい。近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化スズを少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜等を用いることができる。光学フィルタに近赤外線反射膜が設けられていれば、光学フィルタの透過光から近赤外線をよりカットすることができる。なお、近赤外線反射膜は、紫外線反射機能を兼ね備えるものであってもよい。

近赤外線反射膜や反射防止膜（可視光反射防止膜）は、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜から構成することができる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．７〜２．５の材料が選択される。高屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化スズ、酸化ビスマス等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；前記酸化物や前記窒化物の混合物やそれらにアルミニウムや銅等の金属や炭素をドープしたもの（例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ））等が挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．２〜１．６の材料が選択される。低屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、二酸化ケイ素（シリカ）、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。

光学フィルタは、撮像素子の構成部材の一つとして用いることができる。撮像素子は、固体撮像素子やイメージセンサチップとも称され、被写体の光を電気信号等に変換して出力する電子部品である。撮像素子は、通常、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等の検出素子（センサ）を有し、レンズを有していてもよい。撮像素子は、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等に用いることができる。特に、本発明の樹脂組成物から形成された光学フィルタを備えた撮像素子は、暗視用として監視カメラ等に好適に適用することができる。撮像素子は、上記の光学フィルタを１または２以上含み、必要に応じて、さらに他のフィルタ（例えば、可視光線カットフィルタ、赤外線カットフィルタ、紫外線カットフィルタ等）を有していてもよい。

本発明の樹脂組成物は、上記に説明した光学用途のフィルタ以外に、任意の基材に塗工して用いることができる。このときの基材としては、樹脂組成物を塗工することで樹脂層を形成できるものであれば特に限定されず、例えば、鉄鋼、非鉄金属（軽金属、貴金属、レアメタル、レアアース、銅、亜鉛、鉛、スズ等）、木、ガラス、コンクリート、石、セラミックス、樹脂、ゴム、皮革、紙、布、毛髪、皮膚等が挙げられる。基材の形状も特に限定されず、粒状、粉状、塊状、これらの凝集体状、板状、シート状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。

〔４．インク組成物〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、インク組成物に適用することができる。インク組成物は、本発明のオキソカーボン系化合物と液媒体を少なくとも含むものである。本発明のインク組成物は、例えば８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収できるとともに、可視光透過率が高く、不可視性に優れるものとなるため、セキュリティインクとして好適に用いることができる。

インク組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム化合物であってもよいし、クロコニウム化合物であってもよいし、両者が含まれていてもよい。インク組成物に含まれるオキソカーボン系化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

インク組成物には、上記式（１）で表されるスクアリリウム化合物が２種以上含まれていてもよく、あるいは、上記式（２）で表されるクロコニウム化合物が２種以上含まれていてもよい。このように形成されたインク組成物は、近赤外領域の光線を効果的に吸収できるとともに、オキソカーボン系化合物の液媒体に対する溶解性が向上し、オキソカーボン系化合物を高濃度に含むインク組成物を形成することが容易になる。この場合、オキソカーボン系化合物の液媒体に対する溶解性を高める点から、インク組成物は、上記式（１）においてＲ¹とＲ²が互いに異なる構造を有するスクアリリウム化合物を少なくとも含むことが好ましく、あるいは、上記式（２）においてＲ³とＲ⁴が互いに異なる構造を有するクロコニウム化合物を少なくとも含むことが好ましい。インク組成物はオキソカーボン系化合物を３種以上含むことがより好ましく、そのようなインク組成物としては、例えば、上記式（１）においてＲ¹とＲ²ともにＲ_xであるスクアリリウム化合物と、Ｒ¹とＲ²がともにＲ_yであるスクアリリウム化合物と、Ｒ¹がＲ_xでありＲ²がＲ_yであるスクアリリウム化合物を含むインク組成物や、上記式（２）においてＲ³とＲ⁴がともにＲ_xであるクロコニウム化合物と、Ｒ³とＲ⁴がともにＲ_yであるクロコニウム化合物と、Ｒ³がＲ_xでありＲ⁴がＲ_yであるクロコニウム化合物を含むインク組成物が示される。このようなインク組成物は、オキソカーボン系化合物を複数種含みながら、製造が容易な点で好ましい。なお、ここで説明したＲ_xとＲ_yは、上記式（３）で表される任意の構造単位を表し、Ｒ_xとＲ_yは同一ではない。

インク組成物は、用途に応じた所望の性能が確保される限り、本発明のオキソカーボン系化合物とともに他の色素を含有していてもよい。他の色素の詳細は、樹脂組成物に含まれてもよい他の色素の説明が参照される。なお、セキュリティインクとして使用する場合などは、他の色素の含有量は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素の合計１００質量％に対し、５０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましい。

インク組成物中の本発明のオキソカーボン系化合物の含有量は、インク組成物１００質量％中、０．１質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、また４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましい。インク組成物が他の色素も含有する場合は、本発明のオキソカーボン系化合物と他の色素との合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。このような範囲に調整することにより、十分な濃度の印字面を得やすくなり、またオキソカーボン系化合物や他の色素のインク組成物中での安定性を確保しやすくなる。

液媒体は、オキソカーボン系化合物の溶媒（溶剤）として機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。液媒体としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のグリコール誘導体類（エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等）；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、３−エトキシプロピロオン酸エチル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；等が挙げられる。これらの液媒体は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

液媒体の含有量は、インク組成物１００質量％中、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、また９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましい。液媒体の含有量をこのような範囲内に調整することにより、オキソカーボン系化合物の溶解性や分散性を高めることができるとともに、オキソカーボン系化合物濃度の高いインク組成物を得ることが容易になる。

インク組成物は、液媒体に加えて樹脂成分を有していてもよい。樹脂成分を配合することにより、インク組成物の粘度や密着性等を高めることができる。樹脂成分は、インク組成物に使用される公知の樹脂を使用することができ、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂（例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等）、シクロオレフィン系樹脂（シクロオレフィンコポリマー、ノルボルネン系樹脂等を含む）、石油樹脂、ロジン系樹脂、ロジンエステル系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂（例えば、ナイロン等）、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアリレート樹脂等）、ポリスルホン樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、セルロース誘導体（例えば、エチルセルロース、酢酸セルロース、ニトロセルロース等）、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂（例えば、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等）、フッ素系樹脂（例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂、フッ素化ポリアリールエーテルケトン、フッ素化ポリイミド、フッ素化ポリアミド酸、フッ素化ポリエーテルニトリル等）、ジアリルフタレート樹脂、クマロンインデン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、キシレン樹脂、アルキド樹脂、マレイン酸樹脂、フマル酸樹脂等が挙げられる。樹脂成分を配合する場合の配合量は、インク組成物１００質量％中、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、また６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

インク組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、表面調整剤、分散剤、電導度調整剤、重合禁止剤、レベリング剤、酸化防止剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤の詳細は、樹脂組成物における添加剤の説明が参照される。

インク組成物は、公知の方法によって製造できる。例えば、本発明のオキソカーボン系化合物を含む色素、液媒体、および、必要に応じて重合性モノマーや重合開始剤、各種添加剤を、サンドミル等の混合機を用いて混合することによって調製できる。必要であれば、このようにして得られた混合液を、孔径３μｍ以下や１μｍ以下のフィルタでろ過してもよい。

本発明のインク組成物は、スクリーン印刷用インク、グラビア印刷用インク、オフセット印刷用インク、フレキソ印刷用インク、インクジェット記録用インク等に使われる通常の溶剤型インク、光（紫外線、可視光、赤外光）硬化型インク、水性インク等の各種インクに適用することができる。

インク組成物は任意の材料に印刷（塗工）して使用して、印刷物を形成することができる。印刷対象物となる基材しては、例えば、紙、布、木、ガラス、コンクリート、石、セラミックス、樹脂、ゴム、皮革、鉄鋼、非鉄金属（軽金属、貴金属、レアメタル、レアアース、銅、亜鉛、鉛、スズ等）、毛髪、皮膚等が挙げられる。印刷対象物となる基材の形状も特に限定されず、シート状、板状、球状、楕円球状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、筒状、粒状、粉状、塊状、粒子凝集体状、針状、繊維状、中空糸状、多孔質状等が挙げられる。

〔５．その他〕
本発明のオキソカーボン系化合物は、上記に説明したような樹脂組成物、樹脂成形体、レーザー溶着用の光熱変換材料、インク組成物以外に、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料（フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー）や、近赤外線を吸収またはカットする機能を有する化粧品用材料、光検出と測距（ＬＩＤＡＲ）システム用材料等への適用も可能である。

本願は、２０１６年２月２５日に出願された日本国特許出願第２０１６−０３４７５６号と２０１６年１２月２７日に出願された日本国特許出願第２０１６−２５４３１０号に基づく優先権の利益を主張するものである。２０１６年２月２５日に出願された日本国特許出願第２０１６−０３４７５６号と２０１６年１２月２７日に出願された日本国特許出願第２０１６−２５４３１０号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

（１）色素化合物の合成
（１−１）合成例１（クロコニウム化合物１の合成）
３００ｍＬの４口フラスコに塩酸６０ｍＬを入れ、フラスコ内の温度を−１０℃以下に冷却し、フラスコ内の温度が０℃を超えないようにしながら、３−アミノフルオランテン５．１３ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を加えて溶解させた。発熱が収まった後に、フラスコ内の温度を−１０℃以下に維持したまま、亜硝酸ナトリウム１．６３ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を蒸留水１１ｇに溶かした溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに塩化スズ・２水和物２６．６３ｇ（０．１１８ｍｏｌ）を塩酸２７ｍＬに溶かした溶液を、フラスコ内の温度が０℃を超えないように１時間かけて滴下し、反応を進行させた。反応終了後、ろ別して得たケーキを真空乾燥機を用いて６０℃で１２時間乾燥し、フルオランテン−３−ヒドラジン塩酸塩を５．５ｇ得た。３−アミノフルオランテンに対する収率は８７．２ｍｏｌ％であった。

次いで、５０ｍＬの４口フラスコに、上記で得られたフルオランテン−３−ヒドラジン塩酸塩３．０１ｇ（０．０１１ｍｏｌ）、３−メチル−２−ブタノン０．９６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）、溶媒として１−ブタノール２０ｇを仕込み、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、６０℃にて４時間反応させて、縮合複素環化合物を得た。反応終了後、縮合複素環化合物を含む溶液を室温まで冷却し、ろ過した後、得られたろ液を２００ｍＬの４口フラスコに移した。そこへクロコン酸０．７８ｇ（０．００６ｍｏｌ）とトルエン２０ｇを加えて、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて６時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をエバポレーターで濃縮し、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製し、精製された単離物をさらにメタノール中で再結晶して、目的物であるクロコニウム化合物１を０．４５ｇ得た。クロコン酸に対する収率は１２．２ｍｏｌ％であった。

得られた化合物は、質量分析計（島津製作所社製「ＬＣＭＳ−２０２０」、Ｍ／Ｚ＝５０−２０００、ポジティブ・ネガティブ同時スキャン）により同定した。具体的には、得られた化合物約１ｍｇをガラス棒に塗布して付着させ、直接イオン化ユニット（ＤＡＲＴ）（島津製作所社製「ＤＡＲＴ−ＯＳ」、ヒーター温度５００℃）にてイオン化し、質量分析計に導入することにより、当該化合物のマススペクトルを測定した。

（１−２）合成例２（クロコニウム化合物２の合成）
合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−メチルアセト酢酸エチルを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物２を得た。クロコン酸に対する収率は５．８ｍｏｌ％であった。

（１−３）合成例３（クロコニウム化合物３の合成）
３００ｍＬの４口フラスコに、窒素流通下、３−（トリフルオロメチル）フェニルアセトン４．４５ｇ（０．０２２ｍｏｌ）を入れ、フラスコ内の温度を−１０℃以下に冷却し、フラスコ内の温度が０℃を超えないようにしながら、ヘキサメチルジシラザンリチウム（１．３Ｍ テトラヒドロフラン溶液）１９．０６ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレンウレア８．４６ｇ（０．０６６ｍｏｌ）、塩化マンガン２．７７ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、臭化ベンジル４．１４ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を順に加えた後、温度を制御せずに一晩撹拌を行った。得られた反応液を希塩酸でクエンチした後、酢酸エチルで抽出し、ブラインにて３回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレーターで濃縮した後、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製して、４−フェニル−３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）ブタン−２−オンを５．０ｇ得た。３−（トリフルオロメチル）フェニルアセトンに対する収率は７８．１ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに４−フェニル−３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）ブタン−２−オンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物３を得た。クロコン酸に対する収率は１０．１ｍｏｌ％であった。

（１−４）合成例４（クロコニウム化合物４の合成）
合成例３において臭化ベンジルの代わりに（２−ヨードエチル）ベンゼンを用いた以外は、合成例３と同様にして、５−フェニル−３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）ペンタン−２−オンを得た。３−（トリフルオロメチル）フェニルアセトンに対する収率は８６．６ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに５−フェニル−３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）ペンタン−２−オンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物４を得た。クロコン酸に対する収率は８．３ｍｏｌ％であった。

（１−５）合成例５（クロコニウム化合物５の合成）
合成例３において３−（トリフルオロメチル）フェニルアセトンの代わりに３，４−ジメトキシフェニルアセトンを用い、臭化ベンジルの代わりに（２−ヨードエチル）ベンゼンを用いたこと以外は、合成例３と同様にして、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−５−フェニルペンタン−２−オンを得た。３，４−ジメトキシフェニルアセトンに対する収率は９５．１ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに３−（３，４−ジメトキシフェニル）−５−フェニルペンタン−２−オンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物５を得た。クロコン酸に対する収率は１５．４ｍｏｌ％であった。

（１−６）合成例６（クロコニウム化合物６の合成）
合成例３において臭化ベンジルの代わりに１−ヨードヘプタンを用いたこと以外は、合成例３と同様にして、３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）デカン−２−オンを得た。３−（トリフルオロメチル）フェニルアセトンに対する収率は８９．１ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに３−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）デカン−２−オンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物６を得た。クロコン酸に対する収率は９．２ｍｏｌ％であった。

（１−７）合成例７（クロコニウム化合物７の合成）
合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに１，１−ジフェニルアセトンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物７を得た。クロコン酸に対する収率は１．８ｍｏｌ％であった。

（１−８）合成例８（クロコニウム化合物８の合成）
水浴中に設置した３００ｍＬの４口フラスコに、窒素流通下、発熱に注意しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド６．７３ｇ（０．０６０ｍｏｌ）、超脱水テトラヒドロフラン３５ｇ、フルオレン３．３２ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、酢酸エチル３．５２ｇ（０．０４０ｍｏｌ）を順に加えた後、湯浴で加熱しながら還流条件にて３時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、希塩酸でクエンチした後、酢酸エチルで抽出し、ブラインにて３回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレーターで濃縮した後、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製して、９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを４．１ｇ得た。フルオレンに対する収率は９７．６％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと、溶媒として１−ブタノールの代わりにｔｅｒｔ−アミルアルコールを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物８を得た。クロコン酸に対する収率は３０．５ｍｏｌ％であった。

（１−９）合成例９（クロコニウム化合物９の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりに２−ブロモ−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２−ブロモ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２−ブロモ−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９７．１ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−ブロモ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物９を得た。クロコン酸に対する収率は１０．４ｍｏｌ％であった。

（１−１０）合成例１０（クロコニウム化合物１０の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりに２−ヨード−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２−ヨード−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２−ヨード−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９５．８ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−ヨード−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物１０を得た。クロコン酸に対する収率は１８．９ｍｏｌ％であった。

（１−１１）合成例１１（クロコニウム化合物１１の合成）
Organic Letters, vol.16, p.4268-4271 (2014) に記載の手法を用いて２−トリフルオロメチル−９Ｈ−フルオレンを合成した。次いで、合成例８において、フルオレンの代わりに２−トリフルオロメチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２−トリフルオロメチル−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２−トリフルオロメチル−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９１．４ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−トリフルオロメチル−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１１を得た。クロコン酸に対する収率は１０．１ｍｏｌ％であった。

（１−１２）合成例１２（クロコニウム化合物１２の合成）
The Journal of Organic Chemistry, vol.69, p.987-990 (2004) に記載の手法を用いて２−シアノ−９Ｈ−フルオレンを合成した。次いで、合成例８において、フルオレンの代わりに２−シアノ−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２−シアノ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２−シアノ−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９５．９ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−シアノ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１２を得た。クロコン酸に対する収率は１２．４ｍｏｌ％であった。

（１−１３）合成例１３（クロコニウム化合物１３の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりに２，７−ジブロモフルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして９−アセチル−９Ｈ−２，７−ジブロモフルオレンを得た。２，７−ジブロモフルオレンに対する収率は９５．９ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに９−アセチル−９Ｈ−２，７−ジブロモフルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１３を得た。クロコン酸に対する収率は１８．５ｍｏｌ％であった。

（１−１４）合成例１４（クロコニウム化合物１４の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりに２−ブロモ−７−ヨード−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２−ブロモ−７−ヨード−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２−ブロモ−７−ヨード−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９５．９ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２−ブロモ−７−ヨード−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１４を得た。クロコン酸に対する収率は１９．３ｍｏｌ％であった。

（１−１５）合成例１５（クロコニウム化合物１５の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりに２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得た。２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９Ｈ−フルオレンに対する収率は９７．３ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１５を得た。クロコン酸に対する収率は９．３ｍｏｌ％であった。

（１−１６）合成例１６（クロコニウム化合物１６の合成）
合成例８に記載される方法により９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを得るとともに、合成例１３に記載される方法により９−アセチル−９Ｈ−２，７−ジブロモフルオレンを得た。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに９−アセチル−９Ｈ−フルオレンおよび９−アセチル−９Ｈ−２，７−ジブロモフルオレンをモル比率１：１で用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１６（混合物）を得た。クロコン酸に対する収率は１２．１ｍｏｌ％であった。

（１−１７）合成例１７（クロコニウム化合物１７の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりにインデンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして１−（１Ｈ−インデン−１−イル）エタン−１−オンを得た。インデンに対する収率は７４．８ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに１−（１Ｈ−インデン−１−イル）エタン−１−オンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表２に示すクロコニウム化合物１７を得た。クロコン酸に対する収率は１．５ｍｏｌ％であった。

（１−１８）合成例１８（クロコニウム化合物１８の合成）
合成例８において、フルオレンの代わりにキサンテンを用いたこと以外は、合成例８と同様にして９−アセチル−９Ｈ−キサンテンを得た。キサンテンに対する収率は８４．２ｍｏｌ％であった。これ以降の合成手順は、合成例１において３−メチル−２−ブタノンの代わりに９−アセチル−９Ｈ−キサンテンを用いたこと以外は、合成例１と同様にして表１に示すクロコニウム化合物１８を得た。クロコン酸に対する収率は１１．７ｍｏｌ％であった。

（１−１９）合成例１９（比較クロコニウム化合物１の合成）
５０ｍＬの４口フラスコに、２，３，３−トリメチル−４，５−ベンゾ−３Ｈ−インドール０．７３ｇ（０．００４ｍｏｌ）、クロコン酸０．２５ｇ（０．００２ｍｏｌ）、溶媒として１−ブタノール１０ｇおよびトルエン１０ｇを仕込み、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて６時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をエバポレーターで濃縮し、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製し、精製された単離物をさらにメタノール中で再結晶して、表２に示す比較クロコニウム化合物１を０．３０ｇ得た。クロコン酸に対する収率は３２．７ｍｏｌ％であった。

（１−２０）合成例２０（比較フタロシアニン化合物１の合成）
特開２００７−５６１０５号公報の実施例２に記載の合成法により、表３に示す比較フタロシアニン化合物１を得た。

（２）樹脂の調製
（２−１）フッ素化芳香族樹脂の調製
温度計、冷却管、ガス導入管、および、撹拌機を備えた反応器に、４，４’−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテル１６．７４質量部、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン１０．５質量部、炭酸カリウム４．３４質量部、ジメチルアセトアミド９０質量部を仕込んだ。反応器に仕込んだ混合物を８０℃に加温し、８時間反応させた。反応終了後、反応溶液をブレンダーで激しく撹拌しながら、１％酢酸水溶液中に注加した。析出した反応物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、フッ素化芳香族樹脂を得た。フッ素化芳香族樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は２４２℃であり、数平均分子量（Ｍｎ）は７０，７７０であった。なお、数平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィーを用い、ポリスチレン換算にて求めた。

（２−２）アクリル系樹脂の調製
温度計、冷却管、ガス導入管、および、撹拌機を備えた反応器に、単量体としてα−アリルオキシメチルアクリル酸メチル（ＡＭＡ）２１．０質量部、Ｎ−フェニルマレイミド９．０質量部、重合溶媒として酢酸エチル４５．０質量部を仕込み、窒素ガスの流通下、撹拌しながら昇温した。反応器内の温度が７０℃で安定した後、アゾ系ラジカル重合開始剤（日本ファインケム社製、ＡＢＮ−Ｖ）０．０３質量部を添加し、重合反応を開始した。反応器内の温度を６９℃〜７１℃に維持しながら３．５時間反応させ、その後、室温まで冷却した。希釈溶媒としてテトラヒドロフランを加え、貧溶媒としてｎ−ヘキサンを用いて再沈殿処理を行い、沈殿物を吸引ろ過により分離した。得られた沈殿物を減圧乾燥器を用いて減圧下８０℃で２時間乾燥し、アクリル系樹脂を得た。ゲル透過クロマトグラフィーにより測定したアクリル系樹脂の重量平均分子量は３１，６００であった。また、示差走査熱量計により測定したアクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１５２℃であった。

（３）フィルタ（樹脂積層基板）の製造例
（３−１）製造例１
ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ユーピロン（登録商標）Ｅ−２０００）を２質量部、クロコニウム化合物７を０．０２質量部、クロロホルム１８質量部を混合して、色素含有樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ、６０ｍｍ×６０ｍｍ×０．３ｍｍ、平均透過率９１％）上に約１ｃｃ垂らした後、スピンコーター（ミカサ社製、１Ｈ−Ｄ７）を用いて塗布した。樹脂組成物を成膜したガラス基板を、イナートオーブン（ヤマト科学社製、ＤＮ６１０Ｉ）を用いて１００℃で３０分間窒素雰囲気下で乾燥することにより、ガラス基板上に樹脂層を形成した樹脂積層基板１を得た。樹脂層の厚みは約２μｍであった。

（３−２）製造例２
製造例１において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン社製、ゼオノア（登録商標）１４１０Ｒ）を用い、またクロロホルムの代わりにジクロロベンゼンを用いたこと以外は、製造例１と同様にして樹脂積層基板２を作製した。

（３−３）製造例３
製造例１において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂の一種であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製、アートン（登録商標）ＲＸ４５００）を用い、クロコニウム化合物７の代わりにクロコニウム化合物８を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例１と同様にして樹脂積層基板３を作製した。

（３−４）製造例４
製造例１において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりにシクロオレフィン系樹脂の一種であるシクロオレフィンコポリマー（ポリプラスチックス社製、ＴＯＰＡＳ（登録商標）５０１３）を用い、クロコニウム化合物７の代わりにクロコニウム化合物８を用い、さらにクロロホルムの代わりにメチルシクロヘキサンを用いたこと以外は、製造例１と同様にして樹脂積層基板４を作製した。

（３−５）製造例５
製造例１において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりに上記（２−１）で調製したフッ素化芳香族樹脂を用い、クロコニウム化合物７の代わりにクロコニウム化合物８を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例１と同様にして樹脂積層基板５を作製した。

（３−６）製造例６
製造例１において、使用した樹脂としてポリカーボネート樹脂の代わりに上記（２−２）で調製したアクリル系樹脂を用い、クロコニウム化合物７の代わりにクロコニウム化合物８を用い、さらにクロロホルムの代わりにトルエンを用いたこと以外は、製造例１と同様にして樹脂積層基板６を作製した。

（３−７）比較製造例１
製造例１において、クロコニウム化合物７の代わりに比較フタロシアニン化合物１を用いたこと以外は、製造例１と同様にして比較樹脂積層基板１を作製した。

（４）評価
（４−１）色素化合物と樹脂積層基板の分光測定
合成例１〜２０で得た各色素化合物のクロロホルム溶液を調製し、波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける吸収スペクトル（透過スペクトル）を測定した。色素化合物のクロロホルム溶液は、極大吸収波長における透過率が１０％（±０．０５％）となるように濃度を調整し、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−１８００）を用いて、測定ピッチ１ｎｍで光線透過率を測定し、波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲で吸収が最大となる波長（極大吸収波長λmax）、極大吸収波長よりも長波長側で透過率が３０％となる波長（％Ｔ３０）、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの平均透過率（可視光透過率）、波長４００ｎｍにおける透過率（％Ｔ（４００ｎｍ））をそれぞれ求めた。また、製造例１〜６および比較製造例１で作製した各樹脂積層基板についても、上記と同様にして波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける吸収スペクトル（透過スペクトル）を測定し、極大吸収波長における透過率を１０％（±０．０５％）としたときの極大吸収波長λmax、％Ｔ３０、可視光透過率、％Ｔ（４００ｎｍ）をそれぞれ求めた。

各色素化合物のクロロホルム溶液の分光測定結果を表４にまとめ、クロコニウム化合物１、比較クロコニウム化合物１、比較フタロシアニン化合物１の各透過スペクトルを図１に示した。クロコニウム化合物１〜１８は環Ａと置換基Ｒ⁷のπ電子の合計数が１６個であり、極大吸収波長λmaxが８９２ｎｍ〜９３４ｎｍ、％Ｔ３０が９１８ｎｍ〜９６３ｎｍ、可視光平均透過率が８５．２％〜９２．２％であった。一方、比較クロコニウム化合物１は環Ａと置換基Ｒ⁷のπ電子の合計数が１０個であり、極大吸収波長λmaxが８１０ｎｍ、％Ｔ３０が８３０ｎｍ、可視光平均透過率が９２．８％であった。クロコニウム化合物１（クロコニウム化合物１〜１８の中で％Ｔ３０が最も低波長となるクロコニウム化合物）と比較クロコニウム化合物１のπ電子数と％Ｔ３０の波長との関係を線形補間すると、π電子数が１２個以上であれば％Ｔ３０の波長が８５０ｎｍ以上となり、８５０ｎｍを超える波長域の光線を効果的に吸収できることが分かる。％Ｔ３０の波長が８５０ｎｍ以上であれば、例えば、セキュリティインクやレーザー溶着用途に好適に用いることができる。なお、比較フタロシアニン化合物１は、極大吸収波長λmaxが９０４ｎｍと８５０ｎｍを超える波長域の光線を吸収することができるものの、可視光平均透過率が８０．８％と低く、不可視性の点でやや劣るものとなった。

表５には、各樹脂積層基板の分光測定結果をまとめた。樹脂積層基板１〜２には色素としてクロコニウム化合物７が含まれており、樹脂積層基板３〜６には色素としてクロコニウム化合物８が含まれており、比較樹脂積層基板１には色素として比較フタロシアニン化合物１が含まれているが、いずれも樹脂の種類によらず、樹脂積層基板の極大吸収波長λmaxの値はクロロホルム溶液中のそれとほぼ近い値となった。また可視光透過率は、樹脂積層基板１〜６の方が比較樹脂積層基板１よりも高くなった。樹脂積層基板１〜６は、例えば暗視用撮像素子の光学フィルタに好適に適用することができる。

（４−２）インク組成物としたときの保存安定性
合成例７で得たクロコニウム化合物７を５ｍｇ秤量し、これをクロロホルムで希釈して１００ｍＬに調製した。得られたクロロホルム溶液をホールピペットを用いて５ｍＬ分取して、さらにクロロホルムで希釈して５０ｍＬに調製し、インク組成物１を得た。得られたインク組成物１を室温にて遮光下で１ヶ月間保存した。調製直後と１ヶ月保存後のインク組成物１について、上記と同様にして波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける吸収スペクトル（透過スペクトル）を測定し、極大吸収波長における透過率と可視光透過率をそれぞれ求めた。クロコニウム化合物７を含むインク組成物１は、１ヶ月が経過しても分光特性上の劣化は確認されず、保存安定性に優れていることが確認された。

本発明のオキソカーボン系化合物は、例えば、近赤外線を吸収・カットする機能を有する半導体受光素子用の光学フィルタ、省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、セキュリティインクや不可視バーコードインクとしての情報表示材料、可視光および近赤外光を利用した太陽電池用材料、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やＣＣＤ用の特定波長吸収フィルタ、レーザー溶着用の光熱変換材料、加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法用材料（フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー）、近赤外線を吸収またはカットする機能を有する化粧品用材料、光検出と測距（ＬＩＤＡＲ）システム用材料等に適用することができる。

Claims (6)

1. 下記式（２）で表されることを特徴とするオキソカーボン系化合物。
   

   

   ［式（２）中、Ｒ ³ およびＲ⁴はそれぞれ独立して、下記式（３）で示される構造単位を表す。］
   

   

   
   ［式（３）中、
   環Ａは、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、アクリジン環またはカルバゾール環を表し、これらの環は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲノ基またはアリール基を置換基として有していてもよく、
   Ｒ⁵とＲ⁶は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、Ｒ ⁵ とＲ ⁶ が互いに連結して形成された、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環を表し、
   Ｒ⁷ は水素原子を表し、
   ＊は式（２）中の５員環との結合部位を表す。］
2. 請求項１に記載のオキソカーボン系化合物と樹脂成分とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
3. さらに液媒体を含む請求項２に記載の樹脂組成物。
4. 請求項１に記載のオキソカーボン系化合物と液媒体とを含むことを特徴とするインク組成物。
5. 下記式（５）で表されることを特徴とする縮合複素環化合物。
   

   

   
   ［式（５）中、
   環Ａは、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、アクリジン環またはカルバゾール環を表し、これらの環は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲノ基またはアリール基を置換基として有していてもよく、
   Ｒ⁵は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表し、Ｒ⁶は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、Ｒ⁵とＲ⁶が互いに連結して形成された、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環を表し、
   Ｒ⁷ は水素原子を表す。］
6. 下記式（５）で表される縮合複素環化合物をクロコン酸と反応させ、下記式（２）で表されるオキソカーボン系化合物を得る工程を有することを特徴とするオキソカーボン系化合物の製造方法。
   

   

   
   ［式（５）中、
   環Ａは、フェナントレン環、アントラセン環、テトラセン環、フルオランテン環、ベンゾフルオランテン環、アクリジン環またはカルバゾール環を表し、これらの環は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲノ基またはアリール基を置換基として有していてもよく、
   Ｒ⁵とＲ⁶は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、または、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基を表すか、Ｒ ⁵ とＲ ⁶ が互いに連結して形成された、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環を表し、
   Ｒ⁷ は水素原子を表す。］
   

   

   ［式（２）中、Ｒ ³ およびＲ⁴はそれぞれ独立して、下記式（３）で示される構造単位を表す。］
   

   

   
   ［式（３）中、
   環ＡおよびＲ⁵〜Ｒ⁷は上記と同じ意味を表し、
   ＊は式（２）中の５員環との結合部位を表す。］

Images