JP6603507B2 - 半導体レーザ素子 - Google Patents
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- AlGaAsからなる一対のクラッド層と、
前記クラッド層間に配置され、前記クラッド層よりも屈折率が高い光ガイド層と、
キャリアの再結合により発光するInGaAsの量子井戸層からなる活性層と、
を備えた半導体レーザ素子において、
前記活性層は、一方の前記クラッド層内に埋め込まれており、且つ、
前記活性層と前記光ガイド層とは、光学的に結合している、
ことを特徴とする半導体レーザ素子。 - 前記一方のクラッド層内において、このクラッド層よりもエネルギーバンドギャップが大きいキャリアブロック層が埋め込まれており、
前記キャリアブロック層は、前記活性層よりも素子表面に近い側に位置する、
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ素子。 - 前記光ガイド層の屈折率をn1、
前記一方のクラッド層の屈折率をn0、
前記光ガイド層の厚さを2a、
前記活性層で発生する光の波長をλ、
波数k=2π/λ、とする場合に、以下の関係式、
a2<π2/4k2(n12−n02)を満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザ素子。 - 前記活性層の厚さをd、
前記光ガイド層から前記活性層までの最短距離をc、
パラメータv=k×a(n12−n02)1/2、
パラメータF1=−2.38×10−1×v4+1.20×v3−2.34×v2+3.14×10−2×v−4.59×10−4、
パラメータF2=3.42×10−1×v4−1.53×v3+2.32×v2−8.59×10−3×v+6.93×10−1、とした場合に、以下の関係式、
c/a<[F2+ln(0.001)−ln{1−exp(F1×(d/a))}]/F1を満たすことを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザ素子。 - 温度300Kにおける前記活性層で発生する光のドブロイ波長をλdとすると、前記光ガイド層から前記活性層までの最短距離cは、
c>λd、を満たすことを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザ素子。
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JPS6399588A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レ−ザ装置およびその製造方法 |
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