JP6596798B2 - アンジュレータ磁石列及びアンジュレータ - Google Patents
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- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 46
- 238000003491 array Methods 0.000 description 34
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/04—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/003—Manipulation of charged particles by using radiation pressure, e.g. optical levitation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/02—Permanent magnets [PM]
- H01F7/0273—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation
- H01F7/0278—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation for generating uniform fields, focusing, deflecting electrically charged particles
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
- H05H13/04—Synchrotrons
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Description
λ(λu,B,E)=130λu[1+(93.37λuB)2/2]/E2
本発明の第1実施形態を説明する。図1に本発明の第1実施形態に係るアンジュレータ磁石列1の構成を示す。アンジュレータ磁石列1は、互いに対向するように間隔をあけて平行に配置された2つの磁石列10及び磁石列20を有する。磁石列10及び磁石列20の夫々は、直線状に配列された複数の磁石30にて形成される。磁石30は、ネオジム磁石等の永久磁石である。特に記述無き限り、磁石列10及び磁石列20を形成する全磁石30は全て同じ形状及び大きさを有しており、各磁石列において複数の磁石30は一定のピッチで配列される。
本実施形態では、アンジュレータ磁石列1における特異な磁石配列を説明するが、まず図2を参照して、アンジュレータ磁石列1の基準例としてのアンジュレータ磁石列1REFの構成を説明する。アンジュレータ磁石列1REFは、磁石列10及び20の基準例としての磁石列10REF及び20REFを備える。尚、図2及びアンジュレータ磁石列を示す後述の各図面では、アンジュレータ磁石列を形成する全磁石30の一部のみが抽出して示されている。
アンジュレータ磁石列の第1改良構成を説明する。第1改良構成に係る図4のアンジュレータ磁石列1Aは、アンジュレータ磁石列1の例であり、上側磁石列10及び下側磁石列20の例としての上側磁石列10A及び下側磁石列20Aを備える。上側磁石列10A単体の構成は上述の上側磁石列10REFのそれと同様であると共に、下側磁石列20A単体の構成は上述の下側磁石列20REFのそれと同様である。
そこで、第2改良構成として、図6にアンジュレータ磁石列1Bを考える。第2改良構成に係るアンジュレータ磁石列1Bは、アンジュレータ磁石列1の例であり、上側磁石列10及び下側磁石列20の例としての上側磁石列10B及び下側磁石列20Bを備える。上側磁石列10B及び下側磁石列20Bの構成は、基本的に、夫々、上側磁石列10REF及び下側磁石列20REFのそれと同様である。
アンジュレータ磁石列の第3改良構成を説明する。第3改良構成に係る図9のアンジュレータ磁石列1Cは、アンジュレータ磁石列1の例であり、上側磁石列10及び下側磁石列20の例としての上側磁石列10C及び下側磁石列20Cを備える。上側磁石列10C及び下側磁石列20Cの構成は、基本的に、夫々、上側磁石列10REF及び下側磁石列20REFのそれと同様であるが、第2改良構成で述べた磁石列のシフト技術が適用されている。更に、第3改良構成では、上側磁石列10Cに上側シフト磁石列及び上側基準磁石列を夫々に複数設け、それに対応して、下側磁石列20Cに下側基準磁石列及び下側シフト磁石列を夫々に複数設けている。
アンジュレータ磁石列の第4改良構成を説明する。第1〜第3改良構成で述べた方法により、上側磁石列及び下側磁石列間における吸引力と反発力は、理想的には完全につりあう。しかし、実際の磁石30の透磁率は1ではないこと及び上側/下側磁石列をシフト磁石列及び基準磁石列に分割したことが原因で、吸引力と反発力は完全にはつりあわず、ギャップによっては吸引力及び反発力のどちらかが表れる(図10(c)参照)。つまり、吸引力のギャップに対する依存曲線(図10(a)参照)と反発力のギャップに対する依存曲線(図10(b)参照)とが一致しない状態が作られる。
図9の磁石列10SC及び20RCにおいて、0°、90°、180°、270°の磁石30を、夫々、(0°+Δφ)、(90°+Δφ)、(180°+Δφ)、(270°+Δφ)の磁石30に置換することができ、その置換後の磁石列10SC及び20RCが夫々磁石列10SD及び20RDである。Δφは所定の正の角度量である。Δφは90°未満であり、通常は0°に近い微小な角度量である。Δφによる磁化方向の回転が、上記微小量のシフトの近似に相当する。
次に、上述した幾つかのアンジュレータ磁石列に対して行ったシミュレーションの内容及び結果を説明する。本シミュレーションでは、周期λuが18mm(ミリメートル)であって且つアンジュレータ磁石列の全長(Z軸方向における長さ)が4.5m(メートル)であることを想定した。また、ギャップの可変範囲を3〜9mmとし、磁石30を形成する永久磁石の残留磁束密度及び比透磁率は夫々1.2T(テスラ)及び1.06であると仮定した。
本発明の第2実施形態を説明する。第2実施形態並びに後述の第3〜第5実施形態は第1実施形態を基礎とする実施形態であり、第2〜第5実施形態において特に述べない事項に関しては、矛盾の無い限り、第1実施形態の記載が第2〜第5実施形態にも適用される。矛盾の無い限り、第1〜第5実施形態の内、任意の複数の実施形態を組み合わせても良い。
本発明の第3実施形態を説明する。第1実施形態では、1周期λuの中に存在する磁石30の個数Mが4であることを想定したが、Mが4以外のアンジュレータ磁石列1を形成しても良い。例として、以下に、M=8又はM=2のアンジュレータ磁石列1を説明するが、Mが2、4及び8の何れでもないアンジュレータ磁石列1を形成することも可能である。
本発明の第4実施形態を説明する。図19は、第4実施形態に係るアンジュレータ(アンジュレータ装置)100の側面図である。
本発明の実施形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。以上の実施形態は、あくまでも、本発明の実施形態の例であって、本発明ないし各構成要件の用語の意義は、以上の実施形態に記載されたものに制限されるものではない。上述の説明文中に示した具体的な数値は、単なる例示であって、当然の如く、それらを様々な数値に変更することができる。
石列(上側磁石列及び下側磁石列)を2組有しているが、夫々の組に本発明が適用されて良い。
10、10REF、10A〜10D、10PA、10PB、10QA、10QB 上側磁石列
10SB〜10SD、10SPA、10SPB、10SQA、10SQB 上側シフト磁石列
10RB〜10RD、10RPA、10RPB、10RQA、10RQB 上側基準磁石列
20、20REF、20A〜20D、20PA、20PB、20QA、20QB 下側磁石列
20SB〜20SD、20SPA、20SPB、20SQA、20SQB 下側シフト磁石列
20RB〜20RD、20RPA、20RPB、20RQA、20RQB 下側基準磁石列
30、30a 磁石
100 アンジュレータ
Claims (5)
- 互いに対向するように間隙をあけて平行に配置された第1磁石列及び第2磁石列を有し、前記第1磁石列に含まれる磁石の磁化方向及び前記第2磁石列に含まれる磁石の磁化方向が、前記第1磁石列及び前記第2磁石列を含む面内において、各磁石列の磁石配列方向に沿って周期的に変化するアンジュレータ磁石列であって、
前記第1磁石列は各々が複数の磁石から成る第1シフト磁石列及び第1基準磁石列を結合して形成される一方で、前記第2磁石列は各々が複数の磁石から成る第2基準磁石列及び第2シフト磁石列を結合して形成され、
前記第1シフト磁石列は、前記第2基準磁石列に対向配置されつつ、前記第1磁石列及び前記第2磁石列により形成される周期性を持った磁場の振幅が最大化される状態を基準として前記第2基準磁石列から見て前記磁石配列方向に平行な所定の向きに所定のシフト量だけシフトして配置され、
前記第2シフト磁石列は、前記第1基準磁石列に対向配置されつつ、前記状態を基準として前記第1基準磁石列から見て前記所定の向きに前記シフト量だけシフトして配置され、
前記第1シフト磁石列において、前記第1基準磁石列から前記シフト量分の距離以内の領域には、前記第1基準磁石列内の磁石の磁化方向を元に磁化方向が定められた磁石が配置される
ことを特徴とするアンジュレータ磁石列。 - 前記領域には、前記第1基準磁石列における所定領域内の磁石の磁化方向と同じ磁化方向を有する磁石が配置され、
前記所定領域は、前記第1基準磁石列の両端の内、前記第1シフト磁石列に近い方の端と、その端から前記所定の向きと反対の向きに前記シフト量だけずれた位置と、に挟まれた領域である
ことを特徴とする請求項1に記載のアンジュレータ磁石列。 - 前記第1シフト磁石列、前記第1基準磁石列、前記第2シフト磁石列及び前記第2基準磁石列は、夫々に複数設けられ、
前記第1磁石列において前記第1シフト磁石列及び前記第1基準磁石列が交互に結合される一方、前記第2磁石列において前記第2基準磁石列及び前記第2シフト磁石列が交互に結合される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のアンジュレータ磁石列。 - 互いに対向するように間隙をあけて平行に配置された第1磁石列及び第2磁石列を有し、前記第1磁石列に含まれる磁石の磁化方向及び前記第2磁石列に含まれる磁石の磁化方向が、前記第1磁石列及び前記第2磁石列を含む面内において、各磁石列の磁石配列方向に沿って周期的に変化するアンジュレータ磁石列であって、
前記第1磁石列は各々が複数の磁石から成る第1シフト磁石列及び第1基準磁石列を結合して形成される一方で、前記第2磁石列は各々が複数の磁石から成る第2基準磁石列及び第2シフト磁石列を結合して形成され、
前記第1シフト磁石列は、前記第2基準磁石列に対向配置されつつ、前記第1磁石列及び前記第2磁石列により形成される周期性を持った磁場の振幅が最大化される状態を基準として前記第2基準磁石列から見て前記磁石配列方向に平行な所定の向きに所定のシフト量だけシフトして配置され、
前記第2シフト磁石列は、前記第1基準磁石列に対向配置されつつ、前記状態を基準として前記第1基準磁石列から見て前記所定の向きに前記シフト量だけシフトして配置され、
前記第1シフト磁石列、前記第1基準磁石列、前記第2シフト磁石列及び前記第2基準磁石列は、夫々に複数設けられ、
前記第1磁石列において前記第1シフト磁石列及び前記第1基準磁石列が交互に結合される一方、前記第2磁石列において前記第2基準磁石列及び前記第2シフト磁石列が交互に結合される
ことを特徴とするアンジュレータ磁石列。 - 請求項1〜4の何れかに記載のアンジュレータ磁石列と、
前記アンジュレータ磁石列における前記第1磁石列及び前記第2磁石列間の間隔が可変となるように、前記アンジュレータ磁石列を保持する保持部と、を備えた
ことを特徴とするアンジュレータ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014214468 | 2014-10-21 | ||
JP2014214468 | 2014-10-21 | ||
PCT/JP2015/078601 WO2016063740A1 (ja) | 2014-10-21 | 2015-10-08 | アンジュレータ磁石列及びアンジュレータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016063740A1 JPWO2016063740A1 (ja) | 2017-08-03 |
JP6596798B2 true JP6596798B2 (ja) | 2019-10-30 |
Family
ID=55760784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016555173A Active JP6596798B2 (ja) | 2014-10-21 | 2015-10-08 | アンジュレータ磁石列及びアンジュレータ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10321552B2 (ja) |
JP (1) | JP6596798B2 (ja) |
WO (1) | WO2016063740A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104409129B (zh) * | 2014-11-17 | 2017-02-22 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种波荡器 |
CN110678943B (zh) * | 2017-05-26 | 2022-04-26 | 日东电工株式会社 | 磁铁的制造方法及磁铁的磁化方法 |
US10485089B2 (en) * | 2017-09-07 | 2019-11-19 | National Synchrotron Radiation Research Center | Helical permanent magnet structure and undulator using the same |
JP6393929B1 (ja) | 2017-09-12 | 2018-09-26 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | アンジュレータ用磁石、アンジュレータおよび、放射光発生装置 |
CN109411109B (zh) * | 2018-12-24 | 2020-03-17 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种偏振可调的永磁波荡器 |
US20240064887A1 (en) * | 2022-08-19 | 2024-02-22 | Uchicago Argonne, Llc | Force Neutral Adjustable Phase Undulator |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5383049A (en) * | 1993-02-10 | 1995-01-17 | The Board Of Trustees Of Leland Stanford University | Elliptically polarizing adjustable phase insertion device |
JPH0831599A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Japan Atom Energy Res Inst | 無理数次高調波を発生するアンジュレータに用いられる磁場発生装置 |
JP3296674B2 (ja) * | 1995-02-02 | 2002-07-02 | 理化学研究所 | シンクロトロン放射における挿入光源 |
JP3164771B2 (ja) * | 1996-11-27 | 2001-05-08 | 信越化学工業株式会社 | 平面型可変偏光アンジュレータの磁場調整方法 |
JP3249930B2 (ja) * | 1997-04-14 | 2002-01-28 | 信越化学工業株式会社 | 挿入光源 |
JPH10340800A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 挿入光源 |
JP4021982B2 (ja) * | 1998-03-03 | 2007-12-12 | 信越化学工業株式会社 | ハイブリッド型ウイグラ |
GB9813327D0 (en) * | 1998-06-19 | 1998-08-19 | Superion Ltd | Apparatus and method relating to charged particles |
JP3995358B2 (ja) * | 1999-01-14 | 2007-10-24 | 日立金属株式会社 | 挿入型偏光発生装置 |
US6574248B1 (en) * | 1999-11-22 | 2003-06-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Laminated wigglers |
US7655922B2 (en) * | 2006-12-07 | 2010-02-02 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Techniques for confining electrons in an ion implanter |
JP5649058B2 (ja) | 2011-02-02 | 2015-01-07 | 独立行政法人理化学研究所 | アンジュレータ磁石列およびアンジュレータ |
CN103931061B (zh) * | 2011-08-09 | 2016-10-19 | 康奈尔大学 | 紧凑的波荡器系统和方法 |
KR101360852B1 (ko) * | 2012-08-24 | 2014-02-11 | 한국원자력연구원 | 주기가변 영구자석 언듈레이터 |
US20150129772A1 (en) * | 2013-10-18 | 2015-05-14 | The Regents Of The University Of California | Surface micro-machined multi-pole electromagnets |
US9355767B2 (en) * | 2014-09-03 | 2016-05-31 | Uchicago Argonne, Llc | Undulator with dynamic compensation of magnetic forces |
-
2015
- 2015-10-08 JP JP2016555173A patent/JP6596798B2/ja active Active
- 2015-10-08 US US15/521,240 patent/US10321552B2/en active Active
- 2015-10-08 WO PCT/JP2015/078601 patent/WO2016063740A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170339777A1 (en) | 2017-11-23 |
US10321552B2 (en) | 2019-06-11 |
WO2016063740A1 (ja) | 2016-04-28 |
JPWO2016063740A1 (ja) | 2017-08-03 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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