JP6596075B2 - オルガノシリコン変性光開始剤およびその光硬化性接着剤組成物 - Google Patents

オルガノシリコン変性光開始剤およびその光硬化性接着剤組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP6596075B2
JP6596075B2 JP2017511653A JP2017511653A JP6596075B2 JP 6596075 B2 JP6596075 B2 JP 6596075B2 JP 2017511653 A JP2017511653 A JP 2017511653A JP 2017511653 A JP2017511653 A JP 2017511653A JP 6596075 B2 JP6596075 B2 JP 6596075B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sil1
organosilicon
alkyl
sil2
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2017511653A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017532298A (ja
Inventor
ハオ ウー、
ジミン パージング リー、
ジンヨウ リー、
ジシャン ルー、
ゼン ルー、
ヨン チャン、
シンガン チャン、
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Henkel AG and Co KGaA
Original Assignee
Henkel AG and Co KGaA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Henkel AG and Co KGaA filed Critical Henkel AG and Co KGaA
Publication of JP2017532298A publication Critical patent/JP2017532298A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6596075B2 publication Critical patent/JP6596075B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39Photocatalytic properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F120/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F120/62Monocarboxylic acids having ten or more carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F120/68Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/28Treatment by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • C08L83/06Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/14Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/414Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components presence of a copolymer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00Presence of (meth)acrylic polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

本発明は、オルガノシリコン変性光開始剤およびそれを含む光硬化性接着剤組成物に関する。
光学的に透明なディスプレイ用途に使用される接着剤、例えば、電子アセンブリの透明なディスプレイ基板上に塗布または積層された接着剤は、UV照射耐性、耐熱性、耐加水分解性、耐黄変性および低ヘイズの特性を有していなければならない。さらに、電磁放射線に曝された光硬化性接着剤組成物中で光硬化反応を開始する光開始剤は、組成物中の他の成分と良好な相溶性を有し、ラジカル重合を開始するのに十分な活性を有するべきである。現在、オルガノポリシロキサンなどのシリコーンポリマーは、光硬化性接着剤組成物の一部として広く使用されている。しかし、市販の光開始剤は、シリコーン系と十分に相溶性または混和性ではない。さらに、多くの市販の光開始剤は、ラジカル光硬化反応中またはその後には安定ではなく、硬化した接着剤のヘイズおよび黄色度などの問題を引き起こし、特に光学的に透明ディスプレイ用途では受け入れられない。
米国特許第4,273,907A号明細書は、オルガノポリシロキサン変性ベンゾイン系光開始剤を開示している。実際の用途に関し、そのようなベンゾイン誘導体が、周囲温度で限られた時間でのみ保存可能であることに言及する必要がある。そのような誘導体は、熱および/またはUV照射に曝されたときに黄変する傾向がある。
米国特許第4,536,265A号明細書は、シロキサン変性アセトフェノン系光開始剤を開示している。このようなアセトフェノン系光開始剤も黄変傾向があり、したがって光学的に透明なディスプレイ用途での使用には適さない。
米国特許第5,776,658A号明細書は、シロキサン変性光開始剤および感光性混合物を開示している。これは、触媒としてRuH(CO)(PPhの存在下で、ベンゾインまたはα−ヒドロキシ−アルキルフェノンとビニルトリメトキシシランとから調製される。光開始剤および感光性混合物は加水分解安定性であることが報告されている。しかしながら、Ru触媒は高価であり、ビニルシロキサンは、カルボニル基に対してオルト位にある芳香族核をアルキル化する。パラ位は占有されておらず、酸化されてUV照射に曝されると黄変することがある。
欧州特許出願公開第1072326A2号明細書には、シロキサン含有α−ヒドロキシアルキルフェノン型光開始剤が開示されている。特許出願に報告された光開始剤は、フェニルエーテル構造を有する。このような構造は、UV照射および熱条件下では不安定である。エーテル結合は過酷な条件下でフェノール構造に分解し、フェノール構造は、キノノイドに変化し、それは最終的に深い色を有し、光学的に透明なディスプレイ用途での使用には受け入れられない。
したがって、本発明の目的は、これらの課題の少なくとも1つを克服することができるオルガノシリコン変性光開始剤を開発することである。これらの問題は、開示された光開始剤によって解決される。
一態様は、以下の式(I)によって表されるオルガノシリコン変性光開始剤を開示する:
Figure 0006596075
式中、
およびRは、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
、R、R、R、およびRの1つは、SIL1−Xであり、他はそれぞれ独立して、水素、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキル、およびハロゲンからなる群から選択され、
Xは、直接結合またはC〜C12アルキレンであり、および
SIL1およびSIL2は、それぞれ独立して、式−SiR10または(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2で表され、
式中、
、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールおよびアリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
R’、R’’およびR’’’は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜CシクロアルキルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群から選択され、
a、bおよびcは、a≧0、b≧0、c>0を満たす数であり、aのcに対する比は、0〜100であり、bのcに対する比は0〜100である。
別の態様は、上記のオルガノシリコン変性光開始剤を含む光硬化性組成物を開示する。
別の態様は、種々の基材の結合または積層、特に光学部品のアセンブリ、または光学的に透明な基材の間または光学的に透明な基材と不透明な基材との間の結合または積層のための上記定義の光硬化性組成物の使用を開示する。
別の態様は、少なくとも1つの表面上に上記定義の光硬化性組成物で被覆された被覆基材を開示する。
別の態様は、上記定義の光硬化性組成物の硬化反応生成物を開示する。
本主題の他の特徴および態様は、以下により詳細に説明される。
<詳細な説明>
本考察は、例示的な実施形態の単なる開示であり、本発明のより広い態様を限定するものではないことは、当業者に理解されるべきである。
一態様では、本開示は一般に、一般式(I)で表されるオルガノシリコン変性光開始剤に関する:
Figure 0006596075
およびRは、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
、R、R、R、およびRの1つは、SIL1−Xであり、他はそれぞれ独立して、水素、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキル、およびハロゲンからなる群から選択され、
Xは、直接結合またはC〜C12アルキレンであり、および
SIL1およびSIL2は、それぞれ独立して、式−SiR10または式(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2で表され、
式中、
、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールおよびアリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
R’、R’’およびR’’’は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜CシクロアルキルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群から選択され、
a、bおよびcは、a≧0、b≧0、c>0を満たす数であり、aのcに対する比は、0〜100であり、bのcに対する比は0〜100である。
本明細書で使用される場合、C〜C20アルキルは、部位中の炭素原子間の単結合のみを含む直鎖または分枝部位を意味し、例えば、C〜C18−、C〜C12−、C〜C10−、C〜C−、C〜C−またはC〜C−アルキルである。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルおよびエイコシルである。
本明細書で使用される場合、ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、例えばフッ素、塩素または臭素、特に塩素またはフッ素を意味する。
本明細書中で使用される場合、C〜C12アルキレンは、二価の連結基を意味し、その末端炭素原子を介して分子フラグメントを結合する結合を形成し、例えばメチレン(−CH−)、エチレン(−CHCH−)、n−プロピレン(−CHCHCH−)、イソプロピレン、n−ブチレン、sec−ブチレン、イソブチレン、tert−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレンまたはドデシレンである。
本明細書で使用される場合、C〜Cシクロアルキルは、少なくとも1つの環を含む直鎖または分枝アルキルを意味し、例えばシクロペンチル、メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチル−またはジメチル−シクロヘキシルまたはシクロオクチル、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
本明細書中で使用される場合、C〜Cアルケニルは、モノ−またはポリ−不飽和で直鎖または分枝を意味し、例えば、C〜C−またはC〜C−アルケニルである。その例は、アリル、メタリル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、1−ヘキセニルおよび1−オクテニル、特にアリルである。C〜CアルケニルとしてのRおよびRは、例えば、C〜Cアルケニル、特にC〜Cアルケニルである。
本明細書で使用される場合、アリールは、単環(例えば、フェニル)または少なくとも1つの環が芳香族である多縮合(縮合)環(例えば、ナフチル、ジヒドロフェナントレニル、フルオレニル、またはアントリル)を有する6〜20個の炭素原子の不飽和芳香族炭素環式基を意味する。好ましいアリールには、フェニル、ナフチルなどが含まれる。本明細書で使用される場合、アリールC〜Cアルキルは、例えば、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジルまたはα、α−ジメチルベンジル、特にベンジルを意味する。
上記の基は、さらに置換されていても置換されていなくてもよい。置換されている場合、基上の水素原子は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアリシクリル、アラルキル、ヘテロアラルキル、(ヘテロアリシクリル)アルキル、ヒドロキシ、保護ヒドロキシル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、エステル、メルカプト、アルキルチオ、アリールチオ、シアノ、ハロゲン、カルボニル、チオカルボニル、O−カルバミル、N−カルバミル、O−チオカルバミル、N−チオカルバミル、C−アミド、N−アミド、S−スルホンアミド、N−スルホンアミド、C−カルボキシ、保護C−カルボキシ、O−カルボキシ、イソシアナート、チオシアナート、イソチオシアナート、ニトロ、シリル、スルフェニル、スルフィニル、スルホニル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、トリハロメタンスルホニル、トリハロメタンスルホンアミド、および一置換および二置換アミノ基を含むアミノ、およびそれらの保護誘導体から独立して選択される1以上の基である置換基で置換される。アリールが置換される場合、アリール基上の置換基は、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニルおよびヘテロシクリルを含むアリール基に縮合した非芳香族環を形成することができる。
本明細書で使用される場合、(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2の構造は、シロキサン構造に含まれる特定のユニットを参照して同定することができる。これらのユニットは、M、DおよびTユニットと呼び、実験式R’SiO3/2、R’’SiO2/2およびR’’’SiO1/2を有するユニットをそれぞれ表し、R’、R’’およびR’’’は上記定義の1価の置換基を表す。文字表記M、D、Tは、ユニットが単官能性、二官能性または三官能性であるということをそれぞれ指す。M、DおよびTのユニットは、ランダムまたはブロックユニットで配置される。例えば、M、DおよびTのユニットのブロックは、互いに続くことができるが、調製中に使用されたシロキサンに依存して、個々のユニットをランダム分布で連結することもできる。
一実施形態では、RおよびRは、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリール、アリールC〜Cアルキルからなる群から選択される。1つの特定の実施形態では、RおよびRは、C〜Cアルキル、特にC〜Cアルキル、好ましくは、C〜Cアルキルであり、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、またはtert−ブチルであり、特にメチルである。
別の実施態様では、RはSIL1−X−であり、R、R、R、およびRのそれぞれが、水素またはC〜Cアルキルであり、好ましくは水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ヘキシルまたはオクチルであり、特に水素である。
さらに別の実施態様では、SIL1および/またはSIL2は、式−SiR10で表されるシリル基であり、式中、R、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリール、アリールC〜Cアルキルからなる群から選択される。1つの特定の実施態様では、R、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜Cアルキル、特にC〜Cアルキル、好ましくはC〜Cアルキルであり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、またはフェニルもしくはベンジル、特にメチルまたはベンジルである。好ましくは、SIL1および/またはSIL2は、トリメチルシリル(TMS)、ジメチルフェニルシリル、ジメチルフェニルエチルシリルおよびトリ−n−プロピルシリルからなる群から選択される。特定の一実施態様では、R、RおよびR10は、それぞれ独立してメチルであり、SIL1および/またはSIL2は、トリメチルシリル(TMS)に相当する。別の特定の実施態様では、RおよびRは、それぞれ独立してメチルであり、R10はフェニルであり、したがってSIL1および/またはSIL2はジメチルフェニルシリルに相当する。さらに別の特定の実施態様ではRおよびRは、それぞれ独立してメチルであり、R10はフェニルエチルであり、したがってSIL1および/またはSIL2はジメチルフェニルエチルシリルに相当する。さらに別の特定の実施態様では、R、RおよびR10は、n−プロピルであり、したがってSIL1はトリ−n−プロピルシリルに相当する。
さらに別の実施態様では、SIL1および/またはSIL2は、それぞれ独立して、一般式(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2で表されるシロキシル基であり、式中、R’、R’’およびR’’’は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜CシクロアルキルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群からそれぞれ独立して選択され、特にC〜Cアルキル、好ましくは、C〜Cアルキル、さらに好ましくは、C〜Cアルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピルまたはn−ブチル、特にメチルであり、;a、bおよびcは、a≧0、好ましくは0≦a≦5000、より好ましくは0≦a≦1000であり、;b≧0、好ましくは0≦b≦10000、より好ましくは0≦b≦1000であり、;c>0、好ましくは1≦c≦5000、より好ましくは1≦c≦1000を満たす数であり;aのcに対する比は0〜100、好ましくは0〜50、より好ましくは0〜30であり、;bのcに対する比は0〜100、好ましくは0〜80、より好ましくは0〜60である。1つの特定の実施態様では、R’、R’’およびR’’’は、それぞれメチルであり、a=0、b=1およびc=2であり、したがってシロキシル基は1,1,1,3,5,5,5‐ヘプタメチルトリシロキシルに相当する。別の特定の実施態様では、R’、R’’およびR’’’は、それぞれメチルであり、a=0、b=1およびc=3であり、したがってシロキシル基は1,1,1,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルに相当する。
さらに別の実施態様では、連結基Xは、直接結合またはC〜C12アルキレン、特にC〜Cアルキレン、好ましくはC〜Cアルキレン、より好ましくはC〜Cアルキレンであり、例えばメチレン、エチレン、n−プロピレン、イソプロピレン、n−ブチレン、イソブチレンまたはtert−ブチレン、特に直接結合、メチレン、エチレンまたはn−プロピレンである。
以下の化合物が特に好ましい:
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、トリメチルシリルであり、Xが、直接結合であり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルであり、Xが、エチレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルであり、Xが、n−プロピレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、Xが、n−プロピルであり、SIL2が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキキシルである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、1,1,1,3,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルであり、Xが、エチレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2が、1,1,1,3,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、ジメチルフェニルシランであり、Xがエチレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2がジメチルフェニルシランである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、ジメチルベンジルシランであり、Xがエチレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2がジメチルベンジルシランである式(1)の化合物;
−RおよびRが、メチルであり、Rが、SIL1−X−であり、式中、SIL1が、トリ−n−プロピルシランであり、Xはエチレンであり、R、R、RおよびRが、水素であり、SIL2はトリ−n−プロピルシランである式(1)の化合物;
以下の特定の化合物はまた、オルガノシリコン変性光開始剤として特に重要である:
Figure 0006596075
Figure 0006596075
開示されたオルガノシリコン変性光開始剤は、当業者に公知の方法によって調製することができる。典型的には、調製方法は、実施例にも示されるように、求核置換反応またはヒドロシリル化反応工程、求核付加反応工程および脱水素反応工程の3つの工程を含む。適切な方法は、例えば、PCT/CN2012/085935に記載される。
別の態様は、上で定義したオルガノシリコン変性光開始剤を含む光硬化性組成物に関する。特に、光硬化性組成物は、(A)少なくとも1種のエチレン性不飽和フリーラジカル光重合性化合物;および(B)少なくとも1種の上記オルガノシリコン変性光開始剤を含む。
成分(A)は、1以上のオレフィン性二重結合を含んでいてもよい。成分(A)に制限はなく、成分(A)および他の任意の成分または添加剤の例は、例えば、米国特許第6376568B1号明細書に見出すことができ、参照により本明細書に明示的に組み込まれる。一実施態様では、成分(A)は、少なくとも1つの光重合性オルガノポリシロキサンまたはシリコーン樹脂、好ましくは(メタ)アクリロキシシロキサンであってもよい。上記オルガノシリコン変性光開始剤の組成物中の使用量は特に限定されないが、例えば、組成物の全重量に対して0.1〜30重量%、好ましくは0.2〜15重量%の範囲である。
別の態様は、上記定義の光硬化性組成物の使用に関する。光硬化性組成物は、優れたヘイズおよび黄色度を有し、したがって、様々な基材の結合または積層、特に光学部品のアセンブリ、または光学的に透明な基材の間、または光学的に透明な基材と不透明な基材の間の接着または積層に適する。本開示は、以下の例を参照することにより、より理解することができる。
<例>
<略語>:
EtO:エチルエーテル
n−BuLi:n−ブチルリチウム
TMSCl:塩化トリメチルシリル
THF:テトラヒドロフラン
TLC:薄層クロマトグラフィー
TMS:トリメチルシリル
(TMSO)MeSiH:1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン
例1:
光開始剤PI−1の合成
光開始剤PI−1を以下に示すようにスキーム1に従って合成した。温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた500mLフラスコ中で、200mLのEtO中の1,4−ジブロモベンゼン(23.6g、100mmol)を−78℃でn−BuLi(41.7mL、THF中2.4M)で処理し、次いでTMSCl(5.2mL、40mmol)を用いて−78℃で反応を停止させ、IM−1(22g、収率96%)を油状物として得た。
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン酸(10.41g、100mmol)およびピロリジン(28.4g、400mmol)を、120mLのトルエンおよび120mLのTHF中のSOCl(14.3g、120mmol)の存在下、−15℃〜−5℃で6時間、カップリングし、70%の収率で11gのB−1が得られた。
温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた100mLのフラスコに、11gのB−1をTHF2mLおよびトルエン12mLの溶媒混合物に加えた。溶液を真空/Nパージにより脱気した。混合物を−35〜−30℃に冷却し、n−BuLi(2.4Mヘキサン溶液、2mL、4.8mol)を温度を−30℃未満に保ちながら0.5時間かけてゆっくりと添加した。温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた別の100mLフラスコ中で、THF2mLおよびトルエン12mLの溶媒混合物に(4−ブロモフェニル)トリメチルシラン(1.0g、4.8mmol)を溶解し、−35℃に冷却した。溶液も完全に脱気した。温度を−30℃未満に保ちながら、n−BuLi(ヘキサン中2.4M、2mL、4.8mol)を冷溶液にゆっくり加えた。アミド−アルコキシド溶液をカニューレを介して30分かけてアリールリチウムスラリーに移した。得られた溶液を−15℃まで1時間かけて、次いで−5℃まで1時間かけて加温した。混合物を、TLCによって決定される反応が完了するまで−5℃でエージングさせた。反応を、激しく攪拌しながら2N塩酸で停止させた。これにより無色油状物として0.620g(61%)のIM−2が得られる。スケールアップも成され、24gのIM−2が全体として得られた。
続いて、1M−2(0.90g、2.18mmol)に1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(0.485g、2.18mmol)およびB(C(1.7mg、0.0033mmol)を60℃で30分間で添加した。次いで、混合物をさらに30分間撹拌した。反応混合物をシリカカラムのカラムクロマトグラフィーで精製し、1.0gのPI−1を得た。スケールアップして、全体として4.9gのPI−1を得る。
Figure 0006596075
例2
光開始剤PI−2の合成
光開始剤PI−2を下記に示すスキーム2に従って合成した。1−ブロモ−4−ビニルベンゼン(183mg、1mmol)、トルエン(10mL)、1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(445mg、2mmol)およびキシレン中の白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(2重量%Pt、20μL)を50mLシュレンク管に入れ、その後、110℃で2日間加熱し、カラムクロマトグラフィーは、TLCプレート上にポットのみを示す複合化合物を示した。次いで、大規模なIM−3、1−ブロモ−4−ビニルベンゼン(18.3g)を実施した。生成物をさらに精製することなく次の工程に使用した。
温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた100mLフラスコにB−1(654mg、4.2mmol)をTHF2mLおよびトルエン12mLの混合溶媒に加えた。溶液を真空/Nパージにより脱気した。混合物を−35〜−30℃に冷却し、n−BuLi(ヘキサン中1.6M、2.63mL、4.2mol)を温度を−30℃未満に保ちながら0.5時間かけてゆっくりと添加した。温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた別の100mLフラスコに、IM−3(1.18g、5mmol)をトルエン12mLおよびTHF2mLに溶解し、−30℃に冷却した。溶液も完全に脱気した。冷却溶液にn−BuLi(ヘキサン中1.6M、3.12mL、5mol)を2時間かけてゆっくりと加え、温度を−30℃未満に保ちながら白色スラリーを形成した。アミド−アルコキシド溶液を30分間かけてアリールリチウムスラリーに移した。得られた溶液を−15℃まで1時間かけて、次いで−5℃まで1時間かけて加温した。混合物を、TLCによって測定して反応が完了するまで−5℃でエージングさせた。激しく攪拌しながら、氷冷した2N塩酸にカニューレ挿入して反応を停止させた。これにより油としての0.9gの粗IM−4が得られる。スケールアップを行い、8.1gのIM−4を得た。
次の工程で、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(0.485g 2.18mmol)およびB(C(1.7mg、0.0033mmol)をIM−4(0.90g、2.18mmol)に60℃で30分間添加し、混合物をさらに30分間撹拌した。反応混合物をシリカカラムでのカラムクロマトグラフィーにより精製し、1.0gのPI−2を得た。スケールアップして全体として4.9gのPI−2を得る。HNMR(400MHz,CDCl):0.01(m,6H),0.1(m,36H),0.82(m,2H),1.58(m,6H),2.65(m,2H),7.03−7.45(m,2H),8.12(m,2H)
Figure 0006596075
例3:
光開始剤PI−3の合成
光開始剤PI−3を以下に示すようにスキーム3に従って合成した。第1工程では、1−アリル−4−ブロモベンゼン(7.5g、38mmol)、トルエン(100mL)、1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(12.6g、57mmol)およびキシレン中の白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン錯体(2重量%Pt、750μL)を250mLシュレンク管に入れ、次いで混合物を110℃で16時間加熱した。生成物IM−6をさらに精製することなく次の工程に使用した。
温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた100mLフラスコ中で、B−1(1.95g、12.4mmol)をTHF2mLおよびトルエン12mLの溶媒混合物に加えた。溶液を真空/Nパージにより脱気した。混合物を−35〜−30℃に冷却し、n−BuLi(ヘキサン中2.5M、5.0mL、12.4mmol)を温度を−30℃未満に保ちながら0.5時間かけてゆっくりと添加した。温度計、冷却装置および滴下漏斗を備えた別の100mLフラスコに、IM−5(5.2g、12.4mmol)をトルエン12mLおよびTHF2mLに溶解し、−30℃に冷却した。溶液も完全に脱気した。冷却溶液にn−BuLi(ヘキサン中2.5M、5.0mL、12.4mol)を2時間かけてゆっくりと加えて、温度を−30℃未満に保ちながら白色スラリーを形成した。アミド−アルコキシド溶液を30分間かけてアリールリチウムスラリーに移した。得られた溶液を−15℃まで1時間かけて、次いで−5℃まで1時間かけて加温した。混合物を、TLCによって測定して反応が完了するまで−5℃でエージングした。激しく撹拌しながら氷冷した2N塩酸に滴下して反応を停止させた。これにより、油状物としての900mgの粗IM−6を得る。
次の工程で、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン(0.485g 2.18mmol)およびB(C(1.7mg、0.0033mmol)をIM−6(0.90g、2.18mmol)に60℃で30分間添加した。次いで、混合物をさらに30分間撹拌した。反応混合物をシリカカラムのカラムクロマトグラフィーで精製し、1.0gのPI−3を得た。スケールアップして全体として4.9gのPI−3を得る。HNMR(400MHz,CDCl):0.01(s,6H),0.09(s,36H),0.49(t,J=9.0Hz,2H),1.61(s,6H),1.64(m,2H),2.67(t,J=7.5Hz,2H),7.21(d,J=9.0Hz,2H),8.16(d,J=9.0Hz,2H)
Figure 0006596075
例4:
光開始剤の評価。
PI−2(E1)を用いて、光開始、UV耐性、耐黄変性および耐ヘイズ特性を評価した。第1の比較例はDarocur(登録商標)1173(CE1)であり、日光に長期間曝されてもUVコーティングが最小限の黄変しか示さないことが必要とされる際に特に推奨される。第2の比較例は、フェニル基のみで一置換されたシリコーンであるIM−4(CE2)である。第3の比較例は、α−ヒドロキシ−アルキルフェノンのヒドロキシル基で一置換されたシリコーンであるPI−0(CE3)である。評価に用いた光開始剤の構造を以下に示した。:
Figure 0006596075
評価のために、光開始剤をアクリレートシリコーンマトリックス(15MDMA:60DMA=4:1)中に均一に混合し、それぞれUV照射に曝した。光硬化性組成物に使用される光開始剤の各量は、接着剤組成物の全重量に対して1.6重量%である。
15MDMAは、シラノール末端ポリジメチルシロキサン(AB Specialty SiliconesのAndisil MOH 1000)とメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン(Gelest Inc.のGelest SIA 200.0)との反応により調製されたアクリレートシリコーンである。
60DMAは、リチウムn−ブチルジメチルシラノレートの存在下で、シラノール末端ポリジメチルシロキサン(AB Specialty SiliconesからのAndisil OH 50,000)とメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン(Gelest Inc.のGelest SIA 200.0)との反応によって調製されたアクリレートシリコーンである。
15MDMAおよび60DMAの合成の詳細は、当業者に知られており、例えば、米国特許第5663269号明細書の実施例3に記載される。
次いで、得られた光開始剤およびポリマーの各混合物を、750ミクロンの空隙を有するガラスの2つの層の間に置き、光開始剤およびポリマーの層を750ミクロンの厚さにし、次いでFusion System UVチャンバー(Producer:Loctite;タイプ:UVALOC 1000)を用いてHバルブで180mW/cmで30秒間UV照射に曝し、硬化した。硬化直後に、ASTM D1003に従ってDatacolor Corporationから入手可能なDatacolor 650装置により、試料の透過率、ヘイズおよびb値(黄色度)を測定し、結果を表1に示した。硬化後、PI−2を含む組成物は、他の比較光開始剤を含む組成物と比較して、低いヘイズおよび低いb値を示した。さらに、QUV試験機(UVA−340、Q−Lab社製)で400時間エージングした。エージングの波長領域は295nmから365nmであり、ピーク発光は340nmである。再度サンプルの透過率、ヘイズ、およびb値(黄色度)を測定し、その結果を表1に示した。
Figure 0006596075
ヘイズ値は、試料が透明であるかどうかを示し、ヘイズ値が低下するにつれて透明度が増加することは、当業者には周知である。また、b値は硬化した試料の黄色度を示し、b値が低下すると黄色度の傾向が低下する。表1から分かるように、光開始剤PI−2を含む組成物E1は、透過率、ヘイズおよびb値において優れた特性を示し、光学的透明な用途での使用に非常に適する。
比較光開始剤Darocur(登録商標)1173によって開始されたエージング比較試料CE1は、他の試料と比較して、透過率、ヘイズ値およびb値において劣った特性を示した。比較光開始剤PI−0によって開始されたエージング比較試料CE2は、透過率およびヘイズ値において良好な特性を示したが、エージング生成物の黄色度を示すb値は著しく大きかった。比較光開始剤IM−4によって開始されたエージング比較試料CE3は、透過率およびb値において良好な特性を有したが、そのヘイズ値は相当なものであった。本発明の光開始剤PI−2によって開始されたエージング試料のみが、透過率、ヘイズ値およびb値における優れた性能の組合せを示した。
以下の理論に縛られることは望まないが、CE1〜3における光開始剤によって開始されたエージング例の増加した透過率、ヘイズ値およびb値は、硬化およびエージングプロセス中の光開始剤の分解および低分子量の化合物の生成によるものであった。驚くべきことに、本発明者らは、開示されたオルガノシリコン変性光開始剤を使用することにより、硬化生成物中の硬化およびエージング時の低分子量の化合物の存在を、これらの光開始剤の独特の構造および設計により防止できることを見出した。
本発明のこれらおよび他の変更および変形は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によって実施されてもよい。さらに、様々な実施形態の態様は、全体的にまたは構成要素で相互に交換され得ることを理解されたい。さらに、当業者であれば、前述の記載は単なる例示であり、添付の特許請求の範囲に記載された本発明を限定するものではないことを理解するであろう。

Claims (21)

  1. 光重合性オルガノポリシロキサンまたはシリコーン樹脂と共に用いる、一般式(I)で表されるオルガノシリコン変性光開始剤。
    Figure 0006596075
    (式中、
    およびRは、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
    、R、R、R、およびRの1つは、SIL1−Xであり、他はそれぞれ独立して、水素、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールC〜Cアルキル、およびハロゲンからなる群から選択され、
    Xは、直接結合またはC〜C12アルキレンであり、および
    SIL1およびSIL2は、それぞれ独立して、式−SiR10またはシロキサン構造(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2からR’、R’’およびR’’’の一つが除かれた1価のシロキサン基で表され、
    式中、
    、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜Cシクロアルキル、アリールおよびアリールC〜Cアルキルからなる群から選択され、
    R’、R’’およびR’’’は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル、C〜Cアルケニル、C〜CシクロアルキルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群から選択され、
    a、bおよびcは、a≧0、b≧0、c>0を満たす数であり、aのcに対する比は、0〜100であり、bのcに対する比は、0〜10である。)
  2. およびRは、C〜Cアルキルである、請求項1に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  3. が、SIL1−X−を表し、R、R、R、およびRは、それぞれ独立して、水素、C〜CアルキルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群から選択される、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  4. SIL1および/またはSIL2が、式−SiR10(式中、R、RおよびR10は、それぞれ独立して、C〜Cアルキル、フェニルおよびフェニルC〜Cアルキルからなる群から選択される)で表される、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  5. SIL1および/またはSIL2が、トリメチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチルフェニルエチルシリルおよびトリ−n−プロピルシリルからなる群から選択される、請求項4に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  6. SIL1および/またはSIL2が、式(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2(式中、R’’およびR’’’は、メチルであり、a=0、b=1、c=2である)で表され、SIL1および/またはSIL2は、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルに相当する、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  7. SIL1および/またはSIL2が、式(R’SiO3/2(R’’SiO2/2(R’’’SiO1/2(式中、R’’’は、メチルであり、a=、b=、c=3である)で表され、SIL1および/またはSIL2は、1,1,1,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルに相当する、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  8. Xが、直接結合またはC〜Cアルキレンである、請求項1〜7のいずれか一項に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  9. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、トリメチルシリルであり、Xが直接結合である)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2が1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  10. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルであり、Xがエチレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2が1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  11. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルであり、Xがn−プロピレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2が1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキシルである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  12. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、1,1,1,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルであり、Xがエチレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2が1,1,1,5,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキシルである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  13. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、ジメチルフェニルシランであり、Xがエチレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2がジメチルフェニルシランである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  14. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、ジメチルベンジルシランであり、Xがエチレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2がジメチルベンジルシランである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  15. およびRが、メチルであり、RがSIL1−X−(式中、SIL1が、トリ−n−プロピルシランであり、Xがエチレンである)であり、R、R、RおよびRが水素であり、SIL2がトリ−n−プロピルシランである、請求項1または2に記載のオルガノシリコン変性光開始剤。
  16. 以下の化合物およびその組み合わせからなる群から選択されるオルガノシリコン変性光開始剤。
    Figure 0006596075
    Figure 0006596075
  17. 光重合性オルガノポリシロキサンおよび/またはシリコーン樹脂および請求項1〜16のいずれか一項に記載のオルガノシリコン変性光開始剤を含む光硬化性組成物。
  18. オルガノシリコン変性光開始剤の量が、組成物の全重量の0.5〜5重量%である、請求項17に記載の光硬化性組成物。
  19. 種々の基材の結合または積層または光学的に透明な基材間または光学的に透明な基材と不透明基材との間の結合または積層のための、請求項17または18に記載の光硬化性組成物の使用。
  20. 少なくとも1つの表面上に請求項17または18に記載の光硬化性組成物で被覆された被覆基材。
  21. 請求項17に記載の光硬化性組成物の硬化反応生成物。
JP2017511653A 2014-08-29 2014-08-29 オルガノシリコン変性光開始剤およびその光硬化性接着剤組成物 Expired - Fee Related JP6596075B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2014/085538 WO2016029439A1 (en) 2014-08-29 2014-08-29 Organosilicon modified photoinitiator and photo-curable adhesive composition thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017532298A JP2017532298A (ja) 2017-11-02
JP6596075B2 true JP6596075B2 (ja) 2019-10-23

Family

ID=55398651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017511653A Expired - Fee Related JP6596075B2 (ja) 2014-08-29 2014-08-29 オルガノシリコン変性光開始剤およびその光硬化性接着剤組成物

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10189867B2 (ja)
EP (1) EP3186263B1 (ja)
JP (1) JP6596075B2 (ja)
KR (1) KR102336227B1 (ja)
CN (1) CN107406468B8 (ja)
ES (1) ES2805524T3 (ja)
PL (1) PL3186263T3 (ja)
TW (1) TWI656128B (ja)
WO (1) WO2016029439A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3402829B1 (en) * 2016-01-11 2020-06-17 Henkel IP & Holding GmbH Silicone-compatible compounds
CN111324012A (zh) * 2018-12-17 2020-06-23 固安鼎材科技有限公司 一种改性光引发剂及其制备方法和用途

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4273907A (en) 1979-07-18 1981-06-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Benzoin-bonded organopolysiloxanes and method for the preparation thereof
DE3107087A1 (de) 1980-02-29 1981-12-24 CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen"
JPS57207622A (en) 1981-06-18 1982-12-20 Toray Silicone Co Ltd Photopolymerization sensitizer and its preparation
US4477326A (en) * 1983-06-20 1984-10-16 Loctite Corporation Polyphotoinitiators and compositions thereof
US4534838A (en) * 1984-04-16 1985-08-13 Loctite Corporation Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type
US4536265A (en) 1984-04-19 1985-08-20 Loctite Corporation Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type
US4507187A (en) * 1984-04-19 1985-03-26 Loctite Corporation Siloxane photoinitiators with aryoyl formate groups
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
JPS62179506A (ja) * 1986-01-27 1987-08-06 ロクタイト.コ−ポレ−シヨン ポリ光重合開始剤とその調製方法および該開始剤の性質を利用した硬化性組成物
JP2716509B2 (ja) * 1989-03-01 1998-02-18 三菱化学株式会社 ジチオカーバメート基含有ポリシロキサン
DE4120418A1 (de) * 1991-06-20 1992-12-24 Wacker Chemie Gmbh Haertbare organo(poly)siloxanmassen
US5663269A (en) 1992-03-31 1997-09-02 Loctite Corporation Organosiloxane fluids prepared using organo-lithium reagents
DE4435487A1 (de) 1994-10-04 1996-04-11 Hoechst Ag Mit Silikonen kompatible Photoinitiatoren und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
JPH09183770A (ja) 1995-10-31 1997-07-15 Nippon Bayeragrochem Kk 1−アジン−テトラゾリノン類及び除草剤
FR2750429B1 (fr) * 1996-06-27 1998-08-07 Essilor Int Materiau a base de silicone reticule comportant un photoamorceur fixe, son procede de preparation, produit polymerique hydrophile obtenu a partir de ce materiau et son procede de preparation, et nouveaux photoamorceurs
DE69817194D1 (de) * 1997-09-11 2003-09-18 Arch Spec Chem Inc Eine negativ arbeitende fotoresistzusammensetzung auf basis von polyimid-vorläufern
US6376568B1 (en) 1999-07-29 2002-04-23 Ciba Specialty Chemicals Corporation Surface-active photoinitiators
ATE483819T1 (de) * 2002-03-06 2010-10-15 Basf Se Enzymatisches verfahren zur herstellung einer photoinitiatoren enthaltenden organosiliziumgruppe
EP1523506B1 (en) 2002-07-19 2012-09-12 Basf Se New difunctional photoinitiators
WO2006107824A2 (en) * 2005-04-01 2006-10-12 Monsanto Technology Llc Control of n-(phosphonomethyl) iminodiacetic acid conversion in manufacture of glyphosate
JP4941657B2 (ja) * 2007-04-06 2012-05-30 信越化学工業株式会社 有機ケイ素化合物及びその製造方法並びに光重合性組成物及び無機材料
JP2011123219A (ja) * 2009-12-09 2011-06-23 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性ポリアミド樹脂組成物、硬化レリーフパターンの形成方法及び半導体装置
WO2014086000A1 (en) 2012-12-05 2014-06-12 Henkel (China) Company Limited Silicone-compatible photoinitiators

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017532298A (ja) 2017-11-02
US20170166594A1 (en) 2017-06-15
TWI656128B (zh) 2019-04-11
EP3186263A4 (en) 2018-04-25
ES2805524T3 (es) 2021-02-12
TW201623317A (zh) 2016-07-01
EP3186263B1 (en) 2020-04-22
EP3186263A1 (en) 2017-07-05
US10189867B2 (en) 2019-01-29
CN107406468B (zh) 2020-11-06
KR20170047275A (ko) 2017-05-04
WO2016029439A1 (en) 2016-03-03
PL3186263T3 (pl) 2020-10-05
CN107406468A (zh) 2017-11-28
CN107406468B8 (zh) 2021-07-20
KR102336227B1 (ko) 2021-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI812618B (zh) 矽氫化可固化聚矽氧樹脂
TWI712610B (zh) 與聚矽氧相容之化合物
US9409932B2 (en) Silicone-compatible photoinitiators
JP6596075B2 (ja) オルガノシリコン変性光開始剤およびその光硬化性接着剤組成物
KR20120022645A (ko) 규소함유 경화성 조성물
JP2017200962A (ja) 密着付与剤及び硬化性樹脂組成物
JP2680284B2 (ja) フラニル基を有するオルガノ珪素化合物、該化合物を製造する方法、光によって架橋可能な組成物、および被覆を製造する方法
JP5972544B2 (ja) オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物
JP5607522B2 (ja) オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物
JP2011099035A (ja) 透明性に優れた硬化物の製造方法および硬化物
JP2020090593A (ja) 有機ケイ素化合物、有機ケイ素化合物の製造方法、熱硬化性樹脂組成物、成形体、及び光半導体装置
JP2012082303A (ja) 硬化性組成物
CN111909517B (zh) 一种可环线交联的有机硅组合物及反应产物及制备方法和应用
JP2011225733A (ja) 硬化性組成物及び硬化物
JP5616127B2 (ja) 多面体構造ポリシロキサン変性体およびこれからなる組成物
JP2008214456A (ja) 有機ケイ素ポリマー
JP2018172498A (ja) 液状ケイ素化合物及びその製造方法
JPH068335B2 (ja) 紫外線硬化性ゲル組成物
JP2012162689A (ja) 熱硬化性アクリル樹脂組成物及びその硬化物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170829

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170829

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20180426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180522

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180821

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181022

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190305

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190605

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190927

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6596075

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees