JP6594462B2 - 培養装置 - Google Patents
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Description
2 ガス供給手段
3 撹拌手段
3A 回転装置
3B 回転軸
3C 撹拌羽根
4 上部循環ライン
5 外部熱交換器
6 均圧管
7 下部循環ライン
8 流量計
9 制御手段
10 排気ライン
11 圧力調整手段
12 排気手段
L 培養液
G ガス
B 気泡
Claims (5)
- 培養液を保持する培養槽と、この培養槽内の上記培養液を撹拌する撹拌手段と、上記培養液中にガスを供給するガス供給手段と、上記培養槽の上部に上部循環ラインを介して接続されるとともに該培養槽の下部に下部循環ラインを介して接続される外部熱交換器とを備え、
上記上部循環ラインまたは上記外部熱交換器には上記培養液から上記ガスの気泡を抜く均圧管の一端が接続されており、
上記上部循環ラインにおける上記均圧管の一端から上記外部熱交換器の間、または上記外部熱交換器、または上記下部循環ラインには流量計が備えられ、
この流量計によって測定された上記均圧管の一端から上記下部循環ラインを流れて上記培養槽に循環する上記培養液の流量に基づき、上記撹拌手段および上記ガス供給手段の双方を制御する制御手段を有していることを特徴とする培養装置。 - 上記均圧管の他端は上記培養槽における上記上部循環ラインの接続部よりも上方かつ上記培養槽内の気相部に連通するように接続されていることを特徴とする請求項1に記載の培養装置。
- 上記撹拌手段は、上記培養槽の上部に設けられた回転装置から垂下した回転軸に上下方向に間隔をあけて取り付けられた複数段の撹拌羽根を備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の培養装置。
- 上記ガス供給手段は、上記撹拌手段の下方に備えられていることを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の培養装置。
- 上記培養槽の上部には排気ラインが接続されるとともに、この排気ラインには上記培養槽内の圧力を調整する圧力調整手段が備えられ、
上記流量計によって測定された上記均圧管の一端から上記下部循環ラインを流れて上記培養槽に循環する上記培養液の流量に基づき、上記圧力調整手段および上記撹拌手段の双方と、上記ガス供給手段とを制御する制御手段を有していることを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の培養装置。
Priority Applications (1)
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JP2018004828A JP6594462B2 (ja) | 2018-01-16 | 2018-01-16 | 培養装置 |
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JP2018004828A JP6594462B2 (ja) | 2018-01-16 | 2018-01-16 | 培養装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2019122293A JP2019122293A (ja) | 2019-07-25 |
JP6594462B2 true JP6594462B2 (ja) | 2019-10-23 |
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Family Applications (1)
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JP2018004828A Active JP6594462B2 (ja) | 2018-01-16 | 2018-01-16 | 培養装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6594462B2 (ja) |
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2018
- 2018-01-16 JP JP2018004828A patent/JP6594462B2/ja active Active
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