JP6591731B2 - 赤外線検出器 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 72
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 238000002198 surface plasmon resonance spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005457 Black-body radiation Effects 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/10—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
- G01J5/20—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors using resistors, thermistors or semiconductors sensitive to radiation, e.g. photoconductive devices
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/0225—Shape of the cavity itself or of elements contained in or suspended over the cavity
- G01J5/023—Particular leg structure or construction or shape; Nanotubes
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0818—Waveguides
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0853—Optical arrangements having infrared absorbers other than the usual absorber layers deposited on infrared detectors like bolometers, wherein the heat propagation between the absorber and the detecting element occurs within a solid
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/38—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using extension or expansion of solids or fluids
- G01J5/44—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using extension or expansion of solids or fluids using change of resonant frequency, e.g. of piezoelectric crystals
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Description
110 基板、
120 共振部、
122 第1共振器、
122a 第1サブ共振器、
122b 第2サブ共振器、
124 第2共振器、
124a 第3サブ共振器、
124b 第4サブ共振器、
130 サーミスタ層、
150 連結部、
152 支持台、
154 金属パッド、
156 熱画像レッグ、
160 熱隔離層、
170 反射層、
180 絶縁層。
Claims (16)
- 基板と、
前記基板と離隔して配され、入射された赤外線のうち複数の波長で共鳴を起こして、熱を発生させる共振部と、
平板構造であり、前記共振部を支持しながら、前記共振部で発生した熱によって抵抗値が変わるサーミスタ層と、
前記サーミスタ層が前記基板から離隔されるように支持すると共に、前記サーミスタ層と前記基板とを電気的に連結させる連結部と、を備え、
前記共振部は、
第1波長帯域の第1偏光の赤外線を吸収する第1サブ共振器と、
前記第1波長帯域の第2偏光の赤外線を吸収する第2サブ共振器と、
第2波長帯域の前記第1偏光の赤外線を吸収する第3サブ共振器と、
前記第2波長帯域の前記第2偏光の赤外線を吸収する第4サブ共振器と、を備え、
前記第2偏光は、前記第1偏光に垂直であり、前記第1波長帯域と前記第2波長帯域は、一部重畳されるか、完全に異なり、
前記第1サブ共振器と前記第2サブ共振器は、互いに離隔配置され、
前記第3サブ共振器と前記第4サブ共振器は、互いに離隔配置され、
前記サーミスタ層は、前記第1サブ共振器ないし前記第4サブ共振器を支持し、前記第1サブ共振器ないし前記第4サブ共振器で発生した熱によって前記サーミスタ層の抵抗値が変わり、前記共振部の面積と同一であるか、若干大きな面積を有する、赤外線検出器。 - 前記共振部は第1共振器及び第2共振器を備え、
前記第1及び第2共振器のうち少なくとも一つは、
前記第1偏光を吸収する前記第1サブ共振器と、
前記第1偏光と垂直な前記第2偏光を吸収する前記第2サブ共振器と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の赤外線検出器。 - 前記第1及び前記第2サブ共振器のうち少なくとも一つは、ロッド状であることを特徴とする請求項2に記載の赤外線検出器。
- 前記第1サブ共振器と前記第2サブ共振器は互いに離隔して配されることを特徴とする請求項2または3に記載の赤外線検出器。
- 前記第1波長帯域と前記第2波長帯域は、一部が重畳されるか、または完全に異なることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の赤外線検出器。
- 前記連結部は、
前記サーミスタ層が前記基板から離隔して配されるように、前記基板から突出して形成された支持台と、
前記サーミスタ層と前記支持台を連結させる熱画像レッグと、
を備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の赤外線検出器。 - 前記熱画像レッグは、メアンダパターンを含むことを特徴とする請求項6に記載の赤外線検出器。
- 前記支持台と前記基板との間に配され、前記支持台と前記基板を電気的に連結させる金属パッドをさらに備えることを特徴とする請求項6または7に記載の赤外線検出器。
- 前記基板と前記サーミスタ層との間に配され、入射される赤外線を反射させる反射板をさらに備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の赤外線検出器。
- 前記反射板は、前記基板と接して配されることを特徴とする請求項9に記載の赤外線検出器。
- 前記反射板は、金属物質で形成され、前記共振部より熱吸収の少ない物質で形成されることを特徴とする請求項9または10に記載の赤外線検出器。
- 前記基板と前記サーミスタ層との間に配され、前記サーミスタ層から前記基板への熱伝達を遮断する熱隔離層をさらに備えることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の赤外線検出器。
- 基板と、
前記基板と離隔して配され、複数の共振波長で共鳴を起こして、赤外線を吸収する複数の共振部と、
平板構造であり、前記複数の前記共振部のそれぞれを支持しながら、前記共振部の温度変化によって抵抗値が変わる複数のサーミスタ層と、
前記複数の前記サーミスタ層が前記基板から離隔されるように支持すると共に、前記複数の前記サーミスタ層と前記基板とを電気的に連結させる連結部と、を備え、
前記複数の前記共振部のそれぞれは、
第1波長帯域の第1偏光の赤外線を吸収する第1サブ共振器と、
前記第1波長帯域と異なる第2波長帯域の第2偏光の赤外線を吸収する第2サブ共振器と、
前記第2波長帯域の前記第1偏光の赤外線を吸収する第3サブ共振器と、
前記第2波長帯域の前記第2偏光の赤外線を吸収する第4サブ共振器と、を備え、
前記第2偏光は、前記第1偏光に垂直であり、前記第1波長帯域と前記第2波長帯域は、一部重畳されるか、完全に異なり、
前記第1サブ共振器と前記第2サブ共振器は、互いに離隔配置され、
前記第3サブ共振器と前記第4サブ共振器は、互いに離隔配置され、
前記複数の前記サーミスタ層のそれぞれは、前記第1サブ共振器ないし前記第4サブ共振器を支持し、前記第1サブ共振器ないし前記第4サブ共振器で発生した熱によって前記サーミスタ層の抵抗値が変わり、前記共振部の面積と同一であるか、若干大きな面積を有する、赤外線検出器。 - 前記連結部は、
前記複数の前記サーミスタ層が前記基板から離隔して配されるように、前記基板から突出して形成された複数の支持台と、
前記複数の前記サーミスタ層と前記複数の支持台とを連結させる複数の熱画像レッグと、を備えることを特徴とする請求項13に記載の赤外線検出器。 - 前記複数の熱画像レッグは、直列に連結されることを特徴とする請求項14に記載の赤外線検出器。
- 前記複数の前記共振部のそれぞれは第1及び第2共振器を備え、
前記第1及び前記第2共振器のうち少なくとも一つは、
前記第1偏光を吸収する前記第1サブ共振器と、
前記第1偏光と垂直な前記第2偏光を吸収する前記第2サブ共振器と、
を備えることを特徴とする請求項13〜15のいずれか一項に記載の赤外線検出器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130011979A KR102040149B1 (ko) | 2013-02-01 | 2013-02-01 | 적외선 검출기 |
KR10-2013-0011979 | 2013-02-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014149297A JP2014149297A (ja) | 2014-08-21 |
JP6591731B2 true JP6591731B2 (ja) | 2019-10-16 |
Family
ID=50002528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014016117A Active JP6591731B2 (ja) | 2013-02-01 | 2014-01-30 | 赤外線検出器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9163998B2 (ja) |
EP (1) | EP2762845B1 (ja) |
JP (1) | JP6591731B2 (ja) |
KR (1) | KR102040149B1 (ja) |
CN (1) | CN103968957B (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012220207A1 (de) * | 2012-11-07 | 2014-05-08 | Robert Bosch Gmbh | Bildpixelvorrichtung zum Erfassen von elektromagnetischer Strahlung, Sensorarray zum Erfassen von elektromagnetischer Strahlung und Verfahren zum Erfassen von elektromagnetischer Strahlung mittels einer Bildpixelvorrichtung |
EP3243054A2 (en) | 2015-01-09 | 2017-11-15 | Apple Inc. | Polarization selective, frequency selective, and wide dynamic range detectors, imaging arrays, readout integrated circuits, and sensor systems |
CN106158886A (zh) * | 2015-03-30 | 2016-11-23 | 中航(重庆)微电子有限公司 | 带有热敏电阻阵列的集成结构及像元电路 |
WO2016167052A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | 三菱電機株式会社 | 電磁波検出器、電磁波検出器アレイ、およびガス分析装置 |
CN105004430B (zh) * | 2015-07-28 | 2019-12-06 | 昆明物理研究所 | 一种非制冷红外焦平面探测器的光电敏感单元 |
US10643810B2 (en) * | 2015-08-20 | 2020-05-05 | Northeastern University | Zero power plasmonic microelectromechanical device |
WO2017049013A1 (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | Flir Systems, Inc. | High dynamic range radiometric thermal video over low bitrate interface |
JP2017101956A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 国立大学法人 東京大学 | ボロメータ型テラヘルツ波検出素子アレイ |
KR102466673B1 (ko) * | 2016-01-13 | 2022-11-14 | 삼성전자주식회사 | 가변 전기광학 필터 |
CN105977335B (zh) * | 2016-05-10 | 2017-09-29 | 武汉光电工业技术研究院有限公司 | 短波光学热探测器及其焦平面阵列器件 |
WO2018216265A1 (ja) * | 2017-05-22 | 2018-11-29 | 三菱電機株式会社 | 赤外線撮像素子、赤外線撮像アレイおよび赤外線撮像素子の製造方法 |
EP3673250A4 (en) * | 2017-08-25 | 2021-06-09 | The Government Of The United States Of America As The Secretary of The Navy | HIGH SPEED GRAPHIC OXIDE BOLOMETER AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
WO2019087755A1 (ja) * | 2017-10-30 | 2019-05-09 | Semitec株式会社 | 温度センサ及び温度センサを備えた装置 |
CN108562360B (zh) * | 2018-03-20 | 2020-11-27 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种新型红外传感器结构 |
CN109253743B (zh) * | 2018-11-12 | 2020-09-22 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 等离激元声波谐振双波段红外传感器 |
KR102290343B1 (ko) * | 2020-03-24 | 2021-08-17 | 연세대학교 산학협력단 | 이중 대역 적외선 분광파장 소자 |
WO2021210593A1 (ja) * | 2020-04-13 | 2021-10-21 | 国立大学法人京都大学 | 赤外線センシングデバイス及びそれに用いる抵抗可変膜 |
CN113624348A (zh) * | 2021-07-14 | 2021-11-09 | 东北师范大学 | 一种集成表面等离激元谐振器的红外探测器 |
CN113624347B (zh) * | 2021-07-14 | 2024-06-07 | 东北师范大学 | 超构材料吸波体长波红外焦平面 |
CN114112058B (zh) * | 2021-11-19 | 2024-05-14 | 深圳迈塔兰斯科技有限公司 | 微桥结构及其制备方法 |
CN114353956B (zh) * | 2022-01-06 | 2024-04-19 | 清华大学 | 谐振型红外传感器、谐振型红外传感器的制备方法及装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272271A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外線センサ |
US6621083B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-09-16 | Honeywell International Inc. | High-absorption wide-band pixel for bolometer arrays |
US7227145B2 (en) | 2004-07-01 | 2007-06-05 | Lockheed Martin Corporation | Polarization and wavelength-selective patch-coupled infrared photodetector |
US7329871B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-02-12 | Stc.Unm | Plasmonic enhanced infrared detector element |
US8242446B2 (en) | 2006-06-01 | 2012-08-14 | Université de Liège | Thermal detector |
KR101042601B1 (ko) | 2008-05-14 | 2011-06-20 | 한국전자통신연구원 | 저항성 재질을 이용한 공진형 전자파 흡수체 |
WO2011050165A2 (en) | 2009-10-21 | 2011-04-28 | Stc.Unm | Plasmonic detectors |
JP4964935B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2012-07-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体光素子および半導体光装置 |
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FR2977937B1 (fr) | 2011-07-15 | 2013-08-16 | Centre Nat Rech Scient | Detecteur bolometrique a performances ameliorees |
EP2581721B1 (en) | 2011-10-10 | 2019-05-08 | Samsung Electronics Co., Ltd | Infrared thermal detector and method of manufacturing the same |
-
2013
- 2013-02-01 KR KR1020130011979A patent/KR102040149B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-01-03 US US14/146,820 patent/US9163998B2/en active Active
- 2014-01-22 EP EP14152179.9A patent/EP2762845B1/en active Active
- 2014-01-30 JP JP2014016117A patent/JP6591731B2/ja active Active
- 2014-02-07 CN CN201410044815.XA patent/CN103968957B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102040149B1 (ko) | 2019-11-04 |
US20140217289A1 (en) | 2014-08-07 |
CN103968957A (zh) | 2014-08-06 |
EP2762845B1 (en) | 2019-03-13 |
KR20140099125A (ko) | 2014-08-11 |
EP2762845A1 (en) | 2014-08-06 |
JP2014149297A (ja) | 2014-08-21 |
US9163998B2 (en) | 2015-10-20 |
CN103968957B (zh) | 2019-08-09 |
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