JP5969606B2 - 性能が向上したマイクロボロメータアレイ - Google Patents
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Description
ΔT=η・A・Rth・P (方程式1)
τ=Cth・Rth (方程式2)
によって与えられるのが分かる。
ここで、厳密に0〜1の値を有するηは、吸収素子により吸収される入射光エネルギーの割合、Pは光パワーフロー(W/m2)、Aは膜の面積、Cthは温度測定素子の熱容量(J/K)、Rthは、温度測定素子と支持基板とを熱的に接続する全ての要素の熱抵抗(K/W)、特に熱的絶縁アームの熱抵抗である。
支持要素によって前記支持基板の上方に懸架される膜であって、前記膜は、入射放射線を吸収するための素子と、吸収素子と熱的に接触して前記吸収素子から電気的に絶縁される温度測定素子とから成る、膜と、
前記温度測定素子を支持基板に電気的に接続するための要素と、
温度測定素子と支持基板との間に配置される熱的絶縁アームと、
を備え、
吸収素子が少なくとも1つの第1の金属/絶縁体/金属(MIM)構造体を備え、該MIM構造体は、サブミクロン程度の厚さの3つの重ね合わされる膜、すなわち、第1の金属膜、誘電体膜、および、第2の金属膜の多層構造を備え、前記MIM構造体は、前記スペクトル帯域の少なくとも1つの波長で前記入射放射線の共鳴吸収を有することができ、
前記膜によってカバーされるマイクロボロメータピクセルの面積は、マイクロボロメータピクセルの全面積の半分以下である。
支持基板上に犠牲膜を堆積させるステップと、
前記マイクロボロメータピクセルを固定するための要素の位置で、前記犠牲膜に開口を形成するステップと、
前記各マイクロボロメータピクセルごとに温度測定素子と熱的絶縁アームとを形成するために構造化された膜を堆積させるステップと、
形成された前記各温度測定素子上にMIM構造体を堆積させるステップと、
前記犠牲膜を除去するステップと、
を備える方法に関する。
λr=2neffw (方程式3)
により与えられ、ここで、wは、MIM構造体の横方向寸法(または幅)であり、また、neffは、MIMキャビティの有効屈折率である。
Claims (17)
- 支持基板と、所定の寸法のマイクロボロメータピクセル(300)の配列とを備える、所定のスペクトル帯域の光放射線の熱検出のためのマイクロボロメータアレイにおいて、前記各マイクロボロメータピクセルは、
支持要素によって前記支持基板の上方に懸架される膜(301)であって、前記膜は、入射放射線を吸収するための素子(305)と、前記吸収素子と熱的に接触して前記吸収素子から電気的に絶縁される温度測定素子(304)とから成る、膜(301)と、
前記温度測定素子を前記支持基板に電気的に接続するための要素と、
前記温度測定素子と前記支持基板との間に配置される熱的絶縁アーム(306)と、
を備え、
前記吸収素子が少なくとも1つの第1の金属/絶縁体/金属(MIM)構造体を備え、該MIM構造体は、サブミクロン程度の厚さの3つの重ね合わされる膜、すなわち、第1の金属膜(311)、誘電体膜(310)、および、第2の金属膜(309)の多層構造を備え、前記MIM構造体は、前記スペクトル帯域の少なくとも1つの共鳴波長(λr)で前記入射放射線の共鳴吸収を有することができ、
前記MIM構造体の少なくとも1つの横方向寸法はλr/2n以下であり、λrは共鳴波長であり、nは前記MIM構造体中の誘電体膜の誘電体材料の屈折率であり、
前記MIM構造体の横方向寸法、前記誘電体膜の厚さ、および、前記第1の金属膜および前記第2の金属膜の厚さは、前記共鳴波長で最大の吸収を有するように共鳴波長と前記誘電体材料の屈折率とに応じて決定され、それにより、共鳴波長程度の少なくとも1つの寸法を有する前記MIM構造体の有効吸収面積が前記共鳴波長でもたらされ、
前記膜(301)によってカバーされる前記マイクロボロメータピクセルの面積は、前記マイクロボロメータピクセルの全面積の半分以下である、
マイクロボロメータアレイ。 - 前記熱的絶縁アームは、前記温度測定素子を電気的に接続するための素子も形成する、請求項1に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記熱的絶縁アームおよび/または前記温度測定素子が構造化された膜(930)を成して形成される、請求項1または請求項2に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記温度測定素子が蛇行形状を成して構造化される、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記温度測定素子は、アモルファスシリコン、バナジウム系化合物、および、Si−Ge合金から選択される材料または多層の材料を備える、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記温度測定素子は、電気絶縁膜によって前記吸収素子から絶縁される、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記マイクロボロメータピクセルのうちの少なくとも1つの前記第1のMIM構造は、前記マイクロボロメータピクセルのほぼ中心に位置される、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記マイクロボロメータピクセルのうちの少なくとも1つの前記吸収素子は、前記マイクロボロメータピクセルの表面上に配置される複数の前記MIM構造体を備える、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記MIM構造体のうちの少なくとも2つは、異なっており、前記スペクトル帯域の少なくとも2つの別個の波長で前記入射放射線の共鳴吸収を有することができる、請求項8に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記マイクロボロメータピクセルのうちの少なくとも1つの前記吸収素子は、前記第1のMIM構造体上に重ね合わされる少なくとも1つの第2のMIM構造体を備え、前記第1および第2の構造体は、前記スペクトル帯域の少なくとも2つの別個の波長で前記入射放射線の共鳴吸収を有することができるとともに、共通の金属膜を共有する、請求項1から請求項9のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記MIM構造体の前記誘電体膜は、硫化亜鉛(ZnS)、三フッ化イットリウム(YF3)、窒化ケイ素(SiNx)、酸化ケイ素(SiOx)、酸窒化ケイ素(SiOxNy)、アモルファスゲルマニウム(a−Ge)、アモルファスシリコン(a−Si)、および、シリコンとゲルマニウムとのアモルファス合金(a−SiGe)から選択される材料から形成される、請求項1から請求項10のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルの前記MIM構造体の第1または第2の金属膜は、金、銅、アルミニウム、および、銀から選択される材料から形成される、請求項1から請求項11のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記各マイクロボロメータピクセルは、前記波長で共鳴キャビティを形成するために、前記膜の平面から距離dを隔てて配置される反射体(302)を更に備える、請求項1から請求項12のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 前記支持基板は、前記各マイクロボロメータピクセルの前記温度測定素子の電気抵抗を読み出すための回路を備える、請求項1から請求項13のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイ。
- 画像形成光学素子と、前記光学素子の焦点面付近に位置される請求項1から請求項14のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイと、前記ボロメータを読み出すための回路によって供給される信号を処理するためのユニットとを備える、赤外放射線を検出するためのカメラ。
- 請求項1から請求項14のいずれか一項に記載のマイクロボロメータアレイを形成するための方法であって、
支持基板上に犠牲膜を堆積させるステップと、
前記マイクロボロメータピクセルを固定するための要素の位置で、前記犠牲膜に開口を形成するステップと、
前記各マイクロボロメータピクセルごとに温度測定素子と熱的絶縁アームとを形成するために構造化された膜を堆積させるステップと、
形成された前記各温度測定素子上にMIM構造体を堆積させるステップと、
前記犠牲膜を除去するステップと、
を含む方法。 - 前記犠牲膜が堆積される前に、前記各マイクロボロメータピクセルごとに反射素子を形成するように構造化される反射膜を堆積させるステップを含む、請求項16に記載のマイクロボロメータアレイを形成するための方法。
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WO2015053720A1 (en) * | 2013-10-10 | 2015-04-16 | Kivanc Azgin | A vibration based mechanical ir detector and an ir imaging method using the same |
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DE102014204676A1 (de) * | 2014-03-13 | 2015-09-17 | Robert Bosch Gmbh | Wärmesensor und Verfahren zur Herstellung eines Wärmesensors |
US20170030775A1 (en) * | 2014-04-18 | 2017-02-02 | Nec Corporation | Terahertz-wave detector |
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WO2016094693A1 (en) * | 2014-12-10 | 2016-06-16 | Robert Bosch Gmbh | Resistive switching for mems devices |
CN107580673A (zh) | 2015-01-09 | 2018-01-12 | 苹果公司 | 偏振选择性、频率选择性以及宽动态范围检测器,成像阵列,读出集成电路,以及传感器系统 |
JP6401647B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-10-10 | 三菱電機株式会社 | 赤外線センサおよび赤外線センサアレイ |
CN107430028B (zh) * | 2015-04-15 | 2019-05-10 | 三菱电机株式会社 | 电磁波检测器、电磁波检测器阵列以及气体分析装置 |
CN105004430B (zh) * | 2015-07-28 | 2019-12-06 | 昆明物理研究所 | 一种非制冷红外焦平面探测器的光电敏感单元 |
WO2017041085A1 (en) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | President And Fellows Of Harvard College | Modifying optical properties of thin film structures using an absorbing element |
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DE102015220310A1 (de) * | 2015-10-19 | 2017-04-20 | Robert Bosch Gmbh | Strahlungssensoranordnung und Gasdetektoranordnung |
WO2017088071A1 (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | Sensirion Ag | Infrared device |
KR102300621B1 (ko) * | 2016-04-07 | 2021-09-13 | 한국전자통신연구원 | 이중모드 디스플레이 |
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US9528881B1 (en) | 2016-05-18 | 2016-12-27 | Nxp Usa, Inc. | Stress isolated detector element and microbolometer detector incorporating same |
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KR102036071B1 (ko) * | 2018-06-12 | 2019-10-24 | 경희대학교 산학협력단 | 다층 복사 냉각 구조 |
KR102036069B1 (ko) * | 2018-06-12 | 2019-10-24 | 경희대학교 산학협력단 | 공극 패턴을 포함하는 복사 냉각 구조 및 그것의 형성 방법 |
FR3088512B1 (fr) * | 2018-11-09 | 2020-10-30 | Schneider Electric Ind Sas | Procede de traitement d'une image |
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FR3097046B1 (fr) * | 2019-06-05 | 2021-05-21 | Lynred | Microbolomètre ayant un pas de pixel réduit |
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FR3098904B1 (fr) * | 2019-07-16 | 2021-06-18 | Lynred | Micro-bolometre a faible capacite thermique et procede de fabrication associe |
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TWI724708B (zh) | 2019-12-24 | 2021-04-11 | 財團法人工業技術研究院 | 具有阻擋元件的微機電紅外光感測裝置 |
FR3105840B1 (fr) * | 2019-12-30 | 2022-01-14 | Commissariat Energie Atomique | Composant de détection incluant des pixels noirs et procédé de fabrication d’un tel composant |
JP7371911B2 (ja) * | 2020-01-14 | 2023-10-31 | 国立大学法人東北大学 | 光電変換装置 |
US11496697B2 (en) * | 2020-02-28 | 2022-11-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | LWIR sensor with capacitive microbolometer and hybrid visible/LWIR sensor |
TWI753712B (zh) * | 2020-12-21 | 2022-01-21 | 財團法人工業技術研究院 | 微機電紅外光感測裝置 |
US11368637B1 (en) * | 2021-02-17 | 2022-06-21 | Institut National D'optique | Image acquisition method for microbolometer thermal imaging systems |
CN113219566B (zh) * | 2021-05-10 | 2022-09-16 | 东北师范大学 | 偏振敏感宽带响应长波红外超材料吸收器 |
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CN115931140A (zh) | 2021-08-06 | 2023-04-07 | 财团法人工业技术研究院 | 微机电红外光感测装置及其制造方法 |
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US4287484A (en) * | 1978-10-02 | 1981-09-01 | Xerox Corporation | Segmented hollow cathode laser device |
JP3839487B2 (ja) * | 1995-11-15 | 2006-11-01 | ロッキード マーティン アイアール イメージング システムズ インク | デュアルバンドマルチレベルマイクロブリッジ検出器 |
AU1408497A (en) * | 1995-12-04 | 1997-06-27 | Lockheed-Martin Ir Imaging Systems, Inc. | Infrared radiation detector having a reduced active area |
JP3040356B2 (ja) * | 1997-01-27 | 2000-05-15 | 三菱電機株式会社 | 赤外線固体撮像素子 |
JP3605285B2 (ja) * | 1997-11-25 | 2004-12-22 | 三菱電機株式会社 | 熱型赤外線検出器アレイ |
US6621083B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-09-16 | Honeywell International Inc. | High-absorption wide-band pixel for bolometer arrays |
US7223959B2 (en) * | 2005-07-20 | 2007-05-29 | Lockheed Martin Corporation | Plasma absorption wave limiter |
JP4878238B2 (ja) * | 2005-08-01 | 2012-02-15 | キヤノン株式会社 | 標的物質検出用の素子及びそれを用いた標的物質の検出方法、並びにそのための検出装置及びキット |
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