CN112802827B - 像素结构和图像传感器 - Google Patents

像素结构和图像传感器 Download PDF

Info

Publication number
CN112802827B
CN112802827B CN201911110638.XA CN201911110638A CN112802827B CN 112802827 B CN112802827 B CN 112802827B CN 201911110638 A CN201911110638 A CN 201911110638A CN 112802827 B CN112802827 B CN 112802827B
Authority
CN
China
Prior art keywords
nano
antenna
parts
pixel structure
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911110638.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN112802827A (zh
Inventor
杨亮
刘永俊
杨晖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huawei Technologies Co Ltd
Original Assignee
Huawei Technologies Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Huawei Technologies Co Ltd filed Critical Huawei Technologies Co Ltd
Priority to CN201911110638.XA priority Critical patent/CN112802827B/zh
Priority to PCT/CN2020/128425 priority patent/WO2021093816A1/zh
Priority to EP20888635.8A priority patent/EP4050655A4/en
Publication of CN112802827A publication Critical patent/CN112802827A/zh
Priority to US17/663,284 priority patent/US20220278145A1/en
Application granted granted Critical
Publication of CN112802827B publication Critical patent/CN112802827B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14603—Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
    • H01L27/14605—Structural or functional details relating to the position of the pixel elements, e.g. smaller pixel elements in the center of the imager compared to pixel elements at the periphery
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14603—Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64—Impedance arrangements
    • H01L23/66—High-frequency adaptations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14609—Pixel-elements with integrated switching, control, storage or amplification elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/1469—Assemblies, i.e. hybrid integration
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12—Supports; Mounting means
    • H01Q1/22—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12—Supports; Mounting means
    • H01Q1/22—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/2258—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles used with computer equipment
    • H01Q1/2266—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles used with computer equipment disposed inside the computer
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12—Supports; Mounting means
    • H01Q1/22—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/24—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set
    • H01Q1/241—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM
    • H01Q1/242—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM specially adapted for hand-held use
    • H01Q1/243—Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM specially adapted for hand-held use with built-in antennas
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/36—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q13/00—Waveguide horns or mouths; Slot antennas; Leaky-waveguide antennas; Equivalent structures causing radiation along the transmission path of a guided wave
    • H01Q13/10—Resonant slot antennas
    • H01Q13/106—Microstrip slot antennas
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q21/00—Antenna arrays or systems
    • H01Q21/30—Combinations of separate antenna units operating in different wavebands and connected to a common feeder system
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
    • H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier or surface barrier

Abstract

本申请提供一种像素结构和图像传感器，能够提高在弱光条件下的光电转换效率，从而解决在弱光下成像暗淡的问题。该像素结构包括：金属底板；基底单元，该基底单元位于金属底板上；纳米天线单元，该纳米天线单元位于基底单元上，该纳米天线单元包括一个或多个纳米天线，一个或多个纳米天线中的每个纳米天线对应一个光波段，每个纳米天线包括M个部分，M个部分之间形成纳米缝隙，在纳米缝隙处形成金属‑绝缘体‑金属二极管，M为2的倍数；封装单元，该封装单元覆盖于纳米天线单元上。该图像传感器由上述多个像素结构组成。

Description

像素结构和图像传感器
技术领域
本申请涉及电子技术领域，尤其涉及一种像素结构和图像传感器。
背景技术
图像传感器能够将光信号转变为电信号，是手机相机的核心部分之一。目前市场上应用的图像传感器主要有电荷耦合器件(charge coupled device，CCD)图像传感器和互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，CMOS)图像传感器，这两者本质上都是利用光的粒子性，让光子激发半导体中的自由电子，从而产生电信号。在弱光条件下，能被相机捕捉到的光子少，这使得夜晚拍照产生的电信号弱，手机在夜晚拍摄的照片显得色调暗淡。
发明内容
本申请提供一种像素结构和图像传感器，能够提高在弱光条件下的光电转换效率，从而解决在弱光下成像暗淡的问题。
第一方面，提供了一种像素结构，包括：金属底板；基底单元，该基底单元位于金属底板上；纳米天线单元，该纳米天线单元位于基底单元上，该纳米天线单元包括一个或多个纳米天线，一个或多个纳米天线中的每个纳米天线对应一个光波段，每个纳米天线包括M个部分，M个部分之间形成纳米缝隙，M个部分和纳米缝隙具有金属-绝缘体-金属二极管的功能，M为2的倍数；封装单元，该封装单元覆盖于纳米天线单元上。
根据泡利不相容原理，每一个轨道只能容纳两个自旋方向相反的电子，因此当轨道被占据时，有的光子不能参与光电转换。由于泡利不相容原理是不可改变的基本规律，而光具有波粒二象性，因此，可以从波的角度，提高光电转换效率。在本申请实施例中，在纳米天线的纳米缝隙处形成增强的光场，M个部分和纳米缝隙在纳米缝隙处形成的具有金属-绝缘体-金属二极管功能的结构恰好完全位于增强的光场中，具有金属-绝缘体-金属二极管功能的结构在增强的光场中进行光电转换，能够提高在弱光条件下的光电转换效率，从而解决在弱光下成像暗淡的问题。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，M个部分中的每个部分与其相邻部分具有不同的功函数。
M个部分中的每个部分与其相邻部分和纳米缝隙在纳米缝隙处形成具有金属-绝缘体-金属二极管功能的结构，由于每个部分与其相邻部分具有不同的功函数，因此在纳米缝隙内会发生电子隧穿，因此具有隧穿二极管的作用，使得具有金属-绝缘体-金属二极管功能的结构可以作为整流器，将纳米缝隙处产生的交流电转变为直流电。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，M个部分中的每个部分与其相邻部分为相同形状的不同的金属，或不同形状的相同金属，或不同形状的不同金属。由此可以实现每个部分与其相邻部分具有不同的功函数。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，M个部分中的每个部分在远离纳米缝隙处到靠近纳米缝隙处的宽度递减。
由于金属-绝缘体-金属二极管在光频率下工作，因此需要提高由于提高金属-绝缘体-金属二极管的截止频率使其达到光频率，而金属-绝缘体-金属二极管的截止频率需要降低金属-绝缘体-金属二极管的电容值，将具有金属-绝缘体-金属二极管功能的结构周围的金属天线宽度减小可以达到降低金属-绝缘体-金属二极管电容值的效果。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，基底单元在所述每个纳米天线位置处的参数对应所述每个纳米天线对应的光波段，所述基底单元的参数包括厚度和介质常数。
当光照射到纳米天线表面时，部分光波会穿过纳米天线而不能被纳米天线完全吸收，在本申请实施例中，穿过纳米天线的光波会被具有特定参数的基底单元反射回纳米天线，从而提高纳米天线对光的吸收效率。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，纳米天线包括N个天线对，所述N个天线对中的每个天线对包括两个部分，所述两个部分之间具有纳米缝隙，所述N个天线对呈放射状排列并与所述基底单元平行，所述放射状排列包括一字形、十字形、米字形中的任一种，N为大于或等于1的整数。
理论上最佳的天线的形状应该顺着光波的极化方向，然而自然界的光是任意方向极化的。但无论光在任何方向极化，总能分解为沿x方向和沿y方向的两个极化分量。一字形的天线可以实现对极化方向沿着该一字形的光波的光电转换，十字形天线和米字形天线可以实现将任意方向的极化的光波分解为沿着天线不同部分的分量，从而实现对任意极化方向光波的光电转换。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，N个天线对中的每个部分为长条状。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，纳米天线包括两个部分，所述两个部分呈领结形排列并与所述基底单元平行，所述两个部分之间具有纳米缝隙，所述两个部分中的每个部分为梯形，所述梯形以最短的底边相对排列。
对于梯形斜边上任意一点来说，其到该梯形下底的距离是连续渐变的，即可以认为该纳米天线的长度是连续渐变的，因此该纳米天线可以实现对连续的波长范围内的光波进行光电转换，增大了纳米天线进行光电转换的范围。
可选地，该纳米天线的两个部分在纳米缝隙处的底边还可以是向纳米缝隙凸出的弧形。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，纳米天线包括两个部分，所述两个部分中的一部分垂直设置于基底单元上，所述两个部分中的另一部分与所述两个部分中的一部分相对排列，所述两个部分中的一部分与所述两个部分中的另一部分之间具有纳米缝隙。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，垂直设置于基底单元上的部分为锥形，所述锥形的尺寸大于与所述锥形相对排列的所述两个部分中的另一部分。
纳米天线的下部分以其长边垂直于基底单元设置于基底单元上，节省了在基底单元上所占的面积，由此基底单元上可以设置此种纳米天线，增加了天线密度。可选地，该多个纳米天线中的每个纳米天线的尺寸可以不同，从而增大了光电转换的范围。
结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，纳米天线的电极线布置在所述M个部分中的每个部分靠近所述纳米缝隙处。
金属-绝缘体-金属二极管将交流电转变为直流电，由于纳米天线的金属部分具有较大电阻，将纳米天线的电极线布置在靠近金属-绝缘体-金属二极管的位置，可以减少电流在金属部分上的损失，从而提高光电转换效率。
第二方面，提供了一种图像传感器，包括上述方面任一项可能的多个像素结构。
第三方面，提供了一种相机，包括上述任一方面任一项的像素结构和/或图像传感器。
第四方面，提供了一种电子产品，包括上述任一方面任一项的像素结构和/或图像传感器和/或相机。
附图说明
图1是本申请实施例提供的一种电子设备的结构示意图。
图2是本申请实施例提供的一种相机的结构示意图。
图3是本申请实施例提供的一种图像传感器的结构示意图。
图4是本申请实施例提供的一种像素结构的结构示意图。
图5是本申请实施例提供的第一种纳米天线结构的示意图。
图6是本申请实施例提供的纳米天线在纳米缝隙处的局部放大图。
图7是本申请实施例提供的第二种纳米天线结构的示意图。
图8是本申请实施例提供的第三种纳米天线结构的示意图。
图9是本申请实施例提供的第四种纳米天线结构的示意图。
图10是本申请实施例提供的第五种纳米天线结构的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明实施例中的技术方案进行描述。
为了便于理解本申请实施例，首先对本申请中涉及到的几个名词作简单说明。
1、像素
手机相机图像传感器上的最小感光单位。
2、二极管
电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过，许多的使用是应用其整流的功能。
3、模数转换器
通常是指一个将模拟信号转变为数字信号的电子元件。通常的模数转换器是将一个输入电压信号转换为一个输出的数字信号。由于数字信号本身不具有实际意义，仅仅表示一个相对大小。故任何一个模数转换器都需要一个参考模拟量作为转换的标准，比较常见的参考标准为最大的可转换信号大小。而输出的数字量则表示输入信号相对于参考信号的大小。
4、滤光片
一种光学器件，能够选择性地透射光谱的一部分，同时拒绝透射其余部分。
5、纳米天线
天线是一种将交流电和电磁波相互转换的器件。光可以被视为电磁波，纳米天线是纳米尺度的光学天线。
6、功函数
是指要使一粒电子立即从固体表面中逸出，所必须提供的最小能量。
本申请实施例提供的像素结构可以应用于手机、平板电脑、可穿戴设备等具有拍照功能的电子设备上，本申请实施例对电子设备的具体类型不作任何限制。
示例性的，图1示出了电子设备100的结构示意图。电子设备100可以包括处理器110，外部存储器接口120，内部存储器121，通用串行总线(universal serial bus，USB)接口130，充电管理模块140，电源管理模块141，电池142，天线1，天线2，移动通信模块150，无线通信模块160，音频模块170，扬声器170A，受话器170B，麦克风170C，耳机接口170D，传感器模块180，按键190，马达191，指示器192，摄像头193，显示屏194，以及用户标识模块(subscriber identification module，SIM)卡接口195等。其中传感器模块180可以包括压力传感器180A，陀螺仪传感器180B，气压传感器180C，磁传感器180D，加速度传感器180E，距离传感器180F，接近光传感器180G，指纹传感器180H，温度传感器180J，触摸传感器180K，环境光传感器180L，骨传导传感器180M等。
可以理解的是，本申请实施例示意的结构并不构成对电子设备100的具体限定。在本申请另一些实施例中，电子设备100可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者拆分某些部件，或者不同的部件布置。图示的部件可以以硬件，软件或软件和硬件的组合实现。
处理器110可以包括一个或多个处理单元，例如：处理器110可以包括应用处理器(application processor，AP)，调制解调处理器，图形处理器(graphics processingunit，GPU)，图像信号处理器(image signal processor，ISP)，控制器，存储器，视频编解码器，数字信号处理器(digital signal processor，DSP)，基带处理器，和/或神经网络处理器(neural-network processing unit，NPU)等。其中，不同的处理单元可以是独立的器件，也可以集成在一个或多个处理器中。
其中，控制器可以是电子设备100的神经中枢和指挥中心。控制器可以根据指令操作码和时序信号，产生操作控制信号，完成取指令和执行指令的控制。
处理器110中还可以设置存储器，用于存储指令和数据。在一些实施例中，处理器110中的存储器为高速缓冲存储器。该存储器可以保存处理器110刚用过或循环使用的指令或数据。如果处理器110需要再次使用该指令或数据，可从所述存储器中直接调用。避免了重复存取，减少了处理器110的等待时间，因而提高了系统的效率。
在一些实施例中，处理器110可以包括一个或多个接口。接口可以包括集成电路(inter-integrated circuit，I2C)接口，集成电路内置音频(inter-integrated circuitsound，I2S)接口，脉冲编码调制(pulse code modulation，PCM)接口，通用异步收发传输器(universal asynchronous receiver/transmitter，UART)接口，移动产业处理器接口(mobile industry processor interface，MIPI)，通用输入输出(general-purposeinput/output，GPIO)接口，用户标识模块(subscriber identity module，SIM)接口，和/或通用串行总线(universal serial bus，USB)接口等。
I2C接口是一种双向同步串行总线，包括一根串行数据线(serial data line，SDA)和一根串行时钟线(derail clock line，SCL)。在一些实施例中，处理器110可以包含多组I2C总线。处理器110可以通过不同的I2C总线接口分别耦合触摸传感器180K，充电器，闪光灯，摄像头193等。例如：处理器110可以通过I2C接口耦合触摸传感器180K，使处理器110与触摸传感器180K通过I2C总线接口通信，实现电子设备100的触摸功能。
I2S接口可以用于音频通信。在一些实施例中，处理器110可以包含多组I2S总线。处理器110可以通过I2S总线与音频模块170耦合，实现处理器110与音频模块170之间的通信。在一些实施例中，音频模块170可以通过I2S接口向无线通信模块160传递音频信号，实现通过蓝牙耳机接听电话的功能。
PCM接口也可以用于音频通信，将模拟信号抽样，量化和编码。在一些实施例中，音频模块170与无线通信模块160可以通过PCM总线接口耦合。在一些实施例中，音频模块170也可以通过PCM接口向无线通信模块160传递音频信号，实现通过蓝牙耳机接听电话的功能。所述I2S接口和所述PCM接口都可以用于音频通信。
UART接口是一种通用串行数据总线，用于异步通信。该总线可以为双向通信总线。它将要传输的数据在串行通信与并行通信之间转换。在一些实施例中，UART接口通常被用于连接处理器110与无线通信模块160。例如：处理器110通过UART接口与无线通信模块160中的蓝牙模块通信，实现蓝牙功能。在一些实施例中，音频模块170可以通过UART接口向无线通信模块160传递音频信号，实现通过蓝牙耳机播放音乐的功能。
MIPI接口可以被用于连接处理器110与显示屏194，摄像头193等外围器件。MIPI接口包括摄像头串行接口(camera serial interface，CSI)，显示屏串行接口(displayserial interface，DSI)等。在一些实施例中，处理器110和摄像头193通过CSI接口通信，实现电子设备100的拍摄功能。处理器110和显示屏194通过DSI接口通信，实现电子设备100的显示功能。
GPIO接口可以通过软件配置。GPIO接口可以被配置为控制信号，也可被配置为数据信号。在一些实施例中，GPIO接口可以用于连接处理器110与摄像头193，显示屏194，无线通信模块160，音频模块170，传感器模块180等。GPIO接口还可以被配置为I2C接口，I2S接口，UART接口，MIPI接口等。
USB接口130是符合USB标准规范的接口，具体可以是Mini USB接口，Micro USB接口，USB Type C接口等。USB接口130可以用于连接充电器为电子设备100充电，也可以用于电子设备100与外围设备之间传输数据。也可以用于连接耳机，通过耳机播放音频。该接口还可以用于连接其他电子设备，例如AR设备等。
可以理解的是，本申请实施例示意的各模块间的接口连接关系，只是示意性说明，并不构成对电子设备100的结构限定。在本申请另一些实施例中，电子设备100也可以采用上述实施例中不同的接口连接方式，或多种接口连接方式的组合。
充电管理模块140用于从充电器接收充电输入。其中，充电器可以是无线充电器，也可以是有线充电器。电源管理模块141用于连接电池142，充电管理模块140与处理器110。电源管理模块141接收电池142和/或充电管理模块140的输入，为处理器110，内部存储器121，外部存储器，显示屏194，摄像头193，和无线通信模块160等供电。电源管理模块141还可以用于监测电池容量，电池循环次数，电池健康状态(漏电，阻抗)等参数。在其他一些实施例中，电源管理模块141也可以设置于处理器110中。在另一些实施例中，电源管理模块141和充电管理模块140也可以设置于同一个器件中。
电子设备100的无线通信功能可以通过天线1，天线2，移动通信模块150，无线通信模块160，调制解调处理器以及基带处理器等实现。
天线1和天线2用于发射和接收电磁波信号。电子设备100中的每个天线可用于覆盖单个或多个通信频带。不同的天线还可以复用，以提高天线的利用率。移动通信模块150可以提供应用在电子设备100上的包括2G/3G/4G/5G等无线通信的解决方案。
调制解调处理器可以包括调制器和解调器。其中，调制器用于将待发送的低频基带信号调制成中高频信号。解调器用于将接收的电磁波信号解调为低频基带信号。无线通信模块160可以提供应用在电子设备100上的包括无线局域网(wireless local areanetworks，WLAN)(如无线保真(wireless fidelity，Wi-Fi)网络)，蓝牙(bluetooth，BT)，全球导航卫星系统(global navigation satellite system，GNSS)，调频(frequencymodulation，FM)，近距离无线通信技术(near field communication，NFC)，红外技术(infrared，IR)等无线通信的解决方案。
电子设备100通过图形处理器(graphics processing unit，GPU)，显示屏194，以及应用处理器等实现显示功能。GPU为图像处理的微处理器，连接显示屏194和应用处理器。GPU用于执行数学和几何计算，用于图形渲染。处理器110可包括一个或多个GPU，其执行程序指令以生成或改变显示信息。
显示屏194用于显示图像，视频等。显示屏194包括显示面板。显示面板可以采用液晶显示屏(liquid crystal display，LCD)，有机发光二极管(organic light-emittingdiode，OLED)，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体(active-matrixorganic light emitting diode的，AMOLED)，柔性发光二极管(flex light-emittingdiode，FLED)，Miniled，MicroLed，Micro-oLed，量子点发光二极管(quantum dot lightemitting diodes，QLED)等。在一些实施例中，电子设备100可以包括1个或N个显示屏194，N为大于1的正整数。
电子设备100可以通过图像信号处理器(image signal processor，ISP)，摄像头193，视频编解码器，GPU，显示屏194以及应用处理器等实现拍摄功能。在本申请中，摄像头193可以是光学变焦镜头等，本申请对此不做限定。
在一些实施例中，ISP可以设置在摄像头193中，本申请对此不做限定。
摄像头193用于捕获静态图像或视频。物体通过镜头生成光学图像投射到感光元件。在本申请实施例中，感光元件是图像传感器。图像传感器把光信号转换成电信号，之后将电信号传递给ISP转换成数字图像信号。ISP将数字图像信号输出到DSP加工处理。DSP将数字图像信号转换成标准的RGB，YUV等格式的图像信号。在一些实施例中，电子设备100可以包括1个或多个摄像头193。
数字信号处理器用于处理数字信号，除了可以处理数字图像信号，还可以处理其他数字信号。例如，当电子设备100在频点选择时，数字信号处理器用于对频点能量进行傅里叶变换等。
视频编解码器用于对数字视频压缩或解压缩。电子设备100可以支持一种或多种视频编解码器。这样，电子设备100可以播放或录制多种编码格式的视频，例如：动态图像专家组(moving picture experts group，MPEG)1，MPEG2，MPEG3，MPEG4等。
NPU为神经网络(neural-network，NN)计算处理器，通过借鉴生物神经网络结构，例如借鉴人脑神经元之间传递模式，对输入信息快速处理，还可以不断的自学习。通过NPU可以实现电子设备100的智能认知等应用，例如：图像识别，人脸识别，语音识别，文本理解等。
外部存储器接口120可以用于连接外部存储卡，例如Micro SD卡，实现扩展电子设备100的存储能力。外部存储卡通过外部存储器接口120与处理器110通信，实现数据存储功能。例如将音乐，视频等文件保存在外部存储卡中。
内部存储器121可以用于存储计算机可执行程序代码，所述可执行程序代码包括指令。处理器110通过运行存储在内部存储器121的指令，从而执行电子设备100的各种功能应用以及数据处理。内部存储器121可以包括存储程序区和存储数据区。其中，存储程序区可存储操作系统，至少一个功能所需的应用程序(比如声音播放功能，图像播放功能等)等。存储数据区可存储电子设备100使用过程中所创建的数据(比如音频数据，电话本等)等。此外，内部存储器121可以包括高速随机存取存储器，还可以包括非易失性存储器，例如至少一个磁盘存储器件，闪存器件，通用闪存存储器(universal flash storage，UFS)等。
电子设备100可以通过音频模块170，扬声器170A，受话器170B，麦克风170C，耳机接口170D，以及应用处理器等实现音频功能。例如音乐播放，录音等。
音频模块170用于将数字音频信息转换成模拟音频信号输出，也用于将模拟音频输入转换为数字音频信号。音频模块170还可以用于对音频信号编码和解码。在一些实施例中，音频模块170可以设置于处理器110中，或将音频模块170的部分功能模块设置于处理器110中。
扬声器170A，也称“喇叭”，用于将音频电信号转换为声音信号。电子设备100可以通过扬声器170A收听音乐，或收听免提通话。
受话器170B，也称“听筒”，用于将音频电信号转换成声音信号。当电子设备100接听电话或语音信息时，可以通过将受话器170B靠近人耳接听语音。
麦克风170C，也称“话筒”，“传声器”，用于将声音信号转换为电信号。当拨打电话或发送语音信息时，用户可以通过人嘴靠近麦克风170C发声，将声音信号输入到麦克风170C。电子设备100可以设置至少一个麦克风170C。在另一些实施例中，电子设备100可以设置两个麦克风170C，除了采集声音信号，还可以实现降噪功能。在另一些实施例中，电子设备100还可以设置三个，四个或更多麦克风170C，实现采集声音信号，降噪，还可以识别声音来源，实现定向录音功能等。
耳机接口170D用于连接有线耳机。耳机接口170D可以是USB接口130，也可以是3.5mm的开放移动电子设备平台(open mobile terminal platform，OMTP)标准接口，美国蜂窝电信工业协会(cellular telecommunications industry association of the USA，CTIA)标准接口。
压力传感器180A用于感受压力信号，可以将压力信号转换成电信号。在一些实施例中，压力传感器180A可以设置于显示屏194。压力传感器180A的种类很多，如电阻式压力传感器，电感式压力传感器，电容式压力传感器等。电容式压力传感器可以是包括至少两个具有导电材料的平行板。当有力作用于压力传感器180A，电极之间的电容改变。电子设备100根据电容的变化确定压力的强度。当有触摸操作作用于显示屏194，电子设备100根据压力传感器180A检测所述触摸操作强度。电子设备100也可以根据压力传感器180A的检测信号计算触摸的位置。在一些实施例中，作用于相同触摸位置，但不同触摸操作强度的触摸操作，可以对应不同的操作指令。例如：当有触摸操作强度小于第一压力阈值的触摸操作作用于短消息应用图标时，执行查看短消息的指令。当有触摸操作强度大于或等于第一压力阈值的触摸操作作用于短消息应用图标时，执行新建短消息的指令。
陀螺仪传感器180B可以用于确定电子设备100的运动姿态。在一些实施例中，可以通过陀螺仪传感器180B确定电子设备100围绕三个轴(即，x，y和z轴)的角速度。陀螺仪传感器180B可以用于拍摄防抖。示例性的，当按下快门，陀螺仪传感器180B检测电子设备100抖动的角度，根据角度计算出镜头模组需要补偿的距离，让镜头通过反向运动抵消电子设备100的抖动，实现防抖。陀螺仪传感器180B还可以用于导航，体感游戏场景。
气压传感器180C用于测量气压。在一些实施例中，电子设备100通过气压传感器180C测得的气压值计算海拔高度，辅助定位和导航。
磁传感器180D包括霍尔传感器。电子设备100可以利用磁传感器180D检测翻盖皮套的开合。在一些实施例中，当电子设备100是翻盖机时，电子设备100可以根据磁传感器180D检测翻盖的开合。进而根据检测到的皮套的开合状态或翻盖的开合状态，设置翻盖自动解锁等特性。
加速度传感器180E可检测电子设备100在各个方向上(一般为三轴)加速度的大小。当电子设备100静止时可检测出重力的大小及方向。还可以用于识别电子设备姿态，应用于横竖屏切换，计步器等应用。
距离传感器180F，用于测量距离。电子设备100可以通过红外或激光测量距离。在一些实施例中，拍摄场景，电子设备100可以利用距离传感器180F测距以实现快速对焦。
接近光传感器180G可以包括例如发光二极管(LED)和光检测器，例如光电二极管。发光二极管可以是红外发光二极管。电子设备100通过发光二极管向外发射红外光。电子设备100使用光电二极管检测来自附近物体的红外反射光。当检测到充分的反射光时，可以确定电子设备100附近有物体。当检测到不充分的反射光时，电子设备100可以确定电子设备100附近没有物体。电子设备100可以利用接近光传感器180G检测用户手持电子设备100贴近耳朵通话，以便自动熄灭屏幕达到省电的目的。接近光传感器180G也可用于皮套模式，口袋模式自动解锁与锁屏。
环境光传感器180L用于感知环境光亮度。电子设备100可以根据感知的环境光亮度自适应调节显示屏194亮度。环境光传感器180L也可用于拍照时自动调节白平衡。环境光传感器180L还可以与接近光传感器180G配合，检测电子设备100是否在口袋里，以防误触。
指纹传感器180H用于采集指纹。电子设备100可以利用采集的指纹特性实现指纹解锁，访问应用锁，指纹拍照，指纹接听来电等。
温度传感器180J用于检测温度。在一些实施例中，电子设备100利用温度传感器180J检测的温度，执行温度处理策略。例如，当温度传感器180J上报的温度超过阈值，电子设备100执行降低位于温度传感器180J附近的处理器的性能，以便降低功耗实施热保护。在另一些实施例中，当温度低于另一阈值时，电子设备100对电池142加热，以避免低温导致电子设备100异常关机。在其他一些实施例中，当温度低于又一阈值时，电子设备100对电池142的输出电压执行升压，以避免低温导致的异常关机。
触摸传感器180K，也称“触控面板”。触摸传感器180K可以设置于显示屏194，由触摸传感器180K与显示屏194组成触摸屏，也称“触控屏”。触摸传感器180K用于检测作用于其上或附近的触摸操作。触摸传感器可以将检测到的触摸操作传递给应用处理器，以确定触摸事件类型。可以通过显示屏194提供与触摸操作相关的视觉输出。在另一些实施例中，触摸传感器180K也可以设置于电子设备100的表面，与显示屏194所处的位置不同。
骨传导传感器180M可以获取振动信号。在一些实施例中，骨传导传感器180M可以获取人体声部振动骨块的振动信号。骨传导传感器180M也可以接触人体脉搏，接收血压跳动信号。在一些实施例中，骨传导传感器180M也可以设置于耳机中，结合成骨传导耳机。音频模块170可以基于所述骨传导传感器180M获取的声部振动骨块的振动信号，解析出语音信号，实现语音功能。应用处理器可以基于所述骨传导传感器180M获取的血压跳动信号解析心率信息，实现心率检测功能。
按键190包括开机键，音量键等。按键190可以是机械按键。也可以是触摸式按键。电子设备100可以接收按键输入，产生与电子设备100的用户设置以及功能控制有关的键信号输入。
马达191可以产生振动提示。马达191可以用于来电振动提示，也可以用于触摸振动反馈。例如，作用于不同应用(例如拍照，音频播放等)的触摸操作，可以对应不同的振动反馈效果。作用于显示屏194不同区域的触摸操作，马达191也可对应不同的振动反馈效果。不同的应用场景(例如：时间提醒，接收信息，闹钟，游戏等)也可以对应不同的振动反馈效果。触摸振动反馈效果还可以支持自定义。
指示器192可以是指示灯，可以用于指示充电状态，电量变化，也可以用于指示消息，未接来电，通知等。
SIM卡接口195用于连接SIM卡。SIM卡可以通过插入SIM卡接口195，或从SIM卡接口195拔出，实现和电子设备100的接触和分离。电子设备100可以支持1个或N个SIM卡接口，N为大于1的正整数。SIM卡接口195可以支持Nano SIM卡，Micro SIM卡，SIM卡等。同一个SIM卡接口195可以同时插入多张卡。所述多张卡的类型可以相同，也可以不同。SIM卡接口195也可以兼容不同类型的SIM卡。SIM卡接口195也可以兼容外部存储卡。电子设备100通过SIM卡和网络交互，实现通话以及数据通信等功能。在一些实施例中，电子设备100采用eSIM，即：嵌入式SIM卡。eSIM卡可以嵌在电子设备100中，不能和电子设备100分离。
图2是相机200的结构示意图。相机200可以设置于图1的电子设备100中，以实现摄像头193的功能。相机200包括镜头201、光圈202、图像传感器203、模拟预处理器204、模数传感器205、数字信号处理器206、系统控制器207、数据总线208、存储器209、显示器210等。
应理解，本申请实施例示意的结构并不构成对相机200的具体限定。在本申请另一些实施例中，相机200可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者拆分某些部件，或者不同的部件布置。图示的部件可以以硬件，软件或软件和硬件的组合实现。
还应理解，本申请实施例示意的结构并不构成对相机200的功能的具体限定。相机200的功能包括可以实现现有相机的功能，并不局限于拍照或拍视频等功能。
镜头201是将拍摄物体在传感器上成像的器件，起到聚光的作用，可以由几片透镜组成。
光圈202是控制通过镜头到达传感器的光线的装置，除了控制通光量，光圈202还有控制景深的功能。景深是指在相机镜头前能够取得清晰图像的成像所测得的被摄物体前后距离范围，其中，光圈越大，景深越小。
图像传感器203是用来接收通过镜头的光线，并且将这些光信号转变为电信号的装置。在本申请实施例中，图像传感器203是由纳米天线和金属-绝缘体-金属传感器集成的像素结构组成。
图像传感器203生成的电信号为模拟直流电信号，模拟预处理器204将模拟直流电信号进行预处理，该预处理包括降噪处理、修正处理和补偿处理等。
模数转换器205用于将预处理后的模拟直流电信号转变为数字信号。
数字信号传入数字信号处理器206中进行处理。
系统控制器207对光圈202、图像传感器203、模拟预处理器204和模数转换器205起控制作用。
处理后的数字信号经数据总线208传输到存储器209或显示器210中。作为示例而非限定，该存储器209可以是图1中的电子设备的照片存储器例如图库等，显示器210可以是图1中的显示屏194等。
图3是本申请实施例的图像传感器的结构示意图。该图像传感器可以是图2中的图像传感器203，并且可以实现图像传感器203的一切功能。该图像传感器是一个像素阵列，包括多个像素结构，虚线表示没有画出的像素结构。由于每个像素结构中具有纳米天线单元，纳米天线单元包括一个或多个纳米天线，纳米天线对光的响应依赖于纳米天线尺寸和光波长的比例关系。因此每个像素结构不需设置滤光结构，依靠纳米天线对光波长的选择性，即可实现对不同颜色的光的吸收。由此可知，该图像传感器中包含L中尺寸的纳米天线，则该图像传感器可以实现对L种不同波长的光的吸收，其中，L为大于或等于3的整数。
图4是本申请实施例的像素结构的示意图。
图4所示的像素结构包括金属底板、基底单元、纳米天线单元和封装单元等部分。
金属底板位于整个像素结构的最底层，与金属纳米天线之间形成电容。金属底板可以由铝制成，可选地，金属底板还可以由金、银、铂等成本更高的贵金属制成，具有更好的导电效果，本申请实施例在此不做限定。
纳米天线单元可以包括一个或多个纳米天线，每个纳米天线包括多个部分。以图4中的纳米天线为例，该纳米天线包括第一部分和第二部分，该纳米天线的第一部分和第二部分均由金属制成。纳米天线的第一部分和第二部分具有不同的功函数，例如，第一部分和第二部分可以由相同的金属制成，但具有不同的形状；或者第一部分和第二部分可以由不同的金属制成，但具有相同的形状；或者第一部分和第二部分可以由不同的金属制成，同时具有不同的形状。可选地，该金属可以是金、银、铝、镍中的任意两种。该纳米天线的尺寸对应特定的光波段，该纳米天线可以吸收该光波段内波长的光。该纳米天线的第一部分和第二部分之间形成纳米缝隙，该纳米缝隙为纳米尺寸，该纳米缝隙处可以是气体或高分子材料等绝缘体。在该纳米缝隙处形成金属-绝缘体-金属(metal-insulator-metal，MIM)二极管，也就是说纳米天线的第一部分末端、纳米缝隙、纳米天线的第二部分末端形成的结构具有MIM二极管的功能。在光照条件下，金属表面的电子在外界磁场作用下集体振荡，产生高频交流电，MIM二极管作为整流器，将高频交流电转变为直流电。在纳米缝隙处产生增强的光场，MIM二极管恰好完全处于增强的光场中，使得MIM二极管可以与增强光充分作用，从而提高光电转换效率。由于要处理光频率的交流电，因此需要二极管有极高的截止频率，在提高截止频率时，需要降低二极管的电容值。在本申请实施例中，纳米天线与金属底板之间形成电容，对MIM二极管的电容值形成负补偿，从而降低MIM二极管的电容值。
在纳米天线单元中，纳米天线的电极线均布置在纳米天线每个金属部分靠近纳米缝隙的位置。MIM二极管将交流电转变为直流电，由于纳米天线的金属部分具有较大电阻，将纳米天线的电极线布置在靠近MIM二极管的位置，可以减少电流在金属部分上的损失，从而提高光电转换效率。
基底单元位于金属底板和纳米天线单元之间。该基底单元为具有特定的参数的介质材料，该介质材料可以是硅、碳化硅、氧化硅、二氧化硅等，本申请实施例在此不做限定，该参数包括厚度和介质常数，该参数对应于基底单元上该位置处的纳米天线对应的光波段，例如，该基底单元上有一个纳米天线，则该基底单元的参数对应于该纳米天线所对应的光波段；该基底单元上有多个纳米天线时，在每个纳米天线所处的范围内，该位置处的基底单元的参数对应于该纳米天线对应的光波段。当光照射到纳米天线表面时，部分光波会穿过纳米天线而不能被纳米天线完全吸收，在本申请实施例中，穿过纳米天线的光波会被具有特定参数的基底单元反射回纳米天线，从而提高纳米天线对光的吸收效率。
封装单元位于整个像素结构的最上层，覆盖于纳米天线之上。该封装单元可以是透明的介质材料，例如玻璃，本申请实施例在此不做限定。
像素结构对应的光波长与纳米天线的几何有关，虽然理论上纳米天线的几何形状可以是多种多样的，但在实际生产中，考虑到纳米天线需要纳米尺寸的加工，因此纳米天线的几何形状应该尽量采用简单的形状，否则加工难度大。
图5是本申请实施例提供的第一种纳米天线结构的示意图。
如图5所示，在一个像素结构中可以有多个纳米天线，该多个纳米天线均平行于基底单元设置在基底单元上。例如，有三个纳米天线。每个纳米天线包括两个部分，该两个部分组成一个天线对，该天线对呈一字形排列。该纳米天线的两个部分之间形成纳米缝隙，该纳米缝隙为纳米尺寸，缝隙的具体尺寸本申请实施例不做限定。纳米天线的两个部分均为长条形状，纳米天线吸收的光波长由长条形状的长度决定，该像素结构中的三个纳米天线的长度可以相同，或者其中两个纳米天线的长度相同，或者三个纳米天线的长度均不相同。例如，若三个纳米天线的长度均不相同，则可以实现对多个选择波长光同时进行光电转换，相应的，该像素结构可以对应三种不同颜色的光。可选地，该像素结构中的基底单元的参数可以对应该三个纳米天线中任一个纳米天线对应的光波段。
图6是本申请实施例中纳米天线在纳米缝隙处的局部放大图。由图6可知，纳米天线中的每个部分在远离纳米缝隙处到靠近纳米缝隙处的宽度递减。由于提高MIM二极管的截止频率需要降低MIM二极管的电容值，将MIM二极管周围的金属天线宽度减小可以达到降低MIM二极管电容值的效果。
图7是本申请实施例提供的第二种纳米天线结构的示意图。
如图7所示，该纳米天线包括四个部分，该四个部分均平行于基底单元设置在基底单元上。相邻两个部分组成一个天线对，相邻两个部分的功函数不同，即每个天线对中的两个部分的功函数不同。每个部分与其相对的部分的功函数可以相同也可以不同，本申请实施例在此不做限定。该纳米天线呈十字形，每个天线对中的两个部分在十字形的中心处形成纳米缝隙，每个天线对与其他天线对在十字形的中心也形成纳米尺寸的缝隙，该缝隙的大小本申请实施例不做限定。
理论上最佳的天线的形状应该顺着光波的极化方向，然而自然界的光是任意方向极化的。但无论光在任何方向极化，总能分解为沿x方向和沿y方向的两个极化分量。采用图7所示的十字形天线，可以实现将任意方向的极化的光波分解为沿着天线不同部分的分量，从而实现十字形天线对任意极化方向光波的光电转换。
图8是本申请实施例提供的第三种纳米天线结构的示意图。
如图8所示，该纳米天线包括八个部分，该八个部分均平行于基底单元设置在基底单元上。相邻两个部分组成一个天线对，相邻两个部分的功函数不同，即每个天线对中的两个部分的功函数不同。每个部分与其相对或相间的部分的功函数可以相同也可以不同，本申请实施例在此不做限定。该纳米天线呈米字形，每个天线对中的两个部分在米字形的中心处形成纳米缝隙，每个天线对与其他天线对在米字形的中心也形成纳米尺寸的缝隙，该缝隙的大小本申请实施例不做限定。
图8中的天线呈十字形，则极化方向在一个天线对中两个部分之间的极化光可以沿两个相互垂直的部分分解。图8中的天线呈米字形，例如，一个天线对中的两个部分之间的夹角为45度，则在45度夹角之间的极化光可以沿该天线对的两个部分分解，而在45度方向上的极化光则不用分解，从而提高了光电转换的速率。
图9是本申请实施例提供的第四种纳米天线结构的示意图。
如图9所示，该纳米天线包括两个部分，该两个部分均平行于基底单元设置在基底单元上。该纳米天线的两个部分的功函数不同。该纳米天线的两个部分均为梯形，两个梯形以其最短的底边相对排列，并在两条相对的底边处形成纳米缝隙。本申请实施例对梯形的具体形状不做限定。
以图9中靠下方的梯形为例进行说明。对于该梯形斜边上任意一点来说，其到该梯形下底的距离是连续渐变的，即可以认为该纳米天线的长度是连续渐变的，因此该纳米天线可以实现对连续的波长范围内的光波进行光电转换，增大了纳米天线进行光电转换的范围。
可选地，该纳米天线的两个部分在纳米缝隙处的底边还可以是向纳米缝隙凸出的弧形。
图10是本申请实施例提供的第五种纳米天线结构的示意图。
图10示出了该像素结构中包括两个纳米天线，每个纳米天线包括两个部分，该两个部分中的一个部分(以下简称下部分)以其长边垂直于基底单元设置于基底单元上，该两个部分中的另一个部分(以下简称上部分)与下部分相对排列，设置于下部分之上。该上部分可以使用支架或者其他方式固定于下部分之上，本申请实施例不做具体限定。上部分和下部分之间形成纳米缝隙。本申请实施例中，下部分为锥形，尺寸大于上部分。本申请实施例对上部分的具体形状不做限定。
图10中纳米天线的下部分以其长边垂直于基底单元设置于基底单元上，节省了在基底单元上所占的面积，由此基底单元上可以设置多个图10中的纳米天线，增加了天线密度。可选地，该多个纳米天线中的每个纳米天线的尺寸可以不同，从而增大了光电转换的范围。
通过以上实施方式的描述，所属领域的技术人员可以了解到，为描述的方便和简洁，仅以上述各功能模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成，即将装置的内部结构划分成不同的功能模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。
在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，模块或单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个装置，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是一个物理单元或多个物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个不同地方。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。
以上内容，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种像素结构，其特征在于，包括：
金属底板；
基底单元，所述基底单元位于所述金属底板上；
纳米天线单元，所述纳米天线单元位于所述基底单元上，所述纳米天线单元包括一个或多个纳米天线，所述一个或多个纳米天线中的每个纳米天线对应一个光波段，所述每个纳米天线包括M个部分，所述M个部分中每个部分的一端相互靠近，所述M个部分中相互靠近的一端之间形成纳米缝隙，所述M个部分和所述纳米缝隙具有金属-绝缘体-金属二极管的功能，M为2的倍数；
封装单元，所述封装单元覆盖于所述纳米天线单元上；
其中，所述基底单元在所述每个纳米天线位置处的参数对应所述每个纳米天线对应的光波段，以使所述基底单元将穿过所述每个纳米天线的光波反射回所述每个纳米天线，所述基底单元的参数包括厚度和介质常数。
2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述M个部分中的每个部分与其相邻部分具有不同的功函数。
3.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述M个部分中的每个部分与其相邻部分为相同形状的不同的金属，或不同形状的相同金属，或不同形状的不同金属。
4.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述M个部分中的每个部分在远离纳米缝隙处到靠近纳米缝隙处的宽度递减。
5.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述纳米天线包括N个天线对，所述N个天线对中的每个天线对包括两个部分，所述两个部分之间具有纳米缝隙，所述N个天线对呈放射状排列并与所述基底单元平行，所述放射状排列包括一字形、十字形、米字形中的任一种，N为大于或等于1的整数。
6.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，所述N个天线对中的每个部分为长条状。
7.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述纳米天线包括两个部分，所述两个部分呈领结形排列并与所述基底单元平行，所述两个部分之间具有纳米缝隙，所述两个部分中的每个部分为梯形，所述梯形以最短的底边相对排列。
8.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述纳米天线包括两个部分，所述两个部分中的一部分垂直设置于基底单元上，所述两个部分中的另一部分与所述两个部分中的一部分相对排列，所述两个部分中的一部分与所述两个部分中的另一部分之间具有纳米缝隙。
9.根据权利要求8所述的像素结构，其特征在于，所述垂直设置于基底单元上的部分为锥形，所述锥形沿第一方向的切面的面积大于与所述锥形相对排列的所述两个部分中的另一部分沿所述第一方向的切面的面积，所述第一方向为垂直于所述基底单元的方向。
10.根据权利要求1或2所述的像素结构，其特征在于，所述纳米天线的电极线布置在所述M个部分中的每个部分靠近所述纳米缝隙处。
11.一种图像传感器，其特征在于，包括多个权利要求1至权利要求10中任一项所述的像素结构。
12.一种电子产品，其特征在于，包括权利要求11所述的图像传感器。
CN201911110638.XA 2019-11-14 2019-11-14 像素结构和图像传感器 Active CN112802827B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911110638.XA CN112802827B (zh) 2019-11-14 2019-11-14 像素结构和图像传感器
PCT/CN2020/128425 WO2021093816A1 (zh) 2019-11-14 2020-11-12 像素结构和图像传感器
EP20888635.8A EP4050655A4 (en) 2019-11-14 2020-11-12 PIXEL STRUCTURE AND IMAGE SENSOR
US17/663,284 US20220278145A1 (en) 2019-11-14 2022-05-13 Pixel structure and image sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911110638.XA CN112802827B (zh) 2019-11-14 2019-11-14 像素结构和图像传感器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112802827A CN112802827A (zh) 2021-05-14
CN112802827B true CN112802827B (zh) 2024-03-01

Family

ID=75804010

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911110638.XA Active CN112802827B (zh) 2019-11-14 2019-11-14 像素结构和图像传感器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20220278145A1 (zh)
EP (1) EP4050655A4 (zh)
CN (1) CN112802827B (zh)
WO (1) WO2021093816A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117751453A (zh) * 2021-07-16 2024-03-22 华为技术有限公司 一种图像传感器以及电子设备
CN117561602A (zh) * 2021-10-09 2024-02-13 华为技术有限公司 图像传感器和电子设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101846622A (zh) * 2010-05-14 2010-09-29 重庆文理学院 一种基于纳米腔天线阵列的气体折射率传感器
CN102203949A (zh) * 2008-07-25 2011-09-28 特拉维夫大学拉莫特有限公司 具有纳米结构二极管的整流天线设备
CN103930755A (zh) * 2011-07-15 2014-07-16 中央科学研究中心 具有改进性能的微测热辐射计阵列
CN104319471A (zh) * 2014-10-17 2015-01-28 哈尔滨工业大学深圳研究生院 可调谐的纳米天线及其制备方法
CN104966745A (zh) * 2015-04-30 2015-10-07 北京空间飞行器总体设计部 一种基于硅基衬底的纳米整流天线
CN106373968A (zh) * 2016-11-14 2017-02-01 郭玮 一种含碳素材料的光电转化装置
CN106940296A (zh) * 2017-03-14 2017-07-11 南京大学 一种基于纳米图案的等离基元折射率传感器及其传感方法
CN109040620A (zh) * 2017-06-06 2018-12-18 国家宇航研究所 用于电磁辐射的频谱转换元件

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101385250B1 (ko) * 2007-12-11 2014-04-16 삼성전자주식회사 Ｃｍｏｓ 이미지 센서
DE102008002270A1 (de) * 2008-06-06 2009-12-17 Robert Bosch Gmbh Multispektraler Sensor
US20110062330A1 (en) * 2009-09-14 2011-03-17 David Ben-Bassat Electromagnetic based thermal sensing and imaging incorporating differential pixel topology
KR101313654B1 (ko) * 2009-12-18 2013-10-02 엘지디스플레이 주식회사 표면 플라즈몬을 이용한 컬러필터와 액정표시장치 및 그 제조방법
KR102020956B1 (ko) * 2016-08-30 2019-10-18 삼성전자주식회사 광학필터 및 이를 이용한 광학 디바이스
KR20180079979A (ko) * 2017-01-03 2018-07-11 삼성전자주식회사 나노안테나를 포함하는 이미지 센서
CN110085610B (zh) * 2019-04-23 2021-05-04 Oppo广东移动通信有限公司 图像传感器、图像处理方法以及计算机存储介质
CN110444557A (zh) * 2019-09-12 2019-11-12 江苏集萃智能传感技术研究所有限公司 一种基于纳米盘结构的多波段滤光传感器及其制备方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102203949A (zh) * 2008-07-25 2011-09-28 特拉维夫大学拉莫特有限公司 具有纳米结构二极管的整流天线设备
CN101846622A (zh) * 2010-05-14 2010-09-29 重庆文理学院 一种基于纳米腔天线阵列的气体折射率传感器
CN103930755A (zh) * 2011-07-15 2014-07-16 中央科学研究中心 具有改进性能的微测热辐射计阵列
CN104319471A (zh) * 2014-10-17 2015-01-28 哈尔滨工业大学深圳研究生院 可调谐的纳米天线及其制备方法
CN104966745A (zh) * 2015-04-30 2015-10-07 北京空间飞行器总体设计部 一种基于硅基衬底的纳米整流天线
CN106373968A (zh) * 2016-11-14 2017-02-01 郭玮 一种含碳素材料的光电转化装置
CN106940296A (zh) * 2017-03-14 2017-07-11 南京大学 一种基于纳米图案的等离基元折射率传感器及其传感方法
CN109040620A (zh) * 2017-06-06 2018-12-18 国家宇航研究所 用于电磁辐射的频谱转换元件

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Gabor Matyi.Nanoantennas for uncooled, double-band, CMOS compatible,high-speed infrared sensors.INTERNATIONAL JOURNAL OF CIRCUIT THEORY AND APPLICATIONS.2004,第32卷(第5期),425-430. *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021093816A1 (zh) 2021-05-20
EP4050655A1 (en) 2022-08-31
US20220278145A1 (en) 2022-09-01
EP4050655A4 (en) 2022-12-21
CN112802827A (zh) 2021-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110347269B (zh) 一种空鼠模式实现方法及相关设备
CN110989852B (zh) 一种触摸屏、电子设备、显示控制方法
CN113810601B (zh) 终端的图像处理方法、装置和终端设备
CN110968247B (zh) 一种电子设备操控方法及电子设备
US20220278145A1 (en) Pixel structure and image sensor
CN110248037B (zh) 一种身份证件扫描方法及装置
CN113934330A (zh) 一种截屏方法及电子设备
CN112334860B (zh) 一种可穿戴设备的触控方法、可穿戴设备及系统
CN113129916A (zh) 一种音频采集方法、系统及相关装置
CN115665632A (zh) 音频电路、相关装置和控制方法
CN113674258B (zh) 图像处理方法及相关设备
CN112527220B (zh) 一种电子设备显示方法及电子设备
CN114332331A (zh) 一种图像处理方法和装置
CN114089902A (zh) 手势交互方法、装置及终端设备
CN114125144B (zh) 一种防误触的方法、终端及存储介质
CN114610195B (zh) 图标显示方法、电子设备及存储介质
CN114520870B (zh) 一种显示方法及终端
CN116048772B (zh) 中央处理单元频率的调整方法、装置和终端设备
CN116048769B (zh) 内存回收方法、装置和终端设备
CN116233599B (zh) 一种录像模式推荐方法和电子设备
CN113132532B (zh) 环境光强度校准方法、装置及电子设备
CN111026285B (zh) 一种调节压力阈值的方法及电子设备
CN117666853A (zh) 焦点控制方法、电子设备及存储介质
CN116708317A (zh) 数据包mtu的调整方法、装置和终端设备
CN113325992A (zh) 滑动操作的处理方法、装置、电子设备及存储介质

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant