JP6576242B2 - 視覚装置 - Google Patents

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関連出願の相互参照
本明細書は、係属中の米国特許出願第61/564161号、「Polarizing Beam Splitters Providing High Resolution Images and Systems Utilizing Such Beam Splitters」(代理人整理番号第67895US002号、2011年11月28日出願)、係属中の米国特許出願第61/564172号、「Method of Making Polarizing Beam Splitters Providing High Resolution Images and Systems Utilizing Such Beam Splitters」(代理人整理番号第68016US002号、2011年11月28日出願)、及び米国特許出願第61/683390号、「Polarizing Beam Splitter Plates Providing High Resolution Images and Systems Utilizing Such Beam Splitter Plates」(代理人整理番号第70226US002号、2012年8月15日出願)に関し、これらは参照により本明細書の全体に援用される。
本明細書は、視覚装置に関する。より詳細には、本発明は、高い実行分解能で結像光を観者に向かって反射する偏光ビームスプリッタプレートを組み込む頭部装着型視覚装置に関する。
偏光ビームスプリッタ(PBS)が組み込まれた照射システムが、投射ディスプレイ等の鑑賞スクリーン上に画像を形成するために使用されている。典型的な表示画像は照射源を組み込んでおり、この照射源は、照射源からの光線が、投射される所望の画像を含む画像形成装置(即ち、結像器)で反射するように配置されている。こうしたシステムは、照射源からの光線と投射される画像の光線とが、PBSと結像器との間の同じ物理的空間を共有するように光線を折曲する。PBSは、結像器からの、偏光状態が回転した光から、入射する照明光を分離する。PBSへの新たな需要により、一つには3次元投射及び結像等の用途における新規利用により、いくつかの問題が浮上してきている。本出願は、そのような問題に対処する物品を提供する。
一態様では、本明細書は、偏光サブシステムに関する。偏光サブシステムは、第1の結像器と、偏光ビームスプリッタとを含む。いくつかの実施形態では、結像器は、LCOS結像器であってもよい。偏光ビームスプリッタは、部分的に反射性偏光子からなり、結像器からの結像光を受光する。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。一部の実施形態では、反射性偏光子は45nm未満の表面粗さRa、又は80nm未満の表面粗さRqを有する。偏光ビームスプリッタは、12マイクロメートル未満の有効画素解像度で観者又はスクリーンに向かって結像光を反射させる。いくつかの実施形態では、偏光ビームスプリッタは、9マイクロメートル未満又は6マイクロメートル未満の有効画素解像度で観者又はスクリーンに向かって結像光を反射させることができる。偏光サブシステムは、第2の結像器を含むことができ、これは、偏光ビームスプリッタが第1の結像器からの光を受光するのとは異なる面で偏光ビームスプリッタが第2の結像器からの結像光を受光する。偏光サブシステムはまた、観者又はスクリーンに向かって偏光ビームスプリッタからの光を投影する投影レンズを含むことができる。いくつかの場合では、偏光サブシステムは、3次元画像投影器の一部であってもよい。
別の態様では、本明細書は、偏光ビームスプリッタに関する。偏光ビームスプリッタは、第1のカバーと第2のカバーとの間に位置決めされる反射性偏光子を含む。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。偏光ビームスプリッタは、12マイクロメートル未満、潜在的に9マイクロメートル未満、又は6マイクロメートル未満の有効画素解像度で観者又はスクリーンに向かって結像光を反射させることができる。偏光ビームスプリッタの第1及び/又は第2のカバーは、ガラス又は好適な光学プラスチックで少なくとも部分的に作製されてもよい。第1のカバー及び/又は第2のカバーは、多層光学フィルムの所望の平坦度を達成するために、真空に対する露光などの更なる処理で好適な光学接着剤によって反射性偏光子に取り付けられてもよい。反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa又は80nm未満の表面粗さRqを有することができる。
更なる他の態様において、本明細書は投射サブシステムに関する。投影サブシステムは、光源と、偏光ビームスプリッタと、少なくとも第1の結像器と、潜在的に第2の結像器と、を含む。偏光ビームスプリッタは、光源からの光を受光し、多層光学フィルムからなる反射性偏光子を含む。第1の結像器は、偏光ビームスプリッタに隣接して位置決めされる。第2の結像器は、偏光ビームスプリッタの第1の結像器とは異なる側で偏光ビームスプリッタに隣接して位置決めされる。光源からの光が偏光ビームスプリッタに入射し、入射光の第1の偏光が反射性偏光子を透過し、一方第1の偏光状態に直交する入射光の第2の偏光は反射性偏光子によって反射される。第2の偏光の光が偏光ビームスプリッタから第2の結像器へと進み、結像され、偏光ビームスプリッタに向かって後方に反射する第2の結像器から反射された光が、偏光ビームスプリッタを通じて像平面に透過される。第1の偏光の光が偏光ビームスプリッタを通じて第1の結像器に透過され、結像され、偏光ビームスプリッタに向かって後方に反射する。第1の結像器から反射された光が、12マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向かって偏光ビームスプリッタで反射される。少なくともいくつかの実施形態では、第1の結像器から反射された光が、9マイクロメートル未満又は6マイクロメートル未満の有効解像度で像平面に向かって偏光ビームスプリッタで反射される。反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa又は80nm未満の表面粗さRqを有することができる。投影サブシステムの光源は、アーク灯又は1つ若しくは複数のLEDなどの任意の好適な光源であってもよい。
別の態様では、本明細書は、偏光サブシステムに関する。偏光サブシステムは、第1の結像器と、偏光ビームスプリッタとを含む。偏光ビームスプリッタは、部分的に反射性偏光子からなり、結像器からの結像光を受光する。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。偏光ビームスプリッタは、観者又はスクリーンに向かって結像光を反射させる。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa又は80nm未満の表面粗さRqを有する。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、40nm未満の表面粗さRa又は70nm未満の表面粗さRqを有する。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、35nm未満の表面粗さRa又は55nm未満の表面粗さRqを有する。
別の態様では、偏光サブシステムは、第1の結像器と、結像器からの結像光を受光するようになっている偏光ビームスプリッタプレートとを含む。偏光ビームスプリッタプレートは、第1基材、第1基材上に配設された多層光学フィルム反射性偏光子、第1最外主表面、及び第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を観者又はスクリーンに向けて反射し、反射した結像光は12μm未満の有効画素解像度である。
別の態様では、偏光ビームスプリッタプレートは、第1基材、第2基材、第1及び第2基材の間に配設され並びにそれらに接着された多層光学フィルム反射性偏光子、第1最外主表面、並びに第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、結像光を観者又はスクリーンに向かって、12μm未満の有効画素解像度の反射結像光で反射するように適合されている。
別の態様では、投射サブシステムは、光源と、光源から受光した光を結像する第1結像器と、第1結像器から結像光を受光するとともに、多層光学フィルム反射性偏光子、第1最外主表面、第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む偏光ビームスプリッタプレートとを含む。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を画像平面に向かって、12μm未満の有効画素解像度で反射する。
別の態様では、偏光サブシステムは、第1結像器と、結像器からの結像光を受光し、多層光学フィルム反射性偏光子、第1最外主表面、及び第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む偏光ビームスプリッタプレートとを含む。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を観者又はスクリーンに反射する。多層光学フィルム反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa、又は80nm未満の表面粗さRqを有する。
別の態様では、平坦なフィルムを製造する方法は、多層光学フィルムを提供する工程と、一時的平坦基材を提供する工程と、多層光学フィルムの第1基材を一時的平坦基材に着脱自在に取り付ける工程と、第1最外主表面、及び第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む永久基材を提供する工程とを含む。方法は、多層光学フィルムの第2表面を永久基材に取り付ける工程、及び多層光学フィルムを一時的平坦基材から取り除く工程を更に含む。
別の態様では(another respect)、場合により、光学的に平坦な偏光ビームスプリッタプレートを作る方法は、多層光学フィルム反射性偏光子を提供する工程と、感圧接着剤の層を多層光学フィルムの第1表面に適用する工程と、第1基材を多層光学フィルムと反対側の上の感圧接着剤層に適用する工程であって、第1基材は、第1最外主表面、及び第1最外主表面と約20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む、工程と、真空を感圧接着剤、多層光学フィルム、及び第1基材に適用する工程と、を含む。
別の態様では、視覚装置は、第1結像光を投影するプロジェクタと、プロジェクタから投射された第1結像光を受光し、観者が見るための受光された第1結像光を反射する偏光ビームスプリッタプレートとを含む。偏光ビームスプリッタプレートは、第2画像を受光し、観者によって見られるための第2画像を透過する。偏光ビームスプリッタプレートは、第1基材と、第1基材に接着された多層光学フィルム反射性偏光子とを含む。反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光を実質的に反射し、かつ第1偏光状態に垂直な第2偏光状態の偏光を実質的に透過する。偏光ビームスプリッタプレートはまた、第1最外主表面、及び第1最外主表面と20°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、12μm未満の有効画素解像度を有する受光した第1結合光で観者に向かって反射する。
本明細書による偏光変換システムである。 本明細書による偏光ビームスプリッタである。 本明細書による投射サブシステムである。 PBSでの使用のための平坦な多層光学フィルムの製造方法を示すフローチャートである。 多層光学フィルムを用いた偏光ビームスプリッタの作製方法を示す。 偏光サブシステムの概略図である。 偏光ビームスプリッタプレートの最外表面の概略図である。 反射型結像システムの概略図である。 透過型結像システムの概略図である。 反射−透過型結像システムの概略図である。 視覚装置の概略図である。 頭部装着型投射ディスプレイの概略図である。
高性能なPBSは、シリコン基板上の反射型液晶(LCOS)(Liquid Crystal on Silicon)結像器を用いるプロジェクタ用の発展可能な光学エンジンを作製するために必須である。加えて、PBSは、DLP結像器等の名目上は非偏光の結像器に対してでさえ、そのような結像器が偏光を扱うことが要求されるときには、必要とされる場合がある。典型的には、PBSは、名目上は、p偏光を透過し、かつ、名目上は、s偏光を反射する。マクニール型PBS及びワイヤグリッド偏光子を含め、いくつかの異なった種類のPBSが使用されてきた。しかしながら、多層光学フィルムに基づくPBSは、波長域及び入射角にわたって効果的に偏光させる能力を含む、投射システムにおける光の扱いに関連した問題に対して、最も効果的な偏光ビームスプリッタの1つであり、かつ、反射及び透過の両方について高い効率を有することが、わかってきた。このような多層光学フィルムは、Jonza et al.に対する米国特許第5,882,774号及びWeber et al.に対する米国特許第6,609,795号に記載されているように、3M Companyによって製造されている。
例えば、3次元投射及び結像を含む、いくつかの新しい結像及び投射用途の出現と共に、新たな課題が浮上している。具体的には、少なくともいくつかの3次元結像用途において、反射偏光フィルムを透過するときだけでなく、反射偏光フィルムによって反射されるときにも、PBSが(後に定義されるような)高有効解像度を有する結像光を提供することが要求される場合がある。不幸なことに、多層光学フィルムに基づく偏光子は、他の多くの利点にも関わらず、高解像度で結像光を反射するために必要な平坦度を有するよう処方することが困難な場合がある。むしろ、そのような多層フィルム反射偏光子を結像光を反射するために用いた場合、反射した画像は歪んでしまう場合がある。しかしながら、広範囲な角度及び波長の入射光を効率的に偏光させることに関する懸念にも対処しなければならない。それ故、観者又はスクリーンに向かってPBSから反射した結像光に対して、有効解像度を高めることを達成すると同時に、多層光学フィルムを有するPBSの利点を有した偏光ビームスプリッタを提供することが強く望まれている。本明細書では、そのような解決策が提供される。
図1は、本明細書による偏光サブシステムの一例を示す。偏光サブシステムは第1結像器102を含む。図1に示されているような、いくつかの実施形態においては、結像器は適切な反射型結像器である。大抵、投射システムで用いられる結像器は、典型的には、偏光を回転させる、液晶表示結像器等の画像形成装置であり、デジタル映像信号に合わせて画像を生成するために、光の偏光を回転させることにより動作する。このような結像器が、投射システムにおいて使用されるときは、典型的には、光を直交偏光状態(例えば、s偏光とp偏光)の対へと分離する偏光子に依存している。図1に示されている実施形態で使用される場合がある一般的な2つの結像器としては、シリコン基プレート上に載せた反射型液晶(LCOS)結像器、又はデジタルライ卜プロセッシング(DLP)(digital light processing)結像器が挙げられる。当業者であれば、DLPシステムにおいて、図1に示すPBS構成を使用するためには、偏光を回転させる外部手段(位相差プレート等)、並びに照明形状の多少の変更が必要であることを認識するであろう。この偏光サブシステムは、偏光ビームスプリッタ(PBS)104も含む。光源110からの光112は、PBS 104へ向かって進む。PBS 104の内部には反射偏光子106がある。反射偏光子は、3M Company(St.Paul、MN)から入手可能であり、かつ、例えば、それぞれの全体が参照により本明細書に援用される、Jonza et al.に対する米国特許第5,882,774号及びWeber et al.に対する米国特許第6,609,795号に記載されているもののような、多層光学フィルムであってよい。光112がフィルム106に入射するとき、入射光のある1つの直交偏光状態(p偏光状態等)がフィルムを透過し、光120としてPBSを出てから、次に結像器102へ入射する。前記入射光の直交偏光状態(この場合は、s偏光)は、反射偏光子106によって、異なった方向(ここでは、ビーム120と直角)の分離ビーム118として反射される。
所与の偏光状態の未結像光120が結像器102に入射する。その後、この光は結像され、反射し、PBS 104及び組み込まれた反射偏光子106へ向かって戻る。結像器102がLCOS結像器であり、かつ、「オン(on)」状態のこれらの画素に対するものである場合、光114も直交偏光状態へ変換される。この場合、p偏光入射光(まだ結像していない)は、s偏光の結像光として反射される。そのs偏光が偏光ビームスプリッタ104、及び特に多層光学フィルム反射偏光子106に入射したとき、その光は、s偏光のビーム116として、観者又は鑑賞スクリーン130へ向かって反射する。結像器102は、用途において望ましい場合がある任意のタイプの結像器であってもよい。例えば、結像器102は、LCOS結像器、OLED結像器、微小電気機械システム(MEMS)結像器、又はDLP結像器などのデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)結像器であってもよい。
先行技術のいくつかの実施形態において、結像器は、例えば、ビーム118が進む方向に位置してよい。このような実施形態においては、結像光は偏光ビームスプリッタ104で反射されるのではなく、偏光ビームスプリッタ104を透過するであろう。偏光ビームスプリッタを透過する結像光は、画像の歪みをより小さくできるため、より高い有効解像度を可能とする。しかしながら、後に更に説明するように、いくつかの実施形態においては、結像器102を図1で位置しているように備えることが望ましい場合がある。これにより、例えば、異なる偏光の画像を重ねることができる。多層光学フィルムの反射偏光子としての多くの利点にも関わらず、従来は、そのようなフィルムに反射する結像光に対して高有効解像度を達成することは困難であった。
素子により生成される画像又は光の有効解像度は、どの画素サイズが信頼性を持って解像され得るかを予測するのに役立つため、便利な定量的測定法である。最新の結像器(LCOS及びDLP)は約12.5μm〜約5μmの画素サイズを有する。そのため、反射型の結像状況において有用であるためには、リフレクタは少なくとも12.5μm、理想的にはそれ以上にまで解像可能でなければならない。それ故、PBSの有効解像度は約12.5μm未満、好ましくはより小さくなくてはならない。この場合には、高有効解像度であると言える。
本明細書に記載した手法を使用すれば、実際に、結像光を非常に高い解像度で反射できるPBS 104で使用するための多層光学フィルムを準備することができる。実際、図1を見ると、結像光116は、12マイクロメートル未満の有効画素解像度で、偏光ビームスプリッタ104から観者又は鑑賞スクリーン130へ向かって反射することができる。実際、いくつかの実施形態では、結像光116は、11マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、9マイクロメートル未満、8マイクロメートル未満、7マイクロメートル未満、又は可能性としては更に、6マイクロメートル未満の有効画素解像度で、偏光ビームスプリッタ104から観者又は鑑賞スクリーン130に向かって反射することができる。
既に述べたように、少なくともいくつかの実施形態において、前記偏光サブシステム100は第2結像器108を備える。一般的に、第2結像器108は、第1結像器106と同じ種類の結像器(LCOS又はDLP等)であってよい。ある1つの偏光状態の光(s偏光等)はPBS 104から、特にPBSの反射偏光子106から第2結像器へ向かって反射してよい。その後、この光は結像され、反射されてPBS 104へ戻ってよい。この場合も、s偏光未結像光118が結像器108に入射した場合に、p偏光結像光122が結像器108からPBS 104へ向かって戻る方へ向きを変えられるよう、第1結像器104と同様に、第2結像器108から反射した光は偏光変換される。結像器102から反射した光114は第1偏光状態(例えば、s偏光)にあるため、PBS 104から観者又は鑑賞スクリーン130へ向かって反射する一方で、結像器108から反射した光(例えば、光122)は第2偏光状態(例えば、p偏光)であるため、PBS 104を透過して観者又は鑑賞スクリーン130へ向かう。図1からわかるように、PBSが第1面126で第1結像器102からの結像光114を受け取り、かつ、第1面とは異なる第2面124で第2結像器108からの結像光122を受けるように、2つの結像器はPBS 104の異なる側に位置している。
一旦、結像光116、及び場合によっては光122が、PBS 104を出ると、観者又は鑑賞スクリーン130へ向かって、方向づけられる。光を観者へ向かって最良に方向づけるため、かつ、画像を適切にスケーリングするため、光が投射レンズ128又は何らかの投射レンズシステムを通り抜けるようにしてもよい。単一要素の投射レンズ128を有するように図示されているのみであるが、必要であれば、偏光変換システム100は更に結像光学系を含んでもよい。例えば、実際、投射レンズ128は、本願の権利者が所有し譲渡された米国特許第7,901,083号のレンズ群250のような、複数のレンズであってよい。なお、任意の結像器108が使用されない場合には、入力光112は光線120と同じ偏光状態を有するようにあらかじめ偏光させられる。これは、例えば、入力光の流れ112の偏光純度を上げるための偏光変換システム(PCS)、付加的な若しくは反射型の若しくは吸収型の直線偏光子又は他のそのような装置の使用により達成できる。このような手法は、システムの全体的な効率性を改善することができる。
PBS 104は反射偏光子106に加えて他の要素を含んでもよい。例えば、図1では、PBS 104はまた第1カバー132及び第2カバー134を備える。反射偏光子106は、第1カバー132と第2カバー134との間に位置することで、これらのカバーによって、保護され、かつ、適切に配置される。第1カバー132及び第2カバー134は、ガラス、プラスチック、又は他の潜在的に適切な材料等、当該技術分野において既知の任意の適切な材料で作製されてよい。更に付加的な材料及び構造体が、例えば、PBSの表面に、又は反射偏光子と隣接して、かつ実質的に同一の広がりを持って、取り付けられてよいことが理解されるべきである。このような他の材料又は構造体としては、付加的な偏光子、ダイクロイックフィルタ/リフレクタ、位相差プレート、反射防止コーティング、カバーの表面に成形若しくは接着されたレンズ等を挙げることができる。
結像光が異なる偏光状態である、異なる結像器からの光を発する投射又は偏光サブシステムは、例えば、米国特許第7,690,796号(Bin et al.)で記載されるような3次元画像プロジェクタの一部として特に有用である。2つの結像器システムに基づくPBSを使用することの明白な利点は、タイムシーケンス処理又は偏光シーケンス処理が必要とされないことである。これは、両方の結像器が常に動作し、プロジェクタの光の出力を効果的に重ね合わせていることを意味する。既に述べたように、偏光子から反射した結像光116が歪まず、かつ、高有効解像度を有するように、反射偏光子106が平坦であることは非常に重要である。平坦度は標準的な粗さパラメータRa(平均からの表面の垂直偏差の絶対値の平均)、Rq(平均からの表面の垂直偏差の二乗平均平方根)、及びRz(各サンプリング長さにおける最も高い頂部と最も低い底部との間の平均距離)によって定量化できる。特に、反射偏光子は、好ましくは、表面粗さRaが45nm未満であり、又は表面粗さRqが80nm未満であり、より好ましくは、表面粗さRaが40nm未満であり、又は表面粗さRqが70nm未満であり、更により好ましくは、表面粗さRaが35nm未満であり、又は表面粗さRqが55nm未満である。フィルムの表面粗さ又は平坦度を測定する例示的な一つの方法が、以下の実施例のセクションで提供される。
別の態様では、本明細書は、偏光ビームスプリッタに関する。そのような偏光ビームスプリッタ200の1つが図2に示されている。偏光ビームスプリッタ200は、第1カバー232と第2カバー234との間に位置する、反射偏光子206を含む。図1の反射偏光子106と同様に、図2の反射偏光子206は、上記したもののような多層光学フィルムである。偏光ビームスプリッタ200は結像光216を観者又は表面230へ反射することができる。観者又は表面へ向かって方向づけられる結像光216の有効画素解像度は、12マイクロメートル未満、可能性としては11マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、9マイクロメートル未満、8マイクロメートル未満、7マイクロメートル未満、可能性としては更に6マイクロメートル未満である。
図1のカバーと同様に、PBS 200の第1カバー232及び第2カバー234は、とりわけガラス又は光学プラスチック等の当該分野において使用される、任意の数の適切な材料で作製されてよい。また、第1カバー232及び第2カバー234は、いくつかの異なる手段によりそれぞれ反射偏光子206へ取り付けられてよい。例えば、一実施形態においては、第1カバー232は、感圧性接着剤層240を用いて反射偏光子206に取り付けられてよい。好適な感圧性接着剤は3M(商標)Optically Clear Adhesive 8141(3M Company(St.Paul、MN)より入手可能)である。同様に、第2カバー234は、感圧性接着剤層242を用いて反射偏光子に取り付けられてよい。他の実施形態においては、第1カバー及び第2カバーは、層240及び層242に対して異なる接着剤を用いて反射偏光子206に取り付けられてもよい。例えば、層240及び層242は硬化性光学接着剤で作製されてよい。好適な光学接着剤としては、NOA73、NOA75、NOA76又はNOA78等のNorland Products Inc.(Cranbury、NJ)により製造された光学接着剤、並びに、それぞれ本明細書に参照により援用される、本願の権利者が所有し譲渡された米国特許出願公開第2006/0221447号(DiZio et al.)、及び本願の権利者が所有し譲渡された米国特許出願公開第2008/0079903号(DiZio et al.)に記載された光学接着剤を挙げることができる。また、紫外線硬化性接着剤を使用してもよい。更に付加的な材料及び構造体が、例えば、PBSの表面に、又は反射偏光子と隣接して、かつ実質的に同一の広がりを持って、取り付けられてよいことが理解されるべきである。このような他の材料又は構造体としては、付加的な偏光子、ダイクロイックフィルタ/リフレクタ、位相差プレート、反射防止コーティング等が挙げられる。図1で記載したPBSと同様に、図2の反射偏光子206は結像光216を歪ませることなく最も効率的に反射するために非常に平坦でなくてはならない。反射偏光子は、表面粗さRaが45nm未満、又は表面粗さRqが80nm未満であってよい。米国特許第7,234,816(B2)号(Bruzzone et al.)に記載されているような、感圧性接着剤の典型的な塗布手順では、必要とされる反射偏光子表面の平坦度は達成されない。特定の種類の後処理によって、必要とされる表面の平坦度が達成できることが発見された。
更なる他の態様において、本明細書は投射サブシステムに関する。そのような投射サブシステムの1つが図3に示されている。投射サブシステム300は光源310を含む。光源310は、投射システムで一般に使用される、任意の数の適切な光源であってよい。例えば、光源310は、赤色、緑色、又は青色光等の特定の色の光を発する、レーザー又は発光ダイオード(LED)等の固体エミッタであってよい。光源310は、発光源から光を吸収し、他の波長(一般的にはより長い波長)で再放出する、蛍光体又は他の光変換材料を含んでもよい。好適な蛍光体としては、CeドープYAG(Ce−doped YAG)、ストロンチウムチオガレート(strontium thiogallate)、ドープしたシリカ、及びサイアロン型(SiAlON-type)材料等の周知の無機蛍光体が挙げられる。他の光変換材料としては、III〜V及びII〜VI族半導体、量子ドット、及び有機蛍光染料が挙げられる。あるいは、光源は、赤色、緑色又は青色LED等の、複数の光源からなっていてもよく、それらのLEDは同時に作動してもよく、又は順に作動してもよい。光源310は、レーザー光源でもよく、又は可能性としては従前のUHPランプでもよい。カラーホイール、ダイクロイックフィルタ又はリフレクタ等の補助的な構成要素が、光源310を付加的に構成してもよいことが理解されるべきである。
投射サブシステム300は、更に偏光ビームスプリッタ304を含む。偏光ビームスプリッタ304は、光源からの光312を受けるように位置する。一般的に、この入射光312は、部分的には、2つの直交偏光状態(例えば、s偏光部分とp偏光部分)からなっている。偏光ビームスプリッタ内には、この場合にもまた、反射偏光子106に関して上述したような多層光学フィルムである、反射偏光子306がある。光312は反射偏光子306に入射し、ある第1偏光(例えば、p偏光)の光は光320として透過する一方で、直交する第2偏光(例えば、s偏光)の光は光318として反射する。
反射偏光子306を透過する第1偏光の光320は、PBS 304に隣接して位置する第1結像器302へ向かって進む。光は結像され、第1結像器302で反射して、光の偏光が変換されてPBS 304へ戻る。その後、変換された結像光314はPBS 304で、光316として、画像平面350へ向かって反射する。光316はPBSの反射偏光子306から反射し、12マイクロメートル未満、及び可能性としては11マイクロメートル未満、10マイクロメートル未満、9マイクロメートル未満、8マイクロメートル未満、7マイクロメートル未満、又は可能性としては更に6マイクロメートル未満の有効解像度で、画像平面350に到達する。典型的には、反射偏光子306は表面粗さRaが45nm未満であり、又は表面粗さRqが80nm未満である。
初めにPBS 304の反射偏光子で反射した、第2偏光(例えば、s偏光)の光は、光318として、第2結像器308へ向かって進む。第1結像器302と同様に、第2結像器308も、PBS 304の隣に位置しているが、第2結像器はPBSの異なった側に位置している。入射光318は結像され、反射して、PBS 304へ向かって戻る。同様に、結像器からの反射の際、この光の偏光は90度(例えば、s偏光からp偏光へ)回転させられる。結像光322は、PBS 304を透過し、画像平面350へ送られる。第1結像器302及び第2結像器308は、図1の要素102及び108に関して上述したような、任意の適当な種類の反射型結像器であってよい。
既に述べたように、本明細書において、PBSから反射した結像光に対して高有効解像度を達成するためには、PBSの反射偏光子は特に光学的に平坦でなければならない。ここで、本明細書は、多層光学フィルムである、光学的に平坦な反射偏光子の製造方法、及び/又は光学的に平坦な偏光ビームスプリッタの製造方法を提供する。
そのような方法の1つが図4のフローチャートに示されている。この方法は、多層光学フィルム410を準備すること、及び平面基プレート420を準備することから開始される。多層光学フィルム410は、上述した物品に関して説明した多層光学フィルムと同様のものであってよい。平面基プレートは、アクリル、ガラス、又は他の適当なプラスチック等の、任意の数の適当な材料であってよい。最も重要なことは、基プレート420は少なくとも偏光ビームスプリッタに必要とされるのと同程度の光学的な平坦度を有していなければならず、かつ、その基プレートの表面に湿潤溶液を行き渡らせることが可能でなければならない。それ故、他のプラスチック、無機ガラス、セラミック、半導体、金属又はポリマー類が適当な材料となる場合がある。加えて、基プレートはわずかに可撓性であることが有用である。
次の工程において、平面基プレートの表面425を、多層光学フィルムの第1表面に着脱自在に取り付ける。少なくとも1つの実施形態において、着脱自在な取り付けを形成するために、平面基プレートの表面425若しくは多層光学フィルムの第1表面のどちらか、又はその両方を湿潤剤で湿潤させ、溶液430の薄い層にする。好適な湿潤剤は、基材又はフィルムを湿潤させるのに十分に低い表面エネルギー及び室温で蒸発可能な十分に高い蒸気圧を有しているべきである。いくつかの実施形態では、イソプロピルアルコールを湿潤剤として用いる。少なくともいつくかの実施形態において、湿潤剤は少なくとも少量の界面活性剤を含有する(例えば、1容量%未満)水溶液である。界面活性剤は、一般的な市販の工業用湿潤剤、又は更に食器用洗剤等の家庭用の材料でもよい。他の実施形態では、蒸発の際に残渣を残さない、アンモニア、酢、又はアルコール等の化合物の水性混合物であってもよい。湿潤剤は、(例えば、スプレー瓶からの)噴霧等を含む、適当な方法により塗布されてよい。次の工程では、多層光学フィルムは、溶液430がフィルムと基プレートとの間に挟み込まれるように、基プレート425の表面に取り付けられる。典型的には、多層光学フィルムの接触表面にも湿潤剤を塗布する。その後、スキージ等の加圧器435を、多層光学フィルム410上全体で引きずり、光学フィルム410を、基プレート420の表面425にぴったりと平坦化され、これら2つを分離する溶液430の薄く、極めて均一な層のみが残るようにする。少なくともいくつかの実施形態において、初めに、基プレート420に塗布されている表面440とは反対の側で、多層光学フィルムに保護層を塗布してよい。ここで、この構造体を、溶液430を蒸発させるために放置する。押し付け処理では、少量のみが残るように、残留水を多層光学フィルムの縁を越えて押し出す。次に、多層光学フィルム、平面基プレート、及び湿潤剤を乾燥させる。時間の経過と共に、層410若しくは420を通して、又は蒸発の起き得る層410の縁への、層410と420との間の空間に沿ったウィッキングによってか、のどちらかで、湿潤溶液の揮発成分の全てが蒸発する。このプロセスが起きるにつれ、多層光学フィルム410は、層410が表面425にぴったりと適合するまで、基プレート420のより近くへと引っ張られていく。図4の次の工程にその結果が示されている。乾燥によりフィルム410が基プレート420にぴったりと引っ張られ、多層光学フィルムの底面440が効果的に平坦化されている。一旦この平坦度が達成されると、多層光学フィルム410は安定して平坦なまま残るが、基プレートに着脱自在に取り付けられる。ここで、フィルム410の露出面に、永久基プレートを付着させてもよい。
図5は、偏光ビームスプリッタの最終的な構造体の提供において行われる場合がある更なる工程を示す。例えば、接着剤550を、フィルム410の平坦化した表面450に塗布してもよい。接着剤は、PBSの光学的又は機械的性能に悪影響を及ぼさない任意の適当な接着剤であってよい。いくつかの実施形態では、接着剤は、Norland Products Inc.(Cranbury、NJ)製のNOA73、NOA75、NOA76又はNOA78等の硬化性光学接着剤であってよい。他の実施形態においては、光学エポキシを使用してもよい。いくつかの実施形態では、接着剤は感圧性接着剤であってよい。次に、永久第2基プレートを準備することができる。1実施形態において、永久第2基プレートはプリズムであってよい。図5に示されているように、プリズム560は接着剤550に対して取り付けられ、この構造体は、必要に応じて、硬化される。ここで、フィルム410は、基プレート420から取り除かれてよい。少なくとも1つの実施形態において、フィルム410は、典型的には、基プレート420をわずかに曲げて、フィルム410を基プレート420から解放させることによって、基プレート420から剥がし取られる。紫外線接着剤又はエポキシ等の硬化接着剤に対しては、新たに露出したフィルム440の底面は、基プレート420の平坦度を保持する。感圧性接着剤に対しては、フィルム440の底面は、基プレート420の平坦度を保持するか、又は平坦度を維持するために更なる処理を必要とする場合がある。一旦、フラットフィルムの表面440が出来上がると、接着剤の第2層570をフィルム440の底面に取り付け、第2プリズム又は他の永久基プレート580を接着剤へ取り付けてよい。必要であれば、再び構造体を硬化させ、偏光ビームスプリッタが完成する。
光学的に平坦な偏光ビームスプリッタを製造する他の方法として、特に感圧性接着剤の使用が挙げられる。適当な手法により、多層光学フィルムをプリズムの平坦面にぴったりと適合させることができる。次の工程を含むことができる。初めに、多層光学フィルムが準備される。多層光学フィルムは反射偏光子として機能する。この多層光学フィルムは、表面440が、図4に示される工程を経て、既に実質的に平坦化されていなくてもよいという点を除いて、図5の反射偏光子光学フィルム410と同様であってよい。感圧性接着剤の層(ここでは、接着剤層550に対応する)は、多層光学フィルムの第1表面440へ塗布されてよい。次に、多層光学フィルム410とは反対の側で、プリズム560を感圧性接着剤層接着剤層に対して取り付けてよい。この方法は、接着剤の第2層(例えば、層570)を、第1表面440とは反対の側である、フィルムの第2表面575に塗布することを含んでもよい。その後、層570の、フィルム410とは反対の側に第2プリズム580を取り付けてよい。本発明の方法は、PBSからの結像された反射の解像度が向上するように、更に反射偏光子/プリズム接合面の平坦度を向上させる、この方法の改良版を提供する。感圧性接着剤550をプリズム560と多層光学フィルム410との間に塗布した後、その構造体に真空を加える。これは、例えば、この構造体を、従来の真空ポンプを備えた真空槽の中に配置することによって実施することができる。真空槽を所与の圧力まで減圧し、試料を所与の時間(例えば5〜20分)、その圧力下で保持してよい。真空槽に空気が再導入されたとき、空気圧によりプリズム560と多層光学フィルム410は共に押し合わせられる。第2接着剤層及び第2プリズムがまた取り付けられた場合は、任意で、槽において真空を加える処理を、(例えば、層570における)第2接合面に対して繰り返してもよい。プリズム/MOF組立体に対して真空を加えることにより、結像光がPBSから反射するときに、高い有効解像度を提供するPBSがもたらされる。真空処理の代わりに、又は真空処理と共に、熱/圧力処理が使用されてもよい。処理は、2回以上行うことが有利である場合がある。
材料及びその供給源の次の一覧は、実施例全体にわたって参照される。他に指定がない場合、材料は、Aldrich Chemical(Milwaukee、WI)から入手可能である。多層光学フィルム(MOF)を概して、例えば、米国特許番号第6,179,948号(Merrillら)、同第6,827,886号(Neavinら)、米国特許出願公開第2006/0084780号(Hebrinkら)、同第2006/0226561号(Merrillら)、及び同第2007/0047080号(Stoverら)に従って調製された。
粗さ測定法
粘土上にプリズムを配置し、プランジャレベラ(plungerleveler)を用いて水平にした。地形図を10倍の対物レンズ及び0.5倍の視野レンズ、並びに以下の設定:個別地図の6行及び5列を使用して縫い合わせられた4mm×4mmの走査面積、1.82μmのサンプリングを有する2196×2196画素のVSI検出、60〜100前方走査長を有する30〜60マイクロメートルの裏面走査長、2%の変調検出閾値を使用した傾斜及び球体補正;を有するWyko(登録商標)の9800光学干渉計(Veeco Metrology,Inc.,Tucson,AZから入手可能)で測定した。10μmの後走査長で自動走査検出を95%有効にした(この短い後走査長はデータ収集における表面下反射を回避した)。
各プリズムの斜辺面の中心領域において、4mm×4mmの領域を測定した。具体的には、各領域の表面微小構成を測定して、プロットし、粗さパラメータRa、Rq及びRzを計算した。プリズム毎に1つの測定領域を得た。各場合において、3つのプリズム試料を測定し、粗さパラメータの平均及び標準偏差を決定した。
実施例1:湿式適用方法
反射偏光多層光学フィルム(MOF)を、次の方法で、光学的に平坦な基プレートに着脱自在に配置した。初めに、水中におよそ0.5%の中性食器用洗剤を含む湿潤溶液をスプレー瓶に入れた。およそ6mmの高光沢アクリルのシートを得、クリーンフード内で一方の側から保護層を取り除いた。表面全体が湿潤するように、露出したアクリル表面を湿潤溶液で噴霧した。別途、MOF片を得、そのスキン層の一方をクリーンフード内で取り除いた。MOFの露出面を湿潤溶液で噴霧し、MOFの湿潤面をアクリルシートの湿潤面に接触させた。MOFへの損傷を防ぐために、重剥離ライナーをMOFの表面に取り付け、3M(商標)PA−1アプリケータ(3M Company(St.PaulMN)から入手可能)を用いて、MOFからアクリルの表面までの溶液をスキージで取り除いた。これにより、ほとんどの湿潤溶液が、2つの湿潤面の間から排出された。この後、第2スキン層をMOFから取り除いた。取り付け済みMOFの検査により、MOFの表面はアクリルの表面よりも凹凸が激しいことが示された。24時間後に再度検査を行った際、MOF表面の平坦度はアクリルシートと同程度であることが観察された。この観察された経時的な平坦化は、残留湿潤溶液が2つの表面の間から蒸発して、MOFをアクリルの表面にぴったりと適合させることができることと一貫性がある。MOFは、ぴったりとかつ安定してアクリルの表面に適合しているにも関わらず、アクリルの表面からMOFを剥がすことで、このMOFを簡単に取り除くことができた。
結像PBSは、Norland Optical Adhesive 73(Norland Products(Cranbury、NJ)から入手可能)を少量、MOFの表面上に塗布することによって用意された。10mm、45°斜辺のBK7研磨済みガラス製プリズムを、接着剤に気泡が入り込まないように、ゆっくりと接着剤に接触するように配置した。接着剤の量は、プリズムを接着剤上に配置するときに、プリズムの縁まで流れ出るのに十分ではあるが、プリズムの周囲を越えて接着剤が大量にあふれ出るほどには多くない程度の接着剤が存在するように選択された。結果として、プリズムはMOFの表面に対して実質的に平行となり、かつ、ほぼ均一な厚さの接着剤層によって分離された。
紫外線硬化ランプを使用し、プリズムを通して、接着剤層を硬化させた。硬化後、プリズムより大きく、かつ、プリズムを有したMOFの切片をアクリル基プレートから剥がし取った。アクリルプレートを曲げることにより、堅いプリズムとMOFの複合体をアクリルプレートからより容易に分離でき、取り除きやすくなった。プリズム/MOF複合体の検査により、アクリルプレートから取り除かれたにも関わらず、MOFは平坦度を維持していることが示された。
その後、「粗さ測定法」で記載したように、MOFの粗さパラメータが測定された。次の表に報告する。
Figure 0006576242
少量のNorland optical adhesiveをプリズム/MOF複合体のMOF表面に塗布した。第2の10mm、45°のプリズムを作製し、その斜辺を接着剤に接触するように配置した。第2プリズムを、その主軸と副軸が第1プリズムの主軸と副軸と実質的に平行になるように、整列させ、2つの斜辺面は実質的に同一の広がりを持っていた。紫外線硬化ランプを用いて、第2の45°プリズムがプリズム/MOF複合体に接着されるように、接着剤層を硬化させた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。
実施例2:熱及び圧力を使用するPSA方法
3M(商標)Optically Clear Adhesive 8141(3M Company(St.Paul、MN)から入手可能)の試料を使って、ロールラミネート処理を用いて反射偏光MOFに積層することにより、接着剤構造体を形成した。この接着剤構造体の1片を、実施例1で使用したものと同様のガラス製プリズムの斜辺に付着させた。得られたMOF/プリズム複合体をオートクレーブ炉内に配置し、60℃、550kPa(80psi)で2時間処理した。試料を取り除き、少量の熱硬化性光学エポキシをMOF/プリズム複合体のMOF表面に塗布した。実施例1と同様に、プリズムを整列させた。その後、試料を炉に戻し、再び60℃、550kPa(80psi)で、今度は24時間処理した。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。
実施例2A:熱及び圧力を使用するPSA方法から生じる粗さ
実施例2の方法を用いて作製されたMOFの粗さを、次のように判定した。17mm×17mmのMOF片を、17mmの幅を有するガラス製の立方体に、ハンドローラーを用いて積層した。このガラス製の立方体は約0.25λの平坦度(λ=632.80nm(光の基準波長))を有していた。ロールラミネート済みMOFを、60℃、550kPa(80psi)で2時間オートクレーブ炉でアニールした。Zygo干渉計(Zygo Corporation(Middlefield、CT)から入手可能)を用い、λ=632.80nmの波長を有する光を用いて、ロールラミネート済みMOFの平坦度を測定した。Zygo干渉計により、PV粗さ(peak to valley roughness)が報告された(傾き補正は使用されたが、球面補正は適用されていない)。17mm×17mm領域にわたって計測したPV粗さは、1.475λ、又は約933nmと判定された。
実施例3:真空を使用するPSA方法
実施例2の接着剤構造体片を、実施例2と同様の方法で、ガラス製プリズムに付着させた。得られたプリズム/MOF複合体を、従来の真空ポンプを備えた真空槽の中に配置した。チャンバは、約71cm(28in)のHg(95kPa)に脱気され、試料は約15分間真空状態で維持された。
試料を真空槽から取り出し、「粗さ測定法」で記載したように、MOFの粗さパラメータが測定された。測定値を次の表に報告する。
Figure 0006576242
実施例1の手法及び紫外線光学接着剤を用いて、第2プリズムをプリズム/MOF複合体に取り付けた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。
実施例4:
実施例3のフィルムは、7mm幅、10mm長、及び181μm厚の透明なガラス基材に接合された。フィルムは、3M(商標)Optically Clear Adhesive 8141(3M Company,St.Paul,MNから入手可能)を使用して、ガラス基材に接着された。接着剤厚さは、12.5μmであった。ガラス基材及びフィルム積層体を、ローラーニップに通過させた。次に積層体は、45°の角度で基材に接合され、反射された偏光が基材に平行になり、透過した偏光は名目上45°の入射角を有した。MPro 120 picoprojector(また3M Companyから入手可能)は、プロジェクタの照射源からの光が、積層体のフィルム側がLCOS結像器に面している状態の積層体を通ってプロジェクタのLCoS結像器までまっすぐ通過し、結像器によって選択された光は90°に反射されるように、修正された。
比較例C−1
米国特許第7,234,816号(Bruzzone et al.)に従い、偏光ビームスプリッタの構成を作製した。実施例2の接着剤構造体片を、ガラス製プリズムに、ハンドローラーを用いて付着させることにより、MOF/プリズム複合体を形成した。
その後、「粗さ測定法」で記載したように、MOFの粗さパラメータが測定された。次の表に報告する。
Figure 0006576242
実施例1の手法及び紫外線光学接着剤を用いて、第2プリズムをプリズム/MOF複合体に取り付けた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。
性能評価
実施例1、2、3及び比較例C−1の偏光ビームスプリッタに対し、解像度試験用プロジェクタを用いて、画像の反射能力を評価した。試験用プロジェクタに対して、発揮し得る最良の性能を確認するために、他の実施例で用いられた45°プリズムのうちの1つからなり、かつ内部全反射(TIR)リフレクタとして動作する基準リフレクタを使用した。
24倍に縮小した試験対象に、アーク灯光源により背後から照光した。試験対象の前面に、これまでの実施例で用いられたものと同一の45°プリズム(ここでは、照光プリズムと呼ぶ)が取り付けられた。光源から試験対象を通って水平に進む、試験対象からの光は、照光プリズムの一面に入り、(TIRを介して)斜辺から反射し、プリズムの第2面から出る。プリズムの第2面は、出射光が垂直に方向づけられるように、配向された。基準プリズム、並びに実施例からの種々のPBSが、照光プリズムの第2面上に配置された。基準プリズムの斜辺、並びにPBS内の反射表面(MOF)は、MOF又は基準プリズムの斜辺から反射する光が、前方にかつ水平に方向づけられるように配向される。3M(商標)SCP 712デジタルプロジェクタ(3M Company(St.Paul、MN)から入手可能)から得られた、F/2.4の投射レンズをPBS又は基準プリズムの出射面に配置し、試験対象に焦点を戻し、一種の「潜望鏡」配置を形成した。
その後、この光学システムを用い、反射モードで動作させながら、それぞれ異なるPBSの、試験対象を解像する能力を評価した。前記システムにおいては、試験対象のおよそ5mm×5mm部分が、対角線約150cm(60インチ)で投射された。試験対象のこの領域内には、複数の解像度の画像の繰り返しがあった。上部左、底部左、中央部、上部右、及び底部右の投影した画像の異なる位置で試験対象の5つの異なる同一反復を評価した。それぞれの試験対象が、明瞭に解像される最も高い解像度を判定するために評価された。手順によると、最大解像度、並びにそのレベル未満の全ての解像度が解像されることが要求された。(わずかに異なる位置にある)より高い解像度が解像されたにも関わらず、局所的な歪みにより、より低い解像度が解像されない場合があった。このように選択した理由は、PBSが反射モードで有効に機能するためには、小さな領域だけではなく、全範囲が解像されなければならないからである。
各実施例の複数の試料について、試験が行われた。一度、各PBSの各位置に対して最大解像度が確認されると、平均及び標準偏差が各種のプリズム(即ち、実施例1〜3、比較例C−1及び基準プリズム)毎に計算された。「有効解像度」は、平均から標準偏差の2倍を引いたものとして定義された。このメトリックは「ラインペア/mm」(lp/mm)のデータから決定されてから、lp/mmで表された有効解像度の逆数の1/2として決定された、解像可能な最小画素サイズによって表わされた。この定義は、この解像度が、領域全体における最小の解像度とせいぜい同程度であるという事実によるものである。有効解像度は、特定のPBSセットが信頼性を持って(画像の95%にわたって)解像することを期待できる最大の解像度を表す。
表1は、本開示内の様々な実施例の測定結果を示し、表2は得られた有効解像度を示す。理解できるように、基準試料は5μmの画素を解像できる。実施例1のPBSも、5μmに非常に近い画素を解像できる。実施例2は、少なくとも12μmまで解像でき、実施例3のPBSは、7μmまで解像できる。これら全ての構造体は、少なくともいくつかの反射式結像用途に十分であろう。一方で、比較例C−1のPBSは、約18マイクロメートルの画素を解像するにとどまり、反射式結像構造体として手堅い選択とはなりにくいであろう。
Figure 0006576242

Figure 0006576242
一部の場合では、偏光ビームスプリッタは、相対する平行な及びほぼ平行な主表面を有するプレートの形態である。このようなビームスプリッタプレートは、薄く、並びに画像平面上に投影され、及び/又は観者に対して表示される、高コントラスト及び高解像度の画像に至り得る平坦な最外主表面及び内部主表面を有する。偏光ビームスプリッタは、1つ以上の薄い光学的に透明な基材に接合された多層光学フィルム反射性偏光子を含む。透明な基材は、ガラスなどの無機材料、若しくはポリマーなどの有機材料、又は無機若しくは有機材料の組合せであってもよい。
図6は、光源605、第1結像器610、及び偏光ビームスプリッタプレート620を含む、偏光サブシステム600の概略図である光源605は、照射する光625を放出し、これは第1結像器610によって受光される。第1結像器610は、受光した光を変調し、偏光ビームスプリッタプレート620によって受光される結像光615を放出する。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を反射光695として、観者680又はスクリーン690に向けて反射する。偏光ビームスプリッタプレート620は、多層光学フィルム反射性偏光子640が第1基材630及び第2基材650の間に配設されるように、第1基材630、第1基材上に配設された多層光学フィルム反射性偏光子640、及び多層光学フィルム反射性偏光子640上に配設された第2基材650を含む。多層光学フィルム反射性偏光子640は、接着剤層660及び670それぞれによって、第1基材630及び第2基材650に接合又は接着され、2つのそれぞれの接着剤層は、本明細書に開示される任意の接着剤であってもよく又はこれを含んでもよい。例えば、一部の場合では、一方又は両方の接着剤層660、670は、感圧接着剤、UV硬化済接着剤、若しくは光学エポキシであってもよく又は含んでもよい。偏光ビームスプリッタプレート620は、第1最外主表面622と、第1最外主表面622に対して角度Θを形成する、反対側の第2最外主表面624とを含み、角度Θは、約20°未満、又は約15°未満、又は約10°未満、又は約7°未満、又は約5°未満、又は約3°未満、又は約2°未満、又は約1°未満である。
観者680又はスクリーン690へと伝搬する反射光695は、15μm未満、又は12μm未満、又は10μm未満、又は9μm未満、又は8μm未満、又は7μm未満、又は6μm未満、又は5μm未満、又は4μm未満の有効画素解像度を有する。一部の場合では、偏光ビームスプリッタプレート620は、薄い。このような場合、第1最外主表面622及び第2最外主表面624の間の最大距離間隔dは、約2mm未満、又は約1.75mm未満、又は約1.5mm未満、又は約1.25mm未満、又は約1mm未満、又は約0.75mm未満、又は約0.5mm未満である。一部の場合では、第1最外主表面622及び第2最外主表面624は、平面である。一部の場合では、第1最外主表面622及び第2最外主表面624は、非平面である。例えば、一部の場合では、第1最外主表面622及び第2最外主表面624の少なくとも一方は、図7に全体的に概略的に示されるように、曲線の部分を含み、又は凹部であり、又は凸部である。一部の場合では、第1最外主表面622及び第2最外主表面624の少なくとも一方は、偏光ビームスプリッタプレート620から離れるように又は向かうように曲がる。
基材630及び650のそれぞれは、用途において望ましくあり得る任意のタイプの基材であってもよい。例えば、基材630及び650は、ガラス又はポリマーを含んでもよい。基材630及び650は単層であってもよく、これは基材の内部に埋め込まれた主表面又は内部主表面が存在しないことを意味する。一部の場合では、第1主表面630及び第2最外主表面650の少なくとも一方が、2つ以上の層を含む。一部の場合では、基材630及び650は、基材が、3つの相互に直交する方向に沿って実質的に等しい屈折率を有することを意味する光学的等方性である。一部の場合では、基材630及び650は、とても低い光散乱特性を有する。例えば、このような場合、基材630及び650のそれぞれは、約5%未満、又は約4%未満、又は約3%未満、又は約2%未満、又は約1%未満、又は約0.5%未満の拡散透過率を有する。本明細書で使用するとき、拡散透過とは、コリメートされた垂直光入射に対して2°の円錐半角の外側に透過された光を指す。
第1結像器605は、用途において望ましくあり得る、本明細書で開示される任意の第1結像器であってもよい。例えば、一部の場合では、第1結像器605は、LCOS結像器を含んでもよく又はLCOS結像器であってもよい。一部の場合では、偏光サブシステム600は、光が結像した後、偏光ビームスプリッタプレート620からの光を受光し、観者又はスクリーンに向けて光695として投影する投影レンズ675を含む。一部の場合では、多層光学フィルム反射性偏光子620は、45nm未満の表面粗さRa、又は80nm未満の表面粗さRq、又は40nm未満の表面粗さRa、又は70nm未満の表面粗さRq、又は35nm未満の表面粗さRa、又は55nm未満の表面粗さRqを有する。
偏光サブシステム600は、用途において望ましくあり得る任意のシステムに組み込まれてもよい。例えば、一部の場合では、三次元の画像プロジェクタは、偏光システム600を含む。光源605は、本明細書に開示する任意のタイプの光源であってもよく又はこれを含んでもよい。一部の場合では、光源605は、1つ以上のLEDを含む。一部の場合では、投影システムは、投影サブシステム600を含み、第1結像器610は、画素化され、複数の画素を含む。画素は、画素の行と列を形成する規則的な画素配列を形成してもよい。投影システムは、スクリーン上に複数の画素の画素画像を投影する。各画素は、スクリーン上の予想位置、スクリーン上の予想面積、スクリーン上の実際の位置、スクリーン上の実面積を有する。一部の場合では、スクリーン上の各画素の実際の位置は、画素の予想位置を中心とした円の内側にあり、画素の予想面積の100倍未満、又は75倍未満、又は50倍未満、又は25倍未満、又は15倍未満、又は10倍未満、又は5倍未満、又は2倍未満である実面積を有する。一部の場合では、スクリーン上の投影された画素の実面積は、スクリーン上の投影された画素の予想面積の10倍未満、又は7倍未満、又は5倍未満、又は3倍未満、又は2倍未満である。
図8は、反射型投影システム800の概略図であり、ここで、光源605によって放出された光625が、結像器610に向かって偏光ビームスプリッタプレート620を透過し、結像光615として結像器によってビームスプリッタプレートの方に反射され、このスプリッタプレートは結像光を反射光695として観者680に向けて反射する。多層光学フィルム反射性偏光子640は、実質的に平坦なので、反射された結像光695は、大幅に改善された有効画素解像度を有する。図9は、透過型結像システム900の概略図であり、光源605によって発光された光625が、偏光ビームスプリッタプレート620によって結像器610に向けて反射され、及び結像光615として結像器によってビームスプリッタプレートに向けて反射され、このスプリッタプレートは結像光を透過された光695としてスクリーン690に向かって(又は、システム800と同様に観者680に向かって)透過する。多層光学フィルム反射性偏光子640は、実質的に平坦であり、ビームスプリッタプレートによって結像器に向けられた反射光は、大幅に改善された均一性で結像器を照射する。図10は、反射−透過型結像システム1000の概略図であり、ここで、結像した光源1005によって放出された結像光615が、偏光ビームスプリッタプレート620によって観者680に向かって反射される。観者680はまた、周囲光1020によって伝搬され、ビームスプリッタプレート620によって透過される周囲結像を見てもよい。
偏光ビームスプリッタプレート620は、本明細書に開示の任意のプロセス又は方法を使用して製造されてもよい。例えば、偏光ビームスプリッタプレート620は、プリズム560及び580が基材630及び650に替えられることを除いて、図4及び5に関連して開示されるプロセスを使用して構成又は製造されてもよい。
本明細書が開示する偏光ビームスプリッタプレートは、反射性偏光子からの結像光を画像の解像度及び/若しくはコントラストを劣化させず、又はほとんど劣化させずに反射することが望ましい任意の用途に使用してもよい。例えば、図11は、観者1101が見るための2つの異なる画像を提供する視覚装置1100の概略図である。視覚装置1100は、プロジェクタ1110と、本明細書に開示される任意の偏光ビームスプリッタプレートであるか、又はこれを含み得る偏光ビームスプリッタプレート1130とを含む。プロジェクタ1100は、偏光ビームスプリッタプレート1130に向かって伝搬する第1結像光1120を投影する。偏光ビームスプリッタプレートは、プロジェクタから投影された第1結像光を受光し、受光された第1結像光を、観者1101が見るための反射された第1結像光1125として反射する。反射された第1結像光は、15μm未満、又は12μm未満、又は10μm未満、又は9μm未満、又は8μm未満、又は7μm未満、又は6μm未満、又は5μm未満、又は4μm未満の有効画素解像度を有する。偏光ビームスプリッタプレート1130はまた、第2画像1132を受光し、観者1101が見るための第2画像を透過する。第2画像1132は、周囲画像などの、あらゆるタイプの画像であってもよい。偏光ビームスプリッタプレート1130は、第1基材630と同様の第1基材1140、及び反射性偏光子640と同様であり、接着剤1150によって第1基材1140に接着された、多層光学フィルム反射性偏光子1160を含む。反射性偏光子1160は、第1偏光状態の偏光を実質的に反射し、及び第1偏光状態と逆の第2偏光状態の偏光を実質的に透過する。例えば、反射性偏光子1160は、第1偏光状態の偏光の少なくとも70%、又は少なくとも80%、又は少なくとも90%、又は少なくとも95%、又は少なくとも99%、又は少なくとも99.5%を反射し、かつ第1偏光状態と反対側の第2の偏光状態の偏光の少なくとも70%、又は少なくとも80%、又は少なくとも90%、又は少なくとも95%、又は少なくとも99%、又は少なくとも99.5%を透過する。第2偏光状態は、第1の偏光状態と逆であり、これは、いずれの偏光状態も他方の偏光状態に沿った成分を有さないことを意味する。例えば、第1偏光状態は、時計回りの円偏光状態であってもよく、第2偏光状態は、反時計回りの円偏光状態であってもよい。一部の場合では、第2偏光状態は、第1偏光状態に垂直であってもよい一部の場合では、反射性偏光子1160は、広帯域反射性偏光子であってもよい。例えば、一部の場合では、反射性偏光子は、400nm〜650nmの範囲内の第1偏光状態の偏光を実質的に反射してもよく、及び同範囲内の第1偏光状態に反対側の第2偏光状態の偏光を実質的に透過してもよい。一部の場合では、反射性偏光子1160は、2つ以上の別個の波長帯域の第1偏光状態を反射してもよく、他の帯域の光を透過してもよい。例えば一部の場合では、反射性偏光子1160は、実質的に445nm〜460nmの、530nm〜550nmの、600nm〜620nmの波長帯域内の第1偏光状態の偏光を実質的に反射してもよく、並びに第1偏光状態と、その他の波長帯域の、逆の又は垂直の第2偏光状態との両方を有する光を実質的に透過してもよい。
偏光ビームスプリッタプレート1130は、第1最外主表面1165と、第1最外主表面1165に対して約20°未満、又は約15°未満、又は約10°未満、又は約7°未満、又は約5°未満、又は約3°未満、又は約2°未満、又は約1°未満の角度を形成する、反対側の第2最外主表面1145とを含む。一方又は両方の主表面が曲線状である場合、2つの主表面間の角度は、曲線主表面に最良に適合する平面間の角度を求めることにより測定される。
プロジェクタ1110は、用途に望ましくあり得る任意のタイプのプロジェクタであってもよい。例えば、プロジェクタ1110は、LCOS結像器、OLED結像器、微小電気機械システム(MEMS)結像器、又はDLP結像器などのデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)結像器であってもよい。一部の場合では、
プロジェクタ1110は、偏光された第1結像光1120を投影する。一部の場合では、プロジェクタ1110は、非偏光の第1結像光1120を投影する。一部の場合では、第1結像光1120は、偏光又は非偏光であってもよい。代表的な視覚装置1100では、偏光ビームスプリッタプレート1130は、偏光ビームスプリッタプレートの多層光学フィルム反射性偏光子1160側から、投影された第1結像光1120を受光する。一部の場合では、ビームスプリッタプレートは、スプリッタプレートが、投影された第1結像光を偏光ビームスプリッタプレートの第1基材1140側から受光するように、反転されてもよい。代表的な視覚装置1100では、偏光ビームスプリッタプレート1130は、第2画像1132を偏光ビームスプリッタプレートの第1基材1140側から受光する。一部の場合では、ビームスプリッタプレートは、スプリッタプレートが、第2画像を偏光ビームスプリッタプレートの多層光学フィルム反射性偏光子1160側から受光するように、反対にされてもよい。
一般的に、偏光ビームスプリッタプレート1130は、使用する際に望ましくあり得る任意の形状を有してもよい。例えば一部の場合では、図6又は8に示されるように、偏光ビームスプリッタプレート1130は平坦である。図11に示されるものなどの、別の例のように一部の他の場合では、偏光ビームスプリッタプレート1130は、曲線状である。偏光ビームスプリッタプレート1130は、使用する際に望ましくあり得る任意の方法を使用して、形付けられてもよい。例えば、プレート全体が例えばプレートを加熱することにより形付けられてもよい。別の例として、第1基材1140は、最初に形付けられ、次に多層光学フィルム反射性偏光子が基材に適用されてもよい。第1基材1140は、本明細書で開示される任意の基材であってもよい。例えば、基材1140は、ガラス及び/又はポリマーを含んでもよい一部の場合では、第1基材1140の最大厚さは、2mm未満、又は1.5mm未満、又は1mm未満、又は0.5mm未満、又は0.25mm未満、又は0.15mm未満、又は0.1mm未満、又は0.05mm未満である。一部の場合では、偏光ビームスプリッタプレート1130は、非常に薄い。例えばこのような場合では、第1最外主表面1165及び第2最外主表面1145の間の最大距離間隔は、約5mm未満、又は4mm未満、又は3mm未満、又は2mm未満、又は1.5mm未満、又は1mm未満、又は0.75mm未満、又は0.5mm未満、又は0.25mm未満である。
一部の場合では、偏光ビームスプリッタプレート1130の幅及び長さは、偏光ビームスプリッタプレートの厚さよりも実質的に大きい。例えばこのような場合では、偏光ビームスプリッタプレートの第1最外主表面と第2最外主表面との間の最大距離間隔に対する偏光ビームスプリッタプレートの最小横寸法の比は、5超、又は10超、又は15超、又は20超、又は30超である。
図11の代表的な偏光ビームスプリッタプレート1130は、1つの基材を含む。図6に示されるものなどの一部の場合では、ビームスプリッタは2つの基材を含む。このような場合では、多層光学フィルム反射性偏光子1160は、接着剤を使用して第1及び第2基材の間に配設並びに接着されてもよい。
図12は、観者の頭部に装着されるように構成されたフレーム1210を含む頭部装着型投影ディスプレイ1200の概略図である。投影ディスプレイ1200は、結像光を投影する右側プロジェクタ1204と、投影された結像光を右側プロジェクタから受光する右側偏光ビームスプリッタプレート1240とを更に含み、フレームが観者の頭部に装着されるとき、偏光ビームスプリッタプレートが観者の右目に向かい、かつプロジェクタが観者の頭部の右側部に配設されるようにフレームに取り付けられている。投影ディスプレイ1200は、結像光を投影する左側プロジェクタ1205と、投影された結像光を左側プロジェクタから受光する左側偏光ビームスプリッタプレート1245とを更に含み、並びにフレームが観者の頭部に装着されるとき、偏光ビームスプリッタプレートが観者の左目に向かい、かつプロジェクタが観者の頭部の左側部に配設されるようにフレームに取り付けられている。頭部装着型投影ディスプレイ1200は、フレームが観者の頭部に装着されるとき、イヤピースが観者の耳部に近接して配設されるようにフレームに取り付けられた右側及び左側イヤピース1230を更に含む。一部の場合では、プロジェクタ1204及び1205、並びにイヤピース1230は、フレーム1210と一体型であってもよい。
代表的な投影ディスプレイ1200では、フレームは、イヤピース1230が観者の耳部上に、ノーズピース1220が観者の鼻部上に置かれるように構成されためがねの形態である。一般的に、投影ディスプレイ1200は、用途に望ましくあり得る任意のタイプのフレームを有してもよい。例えば一部の場合では、フレームは、フレームが頭部を包囲し、及びフレームの大きさを調整する手段を有するように観者の頭部に装着されてもよい。更にこのような場合には、ディスプレイは、1つの偏光ビームスプリッタ及び1つのプロジェクタのみを有してもよい。
以下は、本開示の項目である。
項目1は、視覚装置であって、
第1結像光を投影するプロジェクタと
プロジェクタから投影された第1結像光を受光し、観者が見るための受光された第1結像光を反射する偏光ビームスプリッタプレートとを含み、偏光ビームスプリッタプレートは、第2画像を受光し、観者が見るための第2画像を透過し、
第1基材、
第1基材に接着された多層光学フィルム反射性偏光子であって、第1偏光状態の偏光を実質的に反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光を実質的に透過する、多層光学フィルム反射性偏光子と、
第1最外主表面と、
第1最外主表面と約20°未満の角度を形成する反対側の第2最外主表面と、を含み、
偏光ビームスプリッタプレートは、受光された第1結像光を観者に向けて反射し、反射された第1結像光は12μm未満の有効画素解像度を有する、視覚装置。
項目2は、プロジェクタは偏光された第1結像光を投影する、項目1の視覚装置である。
項目3は、プロジェクタは非偏光の第1結像光を投影する、項目1の視覚装置である。
項目4は、第1結像光は偏光である、項目1の視覚装置である。
項目5は、第1結像光は非偏光である、項目1の視覚装置である。
項目6は、偏光ビームスプリッタプレートは、投影された第1結像光を偏光ビームスプリッタプレートの多層光学フィルム反射性偏光子側から受光する、項目1の視覚装置である。
項目7は、偏光ビームスプリッタプレートは、投影された第1結像光を偏光ビームスプリッタプレートの第1基材側から受光する、項目1の視覚装置である。
項目8は、偏光ビームスプリッタプレートは、第2画像を偏光ビームスプリッタプレートの多層光学フィルム反射性偏光子側から受光する、項目1の視覚装置である。
項目9は、偏光ビームスプリッタプレートは、第2画像を偏光ビームスプリッタプレートの第1基材側から受光する、項目1の視覚装置である。
項目10は、第2画像は周囲画像である、項目1の視覚装置である。
項目11は、偏光ビームスプリッタプレートは平坦である、項目1の視覚装置である。
項目12は、偏光ビームスプリッタプレートは曲線状である、項目1の視覚装置である。
項目13は、第1基材はガラスを含む、項目1の視覚装置である。
項目14は、第1基材はポリマーを含む、項目1の視覚装置である。
項目15は、第1基材の最大厚さは0.5mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目16は、第1基材の最大厚さは0.25mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目17は、第1基材の最大厚さは0.1mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目18は、反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光の少なくとも70%を反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光の少なくとも70%を透過する、項目1の視覚装置である。
項目19は、反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光の少なくとも80%を反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光の少なくとも80%を透過する、項目1の視覚装置である。
項目20は、反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光の少なくとも90%を反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光の少なくとも90%を透過する、項目1の視覚装置である。
項目21は、反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光の少なくとも95%を反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光の少なくとも95%を透過する、項目1の視覚装置である。
項目22は、反射性偏光子は、第1偏光状態の偏光の少なくとも99%を反射し、第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光の少なくとも99%を透過する、項目1の視覚装置である。
項目23は、第2最外主表面は第1最外主表面と約15°未満の角度を形成する、項目1の視覚装置である。
項目24は、第2最外主表面は第1最外主表面と約10°未満の角度を形成する、項目1の視覚装置である。
項目25は、第2最外主表面は第1最外主表面と約5°未満の角度を形成する、項目1の視覚装置である。
項目26は、第2最外主表面は第1最外主表面と約2°未満の角度を形成する、項目1の視覚装置である。
項目27は、第1最外主表面と第2最外主表面の間の最大距離間隔は、約1.5mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目28は、第1最外主表面と第2最外主表面の間の最大距離間隔は、約1mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目29は、第1最外主表面と第2最外主表面の間の最大距離間隔は、約0.75mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目30は、第1最外主表面と第2最外主表面の間の最大距離間隔は、約0.5mm未満である、項目1の視覚装置である。
項目31は、偏光ビームスプリッタプレートの第1最外主表面と第2最外主表面との間の最大距離間隔に対する偏光ビームスプリッタプレートの最小横寸法の比が、10超である、項目1の視覚装置である。
項目32は、偏光ビームスプリッタプレートの第1最外主表面と第2最外主表面との間の最大距離間隔に対する偏光ビームスプリッタプレートの最小横寸法の比が、15超である、項目1の視覚装置である。
項目33は、偏光ビームスプリッタプレートの第1最外主表面と第2最外主表面との間の最大距離間隔に対する偏光ビームスプリッタプレートの最小横寸法の比が、20超である、項目1の視覚装置である。
項目34は、第1最外主表面及び第2最外主表面のうちの少なくとも一方が湾曲部分を含む、項目1の視覚装置である。
項目35は、第1最外主表面及び第2最外主表面のうちの少なくとも一方が、凹状である、項目1の視覚装置である。
項目36は、第1最外主表面及び第2最外主表面のうちの少なくとも一方が、偏光ビームスプリッタプレートから離れるように曲がっている、項目1の視覚装置である。
項目37は、第1最外主表面及び第2最外主表面のうちの少なくとも一方が凸状である、項目1の視覚装置である。
項目38は、第1最外主表面及び第2最外主表面のうちの少なくとも一方が、偏光ビームスプリッタプレートに向けて曲がっている、項目1の視覚装置である。
項目39は、多層光学フィルム反射性偏光子は、接着剤によって第1基材に接着されている、項目1の視覚装置である。
項目40は、更に第2基材を含み、多層光学フィルム反射性偏光子が、第1機材と第2基材との間に配設されており、これらに接着されている、項目1の視覚装置である。
項目41は、多層光学フィルム反射性偏光子は、接着剤によって第1及び第2基材に接着されている、項目40の視覚装置である。
項目42は、偏光ビームスプリッタプレートは、受光された第2結像光を観者又はスクリーンに向かって反射し、反射された第1結像光は、9μm未満の有効画素解像度を有する、項目1の視覚装置である。
項目43は、偏光ビームスプリッタプレートは、受光された第2結像光を観者又はスクリーンに向かって反射し、反射された第1結像光は、6μm未満の有効画素解像度を有する、項目1の視覚装置である。
項目44は、プロジェクタはLCOS結像器を含む、項目1の視覚装置である。
項目45は、多層光学フィルム反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa、又は80nm未満の表面粗さRqを有する、項目1の視覚装置である。
項目46は、 観者の頭部に装着されるように構成されたフレームと、
フレームが観者の頭部に装着されたとき、偏光ビームスプリッタプレートが観者の目の方に向くとともに、プロジェクタが観者の頭部の側部上に配設されるようにフレームに取り付けられた、項目1の視覚装置と、を含む、頭部装着型投影ディスプレイである。
項目47は、フレームが、観者の頭部に装着されたとき、イヤピースが観者の耳部近位に配設され、イヤピースが観者に聴覚情報を提供する構成になるようにフレームに取り付けられたイヤピースを更に含む、項目46の頭部装着型投影ディスプレイである。
本発明は、上記の特定の実施例及び実施形態に限定されるものとみなされるべきではなく、そのような実施形態は、本発明の様々な態様の説明を容易にするように詳細に記載されている。むしろ本発明は、添付される特許請求の範囲によって定義される本発明の趣旨及び範囲内に含まれる様々な改変形態、等価の工程、及び選択的装置を含む、本発明の全ての態様を包含するものと理解されたい。

Claims (5)

  1. 第1結像光を投影するプロジェクタと、
    前記プロジェクタから投影された前記第1結像光を受光し、観者が見るための前記受光された第1結像光を反射する偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、
    前記偏光ビームスプリッタプレートは、第2画像を受光するとともに、前記観者が見るための前記第2画像を透過し、
    第1基材と、
    前記第1基材に接着された多層光学フィルム反射性偏光子であって、第1偏光状態の偏光を実質的に反射し、前記第1偏光状態に対して垂直な第2偏光状態の偏光を実質的に透過する、多層光学フィルム反射性偏光子と、
    第1最外主表面と、
    前記第1最外主表面と約20°未満の角度を形成する反対側の第2最外主表面と、を含み、
    前記偏光ビームスプリッタプレートは、前記受光された第1結像光を前記観者に向かって反射し、前記反射された第1結像光は、12μm未満の有効画素解像度を有し、
    前記多層光学フィルム反射性偏光子は、45nm未満の表面粗さRa又は80nm未満の表面粗さRqを有する、視覚装置。
  2. 前記第2画像は、周囲画像である、請求項1に記載の視覚装置。
  3. 前記偏光ビームスプリッタプレートの前記第1最外主表面と前記第2最外主表面との間の最大間隔に対する前記偏光ビームスプリッタプレートの最小横寸法の比が、10超である、請求項1に記載の視覚装置。
  4. 前記偏光ビームスプリッタプレートは、前記受光された第1結像光を前記観者又はスクリーンに向かって反射し、前記反射された第1結像光は、9μm未満の有効画素解像度を有する、請求項1に記載の視覚装置。
  5. 観者の頭部に装着されるように構成されたフレームと、
    前記フレームが観者の頭部に装着されたとき、前記偏光ビームスプリッタプレートが前記観者の目の方を向くとともに、前記プロジェクタが前記観者の頭部の側部に配設されるように、前記フレームに取り付けられた、請求項1に記載の視覚装置と、を含む、頭部装着型投影ディスプレイ。
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