JP6576146B2 - Coating apparatus and coating method - Google Patents

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Description

この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、半導体ウェハ、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板（以下、単に「基板」と称する）に塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に関するものである。   The present invention is for precision electronic devices such as glass substrates for liquid crystal display devices, semiconductor wafers, glass substrates for PDPs, glass substrates for photomasks, substrates for color filters, substrates for recording disks, substrates for solar cells, substrates for electronic paper, etc. The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) with a coating solution.

従来、上記した精密電子装置用基板の製造工程では、基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置が使用されている。例えば特許文献１に記載の塗布装置では、スリットノズルの下端部に形成したスリット状吐出口から塗布液を基板に向けて吐出して塗布している。このスリットノズルの内部には塗布液の流路が形成されており、スリットノズルに供給される塗布液は当該流路を介して吐出口に流通し、吐出口から吐出される。この塗布装置では、当該スリットノズルに対して２種類の塗布液が供給可能となっており、スリットノズルから吐出する塗布液を切替可能となっている。   Conventionally, in the above-described manufacturing process of a substrate for a precision electronic device, a coating device that applies a coating solution to the surface of the substrate is used. For example, in the coating apparatus described in Patent Document 1, the coating liquid is ejected from the slit-shaped ejection port formed at the lower end of the slit nozzle toward the substrate. A flow path for the coating liquid is formed inside the slit nozzle, and the coating liquid supplied to the slit nozzle flows through the flow path to the discharge port and is discharged from the discharge port. In this coating apparatus, two types of coating liquids can be supplied to the slit nozzle, and the coating liquid discharged from the slit nozzle can be switched.

塗布液の切替を行う際には、先に塗布していた塗布液（先の塗布液）をスリットノズル内から除去した後で次に塗布する塗布液（次の塗布液）をスリットノズルに送り込む必要がある。上記従来装置では、スリットノズルの両端にポートが設けられている。これらのうち一方は供給専用ポートとして機能するのに対し、他方は供給兼排出ポートとして機能する。そして、塗布液の切替を行う際には、供給専用ポートを介して次の塗布液を供給するとともにスリットノズル内の流路および供給兼排出ポートを介して塗布液を取り出している。このような操作を行うことで、先の塗布液がスリットノズル内に残っていたとしても次の塗布液により押し流されてスリットノズルから除去される。そして、スリットノズル内の流路が次の塗布液に置き換わって次の塗布液で充填された後で、供給兼排出ポートからの塗布液の排出を停止するとともに供給兼排出ポートに次の塗布液を供給して吐出口からの次の塗布液を吐出する。   When switching the coating solution, after removing the coating solution (the previous coating solution) previously applied from the slit nozzle, the coating solution to be applied next (the next coating solution) is sent to the slit nozzle. There is a need. In the conventional apparatus, ports are provided at both ends of the slit nozzle. One of these functions as a supply-only port, while the other functions as a supply / discharge port. When the application liquid is switched, the next application liquid is supplied through the dedicated supply port and the application liquid is taken out through the flow path in the slit nozzle and the supply / discharge port. By performing such an operation, even if the previous coating liquid remains in the slit nozzle, it is washed away by the next coating liquid and removed from the slit nozzle. After the flow path in the slit nozzle is replaced with the next coating liquid and filled with the next coating liquid, the discharge of the coating liquid from the supply / discharge port is stopped and the next coating liquid is supplied to the supply / discharge port. Then, the next coating liquid is discharged from the discharge port.

特許第５０４１８２７号公報Japanese Patent No. 5041827

ところで、上記スリットノズルを含む一般的なノズルでは流路と吐出口とは相互に連通しており、しかも切替作業中においてもノズルの吐出口は開放されている。このため、切替作業中にノズルの吐出口から塗布液が流出することがあった。このような現象は塗布液の切替作業での固有な問題ではなく、ノズルから特定の塗布液のみを吐出する場合にも発生する。例えばノズルの流路が上記塗布液で満たされていない場合には、塗布処理前に上記塗布液をノズルに供給して流路内に上記塗布液を貯留させる必要がある。この貯留処理中に吐出口が開放されていると、貯留処理の途中にもかかわらず、塗布液が吐出口から流出してしまう。   By the way, in a general nozzle including the slit nozzle, the flow path and the discharge port communicate with each other, and the discharge port of the nozzle is opened even during the switching operation. For this reason, the coating liquid sometimes flows out from the nozzle outlet during the switching operation. Such a phenomenon is not an inherent problem in the switching operation of the coating liquid, but also occurs when only a specific coating liquid is discharged from the nozzle. For example, when the flow path of the nozzle is not filled with the coating liquid, it is necessary to supply the coating liquid to the nozzle and store the coating liquid in the flow path before the coating process. If the discharge port is opened during the storage process, the coating liquid flows out of the discharge port in the middle of the storage process.

このように従来技術では、ノズルの吐出口を常時開放したまま当該ノズルに塗布液を供給しているため、基板に塗布液を塗布する塗布処理中のみならず、塗布処理以外のタイミングでも塗布液が吐出口から流出することがあった。塗布液が比較的安価な場合には、塗布処理を行わない間、ノズルを基板から離れた位置に待機させ、流出する塗布液を回収して廃棄したとしても、問題視されることはなかった。しかしながら、塗布液が高価なものになると、塗布液の流出はランニングコストの増大の主要因のひとつになってしまう。   As described above, in the prior art, since the coating liquid is supplied to the nozzle while the nozzle outlet is always open, the coating liquid is applied not only during the coating process for applying the coating liquid to the substrate but also at a timing other than the coating process. Sometimes flowed out of the outlet. When the coating solution is relatively inexpensive, even when the coating process is not performed, even if the nozzle is kept at a position away from the substrate and the flowing coating solution is collected and discarded, there is no problem. . However, when the coating liquid becomes expensive, the outflow of the coating liquid becomes one of the main factors for increasing the running cost.

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ノズルの内部に設けられる流路を介して塗布液をノズルの下端部に設けられる吐出口から吐出して基板に塗布する塗布技術において、ノズルに塗布液が貯留される時に無駄な塗布液の流出を防止してランニングコストの低減を図ることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a coating technique in which a coating liquid is discharged from a discharge port provided at the lower end of a nozzle and applied to a substrate via a flow path provided inside the nozzle, It is an object of the present invention to reduce running costs by preventing wasteful application liquid from flowing out when the coating liquid is stored.

この発明の一態様は、ノズル本体と、ノズル本体の下端部に設けられる吐出口と、ノズル本体の内部で塗布液を吐出口に流通する流路とを有するノズルを用いて基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、ノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、吐出口を封止可能な封止部材を有する封止部と、ノズルおよび封止部材のうちの少なくとも一方を移動させる移動機構部と、移動機構部を制御することで封止部材を吐出口に当接させて吐出口を封止してノズルに供給される塗布液を流路に貯留する貯留モードと、封止部材を吐出口から離間させて吐出口から塗布液を吐出可能とする吐出モードとを選択的に切り替える制御部と、ノズルの流路に気体を供給する気体供給部と、塗布液と気体とをノズルの流路に流通させる供給配管と、を備え、供給配管の一方端部、中間部および他方端部はそれぞれ塗布液供給部、気体供給部および流路に接続され、塗布液供給部は、互いに異なる第１の塗布液と第２の塗布液を供給配管を介して供給可能となっており、制御部は、供給配管および流路内に第１の塗布液が存在する状態において、吐出モードで気体供給部により気体を供給配管を介して供給して第１の塗布液を気体に置換する第１置換処理を行い、下記の共洗い処理を行い、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して供給配管および流路内に存在する気体を第２の塗布液に置換する第２置換処理を行った後で、吐出モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して吐出口から第２の塗布液を吐出させる塗布処理を行うことを特徴としている。共洗い処理は、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して一方端部と中間部との間に存在する第１の塗布液を少なくとも中間部よりも他方端部側に送液した後で、吐出モードに切り替えるとともに気体供給部により気体を供給配管を介して供給することで少なくとも中間部よりも他方端部側に存在する第１の塗布液を吐出口から吐出させる処理である。 According to one aspect of the present invention, a coating liquid is applied to a substrate using a nozzle having a nozzle body, a discharge port provided at a lower end portion of the nozzle body, and a flow path through which the coating liquid flows to the discharge port. A coating apparatus for coating, wherein a coating liquid supply unit that supplies a coating liquid to a nozzle, a sealing unit having a sealing member that can seal a discharge port, and at least one of the nozzle and the sealing member are moved And a storage mode in which the sealing member is brought into contact with the discharge port by controlling the movement mechanism unit to seal the discharge port and the coating liquid supplied to the nozzle is stored in the flow path, and a sealing mode. A control unit that selectively switches between a discharge mode in which the stop member is separated from the discharge port and the discharge liquid can be discharged from the discharge port , a gas supply unit that supplies a gas to the flow path of the nozzle, a coating liquid and a gas, A supply pipe that circulates through the nozzle flow path, One end portion, intermediate portion, and the other end portion of the supply pipe are connected to a coating liquid supply section, a gas supply section, and a flow path, respectively, and the coating liquid supply section supplies a first coating liquid and a second coating liquid that are different from each other. The control unit can supply gas via the supply pipe in the discharge mode in the discharge mode when the first coating liquid is present in the supply pipe and the flow path. The first replacement process for replacing the first coating liquid with gas is performed, the following co-washing process is performed, the mode is switched to the storage mode, and the second coating liquid is supplied via the supply pipe by the coating liquid supply unit. After performing the second replacement process for replacing the gas present in the supply pipe and the flow path with the second coating liquid, the second coating liquid is switched to the discharge mode and the second coating liquid is supplied via the supply pipe by the coating liquid supply unit. Supply the second coating liquid from the discharge port It is characterized by performing the coating process for ejecting. The co-washing process switches to the storage mode and supplies the second coating liquid from the coating liquid supply unit via the supply pipe, so that at least the first coating liquid existing between the one end and the intermediate part is present. 1st coating liquid which exists in the other edge part side at least rather than an intermediate | middle part by supplying a gas via a supply piping with a gas supply part while switching to discharge mode after liquid-feeding rather than the other edge part side. Is discharged from the discharge port.

また、この発明の他の態様は、ノズル本体と、ノズル本体の下端部に設けられる吐出口と、ノズル本体の内部で塗布液を吐出口に流通する流路とを有するノズルを用いて基板に塗布液を塗布する塗布方法であって、吐出口に封止部材を当接させて吐出口を封止してノズルに供給される塗布液を流路に貯留させる貯留モードと、封止部材を吐出口から離間させて吐出口から塗布液を吐出する吐出モードと、を備え、供給配管の一方端部、中間部および他方端部はそれぞれ塗布液供給部、気体供給部および流路に接続され、塗布液供給部から互いに異なる第１の塗布液と第２の塗布液を供給配管を介してノズルに供給可能で、かつ気体供給部から気体を供給配管を介してノズルの流路に気体を供給可能となっており、供給配管および流路内に第１の塗布液が存在する状態において、吐出モードで気体供給部により気体を供給配管を介して供給して第１の塗布液を気体に置換する第１置換処理を行い、下記の共洗い処理を行い、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して供給配管および流路内に存在する気体を第２の塗布液に置換する第２置換処理を行った後で、吐出モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して吐出口から第２の塗布液を吐出させる塗布処理を行うことを特徴としている。共洗い処理は、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して一方端部と中間部との間に存在する第１の塗布液を少なくとも中間部よりも他方端部側に送液した後で、吐出モードに切り替えるとともに気体供給部により気体を供給配管を介して供給することで少なくとも中間部よりも他方端部側に存在する第１の塗布液を吐出口から吐出させる処理である。 Another aspect of the present invention provides a substrate using a nozzle having a nozzle body, a discharge port provided at a lower end portion of the nozzle body, and a flow path through which the coating liquid flows to the discharge port inside the nozzle body. A coating method for applying a coating liquid, comprising: a storage mode in which a sealing member is brought into contact with a discharge port to seal the discharge port and the coating liquid supplied to the nozzle is stored in a flow path; and a sealing member A discharge mode in which the coating liquid is discharged from the discharge port at a distance from the discharge port , and one end, an intermediate portion, and the other end of the supply pipe are connected to the coating liquid supply unit, the gas supply unit, and the flow path, respectively. The coating solution supply unit can supply different first coating solution and second coating solution to the nozzle through the supply pipe, and gas can be supplied from the gas supply unit to the nozzle flow path through the supply pipe. It is possible to supply the first in the supply pipe and flow path. In the state where the coating liquid is present, in the discharge mode, gas is supplied from the gas supply unit via the supply pipe to perform the first replacement process for replacing the first coating liquid with the gas, and the following washing process is performed. While switching to the storage mode, a second replacement process was performed in which the coating liquid supply unit supplied the second coating liquid via the supply pipe to replace the gas existing in the supply pipe and the flow path with the second coating liquid. After that, the present invention is characterized in that it is switched to the discharge mode and a coating process is performed in which the second coating liquid is supplied from the coating liquid supply unit via the supply pipe and the second coating liquid is discharged from the discharge port . The co-washing process switches to the storage mode and supplies the second coating liquid from the coating liquid supply unit via the supply pipe, so that at least the first coating liquid existing between the one end and the intermediate part is present. 1st coating liquid which exists in the other edge part side at least rather than an intermediate | middle part by supplying a gas via a supply piping with a gas supply part while switching to discharge mode after liquid-feeding rather than the other edge part side. Is discharged from the discharge port.

以上のように、本発明によれば、ノズルの吐出口を封止可能な封止部材が設けられており、当該封止部材により吐出口を封止することで、塗布液をノズルに供給して流路に貯留している間における吐出口からの塗布液の吐出が阻止される。したがって、ノズルに塗布液が貯留される時に無駄な塗布液の流出が防止されてランニングコストの低減を図ることができる。   As described above, according to the present invention, the sealing member capable of sealing the discharge port of the nozzle is provided, and the coating liquid is supplied to the nozzle by sealing the discharge port with the sealing member. Thus, the discharge of the coating liquid from the discharge port while being stored in the flow path is prevented. Therefore, when the coating liquid is stored in the nozzle, useless flow of the coating liquid is prevented, and the running cost can be reduced.

本発明にかかる塗布装置の第１実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows 1st Embodiment of the coating device concerning this invention. 図１に示す塗布装置の構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of the coating device shown in FIG. スリットノズルの斜視図である。It is a perspective view of a slit nozzle. 図３Ａに示すスリットノズルの内部の流路を示した図である。It is the figure which showed the flow path inside the slit nozzle shown to FIG. 3A. 封止部の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a sealing part. 図１の塗布装置に装備される供給機構の構成および動作を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure and operation | movement of a supply mechanism with which the coating device of FIG. 1 is equipped. 図１に示す塗布装置を制御するための電気的構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electric constitution for controlling the coating device shown in FIG. 図７Ａないし図７Ｆは本発明にかかる塗布装置の第２実施形態に装備される供給機構の構成および動作を模式的に示す図である。7A to 7F are diagrams schematically showing the configuration and operation of a supply mechanism equipped in the second embodiment of the coating apparatus according to the present invention.

図１は、本発明にかかる塗布装置の第１実施形態を示す斜視図である。また、図２は、図１に示す塗布装置の構成を示す側面図である。なお、図１、図２および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためＺ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付している。また、理解容易の目的で、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。また、図２では、ノズル支持体など一部の構成を省略している。   FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a coating apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a side view showing the configuration of the coating apparatus shown in FIG. In addition, in FIG. 1, FIG. 2, and each figure after that, in order to clarify those directional relationships, the XYZ orthogonal coordinate system which makes a Z direction a perpendicular direction and makes XY plane a horizontal surface is attached | subjected suitably. Further, for the purpose of easy understanding, the dimensions and numbers of the respective parts are exaggerated or simplified as necessary. Moreover, in FIG. 2, some structures, such as a nozzle support body, are abbreviate | omitted.

塗布装置１は、スリットノズル２を用いて基板３の表面３１に塗布液を塗布するスリットコータと呼ばれる塗布装置である。塗布装置１は、その塗布液として、レジスト液、カラーフィルター用液、ポリイミド、シリコン、ナノメタルインク、導電性材料を含むスラリーなど、種々の塗布液を用いることが可能である。また、塗布対象となる基板３についても、矩形ガラス基板、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板、太陽電池用基板、有機ＥＬ用基板などの種々の基板に適用可能である。なお、本実施形態では、２種類の塗布液を準備しておき、１つのスリットノズル２から２種類の塗布液が切り替えて塗布される。これら２種類の塗布液を区別するために、一方の塗布液を「塗布液Ａ」と呼ぶとともに他方の塗布液を「塗布液Ｂ」と呼ぶ。また、塗布液を区別しないときには、単に「塗布液」と呼ぶ。また、本明細書中で、「基板３の表面３１」とは基板３の両主面のうち塗布液が塗布される側の主面を意味する。   The coating device 1 is a coating device called a slit coater that applies a coating solution to the surface 31 of the substrate 3 using the slit nozzle 2. The coating apparatus 1 can use various coating liquids such as a resist liquid, a color filter liquid, polyimide, silicon, nanometal ink, and a slurry containing a conductive material as the coating liquid. Also, the substrate 3 to be coated is applied to various substrates such as a rectangular glass substrate, a semiconductor substrate, a film liquid crystal flexible substrate, a photomask substrate, a color filter substrate, a solar cell substrate, and an organic EL substrate. Is possible. In the present embodiment, two types of coating solutions are prepared, and two types of coating solutions are switched and applied from one slit nozzle 2. In order to distinguish these two types of coating liquids, one coating liquid is referred to as “coating liquid A” and the other coating liquid is referred to as “coating liquid B”. When the coating liquid is not distinguished, it is simply called “coating liquid”. In the present specification, the “surface 31 of the substrate 3” means a main surface of the main surface of the substrate 3 on the side where the coating liquid is applied.

塗布装置１は、基板３を水平姿勢で吸着保持可能なステージ４と、ステージ４に保持される基板３にスリットノズル２を用いて塗布処理を施す塗布処理部５と、塗布液の切替時にスリットノズル２の吐出口を封止するための封止部６と、スリットノズル２からパージされる塗布液を回収するための回収部７と、塗布処理に先立ってスリットノズル２に対してプリディスペンス処理を施すプリディスペンス装置８と、これら各部を制御する制御部９と、を備えている。   The coating apparatus 1 includes a stage 4 capable of adsorbing and holding the substrate 3 in a horizontal posture, a coating processing unit 5 that performs a coating process on the substrate 3 held on the stage 4 using the slit nozzle 2, and a slit when the coating liquid is switched. A sealing unit 6 for sealing the discharge port of the nozzle 2, a recovery unit 7 for recovering the coating liquid purged from the slit nozzle 2, and a pre-dispensing process for the slit nozzle 2 prior to the coating process A pre-dispensing device 8 for performing the above and a control unit 9 for controlling these units.

スリットノズル２はＸ方向に延びる長尺状の開口部である吐出口を有している。そして、スリットノズル２はステージ４に保持された基板３の表面３１に向けて吐出口から塗布液を吐出可能となっている。なお、スリットノズル２の構成については後で詳述する。   The slit nozzle 2 has a discharge port that is a long opening extending in the X direction. The slit nozzle 2 can discharge the coating liquid from the discharge port toward the surface 31 of the substrate 3 held on the stage 4. The configuration of the slit nozzle 2 will be described in detail later.

ステージ４は略直方体の形状を有する花崗岩等の石材で構成されており、その上面（＋Ｚ側）のうち−Ｙ側には、略水平な平坦面に加工されて基板３を保持する保持面４１を備える。保持面４１には図示しない多数の真空吸着口が分散して形成されている。これらの真空吸着口により基板３が吸着されることで、塗布処理の際に基板３が所定の位置に略水平状態に保持される。なお、基板３の保持態様はこれに限定されるものではなく、例えば機械的に基板３を保持するように構成してもよい。   The stage 4 is made of a stone material such as granite having a substantially rectangular parallelepiped shape, and a holding surface 41 that holds the substrate 3 by processing it into a substantially horizontal flat surface on the −Y side of its upper surface (+ Z side). Is provided. A large number of vacuum suction ports (not shown) are formed on the holding surface 41 in a dispersed manner. By adsorbing the substrate 3 by these vacuum suction ports, the substrate 3 is held in a substantially horizontal state at a predetermined position during the coating process. In addition, the holding | maintenance aspect of the board | substrate 3 is not limited to this, For example, you may comprise so that the board | substrate 3 may be hold | maintained mechanically.

また、ステージ４において保持面４１の占有する領域より＋Ｙ側には、ノズル調整エリアＡＲ１が設けられている。そして、ノズル調整エリアＡＲ１のうち、＋Ｙ側から−Ｙ側に封止部６、回収部７およびプリディスペンス装置８がこの順序で配置されている。   Further, a nozzle adjustment area AR <b> 1 is provided on the + Y side of the area occupied by the holding surface 41 in the stage 4. In the nozzle adjustment area AR1, the sealing unit 6, the collection unit 7, and the pre-dispensing device 8 are arranged in this order from the + Y side to the -Y side.

本実施形態の塗布装置１では、スリットノズル２をＹ方向に移動させる移動機構部が塗布処理部５に設けられており、保持面４１の上方とノズル調整エリアＡＲ１の上方との間でスリットノズル２を往復移動させる。そして、スリットノズル２がノズル調整エリアＡＲ１の上方に移動されている期間、すなわち、ステージ４において保持面４１の占有する領域の上方にスリットノズル２がない期間に、ステージ４上で塗布処理後の先行基板３の搬出と塗布処理前の後続基板３の搬入とが行なわれる。一方、スリットノズル２が保持面４１の上方を移動している間に当該保持面４１上の基板３の表面３１に塗布液が塗布される。   In the coating apparatus 1 of the present embodiment, a movement mechanism unit that moves the slit nozzle 2 in the Y direction is provided in the coating processing unit 5, and the slit nozzle is disposed between the upper side of the holding surface 41 and the upper side of the nozzle adjustment area AR <b> 1. 2 is moved back and forth. Then, during the period in which the slit nozzle 2 is moved above the nozzle adjustment area AR1, that is, in the period in which the slit nozzle 2 is not present above the region occupied by the holding surface 41 in the stage 4, the post-coating treatment is performed on the stage 4. Carrying out the preceding substrate 3 and carrying in the subsequent substrate 3 before the coating process are performed. On the other hand, while the slit nozzle 2 is moving above the holding surface 41, the coating liquid is applied to the surface 31 of the substrate 3 on the holding surface 41.

塗布処理部５の移動機構部は、主としてステージ４の上方をＸ方向に横断しスリットノズル２を支持するブリッジ構造のノズル支持体５１と、Ｙ方向に延びる一対のガイドレール５２に沿ってノズル支持体５１およびこれに支持されるスリットノズル２を水平移動させるスリットノズル移動部５３とを有している。このノズル支持体５１は、スリットノズル２を固定する固定部材５１ａと、固定部材５１ａを支持するとともに昇降させる２つの昇降機構５１ｂとを有している。なお、固定部材５１ａは、Ｘ軸方向を長手方向とするカーボンファイバ補強樹脂等の断面矩形の棒状部材で構成される。   The moving mechanism section of the coating processing section 5 mainly supports a nozzle support 51 having a bridge structure that crosses the upper side of the stage 4 in the X direction and supports the slit nozzle 2 and a pair of guide rails 52 extending in the Y direction. It has the body 51 and the slit nozzle moving part 53 which horizontally moves the slit nozzle 2 supported by this. The nozzle support 51 includes a fixing member 51a that fixes the slit nozzle 2, and two elevating mechanisms 51b that support the fixing member 51a and raise and lower it. Note that the fixing member 51a is formed of a bar-shaped member having a rectangular cross section such as a carbon fiber reinforced resin whose longitudinal direction is the X-axis direction.

２つの昇降機構５１ｂは固定部材５１ａの長手方向の両端部に連結されており、それぞれＡＣサーボモータ及びボールネジ等を備えている。これらの昇降機構５１ｂにより、固定部材５１ａ及びそれに固定されたスリットノズル２が鉛直方向（Ｚ軸方向）に昇降され、スリットノズル２の吐出口と基板３との間隔、すなわち、基板３に対する吐出口の相対的な高さが調整される。なお、固定部材５１ａの鉛直方向の位置は、例えば、昇降機構５１ｂの側面に設けられた図示省略のスケール部と、当該スケール部に対向してスリットノズル２の側面などに設けられた図示省略の検出センサとを備えて構成される図示省略のリニアエンコーダにより検出される。   The two lifting mechanisms 51b are connected to both ends of the fixing member 51a in the longitudinal direction, and each includes an AC servo motor and a ball screw. By these elevating mechanisms 51b, the fixing member 51a and the slit nozzle 2 fixed thereto are moved up and down in the vertical direction (Z-axis direction), and the interval between the ejection port of the slit nozzle 2 and the substrate 3, that is, the ejection port for the substrate 3 The relative height of is adjusted. The vertical position of the fixing member 51a is, for example, an unillustrated scale portion provided on the side surface of the lifting mechanism 51b and an unillustrated illustration provided on the side surface of the slit nozzle 2 facing the scale portion. It is detected by a linear encoder (not shown) configured to include a detection sensor.

このように構成されたノズル支持体５１は、図１に示すように、ステージ４の左右両端部をＸ軸方向に沿って掛け渡し、保持面４１を跨ぐ架橋構造を有している。スリットノズル移動部５３は、この架橋構造体としてのノズル支持体５１とそれに固定保持されたスリットノズル２とを、ステージ４上に保持される基板３に対してＹ軸方向に沿って相対移動させる相対的移動手段として機能する。   As shown in FIG. 1, the nozzle support 51 configured in this way has a bridge structure that spans the left and right ends of the stage 4 along the X-axis direction and straddles the holding surface 41. The slit nozzle moving unit 53 moves the nozzle support 51 as the bridging structure and the slit nozzle 2 fixed and held thereto relative to the substrate 3 held on the stage 4 along the Y-axis direction. It functions as a relative moving means.

スリットノズル移動部５３は、±Ｘ側のそれぞれにおいて、スリットノズル２の移動をＹ軸方向に案内するガイドレール５２と、駆動源であるリニアモータ５４と、スリットノズル２の吐出口の位置を検出するためのリニアエンコーダ５５とを備えている。   The slit nozzle moving unit 53 detects the position of the guide rail 52 that guides the movement of the slit nozzle 2 in the Y-axis direction, the linear motor 54 that is a driving source, and the discharge port of the slit nozzle 2 on each of the ± X sides. The linear encoder 55 is provided.

２つのガイドレール５２はそれぞれ、ステージ４のＸ軸方向の両端部にＹ軸方向に沿ってノズル封止位置（封止部６の配設位置）から塗布終了位置（保持面４１の−Ｙ側端部位置）までの区間を含むように延設されている。このため、スリットノズル移動部５３によって２つの昇降機構５１ｂの下端部が上記２つのガイドレール５２に沿って案内されることで、スリットノズル２はノズル洗浄位置とステージ４上に保持される基板３に対向する位置との間を移動する。   Each of the two guide rails 52 extends from the nozzle sealing position (position where the sealing portion 6 is disposed) along the Y-axis direction to both ends in the X-axis direction of the stage 4 from the application end position (on the −Y side of the holding surface 41). It extends so as to include the section to the end position). For this reason, the slit nozzle moving portion 53 guides the lower end portions of the two lifting mechanisms 51 b along the two guide rails 52, so that the slit nozzle 2 is held at the nozzle cleaning position and the substrate 3. It moves between the positions facing to.

本実施形態では、各リニアモータ５４は、固定子５４ａと移動子５４ｂとを有するＡＣコアレスリニアモータとして構成される。固定子５４ａは、ステージ４のＸ軸方向の両側面にＹ軸方向に沿って設けられている。一方、移動子５４ｂは、昇降機構５１ｂの外側に対して固設されている。リニアモータ５４は、これら固定子５４ａと移動子５４ｂとの間に生じる磁力によってスリットノズル移動部５３の駆動源として機能する。   In the present embodiment, each linear motor 54 is configured as an AC coreless linear motor having a stator 54a and a mover 54b. The stator 54a is provided on both side surfaces of the stage 4 in the X-axis direction along the Y-axis direction. On the other hand, the moving element 54b is fixed to the outside of the elevating mechanism 51b. The linear motor 54 functions as a drive source for the slit nozzle moving unit 53 by the magnetic force generated between the stator 54a and the mover 54b.

また、各リニアエンコーダ５５はそれぞれ、スケール部５５ａと検出部５５ｂとを有している。スケール部５５ａはステージ４に固設されたリニアモータ５４の固定子５４ａの下部にＹ軸方向に沿って設けられている。一方、検出部５５ｂは、昇降機構５１ｂに固設されたリニアモータ５４の移動子５４ｂのさらに外側に固設され、スケール部５５ａに対向配置される。リニアエンコーダ５５は、スケール部５５ａと検出部５５ｂとの相対的な位置関係に基づいて、Ｙ軸方向におけるスリットノズル２の吐出口の位置を検出する。   Each linear encoder 55 has a scale portion 55a and a detection portion 55b. The scale portion 55 a is provided along the Y-axis direction below the stator 54 a of the linear motor 54 fixed to the stage 4. On the other hand, the detection unit 55b is fixed to the outer side of the moving element 54b of the linear motor 54 fixed to the elevating mechanism 51b, and is arranged to face the scale unit 55a. The linear encoder 55 detects the position of the discharge port of the slit nozzle 2 in the Y-axis direction based on the relative positional relationship between the scale unit 55a and the detection unit 55b.

図３Ａはスリットノズルの斜視図である。図３Ｂは図３Ａに示すスリットノズルの内部の流路を示した図である。スリットノズル２は、一対のノズル部材２１１，２１２と、一対のサイドプレート２１３，２１４とを組み合わせてなる、ノズルボディ２１を有している。より具体的には、図３Ａに示すように、一対のノズル部材２１１，２１２を互いに固定するとともに、その左右の両端部に一対のサイドプレート２１３，２１４を取り付けることで、内部に流路２１０を有するノズルボディ２１が形成される。なお、これらノズル部材２１１，２１２およびサイドプレート２１３，２１４の材料としては、例えばアルミニウム等の金属を用いることができる。   FIG. 3A is a perspective view of the slit nozzle. FIG. 3B is a diagram showing a flow path inside the slit nozzle shown in FIG. 3A. The slit nozzle 2 has a nozzle body 21 formed by combining a pair of nozzle members 211 and 212 and a pair of side plates 213 and 214. More specifically, as shown in FIG. 3A, the pair of nozzle members 211 and 212 are fixed to each other, and a pair of side plates 213 and 214 are attached to the left and right ends thereof, thereby forming the flow path 210 therein. A nozzle body 21 is formed. In addition, as a material of these nozzle members 211 and 212 and side plates 213 and 214, for example, a metal such as aluminum can be used.

また、各サイドプレート２１３，２１４には供給口２２が設けられており、一対のノズル部材２１１，２１２への取付によって一対の供給口２２が形成される。また、一対のノズル部材２１１，２１２を互いに固定すると、前方のノズル部材２１１の下端部と、後方のノズル部材２１２の下端部との間において、スリット状の開口がＸ方向に形成され、これがスリット状の吐出口２３として機能する。そして、塗布装置１の稼働時には、一対の供給口２２からノズルボディ２１内の流路２１０へ、塗布液が後で説明する供給機構の供給配管を介して送液される。また、この塗布液は流路２１０を流通し、吐出口２３からノズルボディ２１の下方へ向けて、吐出される。なお、本実施形態では、塗布液の切替時における塗布液の供給タイミングでノズルボディ２１の吐出口２３は封止部６の封止部材６１に当接して封止されることで吐出口２３からの塗布液の流出が阻止される一方、それ以外のタイミングではノズルボディ２１の吐出口２３は封止部材６１から離間して吐出口２３から塗布液を吐出可能となっている。   Each side plate 213, 214 is provided with a supply port 22, and a pair of supply ports 22 is formed by attachment to the pair of nozzle members 211, 212. Further, when the pair of nozzle members 211 and 212 are fixed to each other, a slit-like opening is formed in the X direction between the lower end portion of the front nozzle member 211 and the lower end portion of the rear nozzle member 212, which is a slit. It functions as a discharge port 23 having a shape. When the coating apparatus 1 is in operation, the coating liquid is sent from the pair of supply ports 22 to the flow path 210 in the nozzle body 21 via a supply pipe of a supply mechanism described later. Further, this coating liquid flows through the flow path 210 and is discharged from the discharge port 23 toward the lower side of the nozzle body 21. In the present embodiment, the discharge port 23 of the nozzle body 21 is in contact with the sealing member 61 of the sealing portion 6 and sealed from the discharge port 23 at the supply timing of the coating solution when the coating solution is switched. In the other timing, the discharge port 23 of the nozzle body 21 is spaced apart from the sealing member 61 so that the coating solution can be discharged from the discharge port 23.

また、ノズルボディ２１は図３Ａ、図３Ｂに示すように１つの排出口２４を有する。排出口２４は、ノズルボディ２１の上面に設けられている。このため、例えば次に説明する封止部６により吐出口２３を封止した状態で塗布液が送液されると、上記供給配管やスリットノズル２の流路２１０に存在している気体成分は吐出口２３から吐出されることなく、排出口２４からスリットノズル２の外部へ排出される。例えばスリットノズル２の流路２１０および供給配管の内部が窒素ガスなどの気体でパージされて塗布液が存在していない状態で塗布液の送液を開始すると、塗布液の送液によって上記気体成分は排出口２４から排出されるとともに流路２１０に塗布液が貯留されていく（貯留処理）。これによって流路２１０に塗布液が充填され、気体成分の排出に続いてオーバーフローした塗布液が排出口２４からスリットノズル２の外部へ排出される。なお、この実施形態では、排出口２４からの塗布液の排出をセンサで検知して流路２１０への塗布液の充填を検出する。   Further, the nozzle body 21 has one discharge port 24 as shown in FIGS. 3A and 3B. The discharge port 24 is provided on the upper surface of the nozzle body 21. For this reason, for example, when the coating liquid is fed in a state where the discharge port 23 is sealed by the sealing portion 6 described below, the gas components present in the flow path 210 of the supply pipe and the slit nozzle 2 are The ink is discharged from the discharge port 24 to the outside of the slit nozzle 2 without being discharged from the discharge port 23. For example, when the inside of the flow path 210 and the supply pipe of the slit nozzle 2 is purged with a gas such as nitrogen gas and the coating liquid is fed in the absence of the coating liquid, the gas component is generated by feeding the coating liquid. Is discharged from the discharge port 24 and the coating liquid is stored in the flow path 210 (storage process). As a result, the coating liquid is filled in the flow path 210, and the coating liquid overflowed following the discharge of the gas component is discharged from the slit 24 to the outside of the slit nozzle 2. In this embodiment, the discharge of the coating liquid from the discharge port 24 is detected by a sensor, and the filling of the coating liquid into the flow path 210 is detected.

一方、封止部６による吐出口２３の封止を行っていない状態で供給配管を介して塗布液をスリットノズル２に送液すると、当該スリットノズル２では塗布液が流路２１０を介して吐出口２３に送液され、吐出口２３から基板に向けて吐出される（塗布処理）。また、この状態で供給配管を介して窒素ガスなどの気体成分を送り込むと、供給配管およびスリットノズル２に残っている塗布液を吐出口２３より除去することができる（パージ処理）。このように本実施形態では、封止部６は吐出口２３や排出口２４からの気体成分や塗布液の吐出／排出に重要な機能を果たす。   On the other hand, when the coating liquid is sent to the slit nozzle 2 through the supply pipe in a state where the discharge port 23 is not sealed by the sealing portion 6, the coating liquid is discharged from the slit nozzle 2 through the flow path 210. The solution is fed to the outlet 23 and discharged from the discharge port 23 toward the substrate (coating process). Further, when a gas component such as nitrogen gas is fed through the supply pipe in this state, the coating liquid remaining in the supply pipe and the slit nozzle 2 can be removed from the discharge port 23 (purge process). As described above, in the present embodiment, the sealing portion 6 performs an important function for discharging / discharging the gas component and the coating liquid from the discharge port 23 and the discharge port 24.

図４は封止部の構成を示す図である。この封止部６は、封止部材６１、回収ポット６２およびドレイン配管６３を有している。封止部材６１は、ステンレス鋼板などの剛性を有するベース板６１１と、シリコンゴムなどの弾性を有する弾性板６１２とで構成されている。ベース板６１１は、図４に示すように、スリットノズル２の長手方向Ｘと並行に延設された矩形形状を有し、そのＸ方向長さはスリットノズル２のＸ方向長さより若干長くなっている。また、ベース板６１１の上面全体に弾性板６１２が固定されている。このため、塗布処理部５の移動機構部によってスリットノズル２を封止部材６１の直上に位置させた後でスリットノズル２を封止高さ位置Ｚ１まで下降させてスリットノズル２の下端部を弾性板６１２に押し付けると、スリットノズル２の吐出口２３が封止部材６１の弾性板６１２の表面で封止される。一方、移動機構部によってスリットノズル２を封止部材６１から離れた位置に移動させることで弾性板６１２による吐出口２３の封止が解除される。なお、上記封止処理によって、基本的には吐出口２３からの塗布液の吐出／流出は阻止されるのであるが、吐出口２３からの塗布液の漏出対策として、封止部材６１を下方側から覆うように回収ポット６２が配設されるとともに当該回収ポット６２から下方側にドレイン配管６３が延設されている。   FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the sealing portion. The sealing unit 6 includes a sealing member 61, a recovery pot 62, and a drain pipe 63. The sealing member 61 includes a base plate 611 having rigidity such as a stainless steel plate and an elastic plate 612 having elasticity such as silicon rubber. As shown in FIG. 4, the base plate 611 has a rectangular shape extending in parallel with the longitudinal direction X of the slit nozzle 2, and its X-direction length is slightly longer than the X-direction length of the slit nozzle 2. Yes. An elastic plate 612 is fixed to the entire upper surface of the base plate 611. For this reason, the slit nozzle 2 is moved down to the sealing height position Z1 after the slit nozzle 2 is positioned immediately above the sealing member 61 by the moving mechanism unit of the coating processing unit 5, and the lower end portion of the slit nozzle 2 is elasticized. When pressed against the plate 612, the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is sealed with the surface of the elastic plate 612 of the sealing member 61. On the other hand, the sealing of the discharge port 23 by the elastic plate 612 is released by moving the slit nozzle 2 to a position away from the sealing member 61 by the moving mechanism unit. In addition, although the discharge / outflow of the coating liquid from the discharge port 23 is basically prevented by the sealing process, the sealing member 61 is disposed on the lower side as a countermeasure against the leakage of the coating liquid from the discharge port 23. A recovery pot 62 is disposed so as to cover from above, and a drain pipe 63 is extended downward from the recovery pot 62.

図２に戻って構成説明を続ける。封止部６の−Ｙ側には回収部７が設けられている。この実施形態では、２種類の塗布液を適宜切り替えるとともに後で詳述する共洗い処理を行うために、回収部７では３種類の回収ポット７Ａ〜７Ｃが設けられている。これらのうち回収ポット７Ａは塗布液Ａを専門的に回収するための回収ポットである。その流路２１０内に塗布液Ａが残留しているスリットノズル２が回収ポット７Ａの上方位置に移動された状態で、後述するように窒素ガスによるパージ処理によってスリットノズル２から塗布液Ａが吐出されると、その塗布液Ａは回収ポット７Ａに回収される。回収ポット７Ｂは、塗布液Ｂを専門的に回収するための回収ポットであり、回収ポット７Ａと同様にしてスリットノズル２に残留する塗布液Ｂを回収する。残りの回収ポット７Ｃは共洗い処理において生じる塗布液Ａと塗布液Ｂの混合液を回収する回収ポットであり、回収ポット７Ａと同様にしてスリットノズル２に残留する混合液（＝塗布液Ａ＋塗布液Ｂ）を回収する。なお、回収ポット７Ａで回収された塗布液Ａおよび回収ポット７Ｂで回収された塗布液Ｂは再利用に供されるが、回収ポット７Ｃで回収された混合液は図示を省略する廃液処理機構に送られる。このように回収ポット７Ｃは廃液ポットとして機能する。また、回収ポット７Ａ〜７Ｃの配列順序は図２に示す順序に限定されるものではない。   Returning to FIG. A recovery unit 7 is provided on the −Y side of the sealing unit 6. In this embodiment, the recovery unit 7 is provided with three types of recovery pots 7 </ b> A to 7 </ b> C in order to appropriately switch between the two types of coating liquids and perform a washing process that will be described in detail later. Among these, the collection pot 7A is a collection pot for specially collecting the coating liquid A. In a state where the slit nozzle 2 in which the coating liquid A remains in the flow path 210 is moved to a position above the recovery pot 7A, the coating liquid A is discharged from the slit nozzle 2 by a purge process using nitrogen gas as will be described later. Then, the coating liquid A is recovered in the recovery pot 7A. The collection pot 7B is a collection pot for professionally collecting the coating liquid B, and collects the coating liquid B remaining in the slit nozzle 2 in the same manner as the collection pot 7A. The remaining collection pot 7C is a collection pot that collects the mixed liquid of the coating liquid A and the coating liquid B generated in the co-washing process. Liquid B) is recovered. The coating liquid A recovered in the recovery pot 7A and the coating liquid B recovered in the recovery pot 7B are reused, but the mixed liquid recovered in the recovery pot 7C is sent to a waste liquid processing mechanism (not shown). Sent. Thus, the collection pot 7C functions as a waste liquid pot. Further, the arrangement order of the collection pots 7A to 7C is not limited to the order shown in FIG.

また、図２に示すように、回収部７の−Ｙ側にはプリディスペンス装置８が設けられている。プリディスペンス装置８は、図２に示すように、ノズル調整エリアＡＲ１のうち−Ｙ側に配される装置であって、その内部に溶剤８４を貯留する貯留槽８１と、その一部を溶剤８４に浸漬しておりスリットノズル２からの塗布液の吐出対象となるプリディスペンスローラ８２と、ドクターブレード８３とを備えている。   Further, as shown in FIG. 2, a pre-dispensing device 8 is provided on the −Y side of the collection unit 7. As shown in FIG. 2, the pre-dispensing device 8 is a device arranged on the −Y side in the nozzle adjustment area AR <b> 1, and a storage tank 81 for storing the solvent 84 therein, and a part of the storage device 81. A pre-dispensing roller 82 which is immersed in the nozzle nozzle 2 and is a discharge target of the coating liquid from the slit nozzle 2, and a doctor blade 83.

プリディスペンスローラ８２は、図示省略の回転機構によって回転駆動されることにより、Ｘ軸方向に沿った軸心８２ａ周りで矢印Ｒ１の向きに回転可能な円筒状のローラである。このプリディスペンスローラ８２の下部には、貯留槽８１が配置されており、プリディスペンスローラ８２に塗布された塗布液を溶解可能なシンナーなどが溶剤８４として貯留されている。また、シリコン製などのドクターブレード８３が、プリディスペンスローラ８２の外周面にその一端が接触するように設けられている。   The pre-dispensing roller 82 is a cylindrical roller that can be rotated in the direction of the arrow R1 around the axis 82a along the X-axis direction by being driven to rotate by a rotation mechanism (not shown). A storage tank 81 is disposed below the pre-dispensing roller 82, and a thinner or the like that can dissolve the coating liquid applied to the pre-dispensing roller 82 is stored as a solvent 84. A doctor blade 83 made of silicon or the like is provided so that one end thereof is in contact with the outer peripheral surface of the pre-dispensing roller 82.

このように構成されたプリディスペンス装置８では、スリットノズル２がプリディスペンスローラ８２の上方位置に移動された状態で、回転しているプリディスペンスローラ８２に向けてスリットノズル２が塗布液を吐出することによりプリディスペンスローラ８２に塗布液が塗布される。この結果、吐出口２１（特に、リップ部２４の先端面２５）に当該塗布液の液溜りが形成される（プリディスペンス処理）。こうしてＸ軸方向に延びた直線状の吐出口２１の全長にわたって液溜りが均一に形成されると、その後の塗布処理を高精度に遂行することが可能となる。また、プリディスペンス処理によって、吐出口２１の周囲に付着した汚れた塗布液などの付着物が、吐出口２１から新たに吐出される塗布液に結合してプリディスペンスローラ８２の外周面に吐出され、吐出口２１の周囲部分から除去される。   In the pre-dispensing apparatus 8 configured as described above, the slit nozzle 2 discharges the coating liquid toward the rotating pre-dispensing roller 82 in a state where the slit nozzle 2 is moved to a position above the pre-dispensing roller 82. As a result, the coating liquid is applied to the pre-dispensing roller 82. As a result, a liquid pool of the coating liquid is formed at the discharge port 21 (in particular, the front end surface 25 of the lip portion 24) (pre-dispensing process). If the liquid reservoir is uniformly formed over the entire length of the linear discharge port 21 extending in the X-axis direction in this way, the subsequent coating process can be performed with high accuracy. In addition, due to the pre-dispensing process, deposits such as a dirty coating liquid adhering to the periphery of the discharge port 21 are combined with a newly discharged coating solution from the discharge port 21 and discharged onto the outer peripheral surface of the pre-dispense roller 82. And removed from the peripheral portion of the discharge port 21.

次に、スリットノズル２に塗布液を供給する供給機構の構成について図５Ａ〜図５Ｆを参照しつつ説明する。図５Ａ〜図５Ｆは図１の塗布装置に装備される供給機構の構成および動作を模式的に示す図である。供給機構１０は、塗布液Ａの供給部１０１Ａと、塗布液Ｂの供給部１０１Ｂとを有している。供給部１０１Ａは、塗布液Ａを貯留するタンクと、制御部９からの制御信号に応じて作動して当該タンクから塗布液Ａを圧送するポンプ１０２Ａ（図６参照）とを有している。供給部１０１Ｂは、塗布液Ｂを貯留するタンクと、制御部９からの制御信号に応じて作動して当該タンクから塗布液Ｂを圧送するポンプ１０２Ｂ（図６参照）とを有している。そして、供給部１０１Ａから延設される配管１０３Ａは三方弁１０４中の一のポートに接続されている。また、供給部１０１Ｂから延設される配管１０３Ｂは三方弁１０４中の他のポートに接続されている。三方弁１０４中の残りのポートは供給配管１０５によってスリットノズル２の流路２１０に接続されている。すなわち、供給配管１０５の一方端部は三方弁１０６および配管１０３Ａ、１０３Ｂを介して供給部１０１Ａ、１０１Ｂと接続され、制御部９からの制御信号に応じて供給配管１０５の接続先が供給部１０１Ａ、１０１Ｂの間で切り替えられる。一方、供給配管１０５の他方端部は、スリットノズル２の供給口２２を介して流路２１０と接続されている。   Next, the configuration of the supply mechanism that supplies the coating liquid to the slit nozzle 2 will be described with reference to FIGS. 5A to 5F. 5A to 5F are diagrams schematically showing the configuration and operation of a supply mechanism equipped in the coating apparatus of FIG. The supply mechanism 10 includes a supply unit 101A for the coating liquid A and a supply unit 101B for the coating liquid B. 101 A of supply parts have the tank which stores the coating liquid A, and the pump 102A (refer FIG. 6) which act | operates according to the control signal from the control part 9, and pumps the coating liquid A from the said tank. The supply unit 101B includes a tank that stores the coating liquid B, and a pump 102B (see FIG. 6) that operates according to a control signal from the control unit 9 and pumps the coating liquid B from the tank. A pipe 103 </ b> A extending from the supply unit 101 </ b> A is connected to one port in the three-way valve 104. A pipe 103B extending from the supply unit 101B is connected to another port in the three-way valve 104. The remaining ports in the three-way valve 104 are connected to the flow path 210 of the slit nozzle 2 by the supply pipe 105. That is, one end of the supply pipe 105 is connected to the supply sections 101A and 101B via the three-way valve 106 and the pipes 103A and 103B, and the connection destination of the supply pipe 105 is connected to the supply section 101A in accordance with a control signal from the control section 9. , 101B. On the other hand, the other end of the supply pipe 105 is connected to the flow path 210 through the supply port 22 of the slit nozzle 2.

この供給配管１０５の中間部には、別の三方弁１０６が介設されている。この三方弁１０６のうちの残りのポートには、配管１０７によって図略の窒素ガス供給源と接続されている。ここで、窒素ガス供給源として、塗布装置１が設置される工場の用力を用いることができる。また、塗布装置１に窒素ガスボンベを窒素ガス供給源として設け、当該窒素ガスボンベから窒素ガスを供給するように構成してもよい。   Another three-way valve 106 is interposed in the intermediate portion of the supply pipe 105. The remaining port of the three-way valve 106 is connected to a nitrogen gas supply source (not shown) by a pipe 107. Here, the utility of the factory where the coating apparatus 1 is installed can be used as the nitrogen gas supply source. Further, the coating apparatus 1 may be provided with a nitrogen gas cylinder as a nitrogen gas supply source, and the nitrogen gas may be supplied from the nitrogen gas cylinder.

このように三方弁１０６を設けることで、供給配管１０５を介して塗布液のみならず、窒素ガスをスリットノズル２に選択的に供給可能となっている。例えば塗布液の切替時に供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２１０に残存する塗布液をパージする時、制御部９からの制御信号に応じて三方弁１０６は、スリットノズル２への塗布液の送液を規制する一方で、窒素ガスのスリットノズル２への供給を許可する。これによって、例えば図５Ｂに示すように、スリットノズル２が回収ポット７Ａの上方位置に移動された状態で三方弁１０６の切替によって窒素ガスが供給配管１０５を介してスリットノズル２に与えられると、当該窒素ガス供給によって供給配管１０５に残存する塗布液Ａが回収ポット７Ａに回収される（パージ処理）。   By providing the three-way valve 106 in this way, not only the coating liquid but also nitrogen gas can be selectively supplied to the slit nozzle 2 via the supply pipe 105. For example, when the application liquid remaining in the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2 is purged when the application liquid is switched, the three-way valve 106 causes the application liquid to be applied to the slit nozzle 2 according to a control signal from the control unit 9. While regulating liquid feeding, supply of nitrogen gas to the slit nozzle 2 is permitted. Accordingly, for example, as shown in FIG. 5B, when the slit nozzle 2 is moved to the upper position of the recovery pot 7A and nitrogen gas is supplied to the slit nozzle 2 via the supply pipe 105 by switching the three-way valve 106, By the nitrogen gas supply, the coating liquid A remaining in the supply pipe 105 is recovered in the recovery pot 7A (purge process).

なお、上記したパージ処理を行うことで供給配管１０５やスリットノズル２の流路２１０内に窒素ガスが残留する。また、塗布液に溶存していた気体成分が気泡となって供給配管１０５やスリットノズル２の流路２１０内に存在することもある。そこで、本実施形態では、スリットノズル２の排出口２４に排出配管１１が接続されている。また、当該排出配管１１には、排出用バルブ１２が介設されている。このため、制御部９からの制御信号に応じて排出用バルブ１２が開成すると、スリットノズル２の流路２１０が排出配管１１と連通され、流路２１０から気体成分やオーバーフローした塗布液を排出配管１１を介して外部に排出可能となっている。また、排出配管１１のうち排出用バルブ１２に対して下流側に位置する下流側端部にはセンサ１３が設けられており、このセンサ１３によってスリットノズル２の排出口２４から排出される液体成分（塗布液Ａ、塗布液Ｂ、混合液）が検知され、その検知信号が制御部９に与えられる。   Note that nitrogen gas remains in the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2 by performing the purge process described above. In addition, the gas component dissolved in the coating liquid may become bubbles and exist in the supply pipe 105 or the flow path 210 of the slit nozzle 2. Therefore, in the present embodiment, the discharge pipe 11 is connected to the discharge port 24 of the slit nozzle 2. The discharge pipe 11 is provided with a discharge valve 12. For this reason, when the discharge valve 12 is opened according to the control signal from the control unit 9, the flow path 210 of the slit nozzle 2 is communicated with the discharge pipe 11, and gas components and overflowed coating liquid are discharged from the flow path 210. 11 can be discharged to the outside. A sensor 13 is provided at the downstream end of the discharge pipe 11 that is located downstream of the discharge valve 12, and the liquid component discharged from the discharge port 24 of the slit nozzle 2 by the sensor 13. (Coating liquid A, coating liquid B, mixed liquid) is detected, and the detection signal is given to the control unit 9.

図６は図１に示す塗布装置を制御するための電気的構成を示すブロック図である。本実施形態では、上記のように構成された塗布装置１の各部の動作を制御するために、制御部９が設けられている。この制御部９は、一般的なコンピュータと同様に、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のＲＯＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のＲＡＭ９３、および処理プログラムやデータなどを記憶しておく固定ディスク９４などを有している。そして、制御部９は、固定ディスク９４に格納されている処理プログラムをＲＡＭ９３に展開し、これをＣＰＵ９１によって実行することにより、塗布装置１の各部を制御して塗布液Ａを用いた第１の塗布処理、塗布液Ｂを用いた第２の塗布処理、ならびに塗布液Ａ（Ｂ）から塗布液Ｂ（Ａ）に切り替えるための切替処理を行う。特に、本実施形態では、ＣＰＵ９１は、後で詳述するように、スリットノズル２の流路２１０が塗布液で充填されているか否かを判定する充填判定部９１１としての機能、ならびに流路の充填判定結果に基づいて処理内容を切り替えるモード切替部９１２としての機能を備えている。以下、図５Ａ〜図５Ｆを参照しつつ塗布装置１で実行される塗布液の供給動作および塗布動作について説明する。なお、ここでは、発明の特徴の理解を容易とするために、塗布液Ａによる第１の塗布処理から塗布液Ｂによる第２の塗布処理に切り替わる際に実行される主要動作の一例を図５Ａ〜図５Ｆに示して説明する。また、これらの図面ならびに後で説明する図７Ａ〜図７Ｆにおける（ＣＬ）、（ＯＰ）はそれぞれバルブ１２の閉成および開成を示している。   FIG. 6 is a block diagram showing an electrical configuration for controlling the coating apparatus shown in FIG. In the present embodiment, a control unit 9 is provided to control the operation of each unit of the coating apparatus 1 configured as described above. Like a general computer, the control unit 9 stores a CPU 91 that performs various arithmetic processes, a read-only ROM 92 that stores basic programs, a readable / writable RAM 93 that stores various information, and processing programs and data. It has a fixed disk 94 and the like. And the control part 9 expand | deploys the processing program stored in the fixed disk 94 to RAM93, and executes this by CPU91, controls each part of the coating device 1, and uses the 1st using the coating liquid A A coating process, a second coating process using the coating liquid B, and a switching process for switching from the coating liquid A (B) to the coating liquid B (A) are performed. In particular, in this embodiment, as will be described in detail later, the CPU 91 functions as a filling determination unit 911 that determines whether or not the flow path 210 of the slit nozzle 2 is filled with the coating liquid, and the flow path A function as a mode switching unit 912 that switches processing contents based on the filling determination result is provided. Hereinafter, the coating liquid supply operation and the coating operation performed by the coating apparatus 1 will be described with reference to FIGS. 5A to 5F. Here, in order to facilitate understanding of the features of the invention, an example of main operations executed when switching from the first coating process with the coating liquid A to the second coating process with the coating liquid B is shown in FIG. 5A. To FIG. 5F and described. Further, (CL) and (OP) in these drawings and FIGS. 7A to 7F described later indicate the closing and opening of the valve 12, respectively.

ステージ４の保持面４１に基板３が搬入されると、制御部９は真空吸着口により基板３を吸着させた後、リニアモータ５４を制御することによりスリットノズル２を吐出開始位置に移動させる。ここで、吐出開始位置とは、基板３の表面３１に塗布液を塗布すべき塗布領域の一辺にスリットノズル２がほぼ沿う位置である。   When the substrate 3 is carried into the holding surface 41 of the stage 4, the controller 9 moves the slit nozzle 2 to the discharge start position by controlling the linear motor 54 after sucking the substrate 3 through the vacuum suction port. Here, the discharge start position is a position where the slit nozzle 2 is substantially along one side of the application region where the application liquid is to be applied to the surface 31 of the substrate 3.

スリットノズル２が吐出開始位置まで移動すると、制御部９が制御信号をリニアモータ５４に与える。その制御信号に基づいて、リニアモータ５４がブリッジ構造のノズル支持体５１をＹ方向に移動させることでスリットノズル２が基板３の表面３１を走査する。このスリットノズル２の走査と並行して、制御部９は供給機構１０の各部に制御信号を与え、この制御信号に応じて供給機構１０のポンプ１０２Ａを駆動する。この時点では、三方弁１０４が供給配管１０５の一方端部を配管１０３Ａに接続する状態に切り替えられるとともに三方弁１０６が供給配管１０５への窒素ガスの流入を阻止して供給配管１０５を介しての塗布液の送液が可能な状態に切り替えられている。また、図５Ａに示すように、排出用バルブ１２が閉成された状態で供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２１０に塗布液Ａが充填されている。そのため、ポンプ１０２Ａの駆動によって供給部１０１Ａのタンク（図示省略）から塗布液Ａが配管１０３Ａ、三方弁１０４、１０６および供給配管１０５を介してスリットノズル２に向けて圧送され、スリットノズル２の吐出口２３から基板３の表面３１に向けて吐出される。なお、制御部９は、スリットノズル２から吐出される塗布液の流量を調整して表面３１上に形成される塗布膜が所望膜厚を有するように、供給機構１０を制御する。具体的には、ポンプ１０２Ａの駆動速度を制御する。この点については、後の実施形態においても同様である。   When the slit nozzle 2 moves to the discharge start position, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54. Based on the control signal, the linear motor 54 moves the nozzle support 51 having a bridge structure in the Y direction, so that the slit nozzle 2 scans the surface 31 of the substrate 3. In parallel with the scanning of the slit nozzle 2, the control unit 9 gives a control signal to each part of the supply mechanism 10, and drives the pump 102A of the supply mechanism 10 according to the control signal. At this time, the three-way valve 104 is switched to a state in which one end of the supply pipe 105 is connected to the pipe 103A, and the three-way valve 106 prevents the inflow of nitrogen gas into the supply pipe 105 and passes through the supply pipe 105. The state is switched to a state where the coating liquid can be fed. Further, as shown in FIG. 5A, the application liquid A is filled in the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2 with the discharge valve 12 closed. Therefore, the application liquid A is pumped from the tank (not shown) of the supply unit 101A to the slit nozzle 2 through the pipe 103A, the three-way valves 104 and 106, and the supply pipe 105 by driving the pump 102A. The liquid is discharged from the outlet 23 toward the surface 31 of the substrate 3. The controller 9 controls the supply mechanism 10 so that the coating film formed on the surface 31 has a desired film thickness by adjusting the flow rate of the coating liquid discharged from the slit nozzle 2. Specifically, the drive speed of the pump 102A is controlled. This is the same in the later embodiments.

以上のような動作により、スリットノズル２が塗布領域に塗布液を吐出し、基板３の表面３１上に塗布液の層（薄膜）が形成される。すなわち、スリットノズル２による第１の塗布処理が行われる。そして、スリットノズル２が塗布領域の終端位置の直上位置まで移動すると、制御部９はポンプ１０２Ａの駆動を停止させて第１の塗布処理を終了させる。ここで、塗布液を「塗布液Ａ」から「塗布液Ｂ」に切り替えて第２の塗布処理を続ける場合には、以下の処理を実行して供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２１０に塗布液Ｂを充填する。   By the operation as described above, the slit nozzle 2 discharges the coating solution to the coating region, and a layer (thin film) of the coating solution is formed on the surface 31 of the substrate 3. That is, the first coating process by the slit nozzle 2 is performed. Then, when the slit nozzle 2 moves to a position immediately above the end position of the application region, the control unit 9 stops driving the pump 102A and ends the first application process. Here, when the coating liquid is switched from “Coating liquid A” to “Coating liquid B” and the second coating process is continued, the following process is performed to the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2. Fill coating liquid B.

まず、制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて塗布液Ａ専用の回収ポット７Ａの上方位置に移動させ、停止させる（図５Ｂ参照）。これに続いて、制御部９は、三方弁１０４の接続状態および排出用バルブ１２の閉成状態を維持したまま、配管１０７が供給配管１０５と接続されるように三方弁１０６を制御する。すると、窒素ガス供給源から圧送されてくる窒素ガスが配管１０７および三方弁１０６を介して供給配管１０５の中間部（三方弁１０６が介設された位置）に供給され、当該中間部よりスリットノズル２側に向けて送り込まれる。これにより、供給配管１０５の一部（中間部と他方端部との間の管内空間）およびスリットノズル２の流路２３に残留している塗布液Ａがスリットノズル２の吐出口２３から回収ポット７Ａに向けて吐出され、回収される。この回収処理が進むにしたがって上記中間部から吐出口２３までの流通空間（以下「置換対象空間」という）内で塗布液Ａから窒素ガスへの置換が進行する（第１置換処理）。そして、置換対象空間が完全に窒素ガスに置換されることで、置換対象空間に残留していた塗布液Ａの全部が効率的に回収ポット７Ａに回収される。なお、こうして回収された塗布液Ａは再利用に供される。   First, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction, moves it to a position above the collection pot 7A dedicated for the coating liquid A, and stops it (see FIG. 5B). Subsequently, the control unit 9 controls the three-way valve 106 so that the pipe 107 is connected to the supply pipe 105 while the connection state of the three-way valve 104 and the closed state of the discharge valve 12 are maintained. Then, the nitrogen gas pumped from the nitrogen gas supply source is supplied to the intermediate part of the supply pipe 105 via the pipe 107 and the three-way valve 106 (position where the three-way valve 106 is provided), and the slit nozzle is supplied from the intermediate part. It is sent toward the 2 side. As a result, a part of the supply pipe 105 (inside pipe space between the intermediate part and the other end part) and the coating liquid A remaining in the flow path 23 of the slit nozzle 2 are collected from the discharge port 23 of the slit nozzle 2 through the recovery pot. It is discharged toward 7A and collected. As this recovery process proceeds, replacement of the coating liquid A with nitrogen gas proceeds in a flow space (hereinafter referred to as “replacement target space”) from the intermediate portion to the discharge port 23 (first replacement process). Then, by completely replacing the replacement target space with nitrogen gas, all of the coating liquid A remaining in the replacement target space is efficiently recovered in the recovery pot 7A. The coating liquid A collected in this way is used for reuse.

ここで、供給配管１０５では、図５Ｂに示すように、一方端部と中間部との間、つまり供給配管１０５のうち三方弁１０４、１０６で挟まれた管内空間（以下「残留空間」という）には塗布液Ａが残留したままである。そこで、本実施形態では、制御部９は装置各部を制御して塗布液Ｂと窒素ガスとを用いた共洗い処理を実行して供給配管１０５から当該残留塗布液Ａを回収する。この共洗い処理は、図５Ｃで示すステップと図５Ｄで示すステップとを実行するものである。すなわち、制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて封止部６の上方位置に移動した後で、制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を下方に移動させる。これによって、スリットノズル２の下端部が弾性板６１２に押し付けられて吐出口２３が封止される。また、制御部９は、三方弁１０４、１０６および排出用バルブ１２の切替を行う。より具体的には、三方弁１０４は供給配管１０５の一方端部を配管１０３Ｂに接続する状態に切り替えられるとともに三方弁１０６は供給配管１０５への窒素ガスの流入を阻止する状態に切り替えられる。これによって、供給部１０１Ｂが配管１０３Ｂ、三方弁１０４、１０６および供給配管１０５を介してスリットノズル２と接続される。また、排出用バルブ１２は開成状態に切り替えられ、スリットノズル２の排出口２４から気体および流路２１０からオーバーフローする塗布液を排出配管１１を介してノズル外部に排出可能となる。   Here, in the supply pipe 105, as shown in FIG. 5B, a pipe space (hereinafter referred to as “residual space”) between one end and an intermediate part, that is, between the three-way valves 104 and 106 in the supply pipe 105. In this case, the coating liquid A remains. Therefore, in this embodiment, the control unit 9 controls each part of the apparatus to perform a co-washing process using the coating liquid B and nitrogen gas, and collects the residual coating liquid A from the supply pipe 105. This washing process executes the steps shown in FIG. 5C and the steps shown in FIG. 5D. That is, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction to move to a position above the sealing unit 6, and then gives a control signal to the lifting mechanism 51b to support the nozzle. The body 51 is moved downward. As a result, the lower end portion of the slit nozzle 2 is pressed against the elastic plate 612 and the discharge port 23 is sealed. The control unit 9 switches the three-way valves 104 and 106 and the discharge valve 12. More specifically, the three-way valve 104 is switched to a state where one end of the supply pipe 105 is connected to the pipe 103B, and the three-way valve 106 is switched to a state where nitrogen gas is prevented from flowing into the supply pipe 105. Thus, the supply unit 101B is connected to the slit nozzle 2 via the pipe 103B, the three-way valves 104 and 106, and the supply pipe 105. Further, the discharge valve 12 is switched to the open state, and the gas and the coating liquid overflowing from the flow path 210 can be discharged outside the nozzle through the discharge pipe 11 from the discharge port 24 of the slit nozzle 2.

この状態で、制御部９は制御信号をポンプ１０２Ｂを与えて駆動する。これによって、供給部１０１Ｂのタンク（図示省略）から塗布液Ｂが配管１０３Ｂから圧送される。こうして圧送される塗布液Ｂは、図５Ｃに示すように、上記残留空間に残留している残留塗布液Ａと混合されて混合液を形成するとともに供給配管１０５内に存在している窒素ガスをスリットノズル２側に押し遣る。一方、スリットノズル２の吐出口２３は封止されているため、塗布液Ｂの送液に伴い流路２１０内の圧力が高まり、流路２１０に存在する窒素ガスは排出口２４および排出配管１１を介してノズル外部に排出されていくとともに混合液が流路２１０に貯留されていく。そして、供給配管１０５および流路２１０に存在していた窒素ガスが全部ノズル外部に排出されると、混合液がスリットノズル２からオーバーフローして排出配管１１に流出する。すると、センサ１３が当該混合液を検知し、その検知信号を制御部９に与える。これを受けて制御部９は、流路２１０が混合液（さらには塗布液Ｂ）で充填されたと判定する。こうした流路２１０への塗布液Ｂの充填判定は制御部９の充填判定部９１１により行われる。なお、この実施形態では、センサ１３によるセンシングによって充填判定を行っているが、塗布液の供給量に基づいて行ってもよく、この場合、センサ１３は不要となる。   In this state, the control unit 9 drives the pump 102B with a control signal. As a result, the coating liquid B is pumped from the pipe 103B from a tank (not shown) of the supply unit 101B. As shown in FIG. 5C, the coating liquid B thus pumped is mixed with the residual coating liquid A remaining in the residual space to form a mixed liquid, and the nitrogen gas present in the supply pipe 105 is removed. Push to the slit nozzle 2 side. On the other hand, since the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is sealed, the pressure in the flow path 210 increases as the coating liquid B is fed, and the nitrogen gas present in the flow path 210 is discharged from the discharge port 24 and the discharge pipe 11. Then, the liquid mixture is discharged to the outside of the nozzle and stored in the flow path 210. When all of the nitrogen gas present in the supply pipe 105 and the flow path 210 is discharged outside the nozzle, the mixed liquid overflows from the slit nozzle 2 and flows out to the discharge pipe 11. Then, the sensor 13 detects the liquid mixture and gives a detection signal to the control unit 9. In response to this, the control unit 9 determines that the flow path 210 is filled with the mixed liquid (or the coating liquid B). The filling determination of the coating liquid B into the flow path 210 is performed by the filling determination unit 911 of the control unit 9. In this embodiment, the filling determination is performed by sensing by the sensor 13, but it may be performed based on the supply amount of the coating liquid. In this case, the sensor 13 is not necessary.

流路２１０の充填が判定されると、制御部９はポンプ１０２Ｂの駆動を停止して塗布液Ｂの供給を中断する。また、制御部９は制御信号を排出用バルブ１２に与えて閉成させる。これによって混合液のノズル外部への排出が停止される。こうして、混合液が流路２１０に確実にトラップされる。   When the filling of the flow path 210 is determined, the control unit 9 stops the driving of the pump 102B and interrupts the supply of the coating liquid B. Moreover, the control part 9 gives a control signal to the valve | bulb 12 for discharge | emission, and makes it close. This stops the discharge of the mixed liquid to the outside of the nozzle. Thus, the mixed liquid is reliably trapped in the flow path 210.

次に、制御部９は制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を上方に移動させる。これによって、スリットノズル２の下端部が弾性板６１２から上方に離れ、封止状態が解除される。なお、この段階では、塗布液および窒素ガスのいずれも送られておらず、しかも排出用バルブ１２も閉成されている。このため、流路２１０に貯留されている混合液に対して吐出口２３を介して大気圧が作用し、吐出口２３からの混合液の流出が規制されている。この状態のままスリットノズル２を回収ポット７Ｃの上方に移動させて廃液処理を行うために、制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて回収ポット７Ｃの上方位置に移動させ、停止させる（図５Ｄ参照）。これに続いて、制御部９は、三方弁１０４の接続状態および排出用バルブ１２の閉成状態を維持したまま、配管１０７が供給配管１０５と接続されるように三方弁１０６を制御する。これによって、塗布液Ａの回収ポット７Ａへの回収処理と同様に、窒素ガスが配管１０７および三方弁１０６を介して供給配管１０５の中間部（三方弁１０６が介設された位置）に供給され、当該中間部よりスリットノズル２側に向けて送り込まれる。これにより、供給配管１０５の一部（中間部と他方端部との間の管内空間）およびスリットノズル２の流路２３に残留している混合液がスリットノズル２の吐出口２３から回収ポット７Ｃに向けて吐出され、回収廃液される。こうした廃液処理は少なくとも混合液の全部を取り出すのに必要な時間だけ継続され、その時間は塗布液Ａ、Ｂの成分や濃度などを考慮して予め設定することができる。なお、本実施形態では、制御部９は、混合液のみならず既に供給配管１０５に送り込まれた塗布液Ｂ（図５Ｄ中の破線矢印）についても全量、回収ポット７Ｃに回収しているが、塗布液Ｂの一部を残存させた状態で窒素ガスの供給を停止してもよい。   Next, the control part 9 gives a control signal to the raising / lowering mechanism 51b, and moves the nozzle support body 51 upward. Thereby, the lower end part of the slit nozzle 2 leaves | separates upward from the elastic board 612, and a sealing state is cancelled | released. At this stage, neither the coating liquid nor nitrogen gas is sent, and the discharge valve 12 is closed. For this reason, atmospheric pressure acts on the mixed liquid stored in the flow path 210 via the discharge port 23, and the outflow of the mixed liquid from the discharge port 23 is restricted. In this state, in order to move the slit nozzle 2 above the recovery pot 7C to perform waste liquid treatment, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54 and moves the nozzle support 51 in the Y direction to recover the recovery pot. It is moved to a position above 7C and stopped (see FIG. 5D). Subsequently, the control unit 9 controls the three-way valve 106 so that the pipe 107 is connected to the supply pipe 105 while the connection state of the three-way valve 104 and the closed state of the discharge valve 12 are maintained. As a result, similarly to the recovery process of the coating liquid A to the recovery pot 7A, nitrogen gas is supplied to the intermediate portion of the supply pipe 105 (position where the three-way valve 106 is interposed) via the pipe 107 and the three-way valve 106. Then, it is fed from the intermediate part toward the slit nozzle 2 side. Thereby, a part of the supply pipe 105 (intra-pipe space between the intermediate part and the other end part) and the mixed liquid remaining in the flow path 23 of the slit nozzle 2 are collected from the discharge port 23 of the slit nozzle 2 to the recovery pot 7C. It is discharged toward the wastewater and is collected and drained. Such waste liquid treatment is continued for at least the time necessary to take out the entire liquid mixture, and the time can be set in advance in consideration of the components and concentrations of the coating liquids A and B. In the present embodiment, the control unit 9 collects not only the mixed solution but also the coating solution B (broken arrows in FIG. 5D) already fed into the supply pipe 105 in the collection pot 7C. The supply of nitrogen gas may be stopped with a part of the coating liquid B remaining.

上記のようにして共洗い処理が完了すると、制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて封止部６の上方位置に移動した後で、制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を下方に移動させる。これによって、スリットノズル２の下端部が弾性板６１２に押し付けられて吐出口２３が封止される（図５Ｅ参照）。また、制御部９は、三方弁１０４、１０６の接続状態を維持したまま排出用バルブ１２を開成するとともに、制御信号をポンプ１０２Ｂを与えて駆動する。これによって、供給部１０１Ｂのタンク（図示省略）から塗布液Ｂが配管１０３Ｂ、三方弁１０４、１０６を介して供給配管１０５に圧送される。こうして圧送される塗布液Ｂは、図５Ｅに示すように、供給配管１０５内に存在している窒素ガスをスリットノズル２側に押し遣る。一方、スリットノズル２の吐出口２３は封止されているため、塗布液Ｂの送液に伴い流路２１０内の圧力が高まり、流路２１０に存在する窒素ガスは排出口２４および排出配管１１を介してノズル外部に排出されていくとともに塗布液Ｂが流路２１０に貯留されていく。こうして、供給配管１０５および流路２１０に存在する窒素ガスが塗布液Ｂに置換される（第２置換処理）。   When the co-washing process is completed as described above, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction and moves to the position above the sealing unit 6, and then performs control. A signal is given to the elevating mechanism 51b, and the nozzle support 51 is moved downward. As a result, the lower end portion of the slit nozzle 2 is pressed against the elastic plate 612 to seal the discharge port 23 (see FIG. 5E). The control unit 9 opens the discharge valve 12 while maintaining the connection state of the three-way valves 104 and 106, and drives the control signal by supplying the pump 102B. As a result, the coating liquid B is pumped from the tank (not shown) of the supply unit 101B to the supply pipe 105 via the pipe 103B and the three-way valves 104 and 106. The coating liquid B thus pumped pushes nitrogen gas present in the supply pipe 105 toward the slit nozzle 2 as shown in FIG. 5E. On the other hand, since the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is sealed, the pressure in the flow path 210 increases as the coating liquid B is fed, and the nitrogen gas present in the flow path 210 is discharged from the discharge port 24 and the discharge pipe 11. The coating liquid B is stored in the flow path 210 while being discharged to the outside of the nozzle. Thus, the nitrogen gas present in the supply pipe 105 and the flow path 210 is replaced with the coating liquid B (second replacement process).

塗布液Ｂの圧送をさらに継続して行っている間に、塗布液Ｂがスリットノズル２からオーバーフローして排出配管１１に流出する。すると、センサ１３が当該塗布液Ｂを検知し、その検知信号を制御部９に与える。これを受けて制御部９は流路２１０が塗布液で充填されたと判定する。こうした流路２１０の充填判定は制御部９の充填判定部９１１により行われる。なお、この実施形態では、センサ１３によるセンシングによって充填判定を行っているが、塗布液の供給量に基づいて行ってもよく、この場合、センサ１３は不要となる。これらの点については、後の実施形態においても同様である。   While the pressure feeding of the coating liquid B is further continued, the coating liquid B overflows from the slit nozzle 2 and flows out to the discharge pipe 11. Then, the sensor 13 detects the coating liquid B and gives a detection signal to the control unit 9. In response to this, the controller 9 determines that the flow path 210 is filled with the coating liquid. Such filling determination of the flow path 210 is performed by the filling determination unit 911 of the control unit 9. In this embodiment, the filling determination is performed by sensing by the sensor 13, but it may be performed based on the supply amount of the coating liquid. In this case, the sensor 13 is not necessary. These points are the same in the later embodiments.

流路２１０の充填が判定されると、図５Ｆに示すように、制御部９はポンプ１０２Ｂの駆動を停止して塗布液Ｂの供給を停止するとともに制御信号を排出用バルブ１２に与えて閉成させる。これによって供給配管１０５および流路２１０に気体成分を存在させることなく、次の塗布処理に用いられる塗布液Ｂで充填させることができ、基板３の表面３１に塗布液Ｂを吐出して塗布膜を形成する処理（第２の塗布処理）の準備が完了する。その後の適当なタイミングで、制御部９が制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を上方に移動させ、さらに制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて吐出開始位置に移動させる。そして、塗布液Ａによる第１の塗布処理と同様にして、第２の塗布処理が実行される。   When it is determined that the flow path 210 is filled, as shown in FIG. 5F, the control unit 9 stops the driving of the pump 102B to stop the supply of the coating liquid B, and gives a control signal to the discharge valve 12 to close it. Make it happen. As a result, the supply pipe 105 and the flow path 210 can be filled with the coating liquid B used in the next coating process without causing a gas component to exist, and the coating liquid B is discharged onto the surface 31 of the substrate 3 to form a coating film. The preparation for the process for forming (second coating process) is completed. At an appropriate timing thereafter, the control unit 9 gives a control signal to the lifting mechanism 51b, moves the nozzle support 51 upward, further gives a control signal to the linear motor 54, and moves the nozzle support 51 in the Y direction. To move to the discharge start position. Then, the second coating process is executed in the same manner as the first coating process with the coating liquid A.

なお、塗布液Ｂを塗布液Ａに切り替えて塗布処理を行う場合も、上記したと同様にして、塗布液Ｂから塗布液Ａへの切替を行うことができる。   Even when the coating liquid B is switched to the coating liquid A and the coating process is performed, the switching from the coating liquid B to the coating liquid A can be performed in the same manner as described above.

以上のように、本実施形態では、１本のスリットノズル２で２種類の塗布液Ａ、Ｂを選択的に吐出することができるため、塗布液毎に専用のスリットノズルを用いて塗布処理を行う塗布装置に比べ、装置コストを低減することができる。   As described above, in the present embodiment, two types of coating liquids A and B can be selectively ejected with one slit nozzle 2, so that the coating process is performed using a dedicated slit nozzle for each coating liquid. Compared with the coating apparatus to perform, apparatus cost can be reduced.

また、本実施形態では、スリットノズル２の吐出口２３を封止可能な弾性板６１２が設けられており、当該弾性板６１２により吐出口２３を封止するが可能となっている。そして、当該吐出口２３を封止した状態でスリットノズル２に塗布液を供給して流路２１０に貯留させる。したがって、その貯留中に吐出口２３から塗布液が無駄に流出するのを確実に阻止することができる。その結果、塗布処理に要するランニングコストの低減を図ることができる。   In this embodiment, an elastic plate 612 that can seal the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is provided, and the discharge port 23 can be sealed by the elastic plate 612. Then, the coating liquid is supplied to the slit nozzle 2 in a state where the discharge port 23 is sealed and stored in the flow path 210. Therefore, it is possible to reliably prevent the coating liquid from flowing out from the discharge port 23 during the storage. As a result, the running cost required for the coating process can be reduced.

また、上記実施形態では、塗布液Ａから塗布液Ｂへの切替時に、図５Ｂに示すように供給配管１０５および流路２１０に残存する塗布液Ａの全量を回収ポット７Ａに回収して再利用に供することができる。また、塗布液Ｂから塗布液Ａへの切替時も同様である。そのため、塗布液の消費量を抑制し、ランニングコストをさらに低減させることができる。   In the above embodiment, when switching from the coating liquid A to the coating liquid B, as shown in FIG. 5B, the entire amount of the coating liquid A remaining in the supply pipe 105 and the flow path 210 is recovered in the recovery pot 7A and reused. Can be used. The same applies to switching from the coating liquid B to the coating liquid A. Therefore, the consumption of the coating liquid can be suppressed and the running cost can be further reduced.

また、上記実施形態では、塗布液の切替時に、供給配管１０５のうち三方弁１０４、１０６で挟まれた管内空間、つまり残留空間に切替前に使用していた塗布液（図５Ｂに示す実施形態では、塗布液Ａ）が残留し、切替後で使用する塗布液（図５Ｂに示す実施形態では、塗布液Ｂ）の供給時に塗布液が混合されて混合液が発生するが、上記共洗い処理（図５Ｃ、図５Ｄ）を行うことで混合液を効率的に取り除くことができる。なお、共洗い処理では、混合液の発生に伴い塗布液Ａ、Ｂを一定量だけ廃棄する必要があるが、三方弁１０４、１０６の設置間隔を極力縮めることで廃棄量を抑制することができる。また、次に説明する第２実施形態に示すようにリンス液を供給するリンス液供給系を追加することで塗布液の混合を発生させず、塗布液Ａ、Ｂの廃棄を回避することも可能である。   Further, in the above embodiment, when the coating liquid is switched, the coating liquid used before switching to the pipe space sandwiched between the three-way valves 104, 106 in the supply pipe 105, that is, the residual space (the embodiment shown in FIG. 5B). Then, the coating liquid A) remains, and the coating liquid is mixed at the time of supplying the coating liquid to be used after switching (in the embodiment shown in FIG. 5B, the coating liquid B). (FIG. 5C, FIG. 5D) can remove a liquid mixture efficiently. In the co-washing process, it is necessary to discard a certain amount of the coating liquids A and B with the generation of the mixed liquid, but the amount of disposal can be suppressed by reducing the installation interval of the three-way valves 104 and 106 as much as possible. . Further, as shown in a second embodiment described below, it is possible to avoid discarding the coating liquids A and B by adding a rinsing liquid supply system that supplies a rinsing liquid without causing the mixing of the coating liquid. It is.

図７Ａないし図７Ｆは本発明にかかる塗布装置の第２実施形態に装備される供給機構の構成および動作を模式的に示す図である。第２実施形態が第１実施形態と大きく相違する点は、供給配管１０５およびスリットノズル２の内部を洗浄するリンス（洗浄）液を供給するリンス液供給部が設けられている点と、供給配管１０５に対する、塗布液Ａ、Ｂ、窒素ガス等の供給位置である。なお、その他の構成は基本的に第１実施形態（図５Ａ〜図５Ｆ）と同一であるため、同一構成については同一符号を付して構成説明を省略する。   7A to 7F are diagrams schematically showing the configuration and operation of a supply mechanism equipped in the second embodiment of the coating apparatus according to the present invention. The second embodiment is greatly different from the first embodiment in that a rinsing liquid supply unit for supplying a rinsing (cleaning) liquid for cleaning the inside of the supply pipe 105 and the slit nozzle 2 is provided, and a supply pipe. 105 is a supply position of coating liquids A and B, nitrogen gas, and the like. In addition, since the other structure is fundamentally the same as 1st Embodiment (FIG. 5A-FIG. 5F), about the same structure, the same code | symbol is attached | subjected and description of a structure is abbreviate | omitted.

第２実施形態では、例えば図７Ａに示すように、供給配管１０５の一方端部は四方弁１０８、配管１０３Ａ、１０３Ｂ、１１０を介して供給部１０１Ａ、１０１Ｂおよび三方弁１０９と接続されている。また、当該三方弁１０９のうち残る２つのポートには、窒素ガス供給源およびリンス液供給源がそれぞれ接続されている。一方、供給配管１０５の他方端部は、第１実施形態と同様にスリットノズル２の供給口２２を介して流路２１０と接続されている。このため、制御部９からの制御信号に応じて四方弁１０８および三方弁１０９での接続状態を切り替えることで供給配管１０５の接続先が供給部１０１Ａ、１０１Ｂ、窒素ガス供給源（図示省略）およびリンス液供給源（図示省略）の間で切り替えられる。その結果、供給配管１０５の一方端部に対し、塗布液Ａ、塗布液Ｂ、窒素ガスおよびリンス液が選択的に供給され、第２実施形態では残留空間の発生が回避される。なお、例えば純水やＤＩＷ（脱イオン水：deionized water）などをリンス液として用いる場合には、塗布装置１を設置する工場の用力をリンス液供給源として用いることができる。もちろん、塗布装置１にリンス液を貯留したタンクを装備させ、当該タンクからポンプによってリンス液を圧送するユニットをリンス液供給源として用いてもよい。   In the second embodiment, for example, as shown in FIG. 7A, one end of the supply pipe 105 is connected to the supply parts 101A and 101B and the three-way valve 109 via the four-way valve 108 and the pipes 103A, 103B, and 110. The remaining two ports of the three-way valve 109 are connected to a nitrogen gas supply source and a rinse liquid supply source, respectively. On the other hand, the other end of the supply pipe 105 is connected to the flow path 210 through the supply port 22 of the slit nozzle 2 as in the first embodiment. For this reason, the connection destination of the supply piping 105 is changed to the supply units 101A and 101B, the nitrogen gas supply source (not shown), and the connection state of the four-way valve 108 and the three-way valve 109 according to the control signal from the control unit 9 It is switched between rinsing liquid supply sources (not shown). As a result, the coating liquid A, the coating liquid B, the nitrogen gas, and the rinsing liquid are selectively supplied to one end portion of the supply pipe 105, and the occurrence of a residual space is avoided in the second embodiment. In addition, when using pure water, DIW (deionized water: deionized water), etc. as a rinse liquid, for example, the work force of the factory which installs the coating device 1 can be used as a rinse liquid supply source. Of course, a unit that stores the rinsing liquid in the coating apparatus 1 and pumps the rinsing liquid from the tank by a pump may be used as the rinsing liquid supply source.

この第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、ステージ４の保持面４１に基板３が搬入されると、制御部９は真空吸着口により基板３を吸着させた後、リニアモータ５４を制御することによりスリットノズル２を吐出開始位置に移動させる。そして、制御部９が制御信号をリニアモータ５４に与えてスリットノズル２を基板３の表面３１に対して走査させる。このスリットノズル２の走査と並行して、制御部９は供給機構１０の各部に制御信号を与え、この制御信号に応じて供給機構１０のポンプ１０２Ａを駆動する。この時点では、供給配管１０５の一方端部が配管１０３Ａのみに接続される状態に四方弁１０８および三方弁１０９は切り替えられている。また、図７Ａに示すように、排出用バルブ１２が閉成された状態で供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２１０に塗布液Ａが充填されている。そのため、ポンプ１０２Ａの駆動によって供給部１０１Ａのタンク（図示省略）から塗布液Ａが配管１０３Ａ、四方弁１０８および供給配管１０５を介してスリットノズル２に向けて圧送され、スリットノズル２の吐出口２３から基板３の表面３１に向けて吐出される。これにより、基板３の表面３１上に塗布液Ａの層（薄膜）が形成される。そして、スリットノズル２が塗布領域の終端位置の直上位置まで移動すると、制御部９はポンプ１０２Ａの駆動を停止させて第１の塗布処理を終了させる。ここで、塗布液を「塗布液Ａ」から「塗布液Ｂ」に切り替えて第２の塗布処理を続ける場合には、以下の処理を実行して供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２１０に塗布液Ｂを充填する。   Also in the second embodiment, as in the first embodiment, when the substrate 3 is carried into the holding surface 41 of the stage 4, the controller 9 sucks the substrate 3 through the vacuum suction port, and then linear motor 54. Is controlled to move the slit nozzle 2 to the ejection start position. Then, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54 to cause the slit nozzle 2 to scan the surface 31 of the substrate 3. In parallel with the scanning of the slit nozzle 2, the control unit 9 gives a control signal to each part of the supply mechanism 10, and drives the pump 102A of the supply mechanism 10 according to the control signal. At this time, the four-way valve 108 and the three-way valve 109 are switched so that one end of the supply pipe 105 is connected only to the pipe 103A. Further, as shown in FIG. 7A, the coating liquid A is filled in the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2 with the discharge valve 12 closed. Therefore, the coating liquid A is pumped toward the slit nozzle 2 through the pipe 103A, the four-way valve 108, and the supply pipe 105 from the tank (not shown) of the supply unit 101A by driving the pump 102A, and the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is supplied. To the surface 31 of the substrate 3. Thereby, a layer (thin film) of the coating liquid A is formed on the surface 31 of the substrate 3. Then, when the slit nozzle 2 moves to a position immediately above the end position of the application region, the control unit 9 stops driving the pump 102A and ends the first application process. Here, when the coating liquid is switched from “Coating liquid A” to “Coating liquid B” and the second coating process is continued, the following process is performed to the supply pipe 105 and the flow path 210 of the slit nozzle 2. Fill coating liquid B.

制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて塗布液Ａ専用の回収ポット７Ａの上方位置に移動させ、停止させる（図７Ｂ参照）。これに続いて、制御部９は、排出用バルブ１２の閉成状態を維持したまま、供給配管１０５の一方端部が窒素ガス供給部のみに接続される状態に四方弁１０８および三方弁１０９を切り替える。すると、窒素ガス供給源から圧送されてくる窒素ガスが三方弁１０９、配管１１０および四方弁１０８を介して供給配管１０５の一方端部に供給され、供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２３に残留している塗布液Ａがスリットノズル２の吐出口２３から回収ポット７Ａに向けて吐出され、回収される。この回収処理が進むにしたがって供給配管１０５および流路２１０内で塗布液Ａから窒素ガスへの置換が進行する（第１置換処理）。そして、供給配管１０５および流路２１０が完全に窒素ガスに置換されることで、供給配管１０５および流路２１０に残留していた塗布液Ａの全部が効率的に回収ポット７Ａに回収される。なお、こうして回収された塗布液Ａは再利用に供される。   The control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction, moves it to a position above the recovery pot 7A dedicated for the coating liquid A, and stops it (see FIG. 7B). Subsequently, the control unit 9 keeps the four-way valve 108 and the three-way valve 109 in a state where one end of the supply pipe 105 is connected only to the nitrogen gas supply unit while maintaining the closed state of the discharge valve 12. Switch. Then, the nitrogen gas pumped from the nitrogen gas supply source is supplied to one end of the supply pipe 105 through the three-way valve 109, the pipe 110 and the four-way valve 108, and is supplied to the supply pipe 105 and the flow path 23 of the slit nozzle 2. The remaining coating liquid A is discharged from the discharge port 23 of the slit nozzle 2 toward the recovery pot 7A and recovered. As this recovery process proceeds, replacement of the coating liquid A with nitrogen gas proceeds in the supply pipe 105 and the flow path 210 (first replacement process). Then, the supply pipe 105 and the flow path 210 are completely replaced with nitrogen gas, so that all of the coating liquid A remaining in the supply pipe 105 and the flow path 210 is efficiently recovered in the recovery pot 7A. The coating liquid A collected in this way is used for reuse.

次に、窒素ガスに置換された供給配管１０５およびスリットノズル２の内部を洗浄するために、制御部９は装置各部を次のように制御する。制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて回収ポット７Ｃの上方位置に移動させ、停止させる（図７Ｃ照）。これに続いて、制御部９は、排出用バルブ１２の閉成状態を維持したまま、供給配管１０５の一方端部がリンス液供給部のみに接続される状態に四方弁１０８および三方弁１０９を切り替える。すると、リンス液供給源から圧送されてくるリンス液が三方弁１０９、配管１１０および四方弁１０８を介して供給配管１０５の一方端部に供給され、供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２３に残留している窒素ガスがスリットノズル２の吐出口２３から回収ポット７Ｃに向けて吐出され、回収廃棄される。この回収処理が進むにしたがって供給配管１０５および流路２１０内で窒素ガスからリンス液への置換が進行する。これによって、供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２３の内部がリンス液によって洗浄される（リンス処理）。   Next, in order to clean the inside of the supply pipe 105 and the slit nozzle 2 replaced with nitrogen gas, the control unit 9 controls each part of the apparatus as follows. The control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction, moves it to a position above the collection pot 7C, and stops it (see FIG. 7C). Subsequently, the control unit 9 keeps the four-way valve 108 and the three-way valve 109 in a state in which one end of the supply pipe 105 is connected only to the rinse liquid supply unit while maintaining the closed state of the discharge valve 12. Switch. Then, the rinse liquid pumped from the rinse liquid supply source is supplied to one end of the supply pipe 105 through the three-way valve 109, the pipe 110 and the four-way valve 108, and is supplied to the supply pipe 105 and the flow path 23 of the slit nozzle 2. The remaining nitrogen gas is discharged from the discharge port 23 of the slit nozzle 2 toward the recovery pot 7C and is recovered and discarded. As the recovery process proceeds, replacement of nitrogen gas with the rinse liquid proceeds in the supply pipe 105 and the flow path 210. As a result, the inside of the supply pipe 105 and the flow path 23 of the slit nozzle 2 is washed with the rinse liquid (rinsing process).

このリンス処理後、スリットノズル２を回収ポット７Ｃの上方位置に維持するとともに排出用バルブ１２の閉成状態を維持したまま、制御部９は再び供給配管１０５の一方端部が窒素ガス供給部のみに接続される状態に四方弁１０８および三方弁１０９を切り替える。すると、図７Ｄに示すように、窒素ガスが供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２３の内部に存在するリンス液を吐出口２３側に押圧する。これによって、リンス液が
回収ポット７Ｃに回収廃棄されるとともに、供給配管１０５およびスリットノズル２の流路２３の内部が乾燥される。 After the rinsing process, the control unit 9 again has one end of the supply pipe 105 with only the nitrogen gas supply unit while maintaining the slit nozzle 2 at the upper position of the recovery pot 7C and maintaining the closed state of the discharge valve 12. The four-way valve 108 and the three-way valve 109 are switched to a state where they are connected to each other. Then, as shown in FIG. 7D, the nitrogen gas presses the rinsing liquid present inside the supply pipe 105 and the flow path 23 of the slit nozzle 2 toward the discharge port 23. As a result, the rinse liquid is recovered and discarded in the recovery pot 7C, and the inside of the supply pipe 105 and the flow path 23 of the slit nozzle 2 is dried.

この乾燥処理が完了した後、制御部９は制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて封止部６の上方位置に移動した後で、制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を下方に移動させる。これによって、スリットノズル２の下端部が弾性板６１２に押し付けられて吐出口２３が封止される（図７Ｅ参照）。また、制御部９は、排出用バルブ１２を開成するとともに供給配管１０５の一方端部が配管１０３Ｂのみに接続される状態に四方弁１０８および三方弁１０９を切り替える。それに続いて、制御部９は制御信号をポンプ１０２Ｂを与えて駆動する。これによって、供給部１０１Ｂのタンク（図示省略）から塗布液Ｂが配管１０３Ｂ、四方弁１０８を介して供給配管１０５に圧送される。こうして圧送される塗布液Ｂは、図７Ｅに示すように、供給配管１０５内に存在している窒素ガスをスリットノズル２側に押し遣る。一方、スリットノズル２の吐出口２３は封止されているため、塗布液Ｂの送液に伴い流路２１０内の圧力が高まり、流路２１０に存在する窒素ガスは排出口２４および排出配管１１を介してノズル外部に排出されていくとともに塗布液Ｂが流路２１０に貯留されていく。こうして、供給配管１０５および流路２１０に存在する窒素ガスが塗布液Ｂに置換される（第２置換処理）。   After this drying process is completed, the control unit 9 gives a control signal to the linear motor 54, moves the nozzle support 51 in the Y direction and moves it to a position above the sealing unit 6, and then sends the control signal to the lifting mechanism. 51b, and the nozzle support 51 is moved downward. As a result, the lower end portion of the slit nozzle 2 is pressed against the elastic plate 612 to seal the discharge port 23 (see FIG. 7E). The control unit 9 opens the discharge valve 12 and switches the four-way valve 108 and the three-way valve 109 so that one end of the supply pipe 105 is connected only to the pipe 103B. Subsequently, the control unit 9 drives the pump 102B with a control signal. As a result, the coating liquid B is pumped from the tank (not shown) of the supply unit 101B to the supply pipe 105 via the pipe 103B and the four-way valve 108. The coating liquid B thus pumped pushes nitrogen gas present in the supply pipe 105 toward the slit nozzle 2 as shown in FIG. 7E. On the other hand, since the discharge port 23 of the slit nozzle 2 is sealed, the pressure in the flow path 210 increases as the coating liquid B is fed, and the nitrogen gas present in the flow path 210 is discharged from the discharge port 24 and the discharge pipe 11. The coating liquid B is stored in the flow path 210 while being discharged to the outside of the nozzle. Thus, the nitrogen gas present in the supply pipe 105 and the flow path 210 is replaced with the coating liquid B (second replacement process).

塗布液Ｂの圧送をさらに継続して行っている間に、塗布液Ｂがスリットノズル２からオーバーフローして排出配管１１に流出する。すると、センサ１３が当該塗布液Ｂを検知し、その検知信号を制御部９に与える。これを受けて制御部９は流路２１０が塗布液で充填されたと判定する。こうした流路２１０の充填判定は制御部９の充填判定部９１１により行われる。   While the pressure feeding of the coating liquid B is further continued, the coating liquid B overflows from the slit nozzle 2 and flows out to the discharge pipe 11. Then, the sensor 13 detects the coating liquid B and gives a detection signal to the control unit 9. In response to this, the controller 9 determines that the flow path 210 is filled with the coating liquid. Such filling determination of the flow path 210 is performed by the filling determination unit 911 of the control unit 9.

流路２１０の充填が判定されると、図７Ｆに示すように、制御部９はポンプ１０２Ｂの駆動を停止して塗布液Ｂの供給を停止するとともに制御信号を排出用バルブ１２に与えて閉成させる。これによって供給配管１０５および流路２１０に気体成分を存在させることなく、次の塗布処理に用いられる塗布液Ｂで充填させることができ、基板３の表面３１に塗布液Ｂを吐出して塗布膜を形成する処理（第２の塗布処理）の準備が完了する。その後の適当なタイミングで、制御部９が制御信号を昇降機構５１ｂに与え、ノズル支持体５１を上方に移動させ、さらに制御信号をリニアモータ５４に与え、ノズル支持体５１をＹ方向に移動させて吐出開始位置に移動させる。塗布液Ａによる第１の塗布処理と同様にして、第２の塗布処理が実行される。   When it is determined that the flow path 210 is filled, as shown in FIG. 7F, the control unit 9 stops the driving of the pump 102B to stop the supply of the coating liquid B, and gives a control signal to the discharge valve 12 to close it. Make it happen. As a result, the supply pipe 105 and the flow path 210 can be filled with the coating liquid B used in the next coating process without causing a gas component to exist, and the coating liquid B is discharged onto the surface 31 of the substrate 3 to form a coating film. The preparation for the process for forming (second coating process) is completed. At an appropriate timing thereafter, the control unit 9 gives a control signal to the lifting mechanism 51b, moves the nozzle support 51 upward, further gives a control signal to the linear motor 54, and moves the nozzle support 51 in the Y direction. To move to the discharge start position. The second coating process is executed in the same manner as the first coating process with the coating liquid A.

なお、塗布液Ｂを塗布液Ａに切り替えて塗布処理を行う場合も、上記したと同様にして、塗布液Ｂから塗布液Ａへの切替を行うことができる。   Even when the coating liquid B is switched to the coating liquid A and the coating process is performed, the switching from the coating liquid B to the coating liquid A can be performed in the same manner as described above.

以上のように、第２実施形態では、第１実施形態と同様の作用効果が得られるのみならず、次の作用効果が奏せられる。つまり、第２実施形態では混合液を発生させることなく、塗布液Ａ（Ｂ）から塗布液Ｂ（Ａ）の切替を行うことができる。そのため、混合液の発生に伴う塗布液Ａ、Ｂの廃棄はなくなり、ランニングコストを高めることができる。また、塗布液Ａ、Ｂの組み合わせによっては混合することで析出物やガスなどが発生することがあり、このような組み合わせでは実質的に第１実施形態を採用することができないことがある。これに対し、第２実施形態では常に供給配管１０５および流路２１０に存在する塗布液を窒素ガスで押し出しているため、塗布液の組み合わせを問わず、使用することができる。よって、第２実施形態にかかる塗布装置１は高い汎用性を有するといえる。   As described above, in the second embodiment, not only the same functions and effects as in the first embodiment are obtained, but also the following functions and effects are exhibited. That is, in the second embodiment, the coating liquid A (B) can be switched to the coating liquid B (A) without generating a mixed liquid. Therefore, the disposal of the coating liquids A and B accompanying the generation of the mixed liquid is eliminated, and the running cost can be increased. In addition, depending on the combination of the coating liquids A and B, there are cases where precipitates, gases, and the like are generated by mixing. In such a combination, the first embodiment may not be substantially adopted. On the other hand, in the second embodiment, since the coating liquid existing in the supply pipe 105 and the flow path 210 is always pushed out with nitrogen gas, it can be used regardless of the combination of the coating liquid. Therefore, it can be said that the coating apparatus 1 according to the second embodiment has high versatility.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、１つのスリットノズル２に対し、２種類の塗布液Ａ、Ｂを選択的に供給して塗布液Ａの塗布膜および塗布液Ｂの塗布膜を形成しているが、３種類以上の塗布液を選択的に供給して塗布する塗布装置にも本発明を適用可能である。つまり、塗布液毎に、供給部および専用の回収ポットを設けることで複数種の塗布液を使用することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, two types of coating liquids A and B are selectively supplied to one slit nozzle 2 to form a coating film of the coating liquid A and a coating film of the coating liquid B. The present invention can also be applied to a coating apparatus that selectively supplies and applies three or more types of coating solutions. That is, a plurality of types of coating liquids can be used by providing a supply unit and a dedicated collection pot for each coating liquid.

また、上記実施形態では、複数の塗布液を切り替えながらスリットノズル２から塗布液を吐出する塗布装置に本発明を適用しているが、スリットノズル２から１種類の塗布液を吐出させる塗布装置に対しても本発明を適用することができる。つまり、スリットノズル２の流路に塗布液を供給して貯留させる時に吐出口２３を弾性板６１２で封止しておくことで吐出口２３から塗布液の漏れを確実に防止することができる。その結果、ランニングコストを効果的に抑えることができる。   In the above embodiment, the present invention is applied to a coating apparatus that discharges a coating liquid from the slit nozzle 2 while switching a plurality of coating liquids. However, the present invention is applied to a coating apparatus that discharges one type of coating liquid from the slit nozzle 2. The present invention can also be applied to this. That is, when the application liquid is supplied to the flow path of the slit nozzle 2 and stored, the discharge port 23 is sealed with the elastic plate 612, whereby leakage of the application liquid from the discharge port 23 can be reliably prevented. As a result, the running cost can be effectively suppressed.

また、上記実施形態では、封止部材６１はベース板６１１の上面に弾性板６１２を取り付けた構造を有しているが、封止部材６１の構造はこれに限定されるものではない。例えば、ブロック状の弾性体を封止部材６１として用いてもよい。また、封止部材６１の表面（上記実施形態では、弾性板６１２の表面）を平面形状に仕上げているが、吐出口２３を封止することができる限り、如何なる形状に仕上げてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the sealing member 61 has the structure which attached the elastic board 612 to the upper surface of the base board 611, the structure of the sealing member 61 is not limited to this. For example, a block-like elastic body may be used as the sealing member 61. Further, the surface of the sealing member 61 (in the above embodiment, the surface of the elastic plate 612) is finished in a flat shape, but may be finished in any shape as long as the discharge port 23 can be sealed.

また、上記実施形態では、スリットノズル２を用いて塗布液を塗布する塗布装置に本発明を適用しているが、ノズルはスリットタイプに限定されるものではなく、従来より周知のノズルを用いた塗布装置全般に適用可能である。   Moreover, in the said embodiment, although this invention is applied to the coating device which apply | coats a coating liquid using the slit nozzle 2, a nozzle is not limited to a slit type, The conventionally well-known nozzle was used. Applicable to all coating equipment.

また、上記実施形態では、封止部材６１を固定配置する一方で、リニアモータ５４および昇降機構５１ｂを制御部９により制御することでスリットノズル２を移動させて「貯留モード」と「吐出モード」とを選択的に切り替えている。この「貯留モード」とは、スリットノズル２の下端部を弾性板６１２に押し付けた状態でスリットノズル２の流路２１０に塗布液を貯留する動作態様を意味しており、本発明の「貯留工程」の一例に相当している。また、「吐出モード」とは、スリットノズル２の下端部を弾性板６１２から離間させた状態で吐出口２３から塗布液を吐出する動作態様を意味しており、本発明の「吐出工程」の一例に相当している。これら「貯留モード」、「吐出モード」の切替については、封止部材６１の移動によって行ってもよい。要は、スリットノズル２および封止部材６１のうちの少なくとも一方を移動させて上記切替を行えばよい。   Moreover, in the said embodiment, while the sealing member 61 is fixedly arranged, the slit nozzle 2 is moved by controlling the linear motor 54 and the raising / lowering mechanism 51b by the control part 9, and "storage mode" and "discharge mode" are carried out. And are selectively switched. The “storage mode” means an operation mode in which the coating liquid is stored in the flow path 210 of the slit nozzle 2 in a state where the lower end portion of the slit nozzle 2 is pressed against the elastic plate 612. Is equivalent to an example. The “discharge mode” means an operation mode in which the coating liquid is discharged from the discharge port 23 in a state where the lower end portion of the slit nozzle 2 is separated from the elastic plate 612. It corresponds to an example. Switching between these “storage mode” and “discharge mode” may be performed by moving the sealing member 61. In short, the switching may be performed by moving at least one of the slit nozzle 2 and the sealing member 61.

以上説明したように、上記実施形態においては、供給部１０１Ａ、１０１Ｂが本発明の「塗布液供給部」の一例に相当している。また、窒素ガス供給源および配管１０７が本発明の「気体供給部」の一例に相当している。また、塗布液Ａ、Ｂがそれぞれ本発明の「第１の塗布液」および「第２の塗布液」の一例に相当している。また、スリットノズル移動部５３および昇降機構５１ｂが本発明の「移動機構部」の一例に相当している。また、排出口２４が本発明の「気体抜き孔」の一例に相当している。また、センサ１３は本発明の「検知部」の一例に相当している。   As described above, in the above embodiment, the supply units 101A and 101B correspond to an example of the “coating liquid supply unit” of the present invention. Further, the nitrogen gas supply source and the pipe 107 correspond to an example of the “gas supply unit” of the present invention. Further, the coating liquids A and B correspond to examples of the “first coating liquid” and the “second coating liquid” of the present invention, respectively. Further, the slit nozzle moving part 53 and the lifting mechanism 51b correspond to an example of the “moving mechanism part” of the present invention. The discharge port 24 corresponds to an example of the “gas vent hole” in the present invention. The sensor 13 corresponds to an example of the “detection unit” of the present invention.

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明は、例えば制御部が、貯留モードで流路に塗布液を充填させた後で、吐出モードに切り替えるとともに塗布液供給部により塗布液を供給して吐出口から基板に向けて吐出させるように構成してもよい。   As described above, the present invention has been described by exemplifying specific embodiments. For example, the control unit can switch to the discharge mode and then apply the coating liquid supply unit after filling the flow path with the coating liquid in the storage mode. Alternatively, the coating liquid may be supplied and discharged from the discharge port toward the substrate.

また、ノズルの流路に気体を供給する気体供給部と、塗布液と気体とをノズルの流路に流通させる供給配管と、を備え、塗布液供給部が、互いに異なる第１の塗布液と第２の塗布液を供給配管を介して供給可能となるように構成し、制御部が供給配管および流路内に第１の塗布液が存在する状態において、吐出モードで気体供給部により気体を供給配管を介して供給して第１の塗布液を気体に置換する第１置換処理を行い、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して供給配管および流路内に存在する気体を第２の塗布液に置換する第２置換処理を行った後で、吐出モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して吐出口から第２の塗布液を吐出させる塗布処理を行うように構成してもよい。   A gas supply unit that supplies gas to the nozzle flow path; and a supply pipe that distributes the coating liquid and the gas to the nozzle flow path. The second coating liquid is configured to be able to be supplied through the supply pipe, and when the control section has the first coating liquid in the supply pipe and the flow path, the gas is supplied by the gas supply section in the discharge mode. A first replacement process is performed in which the first application liquid is supplied through a supply pipe to replace the first application liquid with a gas, and the storage mode is switched to and the second application liquid is supplied through the supply pipe by the application liquid supply unit. After performing the second substitution process for substituting the gas present in the pipe and the flow path with the second coating liquid, the mode is switched to the discharge mode and the coating liquid supply unit supplies the second coating liquid via the supply pipe. And the second coating liquid is discharged from the discharge port. It may be configured to perform the coating process that.

また、供給配管の一方端部、中間部および他方端部はそれぞれ塗布液供給部、気体供給部および流路に接続され、制御部が、第１置換処理と第２置換処理との間で共洗い処理を行うように構成してもよい。なお、共洗い処理は、貯留モードに切り替えるとともに塗布液供給部により第２の塗布液を供給配管を介して供給して一方端部と中間部との間に存在する第１の塗布液を少なくとも中間部よりも他方端部側に送液した後で、吐出モードに切り替えるとともに気体供給部により気体を供給配管を介して供給することで少なくとも中間部よりも他方端部側に存在する第１の塗布液を吐出口から吐出させる処理である。   In addition, one end portion, the intermediate portion, and the other end portion of the supply pipe are connected to the coating solution supply portion, the gas supply portion, and the flow path, respectively, and the control portion is shared between the first replacement process and the second replacement process. You may comprise so that a washing process may be performed. The co-washing process switches to the storage mode and supplies the second coating liquid from the coating liquid supply unit via the supply pipe to at least remove the first coating liquid existing between the one end and the intermediate part. After the liquid is fed to the other end side than the intermediate part, the first mode present at least on the other end side from the intermediate part by switching to the discharge mode and supplying the gas via the supply pipe by the gas supply part. In this process, the coating liquid is discharged from the discharge port.

また、制御部が、ノズルの流路が塗布液で充填されているか否かを判定する充填判定部と、充填判定部により流路が塗布液で充填されたと判定されるときには吐出モードに切り替えるモード切替部とを有するように構成してもよい。   In addition, the controller determines whether or not the flow path of the nozzle is filled with the coating liquid, and a mode for switching to the discharge mode when the filling determination section determines that the flow path is filled with the coating liquid. You may comprise so that it may have a switching part.

また、ノズルに流路の上端部とノズル外部とを連通する気体抜き孔を設けてもよい。   Moreover, you may provide the vent hole which connects the upper end part of a flow path, and the nozzle exterior to a nozzle.

また、気体抜き孔に接続されて流路とノズル外部とを連通する排出配管と、貯留モードで塗布液をノズルに供給している間に流路から排出配管に塗布液がオーバーフローするのを検知する検知部と、をさらに備え、制御部は、検知部によるオーバーフローの検知に基づいてノズルの流路が塗布液で充填されたと判定するように構成してもよい。   Also, a discharge pipe connected to the gas vent hole to communicate the flow path and the outside of the nozzle, and detection of overflow of the coating liquid from the flow path to the discharge pipe while supplying the coating liquid to the nozzle in the storage mode And a controller that determines that the flow path of the nozzle is filled with the coating liquid based on detection of overflow by the detector.

さらに、吐出口の形状は任意であり、例えばスリット形状を有するノズルを用いることができる。   Furthermore, the shape of the discharge port is arbitrary, and for example, a nozzle having a slit shape can be used.

この発明は、ノズルの内部に設けられる流路を介して塗布液をノズルの下端部に設けられる吐出口から吐出して基板に塗布する塗布技術全般に適用することができる。   The present invention can be applied to all coating techniques in which a coating liquid is discharged from a discharge port provided at the lower end of a nozzle and applied to a substrate through a flow path provided inside the nozzle.

１…塗布装置
２…スリットノズル
３…基板
５…塗布処理部
６…封止部
９…制御部
１０…供給機構
１３…センサ（検知部）
２１…ノズルボディ（ノズル本体）
２３…吐出口
２４…排出口（気体抜き孔）
３１…（基板３の）表面
５１ｂ…昇降機構（移動機構部）
５３…スリットノズル移動部（移動機構部）
５４…リニアモータ（移動機構部）
６１…封止部材
１０１Ａ，１０１Ｂ…供給部（塗布液供給部）
１０５…供給配管
２１０…流路
６１２…弾性板（封止部材）
９１１…充填判定部
９１２…モード切替部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coating apparatus 2 ... Slit nozzle 3 ... Substrate 5 ... Coating processing part 6 ... Sealing part 9 ... Control part 10 ... Supply mechanism 13 ... Sensor (detection part)
21 ... Nozzle body (nozzle body)
23 ... Discharge port 24 ... Discharge port (gas vent hole)
31 ... Surface of substrate 3 51b ... Elevating mechanism (moving mechanism)
53 ... slit nozzle moving part (moving mechanism part)
54 ... Linear motor (moving mechanism)
61... Sealing member 101A, 101B... Supply part (coating liquid supply part)
105 ... Supply piping 210 ... Flow path 612 ... Elastic plate (sealing member)
911 ... Filling determination unit 912 ... Mode switching unit

Claims (6)

ノズル本体と、前記ノズル本体の下端部に設けられる吐出口と、前記ノズル本体の内部で塗布液を前記吐出口に流通する流路とを有するノズルを用いて基板に前記塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記ノズルに前記塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記吐出口を封止可能な封止部材を有する封止部と、
前記ノズルおよび前記封止部材のうちの少なくとも一方を移動させる移動機構部と、
前記移動機構部を制御することで前記封止部材を前記吐出口に当接させて前記吐出口を封止して前記ノズルに供給される塗布液を前記流路に貯留する貯留モードと、前記封止部材を前記吐出口から離間させて前記吐出口から前記塗布液を吐出可能とする吐出モードとを選択的に切り替える制御部と、
前記ノズルの前記流路に気体を供給する気体供給部と、
前記塗布液と前記気体とを前記ノズルの前記流路に流通させる供給配管と、を備え、
前記供給配管の一方端部、中間部および他方端部はそれぞれ前記塗布液供給部、前記気体供給部および前記流路に接続され、
前記塗布液供給部は、互いに異なる第１の塗布液と第２の塗布液を前記供給配管を介して供給可能となっており、
前記制御部は、
前記供給配管および前記流路内に前記第１の塗布液が存在する状態において、前記吐出モードで前記気体供給部により前記気体を前記供給配管を介して供給して前記第１の塗布液を前記気体に置換する第１置換処理を行い、
下記の共洗い処理を行い、
前記貯留モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記供給配管および前記流路内に存在する前記気体を前記第２の塗布液に置換する第２置換処理を行った後で、
前記吐出モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記吐出口から前記第２の塗布液を吐出させる塗布処理を行う
ことを特徴とする塗布装置。
前記共洗い処理は、
前記貯留モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記一方端部と前記中間部との間に存在する前記第１の塗布液を少なくとも前記中間部よりも前記他方端部側に送液した後で、
前記吐出モードに切り替えるとともに前記気体供給部により前記気体を前記供給配管を介して供給することで少なくとも前記中間部よりも前記他方端部側に存在する前記第１の塗布液を前記吐出口から吐出させる
処理である。 Application for applying the coating liquid to a substrate using a nozzle having a nozzle body, a discharge port provided at a lower end of the nozzle body, and a flow path for flowing the coating liquid to the discharge port inside the nozzle body A device,
A coating solution supply section for supplying the coating solution to the nozzle;
A sealing portion having a sealing member capable of sealing the discharge port;
A moving mechanism for moving at least one of the nozzle and the sealing member;
A storage mode in which the sealing member is brought into contact with the discharge port by controlling the moving mechanism unit to seal the discharge port and store the coating liquid supplied to the nozzle in the flow path; A controller that selectively switches between a discharge mode in which a sealing member is separated from the discharge port and the coating liquid can be discharged from the discharge port ;
A gas supply unit for supplying gas to the flow path of the nozzle;
A supply pipe for circulating the coating liquid and the gas through the flow path of the nozzle,
One end, an intermediate part and the other end of the supply pipe are connected to the coating liquid supply part, the gas supply part and the flow path, respectively.
The coating liquid supply unit can supply a first coating liquid and a second coating liquid different from each other via the supply pipe,
The controller is
In a state where the first coating liquid is present in the supply pipe and the flow path, the gas is supplied through the supply pipe by the gas supply unit in the discharge mode to supply the first coating liquid. Performing a first substitution process for substitution with gas,
Perform the following washing process,
While switching to the storage mode, the second coating liquid is supplied from the coating liquid supply unit via the supply pipe, and the gas existing in the supply pipe and the flow path is replaced with the second coating liquid. After performing the second replacement process,
Switching to the discharge mode and supplying the second coating liquid from the coating liquid supply unit via the supply pipe to perform a coating process for discharging the second coating liquid from the discharge port. An applicator characterized by.
The washing process is
Switching to the storage mode and supplying the second coating liquid by the coating liquid supply unit via the supply pipe and at least the first coating liquid existing between the one end and the intermediate part After feeding the liquid to the other end side rather than the intermediate part,
By switching to the discharge mode and supplying the gas through the supply pipe by the gas supply unit, at least the first coating liquid existing on the other end side than the intermediate part is discharged from the discharge port. Make
It is processing. 請求項１に記載の塗布装置であって、
前記制御部は、
前記ノズルの前記流路が前記塗布液で充填されているか否かを判定する充填判定部と、 前記充填判定部により前記流路が前記塗布液で充填されたと判定されるときには前記吐出モードに切り替えるモード切替部と
を有する塗布装置。 The coating apparatus according to claim 1 ,
The controller is
A filling determination unit for determining whether or not the flow path of the nozzle is filled with the coating liquid; and switching to the discharge mode when the filling determination unit determines that the flow path is filled with the coating liquid A coating apparatus having a mode switching unit. 請求項２に記載の塗布装置であって、
前記ノズルは、前記流路の上端部とノズル外部とを連通する気体抜き孔を有する塗布装置。 The coating apparatus according to claim 2 ,
The nozzle is a coating apparatus having a gas vent hole that communicates the upper end of the flow path with the outside of the nozzle. 請求項３に記載の塗布装置であって、
前記気体抜き孔に接続されて前記流路とノズル外部とを連通する排出配管と、
前記貯留モードで前記塗布液を前記ノズルに供給している間に前記流路から前記排出配管に前記塗布液がオーバーフローするのを検知する検知部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記検知部によるオーバーフローの検知に基づいて前記ノズルの前記流路が前記塗布液で充填されたと判定する塗布装置。 The coating apparatus according to claim 3 ,
A discharge pipe connected to the gas vent hole and communicating the flow path and the outside of the nozzle;
A detection unit that detects that the coating liquid overflows from the flow path to the discharge pipe while the coating liquid is being supplied to the nozzle in the storage mode;
The said control part is a coating device which determines with the said flow path of the said nozzle being filled with the said coating liquid based on the detection of the overflow by the said detection part. 請求項１ないし４のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記吐出口はスリット形状を有する塗布装置。 The coating apparatus according to any one of claims 1 to 4 ,
The discharge port is a coating device having a slit shape. ノズル本体と、前記ノズル本体の下端部に設けられる吐出口と、前記ノズル本体の内部で塗布液を前記吐出口に流通する流路とを有するノズルを用いて基板に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記吐出口に封止部材を当接させて前記吐出口を封止して前記ノズルに供給される前記塗布液を前記流路に貯留させる貯留モードと、
前記封止部材を前記吐出口から離間させて前記吐出口から前記塗布液を吐出する吐出モードと、を備え、
供給配管の一方端部、中間部および他方端部はそれぞれ塗布液供給部、気体供給部および前記流路に接続され、前記塗布液供給部から互いに異なる第１の塗布液と第２の塗布液を前記供給配管を介して前記ノズルに供給可能で、かつ前記気体供給部から気体を前記供給配管を介して前記ノズルの前記流路に気体を供給可能となっており、
前記供給配管および前記流路内に前記第１の塗布液が存在する状態において、前記吐出モードで前記気体供給部により前記気体を前記供給配管を介して供給して前記第１の塗布液を前記気体に置換する第１置換処理を行い、
下記の共洗い処理を行い、
前記貯留モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記供給配管および前記流路内に存在する前記気体を前記第２の塗布液に置換する第２置換処理を行った後で、
前記吐出モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記吐出口から前記第２の塗布液を吐出させる塗布処理を行う
ことを特徴とする塗布方法。
前記共洗い処理は、
前記貯留モードに切り替えるとともに前記塗布液供給部により前記第２の塗布液を前記供給配管を介して供給して前記一方端部と前記中間部との間に存在する前記第１の塗布液を少なくとも前記中間部よりも前記他方端部側に送液した後で、
前記吐出モードに切り替えるとともに前記気体供給部により前記気体を前記供給配管を介して供給することで少なくとも前記中間部よりも前記他方端部側に存在する前記第１の塗布液を前記吐出口から吐出させる
処理である。 Application for applying the coating liquid to a substrate using a nozzle having a nozzle body, a discharge port provided at a lower end of the nozzle body, and a flow path for flowing the coating liquid to the discharge port inside the nozzle body A method,
A storage mode for storing the coating liquid is brought into contact with the sealing member sealing the discharge port and supplied to the nozzle in the discharge port to the flow path,
And a front Kifutome member is separated from the discharge port and a discharge mode for discharging the coating liquid from said discharge port,
One end portion, an intermediate portion, and the other end portion of the supply pipe are respectively connected to the coating solution supply portion, the gas supply portion, and the flow path, and the first coating solution and the second coating solution that are different from each other from the coating solution supply portion. Can be supplied to the nozzle via the supply pipe, and gas can be supplied from the gas supply unit to the flow path of the nozzle via the supply pipe.
In a state where the first coating liquid is present in the supply pipe and the flow path, the gas is supplied through the supply pipe by the gas supply unit in the discharge mode to supply the first coating liquid. Performing a first substitution process for substitution with gas,
Perform the following washing process,
While switching to the storage mode, the second coating liquid is supplied from the coating liquid supply unit via the supply pipe, and the gas existing in the supply pipe and the flow path is replaced with the second coating liquid. After performing the second replacement process,
Switching to the discharge mode and supplying the second coating liquid from the coating liquid supply unit via the supply pipe to perform a coating process for discharging the second coating liquid from the discharge port. A coating method characterized by the above.
The washing process is
Switching to the storage mode and supplying the second coating liquid by the coating liquid supply unit via the supply pipe and at least the first coating liquid existing between the one end and the intermediate part After feeding the liquid to the other end side rather than the intermediate part,
By switching to the discharge mode and supplying the gas through the supply pipe by the gas supply unit, at least the first coating liquid existing on the other end side than the intermediate part is discharged from the discharge port. Make
It is processing.
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