KR20220089669A - Nozzle cleaning apparatus and coating apparatus - Google Patents

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유키히로 다카무라
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

분산계 도포액을 토출하는 노즐을 효율적으로 세정하기 위하여, 이 발명에 따른 노즐 세정 장치는, 노즐 하단부를 세정하는 세정액을 저류하는 저류 영역이 형성되는 세정조 하단부 및 저류 영역에서 저류되는 세정액 중에 노즐 하단부를 침지 가능하게 하는 개구부를 갖는 세정조와, 액체를 저류하면서 액체 중에 세정조 하단부를 침지시킨 상태로 세정조의 하방에 설치되는 액체조와, 액체조에 저류된 액체 중에서 초음파 진동을 발생시켜, 액체, 세정조 하단부 및 세정액을 통하여 노즐 하단부에 초음파 진동을 부여하는 초음파 진동자를 구비한다. 세정조 하단부 및 저류 영역은, 제1 수평 방향에서 보았을 때, 초음파 진동자를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되어 있다.In order to efficiently clean the nozzle that discharges the dispersion-based coating liquid, the nozzle cleaning apparatus according to the present invention includes a lower end of a cleaning tank in which a storage area for storing a cleaning liquid for cleaning the lower end of the nozzle is formed, and a lower end of the nozzle in the cleaning liquid stored in the storage area. A cleaning tank having an opening allowing immersion of the liquid, a liquid tank installed below the cleaning tank in a state in which the lower end of the cleaning tank is immersed in the liquid while storing the liquid, and ultrasonic vibration in the liquid stored in the liquid tank to generate the liquid, the cleaning tank An ultrasonic vibrator for applying ultrasonic vibration to the lower end of the nozzle through the lower end and the cleaning liquid is provided. The lower end of the washing tank and the storage area are finished in a shape that tapers toward the ultrasonic vibrator when viewed from the first horizontal direction.

Description

노즐 세정 장치 및 도포 장치{NOZZLE CLEANING APPARATUS AND COATING APPARATUS}Nozzle cleaning apparatus and applicator {NOZZLE CLEANING APPARATUS AND COATING APPARATUS}

이 발명은, 안료나 마이크로캡슐 등을 분산시킨 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치, 및 당해 노즐 세정 장치를 장비하는 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nozzle cleaning apparatus for cleaning a nozzle that discharges a dispersion-based coating liquid in which a pigment, microcapsules, etc. are dispersed, and a coating apparatus equipped with the nozzle cleaning apparatus.

액정 표시 디스플레이나 광학 필터 등을 제조하기 위하여, 안료나 마이크로캡슐 등의 분산계 재료를 분산시킨 분산계 도포액을 기재(基材)나 기판 등의 피도포물에 도포하는 도포 장치가 종래보다 수많이 제안되어 있다. 예를 들면 일본국 특허공개 2009-226287호 공보(특허문헌 1)에서는, 본 발명의 노즐의 일례에 상당하는 슬롯 다이의 선단에 형성된 토출구로부터 분산계 도포액이 플라스틱 시트 등의 기재의 표면에 토출되어, 기재 상에 분산계 도포액의 도공막이 형성된다. 또, 일본국 특허공개 2018-149468호 공보(특허문헌 2)에서는, 본 발명의 노즐의 일례에 상당하는 슬릿 노즐의 토출구로부터 분산계 도포액이 직사각형 형상의 기판에 토출되어, 기판 상에 분산계 도포액의 도공막이 형성된다.In order to manufacture liquid crystal display displays or optical filters, there have been proposed more coating devices than before in which a dispersion-based coating solution in which a dispersion-based material such as a pigment or microcapsule is dispersed is applied to an object to be coated, such as a substrate or substrate. has been For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-226287 (Patent Document 1), a dispersion-based coating liquid is discharged onto the surface of a base material such as a plastic sheet from a discharge port formed at the tip of a slot die corresponding to an example of the nozzle of the present invention. , a coating film of the dispersion-based coating liquid is formed on the substrate. Moreover, in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-149468 (patent document 2), the dispersion system coating liquid is discharged to a rectangular-shaped board|substrate from the discharge port of the slit nozzle corresponded to an example of the nozzle of this invention, and the dispersion system coating liquid is discharged on the board|substrate. of the coating film is formed.

이와 같은 도포 장치에서는, 도포액의 도포에 의하여 노즐(슬롯 다이나 슬릿 노즐 등)의 토출구 근방에 잔류물이 부착한다. 즉, 노즐의 선단부는 잔류 부착물로 오염된다. 그 때문에, 예를 들면 특허문헌 2에 기재된 노즐 세정 장치를 이용하여 노즐을 적절히 세정할 필요가 있다. 이 노즐 세정 장치는 세정조를 구비하고 있다. 세정조는 상방으로 개구하고 있고, 린스액(세정액)을 저류한다. 이 린스액은, 노즐에 부착한 잔류 부착물에 대한 용제이다.In such a coating apparatus, a residue adheres to the vicinity of the discharge port of a nozzle (slot die, slit nozzle, etc.) by application|coating of a coating liquid. That is, the tip of the nozzle is contaminated with residual deposits. Therefore, it is necessary to wash|clean a nozzle appropriately using the nozzle washing|cleaning apparatus of patent document 2, for example. This nozzle cleaning apparatus is provided with a cleaning tank. The washing tank is opened upward, and stores the rinse liquid (washing liquid). This rinsing liquid is a solvent for the residual deposits adhering to the nozzle.

상기한 노즐 세정 장치에서는, 세정조는, 수직 단면이 직사각형인 바닥이 있는 박스 형상을 갖고 있어, 비교적 다량의 린스액을 저류 가능하게 되어 있다. 이 때문에, 노즐 세정에 필요로 하는 린스액도 다량이 된다. 이에 기인하여, 러닝 코스트가 증대한다고 하는 문제 및 린스액의 교환에 필요로 하는 시간이 길어져, 노즐 세정의 효율을 저하시키고 있다.In the nozzle cleaning apparatus described above, the cleaning tank has a box shape with a bottom having a rectangular cross section, and is capable of storing a relatively large amount of rinsing liquid. For this reason, the rinse liquid required for nozzle cleaning also becomes large. For this reason, the problem that running cost increases, and the time required for replacement|exchange of a rinse liquid is long, and the efficiency of nozzle cleaning is lowered.

또, 특히 분산계 도포액을 이용하는 경우, 분산계 재료는 세정액에 불용해성의 고형물인 경우가 많고, 세정액에 의해서만 노즐의 토출구 근방에 부착하는 분산계 재료를 효율적으로 제거하는 것이 어렵기 때문에, 초음파 진동을 이용하는 것이 생각된다. 즉, 초음파 진동자를 냉각하기 위한 냉각수를 저류한 냉각수 저류조가, 냉각수 저류조에 저류된 냉각수에 세정조의 하면이 침지되는 상태로, 세정조의 하방에 배치된다. 또, 냉각수 저류조의 내저면(內底面)에 초음파 진동자가 배치되고, 냉각수를 통하여 초음파 진동을 세정조에 전파시킨다. 이 초음파 진동은 또한 세정액을 통하여 노즐의 선단부에 부여되어, 노즐의 토출구 근방으로부터 분산계 재료를 효율적으로 제거할 수 있다. 그러나, 초음파 진동의 인가 중에 냉각수 내에서 발생하는 기포가 세정조의 외저면(外底面)에 부착하여 초음파 진동의 전파 효율을 낮추는 경우가 있어, 이것이 노즐 세정의 효율 저하의 주요인 중 하나로 되어 있다.In particular, when a dispersed coating liquid is used, the dispersed material is often a solid insoluble in the cleaning liquid, and it is difficult to efficiently remove the dispersed material adhering to the vicinity of the nozzle discharge port only with the cleaning liquid. it is thought That is, a cooling water storage tank storing cooling water for cooling the ultrasonic vibrator is disposed below the cleaning tank in a state in which the lower surface of the cleaning tank is immersed in the cooling water stored in the cooling water storage tank. In addition, an ultrasonic vibrator is disposed on the inner bottom surface of the cooling water storage tank, and the ultrasonic vibration is propagated through the cooling water to the cleaning tank. This ultrasonic vibration is also imparted to the tip of the nozzle through the cleaning liquid, so that the dispersed material can be efficiently removed from the vicinity of the discharge port of the nozzle. However, bubbles generated in the cooling water during application of ultrasonic vibration may adhere to the outer bottom surface of the cleaning tank to lower the propagation efficiency of the ultrasonic vibration, which is one of the main reasons for the decrease in the efficiency of nozzle cleaning.

또한, 상기와 같이 초음파 진동에 의하여 노즐의 토출구 근방으로부터 제거된 분산계 재료는 세정조의 내저부 전체에 퍼져 침전된다. 그 때문에, 세정조로부터 분산계 재료를 린스액에 의하여 효율적으로 배출하는 것이 곤란하여, 노즐 세정의 효율을 저하시키고 있다.In addition, as described above, the dispersed material removed from the vicinity of the discharge port of the nozzle by the ultrasonic vibration spreads over the entire inner bottom of the cleaning tank and is deposited. Therefore, it is difficult to efficiently discharge the dispersed material from the cleaning tank with the rinsing liquid, thereby reducing the efficiency of nozzle cleaning.

이 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이고, 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 효율적으로 세정할 수 있는 노즐 세정 장치 및 도포 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention was made in view of the said subject, and an object of this invention is to provide the nozzle cleaning apparatus and coating apparatus which can wash|clean efficiently the nozzle which discharges a dispersion system coating liquid.

이 발명의 일 양태는, 노즐 하단부에 형성된 제1 수평 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구로부터 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로서, 노즐 하단부를 세정하는 세정액을 저류하는 저류 영역이 형성되는 세정조 하단부 및 저류 영역에서 저류되는 세정액 중에 노즐 하단부를 침지 가능하게 하는 개구부를 갖는 세정조와, 액체를 저류하면서 액체 중에 세정조 하단부를 침지시킨 상태로 세정조의 하방에 설치되는 액체조와, 액체조에 저류된 액체 중에서 초음파 진동을 발생시켜, 액체, 세정조 하단부 및 세정액을 통하여 노즐 하단부에 초음파 진동을 부여하는 초음파 진동자를 구비하고, 세정조 하단부 및 저류 영역이, 제1 수평 방향에서 보았을 때, 초음파 진동자를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리된 것을 특징으로 하고 있다.One aspect of the present invention is a nozzle cleaning apparatus for cleaning a nozzle that discharges a dispersion-based coating liquid from a first horizontally extending slit-shaped discharge port formed at the lower end of the nozzle, the storage area for storing the cleaning liquid for cleaning the lower end of the nozzle is provided. A cleaning tank having a lower end of the cleaning tank to be formed and an opening allowing the lower end of the nozzle to be immersed in the cleaning liquid stored in the storage area, and a liquid tank installed below the cleaning tank in a state in which the lower end of the cleaning tank is immersed in the liquid while storing the liquid; An ultrasonic vibrator is provided that generates ultrasonic vibrations in the liquid stored in the tank and imparts ultrasonic vibrations to the nozzle lower end through the liquid, the lower end of the cleaning tank and the cleaning liquid, wherein the lower end of the cleaning tank and the storage area are viewed in the first horizontal direction, It is characterized in that the tip is finished in a shape that narrows toward the ultrasonic vibrator.

또, 이 발명의 다른 양태는, 도포 장치로서, 노즐 하단부에 형성된 제1 수평 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구로부터 분산계 도포액을 노즐로부터 토출하여 피도포물에 분산계 도포액을 도포하는 도포 처리부와, 노즐을 세정하는 상기 노즐 세정 장치를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.Another aspect of the present invention is a coating device, comprising: a coating processing unit for discharging a dispersion-based coating liquid from a nozzle from a first horizontally extending slit-shaped discharge port formed at the lower end of the nozzle to apply the dispersion-based coating liquid to an object to be coated; , the nozzle cleaning device for cleaning the nozzle is provided.

이와 같이 구성된 발명에서는, 초음파 진동자가 작동함으로써, 초음파 진동자에서 발생한 초음파 진동이, 액체조에 저류된 액체, 세정조 하단부 및 세정조에 저류된 세정액을 통하여 노즐 하단부에 부여된다. 이에 의하여, 노즐의 토출구 근방으로부터 분산계 재료가 제거되고, 저류 영역의 선단 부위에 모아진다. 이 저류 영역이 끝이 좁아지는 형상으로 되어 있는 점에서, 당해 저류 영역에 저류되는 세정액의 양 및 저류에 필요로 하는 시간은, 종래의 직사각형 단면 형상을 갖는 세정조보다 적어져, 러닝 코스트의 저감이나 노즐 세정에 필요로 하는 시간의 단축을 도모할 수 있다.In the invention constituted as described above, when the ultrasonic vibrator operates, ultrasonic vibrations generated by the ultrasonic vibrator are imparted to the lower end of the nozzle through the liquid stored in the liquid tank, the lower end of the cleaning tank, and the cleaning liquid stored in the cleaning tank. Thereby, the dispersed material is removed from the vicinity of the discharge port of the nozzle, and is collected at the tip portion of the storage area. Since this storage area has a tapered shape, the amount of cleaning liquid stored in the storage area and the time required for storage are smaller than those of a conventional cleaning tank having a rectangular cross-sectional shape, reducing running cost In addition, the time required for nozzle cleaning can be shortened.

또, 끝이 좁아지는 형상을 갖는 세정조 하단부에서는, 그 외측면은 세정조 하단부의 선단 부위로부터 비스듬한 상방을 향하여 경사져 있다. 이 때문에, 초음파 진동의 인가 중에 액체조 중의 액체 내에서 발생하는 기포가 세정조 하단부에 도달한 후에 당해 외측면을 따라 액체 중을 더욱 상승하여 액체조로부터 방출된다. 이에 의하여, 세정조에 대한 기포의 부착이 효과적으로 억제되어, 초음파 진동의 전파 효율이 향상된다.In addition, in the lower end of the washing tub having a tapered shape, the outer surface thereof is inclined obliquely upward from the tip portion of the lower end of the washing tub. For this reason, bubbles generated in the liquid in the liquid tank during application of ultrasonic vibrations, after reaching the lower end of the cleaning tank, further rise in the liquid along the outer surface and are discharged from the liquid tank. Thereby, adhesion of the bubble to a washing tank is suppressed effectively, and the propagation efficiency of an ultrasonic vibration improves.

이상과 같이, 제1 수평 방향에서 본, 세정조 하단부 및 저류 영역의 형상이 초음파 진동자를 향하여 끝이 좁아져 있기 때문에, 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 효율적으로 세정할 수 있다.As described above, since the shape of the lower end of the washing tank and the storage region when viewed from the first horizontal direction is narrowed toward the ultrasonic vibrator, the nozzle for discharging the dispersion-based coating liquid can be cleaned efficiently.

도 1은, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 일 실시 형태를 장비하는 도포 장치를 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 2는, 도 1에 나타내는 도포 장치를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 3은, 도 1에 나타내는 도포 장치의 각 부의 배치를 개략적으로 나타내는 상면도이다.
도 4는, 슬릿 노즐을 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 5는, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 일 실시 형태인 세정 유닛의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 6은, 도 5에 나타내는 세정 유닛에 접속되는 배관계 및 전기계의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은, 도 5에 나타내는 세정 유닛에 의한 노즐 세정 동작을 나타내는 플로차트이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows typically the application|coating apparatus equipped with one Embodiment of the nozzle washing|cleaning apparatus which concerns on this invention.
FIG. 2 : is a side view which shows typically the application|coating apparatus shown in FIG.
3 : is a top view which shows schematically arrangement|positioning of each part of the application|coating apparatus shown in FIG.
4 : is a perspective view which shows typically a slit nozzle.
5 is a perspective view showing the configuration of a cleaning unit that is an embodiment of the nozzle cleaning apparatus according to the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of a piping system and an electric system connected to the cleaning unit shown in FIG. 5 .
FIG. 7 is a flowchart showing a nozzle cleaning operation performed by the cleaning unit shown in FIG. 5 .

도 1은, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 일 실시 형태를 장비하는 도포 장치를 모식적으로 나타내는 사시도이다. 또, 도 2는, 도 1에 나타내는 도포 장치를 모식적으로 나타내는 측면도이다. 또한, 도 3은, 도 1에 나타내는 도포 장치의 각 부의 배치를 개략적으로 나타내는 상면도이다. 또한, 도 1, 도 2, 도 3 및 이후의 각 도면에는, 그들의 방향 관계를 명확하게 하기 위하여, Z방향을 연직 방향으로 하고 XY 평면을 수평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계를 적절히 붙임과 더불어, 필요에 따라 각 부의 치수나 수를 과장 또는 간략화하여 그리고 있다. 또, 도 2 및 도 3에서는, 노즐 지지체 등의 일부의 구성을 생략하고 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows typically the application|coating apparatus equipped with one Embodiment of the nozzle washing|cleaning apparatus which concerns on this invention. Moreover, FIG. 2 is a side view which shows typically the coating apparatus shown in FIG. In addition, FIG. 3 is a top view which shows schematically arrangement|positioning of each part of the coating device shown in FIG. 1, 2, 3 and subsequent drawings, in order to clarify their directional relationship, an XYZ Cartesian coordinate system with the Z direction as the vertical direction and the XY plane as the horizontal plane is appropriately attached, and if necessary The dimensions or numbers of each part are exaggerated or simplified. In addition, in FIG.2 and FIG.3, the structure of a part, such as a nozzle support body, is abbreviate|omitted.

도포 장치(1)는, 슬릿 노즐(2)을 이용하여 피도포물의 일례인 기판(3)의 표면(31)에 도포액을 도포하는, 슬릿 코터로 불리는 도포 장치이다. 도포액은, 안료나 마이크로캡슐 등의 분산계 재료를 분산시킨 분산계 도포액이다. 또, 슬릿 노즐(2)에 부착하는 분산계 도포액을 세정하는 세정액으로서, 본 실시 형태에서는, PGMEA(propylene glycol monomethyl ether acetate: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트), 시너(에테르류 용매나 케톤류의 유기 용매 등), PGMEA와 PEGME(polyethylene glycol monomethyl ether: 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르)의 혼합액 등을 이용하고 있다. 또, 기판(3)은 평면에서 보았을 때 직사각형 형상을 갖는 유리 기판이다. 또한, 본 명세서 중에서, 「기판(3)의 표면(31)」이란 기판(3)의 양 주면 중 도포액이 도포되는 측의 주면을 의미한다.The coating device 1 is a coating device called a slit coater that applies a coating liquid to the surface 31 of the substrate 3 which is an example of the to-be-coated object using the slit nozzle 2 . The coating liquid is a dispersion-based coating liquid in which a dispersion-based material such as a pigment or microcapsule is dispersed. Further, as the cleaning liquid for cleaning the dispersion-based coating liquid adhering to the slit nozzle 2, in this embodiment, PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate), thinner (ether solvent or ketone organic solvent) etc.), a mixed solution of PGMEA and PEGME (polyethylene glycol monomethyl ether: polyethylene glycol monomethyl ether) is used. Moreover, the board|substrate 3 is a glass substrate which has a rectangular shape in planar view. In addition, in this specification, the "surface 31 of the board|substrate 3" means the main surface of the side to which the coating liquid is apply|coated among the both main surfaces of the board|substrate 3.

도포 장치(1)는, 기판(3)을 수평 자세로 흡착 유지 가능한 스테이지(4)와, 스테이지(4)에 유지되는 기판(3)에 슬릿 노즐(2)을 이용하여 도포 처리를 실시하는 도포 처리부(5)와, 슬릿 노즐(2)에 대하여 메인터넌스 처리를 실시하는 노즐 메인터넌스 유닛(6)과, 이들 각 부를 제어하는 제어부(100)를 구비한다.The coating apparatus 1 is the stage 4 which can hold|suck and hold the board|substrate 3 in a horizontal attitude|position, and apply|coating which apply|coats to the board|substrate 3 hold|maintained by the stage 4 using the slit nozzle 2 It includes a processing unit 5 , a nozzle maintenance unit 6 that performs maintenance processing on the slit nozzle 2 , and a control unit 100 that controls each of these units.

스테이지(4)는 대략 직방체의 형상을 갖는 화강암 등의 석재로 구성되어 있다. 그 상면(+Z측) 중 (-Y)방향측에는, 대략 수평인 평탄면으로 가공되어 기판(3)을 유지하는 유지면(41)을 갖는다. 유지면(41)에는 도시하지 않은 다수의 진공 흡착구가 분산하여 형성되어 있다. 이들 진공 흡착구에 의하여 기판(3)이 흡착됨으로써, 도포 처리 시에 기판(3)이 소정의 위치에 수평으로 유지된다. 또한, 기판(3)의 유지 양태는 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 기계적으로 기판(3)을 유지하도록 구성해도 된다. 또, 스테이지(4)에 있어서 유지면(41)이 점유하는 영역으로부터 (+Y)방향측에는 노즐 조정 영역(RA)이 형성되어 있다. 이 노즐 조정 영역(RA)에 후술하는 바와 같이, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 일 실시 형태를 갖는 노즐 메인터넌스 유닛(6)이 배치되어 있다.The stage 4 is comprised of stones, such as granite which has a substantially rectangular parallelepiped shape. On the (-Y) direction side of the upper surface (+Z side), it has a holding surface 41 which is processed into a substantially horizontal flat surface and holds the substrate 3 . A large number of vacuum adsorption ports (not shown) are dispersedly formed on the holding surface 41 . By adsorbing the board|substrate 3 by these vacuum suction ports, the board|substrate 3 is horizontally hold|maintained at a predetermined position at the time of a coating process. In addition, the holding|maintenance aspect of the board|substrate 3 is not limited to this, For example, you may comprise so that the board|substrate 3 may be hold|maintained mechanically. Moreover, in the stage 4, the nozzle adjustment area|region RA is formed in the (+Y) direction side from the area|region occupied by the holding surface 41. As shown in FIG. As will be described later in this nozzle adjustment area RA, a nozzle maintenance unit 6 having an embodiment of the nozzle cleaning apparatus according to the present invention is disposed.

도 4는, 슬릿 노즐을 모식적으로 나타내는 사시도이다. 슬릿 노즐(2)은, 2개의 노즐 보디(23, 25)와, 이들 노즐 보디(23, 25)에 Y방향으로부터 사이에 끼이는 노즐 심(27)을 갖는다. 노즐 보디(23, 25)는 각각 X방향으로 동일한 폭으로 연장 설치된다. 노즐 보디(23)는, YZ 단면에 있어서 사다리꼴 형상의 하단부(23a)와 직사각형 형상의 상단부(23b)를 갖는다. 노즐 보디(25)는, YZ 단면에 있어서 사다리꼴 형상의 하단부(25a)와 직사각형 형상의 상단부(25b)를 갖는다. 노즐 보디(23, 25)의 내측(노즐 심(27)측)의 면은, 각각 ZX 평면에 평행한 평면이다. 한편, 노즐 보디(23, 25)의 하단부(23a, 25a)의 외측(노즐 심(27)의 역측)의 면은, 각각 하방을 향함에 따라 노즐 심(27)에 가까워지도록 경사지는 경사면이다. 따라서, 노즐 보디(23, 25)의 하단부(23a, 25a)로 구성되는 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)(노즐 립부)는 하방으로 끝이 좁아지는 형상을 갖는다. 그리고, 당해 하단부(2a)에 있어서 슬릿 형상의 토출구(21)가 X방향으로 연장 설치되어 있고, 도시 생략된 도포액 공급부로부터 압송되어 오는 도포액이, 상기 토출구(21)로부터 기판(3)의 표면(31)에 토출된다. 이에 의하여, 기판(3)의 표면(31)에 도포액이 도포된다.4 is a perspective view schematically showing a slit nozzle. The slit nozzle 2 has two nozzle bodies 23 and 25 and a nozzle shim 27 sandwiched between these nozzle bodies 23 and 25 from the Y direction. The nozzle bodies 23 and 25 are respectively extended and installed in the X direction with the same width. The nozzle body 23 has a trapezoidal lower end 23a and a rectangular upper end 23b in YZ cross section. The nozzle body 25 has a trapezoidal lower end 25a and a rectangular upper end 25b in the YZ cross section. The surfaces of the inner sides (the nozzle core 27 side) of the nozzle bodies 23 and 25 are planes parallel to the ZX plane, respectively. On the other hand, the surface of the outer side (the opposite side of the nozzle shim 27) of the lower end parts 23a, 25a of the nozzle bodies 23 and 25 is an inclined surface which inclines so that it may approach the nozzle shim 27 as it goes downward, respectively. Accordingly, the lower end 2a (nozzle lip portion) of the slit nozzle 2 constituted by the lower end portions 23a and 25a of the nozzle bodies 23 and 25 has a shape that tapers downward. Then, in the lower end portion 2a, a slit-shaped discharge port 21 is extended in the X direction, and the coating liquid supplied by pressure from a coating liquid supply unit (not shown) flows from the discharge port 21 to the substrate 3 . It is discharged to the surface 31 . Thereby, the coating liquid is apply|coated to the surface 31 of the board|substrate 3 .

도 1로 되돌아가 도포 장치(1)의 구성 설명을 계속한다. 도포 처리부(5)는, 슬릿 노즐(2)을 지지하는 노즐 지지체(51)를 갖는다. 이 노즐 지지체(51)는, 스테이지(4)의 상방에서 X방향에 평행으로 연장 설치된 지지 부재(51a)와, 지지 부재(51a)를 X방향의 양측에서 지지하고 지지 부재(51a)를 승강시키는 2개의 승강 기구(51b)를 갖는다. 지지 부재(51a)는, 카본 파이버 보강 수지 등으로 구성되고, 직사각형의 단면을 갖는 봉 부재이다. 이 지지 부재(51a)의 하면은 슬릿 노즐(2)의 장착 개소(510)로 되어 있고, 지지 부재(51a)는 장착 개소(510)에 슬릿 노즐(2)을 착탈 가능하게 지지한다. 또한, 슬릿 노즐(2)을 지지 부재(51a)의 장착 개소(510)에 착탈하기 위한 기구로서는, 래치 혹은 나사 등의 다양한 체결 기구를 적절히 이용할 수 있다.Returning to FIG. 1, description of the structure of the application|coating apparatus 1 is continued. The application|coating processing part 5 has the nozzle support body 51 which supports the slit nozzle 2 . The nozzle support body 51 includes a support member 51a extending parallel to the X direction from above the stage 4, and supporting the support member 51a from both sides in the X direction to raise and lower the support member 51a. It has two raising/lowering mechanisms 51b. The support member 51a is a bar member made of carbon fiber reinforcing resin or the like and having a rectangular cross section. The lower surface of the supporting member 51a serves as a mounting location 510 for the slit nozzle 2 , and the supporting member 51a removably supports the slit nozzle 2 at the mounting location 510 . In addition, as a mechanism for attaching and detaching the slit nozzle 2 to the attachment point 510 of the support member 51a, various fastening mechanisms, such as a latch or a screw, can be used suitably.

2개의 승강 기구(51b)는 지지 부재(51a)의 길이 방향의 양단부에 연결되어 있고, 각각 AC 서보모터 및 볼 나사 등을 갖는다. 이들 승강 기구(51b)에 의하여, 지지 부재(51a) 및 그것에 고정된 슬릿 노즐(2)이 연직 방향(Z방향)으로 승강된다. 이에 의하여, 슬릿 노즐(2)의 하단에서 개구하는 토출구(21)와 기판(3)의 간격, 즉, 기판(3)에 대한 토출구(21)의 상대적인 높이가 조정된다. 또한, 지지 부재(51a)의 연직 방향의 위치는, 예를 들면, 도시를 생략하고 있지만, 승강 기구(51b)의 측면에 설치된 스케일부와, 당해 스케일부에 대향하여 슬릿 노즐(2)의 측면 등에 설치된 검출 센서로 구성되는 리니어 인코더에 의하여 검출할 수 있다.The two lifting mechanisms 51b are connected to the both ends of the longitudinal direction of the support member 51a, and have an AC servomotor, a ball screw, etc., respectively. By these lifting mechanisms 51b, the support member 51a and the slit nozzle 2 fixed thereto are raised and lowered in the vertical direction (Z direction). Thereby, the distance between the discharge port 21 opened at the lower end of the slit nozzle 2 and the substrate 3 , that is, the relative height of the discharge port 21 with respect to the substrate 3 is adjusted. In addition, although the position of the vertical direction of the support member 51a is abbreviate|omitted, for example, the scale part provided in the side surface of the raising/lowering mechanism 51b, and the side surface of the slit nozzle 2 facing the said scale part. It can be detected by a linear encoder constituted by a detection sensor installed on the back.

이와 같이 구성된 노즐 지지체(51)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 스테이지(4)의 좌우(X방향) 양단부에 걸쳐 X방향을 따라 놓여진, 유지면(41)에 걸쳐 있는 가교 구조를 갖고 있다. 도포 처리부(5)는, 이 노즐 지지체(51)를 Y방향으로 이동시키는 슬릿 노즐 이동부(53)를 갖는다. 슬릿 노즐 이동부(53)는, 가교 구조체로서의 노즐 지지체(51)와 이것에 지지된 슬릿 노즐(2)을, 스테이지(4) 상에 유지되는 기판(3)에 대하여 Y방향을 따라 상대 이동시키는 상대 이동 수단으로서 기능한다. 구체적으로는, 슬릿 노즐 이동부(53)는, (±X)측의 각각에 있어서, 슬릿 노즐(2)의 이동을 Y방향으로 안내하는 가이드 레일(52)과, 구동원인 리니어 모터(54)와, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)의 위치를 검출하기 위한 리니어 인코더(55)를 갖는다.As shown in FIG. 1 , the nozzle support body 51 configured in this way has a cross-linked structure spanning the holding surface 41 disposed along the X direction over the left and right (X direction) both ends of the stage 4 . The application|coating processing part 5 has the slit nozzle moving part 53 which moves this nozzle support body 51 in a Y direction. The slit nozzle moving unit 53 relatively moves the nozzle support 51 as a crosslinked structure and the slit nozzle 2 supported thereon along the Y direction with respect to the substrate 3 held on the stage 4 . It functions as a means of relative movement. Specifically, the slit nozzle moving unit 53 includes a guide rail 52 for guiding the movement of the slit nozzle 2 in the Y direction in each of the (±X) side, and a linear motor 54 serving as a driving source. and a linear encoder 55 for detecting the position of the discharge port 21 of the slit nozzle 2 .

2개의 가이드 레일(52)은, 스테이지(4)의 X방향의 양단부에 설치되고, 노즐 조정 영역(RA) 및 유지면(41)이 설치된 구간을 포함하도록 Y방향으로 각각 연장 설치되어 있다. 그리고, 2개의 가이드 레일(52)이 각각, 2개의 승강 기구(51b)의 이동을 Y방향으로 안내한다. 또, 2개의 리니어 모터(54)는, 스테이지(4)의 양측에 설치되고, 고정자(54a)와 이동자(54b)를 각각 갖는 AC 코어리스 리니어 모터이다. 고정자(54a)는, 스테이지(4)의 X방향의 측면에 Y방향을 따라 설치되어 있다. 한편, 이동자(54b)는, 승강 기구(51b)의 외측에 고정 설치되어 있다. 2개의 리니어 모터(54)는 각각, 이들 고정자(54a)와 이동자(54b)의 사이에 생기는 자력에 의하여, 2개의 승강 기구(51b)를 Y방향으로 구동한다.The two guide rails 52 are provided in the both ends of the X direction of the stage 4, and are respectively extended and provided in the Y direction so that the nozzle adjustment area|region RA and the area|region in which the holding surface 41 may be included. And the two guide rails 52 guide the movement of the two lifting mechanisms 51b in the Y direction, respectively. The two linear motors 54 are provided on both sides of the stage 4 and are AC coreless linear motors each having a stator 54a and a mover 54b. The stator 54a is provided on the side surface of the stage 4 in the X direction along the Y direction. On the other hand, the mover 54b is fixedly provided outside the lifting mechanism 51b. The two linear motors 54 drive the two lifting mechanisms 51b in the Y direction by the magnetic force generated between the stator 54a and the mover 54b, respectively.

또, 각 리니어 인코더(55)는 각각, 스케일부(55a)와 검출부(55b)를 갖고 있다. 스케일부(55a)는 스테이지(4)에 고정 설치된 리니어 모터(54)의 고정자(54a)의 하부에 Y방향을 따라 설치되어 있다. 한편, 검출부(55b)는, 승강 기구(51b)에 고정 설치된 리니어 모터(54)의 이동자(54b)의 더욱 외측에 고정 설치되고, 스케일부(55a)에 대향 배치된다. 리니어 인코더(55)는, 스케일부(55a)와 검출부(55b)의 상대적인 위치 관계에 의거하여, Y방향에 있어서의 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)의 위치를 검출한다.Moreover, each linear encoder 55 has the scale part 55a and the detection part 55b, respectively. The scale part 55a is provided along the Y direction under the stator 54a of the linear motor 54 fixed to the stage 4 . On the other hand, the detection part 55b is fixed to the outer side further of the mover 54b of the linear motor 54 fixed to the lifting mechanism 51b, and is arrange|positioned opposite to the scale part 55a. The linear encoder 55 detects the position of the discharge port 21 of the slit nozzle 2 in the Y direction based on the relative positional relationship between the scale unit 55a and the detection unit 55b.

이와 같이 구성된 슬릿 노즐 이동부(53)는, 노즐 지지체(51)를 Y방향으로 구동함으로써, 노즐 조정 영역(RA)의 상방과 스테이지(4) 상에 유지되는 기판(3)의 상방의 사이에서 슬릿 노즐(2)을 이동시킬 수 있다. 그리고, 도포 장치(1)는, 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)로부터 도포액을 토출하면서 슬릿 노즐(2)을 기판(3)에 대하여 상대 이동시킴으로써, 기판(3)의 표면(31)에 도포층을 형성한다. 또한, 기판(3)의 각 변의 단부로부터 소정의 폭의 영역(액자 형상의 영역)은, 도포액의 도포 대상이 되지 않는 비도포 영역이 되어 있다. 따라서, 기판(3) 중, 이 비도포 영역을 제외한 직사각형 영역이, 도포액을 도포해야 할 도포 영역(RT)이 되어 있다(도 3). 이 때문에, 슬릿 노즐(2)의 이동 구간 중 기판(3)의 도포 영역(RT)의 상방 구간을 이동하는 토출구(21)로부터 도포액이 토출된다.The slit nozzle moving part 53 comprised in this way drives the nozzle support body 51 in the Y direction, between the upper side of the nozzle adjustment area|region RA, and the upper side of the board|substrate 3 hold|maintained on the stage 4. The slit nozzle 2 can be moved. Then, the coating device 1 relatively moves the slit nozzle 2 with respect to the substrate 3 while discharging the coating liquid from the discharge port 21 of the slit nozzle 2, whereby the surface 31 of the substrate 3 is to form a coating layer on Moreover, the area|region (frame-shaped area|region) of a predetermined width from the edge part of each side of the board|substrate 3 becomes an uncoated area|region which does not become the application|coating object of a coating liquid. Therefore, in the board|substrate 3, the rectangular area|region excluding this non-coating area|region becomes the application|coating area|region RT to which the coating liquid should be apply|coated (FIG. 3). For this reason, the coating liquid is discharged from the discharge port 21 which moves the upper section of the application area|region RT of the board|substrate 3 among the moving sections of the slit nozzle 2 .

또, 도포 장치(1)와 외부 반송 기구의 기판(3)의 수도(受渡) 기간(기판(3)의 반입·반출 기간) 등, 스테이지(4) 상에서 도포 처리가 행해지지 않는 기간에는, 슬릿 노즐(2)은, 기판(3)의 유지면(41)으로부터 (+Y)방향측으로 벗어난 노즐 조정 영역(RA)으로 대피한다(도 1에 나타내는 상태). 그리고, 노즐 조정 영역(RA)에 위치하는 슬릿 노즐(2)에 대하여, 노즐 메인터넌스 유닛(6)이 각종 메인터넌스를 실행한다.In addition, during a period in which the coating process is not performed on the stage 4 , such as a water supply period (transport/export period of the substrate 3 ) of the coating device 1 and the substrate 3 of the external transport mechanism, the slit The nozzle 2 is evacuated from the holding surface 41 of the board|substrate 3 to the nozzle adjustment area|region RA which deviated to the (+Y) direction side (state shown in FIG. 1). And the nozzle maintenance unit 6 performs various maintenance with respect to the slit nozzle 2 located in nozzle adjustment area|region RA.

노즐 메인터넌스 유닛(6)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 유지면(41)이 점유하는 영역에서 (+Y)방향측(동 도면의 우수(右手)측)의 노즐 조정 영역(RA)에 설치되어 있다. 노즐 메인터넌스 유닛(6)은, 슬릿 노즐(2)을 클리닝하여, 슬릿 노즐(2)에 부착한 부착물을 제거하는 기능을 갖고 있다. 여기서, 제거 대상이 되는 부착물로서는, 슬릿 노즐(2)에 부착할 수 있는 다양한 물질을 들 수 있다. 예를 들면, 이 부착물은 도포액 자체, 도포액의 용질이 건조·고화된 고화 재료, 및 분산 재료 등을 포함한다. 특히, 분산 재료는 도포액에 분산하여 존재하고 있고, 세정액에 대하여 불용해성이라고 하는 물성을 갖고 있다.As shown in FIG. 2, the nozzle maintenance unit 6 is installed in the nozzle adjustment area RA of the (+Y) direction side (even side in the same figure) in the area occupied by the holding surface 41 . has been The nozzle maintenance unit 6 has a function of cleaning the slit nozzle 2 and removing the deposits adhering to the slit nozzle 2 . Here, various substances which can be adhered to the slit nozzle 2 are mentioned as a deposit|attachment used as a removal object. For example, this deposit contains the coating liquid itself, the solidified material in which the solute of the coating liquid was dried and solidified, and a dispersion material, etc. are included. In particular, the dispersion material is dispersed in the coating liquid and has a physical property of being insoluble in the cleaning liquid.

도 5는, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 일 실시 형태인 세정 유닛의 구성을 나타내는 사시도이다. 도 6은, 도 5에 나타내는 세정 유닛에 접속되는 배관계 및 전기계의 구성을 나타내는 도면이다. 세정 유닛(62)은, 세정 유닛(61)에 의해서는 다 제거하지 못한 잔류 부착물을 세정액과 초음파 진동을 이용하여 슬릿 노즐(2)로부터 제거하기 위한 장치이다. 세정 유닛(62)은 세정 유닛(61)에 대하여 (+Y)방향측에 배치되어 있다(도 2 및 도 3 참조).5 is a perspective view showing the configuration of a cleaning unit as an embodiment of the nozzle cleaning apparatus according to the present invention. FIG. 6 is a diagram showing the configuration of a piping system and an electric system connected to the cleaning unit shown in FIG. 5 . The cleaning unit 62 is a device for removing residual deposits that have not been completely removed by the cleaning unit 61 from the slit nozzle 2 using a cleaning liquid and ultrasonic vibration. The cleaning unit 62 is disposed on the (+Y) direction side with respect to the cleaning unit 61 (refer to FIGS. 2 and 3 ).

세정 유닛(62)은, 세정조(66)와, 액체조(67)와, 초음파 진동자(68)를 갖고 있다. 세정조(66)는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 상방 개구의 박스 구조를 갖고 있고, 그 내부에서 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)를 세정하는 세정액을 저류 가능하게 되어 있다. 보다 상세하게는, 이하와 같이 구성되어 있다.The cleaning unit 62 includes a cleaning tank 66 , a liquid tank 67 , and an ultrasonic vibrator 68 . As shown in FIG. 5, the washing tank 66 has a box structure with an upper opening, and can store the washing|cleaning liquid which wash|cleans the lower end part 2a of the slit nozzle 2 in the inside. In more detail, it is comprised as follows.

세정조(66)는, X방향에서 보았을 때 대략 L자 형상 또는 대략 V자 형상의 단면을 가짐과 더불어 X방향으로 연장 설치된 앵글 형상의 바닥벽(661)을 갖고 있다. 바닥벽(661)은 X방향으로 연장되는 평판 부재의 Y방향 중앙부를 절곡하여 성형된 것이고, 당해 절곡 부위의 외측, 즉 산절(山折) 부위(661a)를 (-Z)방향을 향한 상태로 배치되어 있다. 절곡 각도는, 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)의 YZ 평면에 있어서의 각도 θ(도 4 참조)와 거의 같은 값으로 설정되어 있다. 예를 들면 상기 각도 θ가 90°인 경우, 산절 부위(661a)의 각도도 약 90°이며, 바닥벽(661)은 등변 산형 형상의 외관을 갖고 있다. 또, 바닥벽(661)에서는, (+X)방향에서 보았을 때, 시계 방향으로 약 45°만큼 기립한 비스듬한 상방에 날개 부위(661b)가 산절 부위(661a)로부터 연장 설치됨과 더불어 반시계 방향으로 약 45°만큼 기립한 비스듬한 상방에 날개 부위(661c)가 산절 부위(661a)로부터 연장 설치되어 있다. 그리고, 날개 부위(661b, 661c)의 상단부는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 슬릿 노즐(2)의 폭(Y방향 사이즈)(W2)보다 약간 넓은 거리(W6)만큼 Y방향으로 이격하고 있다. 또, 날개 부위(661b, 661c)의 길이(X방향 사이즈)(L6)는 슬릿 노즐(2)의 길이(X방향 사이즈)(L2)보다 약간 길다.The washing tank 66 has a cross section of a substantially L-shape or a substantially V-shape when viewed from the X-direction, and has an angled bottom wall 661 extending in the X-direction. The bottom wall 661 is formed by bending the central portion of the Y direction of the flat plate member extending in the X direction, and the outer side of the bent portion, that is, the ridge portion 661a is disposed in a state facing the (-Z) direction. has been The bending angle is set to a value substantially equal to the angle θ (refer to FIG. 4 ) in the YZ plane of the lower end 2a of the slit nozzle 2 . For example, when the angle θ is 90°, the angle of the ridge portion 661a is also about 90°, and the bottom wall 661 has an equilateral ridge-shaped external appearance. Further, in the bottom wall 661, when viewed from the (+X) direction, the wing portion 661b is installed obliquely upward by about 45° in the clockwise direction, extending from the ridge portion 661a, and in a counterclockwise direction. A wing portion 661c is provided extending from the ridge portion 661a obliquely upward by about 45°. And the upper end of the blade parts 661b, 661c is spaced apart in the Y direction only by the distance W6 slightly wider than the width (Y-direction size) W2 of the slit nozzle 2, as shown in FIG. In addition, the length (X-direction size) L6 of the blade parts 661b and 661c is slightly longer than the length (X-direction size) L2 of the slit nozzle 2 .

또, 날개 부위(661b, 661c)의 상단부에 대하여, 직사각형 단면을 가짐과 더불어 슬릿 노즐(2)의 길이(X방향 사이즈)(L2)보다 약간 긴 거리(L6)만큼 연장 설치된 한 쌍의 봉 형상 부재(662b, 662c)가 각각 접속되어 있다. 보다 상세하게는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 봉 형상 부재(662b)의 우하변부가 날개 부위(661b)의 상단부와 접속되는 한편, 봉 형상 부재(662c)의 좌하변부가 날개 부위(661c)의 상단부와 접속되어 있다.In addition, with respect to the upper ends of the wing portions 661b and 661c, while having a rectangular cross section, a pair of rods extending by a distance L6 slightly longer than the length (X-direction size) L2 of the slit nozzle 2 are provided. The members 662b and 662c are respectively connected. More specifically, as shown in Fig. 5, the lower right side of the rod-shaped member 662b is connected to the upper end of the wing portion 661b, while the lower left side of the rod-shaped member 662c is the wing portion 661c. It is connected to the upper part.

이와 같이 접속된 바닥벽(661)과 봉 형상 부재(662b, 662c)를 X방향으로부터 끼워 넣도록 한 쌍의 측벽(663, 663)이 배치되어 있다. 따라서, 세정조(66)의 하단부(이하 「세정조 하단부(664)」라고 한다)에서는, 바닥벽(661), 봉 형상 부재(662b, 662c) 및 측벽(663, 663)으로 둘러싸인 영역에서 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)를 세정하는 세정액을 저류 가능하게 되어 있고, 당해 영역이 본 발명의 「저류 영역」의 일례로서 기능한다. 또한, 이하에 있어서는, 당해 영역을 「저류 영역(665)」이라고 칭한다. 저류 영역(665)의 최하단부에 해당되는 선단 부위(665a)는, X방향과 직교하는 YZ 평면에 있어서 호상(弧狀)의 오목부로 마무리된 상태로 X방향으로 연장 설치된 홈 형상의 구조로 되어 있다.A pair of side walls 663 and 663 is arranged so as to sandwich the bottom wall 661 and the rod-shaped members 662b and 662c connected in this way from the X direction. Therefore, at the lower end of the washing tank 66 (hereinafter referred to as “the lower end of the washing tank 664”), a slit is formed in the region surrounded by the bottom wall 661 , the rod-shaped members 662b and 662c and the sidewalls 663 and 663 . The cleaning liquid for cleaning the lower end portion 2a of the nozzle 2 can be stored, and the region functions as an example of the “storage region” of the present invention. In addition, below, the said area|region is called "retention area 665". The tip portion 665a corresponding to the lowermost end of the storage region 665 has a groove-shaped structure provided extending in the X direction in a state of being finished with an arc-shaped concave portion in the YZ plane orthogonal to the X direction. .

또, 도 6에 나타내는 바와 같이, 세정조(66)의 (+X)측의 측벽(663)에 설치된 인렛(도시 생략)에 대하여 공급 배관(691)의 한쪽 끝이 접속됨과 더불어, 세정조(66)의 바닥벽(661)에 설치된 아웃렛(도시 생략)에 대하여 배액 배관(692)의 한쪽 끝이 접속되어 있다. 그리고, 공급 배관(691)의 다른 쪽 끝은, 도포 장치(1)가 설치되는 공장의 유틸리티 중 하나인 세정액 공급원과 접속되어 있다. 공급 배관(691)에는, 밸브(693)가 개재 삽입되어 있다. 이 때문에, 제어부(100)로부터의 지령에 따라 밸브(693)가 열리면, 세정액 공급원으로부터 세정액이 공급 배관(691)을 통하여 세정조(66)에 공급되고, 저류 영역(665)에서 저류된다.6, one end of the supply pipe 691 is connected to an inlet (not shown) provided on the side wall 663 on the (+X) side of the washing tank 66, and the washing tank ( One end of a drain pipe 692 is connected to an outlet (not shown) provided on the bottom wall 661 of the 66 . And the other end of the supply pipe 691 is connected to a cleaning liquid supply source which is one of the utilities of the factory where the coating device 1 is installed. A valve 693 is interposed in the supply pipe 691 . For this reason, when the valve 693 is opened according to a command from the controller 100 , the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply source to the cleaning tank 66 through the supply pipe 691 , and is stored in the storage area 665 .

저류 영역(665)에서의 세정액의 저류량을 컨트롤하기 위하여, 바닥벽(661)으로부터 오버플로관(666)이 세워 설치되어 있다. 이 오버플로관(666)은 배액 배관(694)을 통하여 배액 회수부(도시 생략)와 접속되어 있다. 이 배액 배관(694)에는, 밸브(695)가 개재 삽입되어 있다. 이 때문에, 제어부(100)로부터의 지령에 따라 밸브(695)가 열리면, 저류 영역(665)으로부터 오버플로관(666)을 통하여 잉여의 세정액이 제거되고, 저류 영역(665)에 있어서 일정량의 세정액을 저류할 수 있고, 항상 적당량의 세정액에 의하여 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)를 세정할 수 있다. 한편, 노즐 세정 처리에 이용된 세정액을 배액할 때에는, 배액 배관(692)에 개재 삽입된 밸브(696)가 제어부(100)로부터의 지령에 따라 열리고, 사용 완료된 세정액이 배액 배관(692)을 통하여 배액 회수부로 회수된다.In order to control the storage amount of the washing liquid in the storage area 665 , an overflow pipe 666 is erected from the bottom wall 661 . The overflow pipe 666 is connected to a drain recovery unit (not shown) via a drain pipe 694 . A valve 695 is interposed in the drain pipe 694 . For this reason, when the valve 695 is opened according to a command from the control unit 100 , excess washing liquid is removed from the storage area 665 through the overflow pipe 666 , and a predetermined amount of the washing liquid is removed from the storage area 665 . can be stored, and the lower end 2a of the slit nozzle 2 can be always cleaned with an appropriate amount of cleaning liquid. On the other hand, when draining the cleaning liquid used in the nozzle cleaning process, the valve 696 interposed in the drain pipe 692 is opened according to a command from the controller 100 , and the used cleaning liquid is discharged through the drain pipe 692 . It is recovered by the drainage recovery unit.

이러한 세정액에 의한 노즐 세정에 더하여, 세정 유닛(62)은 초음파 진동을 추가로 부가함으로써 세정 성능을 높이고 있다. 그 때문에, 액체조(67) 및 초음파 진동자(68)가 설치되어 있다. 액체조(67)는, (+Z)방향에서 본 평면 사이즈가 세정조(66)보다 한층 더 큰 장방형을 이루는 바닥벽과, 바닥벽의 주위로부터 기립하는 4개의 측벽으로 구성된 상방 개구의 박스 구조를 갖는다. 액체조(67)의 내부(671)에서는, 초음파 진동자(68)가 수납됨과 더불어, 초음파 진동자(68)를 냉각하기 위한 냉각수(672)가 저류되어 있다. 액체조(67)에서는, 내부(671)의 상방에서 개구부(673)가 (+Z)방향에서 보았을 때 세정조(66)보다 한층 더 크게 개구하고 있다. 그리고, 도 6에 나타내는 바와 같이, 세정조(66)의 세정조 하단부(664)가 액체조(67)에 저류된 냉각수(672)에 침지되어 있다.In addition to nozzle cleaning with such a cleaning liquid, the cleaning unit 62 further increases cleaning performance by adding ultrasonic vibrations. Therefore, the liquid tank 67 and the ultrasonic vibrator 68 are provided. The liquid tank 67 has a box structure with an upper opening formed by a bottom wall that forms a rectangle whose planar size when viewed from the (+Z) direction is larger than that of the cleaning tank 66, and four side walls that stand up from the periphery of the bottom wall. has In the interior 671 of the liquid tank 67 , the ultrasonic vibrator 68 is accommodated, and cooling water 672 for cooling the ultrasonic vibrator 68 is stored. In the liquid tank 67, the opening 673 is opened from above the inside 671 to be larger than the cleaning tank 66 when viewed from the (+Z) direction. And as shown in FIG. 6, the washing|cleaning tank lower end part 664 of the washing|cleaning tank 66 is immersed in the cooling water 672 stored in the liquid tank 67. As shown in FIG.

초음파 진동자(68)는 진동자 구동부(681)와 전기적으로 접속되어 있다. 이 때문에, 제어부(100)로부터의 지령에 따라 진동자 구동부(681)가 초음파 진동자(68)를 구동하면, 초음파 진동자(68)에서 발생하는 초음파 진동이 냉각수(672)를 통하여 세정조(66)에 부여된다. 또, 당해 세정조(66)의 저류 영역(665)에 저류되어 있는 세정액에 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)가 침지되면, 상기 초음파 진동은 상기 세정액을 통하여 하단부(2a)에 부여된다. 그 결과, 세정액에 의한 세정 작용에 더하여, 초음파 진동이 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)의 외면에 부여된다. 그 결과, 하단부(2a)에 부착하는 분산 재료(DM) 등의 잔류 부착물이 효과적으로 슬릿 노즐(2)로부터 제거된다.The ultrasonic vibrator 68 is electrically connected to the vibrator driving unit 681 . For this reason, when the vibrator driving unit 681 drives the ultrasonic vibrator 68 according to a command from the control unit 100, the ultrasonic vibrations generated in the ultrasonic vibrator 68 are transmitted to the washing tank 66 through the cooling water 672. is granted Further, when the lower end 2a of the slit nozzle 2 is immersed in the cleaning liquid stored in the storage area 665 of the cleaning tank 66, the ultrasonic vibration is applied to the lower end 2a through the cleaning liquid. As a result, in addition to the cleaning action by the cleaning liquid, ultrasonic vibration is imparted to the outer surface of the lower end 2a of the slit nozzle 2 . As a result, residual deposits such as the dispersion material DM adhering to the lower end portion 2a are effectively removed from the slit nozzle 2 .

세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정 동작(세정액과 초음파 진동을 조합한 노즐 세정)에 대해서는, 세정 유닛(61)에 의한 노즐 세정 동작(스크레이퍼(65)에 의한 긁어냄 처리)을 1회 행할 때마다 실행해도 되고, 복수 회만큼 실행한 후에 행해도 된다. 요컨대, 세정 유닛(61)에 의한 노즐 세정 동작 후에 있어서 잔류하고 있는 잔류 부착물의 양에 따라, 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정의 실행 타이밍을 결정할 수 있다. 또, 이 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정 동작은, 제어부(100)의 기억부(도시 생략)에 미리 기억되어 있는 세정 프로그램에 따라 제어부(100)가 장치 각 부를 이하와 같이 제어함으로써 실행된다.Regarding the nozzle cleaning operation (nozzle cleaning combining cleaning liquid and ultrasonic vibration) by the cleaning unit 62 , the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 61 (scraping treatment by the scraper 65) is performed once You may carry out every time, and you may carry out after carrying out only for a plurality of times. That is, the execution timing of nozzle cleaning by the cleaning unit 62 can be determined according to the amount of the residual deposit remaining after the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 61 . In addition, the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 62 is executed by the control unit 100 controlling each unit of the apparatus as follows according to a cleaning program stored in advance in the storage unit (not shown) of the control unit 100 . .

도 7은, 도 5에 나타내는 세정 유닛에 의한 노즐 세정 동작을 나타내는 플로차트이며, 그 세정 동작의 일 공정을 모식적으로 나타내는 도면을 포함하고 있다. 제어부(100)는, 세정 유닛(61)에 의한 노즐 세정 동작 후에 있어서도 잔류하고 있는 잔류 부착물의 양이 적은 동안, 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정은 불필요하다고 판단한다(단계 S1에서 「NO」). 한편, 제어부(100)는, 세정액과 초음파 진동을 조합한 노즐 세정이 필요하다고 판단하면(단계 S1에서 「YES」), 이하의 공정(단계 S2~S10)을 실행하여 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정 동작을 실행한다. 여기에서는, 단계 S1을 실행하는 단계에서, 저류 영역(665)에 소정량의 세정액이 저류됨과 더불어, 밸브(693, 695, 696)가 모두 닫혀 있고, 세정액과 초음파 진동에 의한 노즐 세정의 준비가 완료되어 있는 것으로 가정하고 동작 설명을 계속한다.7 is a flowchart showing a nozzle cleaning operation performed by the cleaning unit shown in FIG. 5 , and includes diagrams schematically illustrating one step of the cleaning operation. The control unit 100 determines that nozzle cleaning by the cleaning unit 62 is unnecessary even after the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 61 while the amount of residual deposits remaining is small (“NO” in step S1 ) ). On the other hand, if the control unit 100 determines that nozzle cleaning combining the cleaning liquid and ultrasonic vibration is necessary (“YES” in step S1), the following process (steps S2 to S10) is performed to perform the cleaning unit 62 Execute the nozzle cleaning operation. Here, in the step of executing step S1, a predetermined amount of the cleaning liquid is stored in the storage area 665 and the valves 693, 695, and 696 are all closed, and preparation of nozzle cleaning by the cleaning liquid and ultrasonic vibration is prepared. Assume it is complete and continue with the operation description.

단계 S2에서는, 제어부(100)는, 진동자 구동부(681)에 의하여 초음파 진동자(68)를 구동하여 초음파 진동자(68)로부터 초음파 진동을 발생시킨다. 그러면, 초음파 진동은 냉각수(672)를 통하여 세정조(66)에 전파된다.In step S2 , the control unit 100 drives the ultrasonic vibrator 68 by the vibrator driving unit 681 to generate ultrasonic vibrations from the ultrasonic vibrator 68 . Then, the ultrasonic vibration is propagated to the cleaning tank 66 through the cooling water 672 .

그에 계속해서, 제어부(100)는, 슬릿 노즐 이동부(53)를 제어하여 슬릿 노즐(2)을 세정 유닛(62)의 바로 위 위치로 이동시킨다. 그에 계속해서, 제어부(100)는, 승강 기구(51b)를 제어하고, 도 7 중의 파선으로 둘러싸인 동작 설명도에 나타내는 바와 같이, 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)가 세정조(66)의 저류 영역(665)에 저류되어 있는 세정액에 침지될 때까지 슬릿 노즐(2)을 하강시킨다(단계 S3). 이에 의하여, 하단부(2a)의 외면이 세정액과 접액하여 초음파 진동을 받으면서 세정액에 의한 세정 작용을 받는다. 그 결과, 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)에 부착하는 분산 재료(DM) 등의 잔류 부착물이 효과적으로 슬릿 노즐(2)로부터 제거된다. 여기서, 상기한 바와 같이, 본 실시 형태에서는 저류 영역(665)이, X방향에서 보았을 때 초음파 진동자(68)를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되어 있다. 즉, 저류 영역(665)의 선단 부위(665a)가 슬릿 노즐(2)의 토출구(21)와 대향하고, 바닥벽(661)의 내저면(날개 부위(661b, 661c)의 골측면)은 경사면이며, 각각 노즐 보디(23, 25)의 하단부(23a, 25a)의 외측의 면과 대향하고 있다. 그 결과, 도 5의 확대도에서 모식적으로 나타내어지는 바와 같이, 상기와 같이 하여 제거된 잔류 부착물, 특히 불용해성의 고형물인 분산 재료(DM)는, 바닥벽(661)의 내저면에 의하여 저류 영역(665)의 선단 부위(665a)로 안내되어 모아진다.Subsequently, the control unit 100 controls the slit nozzle moving unit 53 to move the slit nozzle 2 to a position immediately above the cleaning unit 62 . Subsequently, the control unit 100 controls the lifting mechanism 51b, and as shown in the operation explanatory diagram enclosed by the broken line in FIG. 7 , the lower end 2a of the slit nozzle 2 is the The slit nozzle 2 is lowered until it is immersed in the cleaning liquid stored in the storage area 665 (step S3). As a result, the outer surface of the lower end portion 2a comes into contact with the cleaning liquid and receives ultrasonic vibration while receiving the cleaning action by the cleaning liquid. As a result, residual deposits such as the dispersion material DM adhering to the lower end 2a of the slit nozzle 2 are effectively removed from the slit nozzle 2 . Here, as described above, in the present embodiment, the storage region 665 is finished in a shape that tapers toward the ultrasonic vibrator 68 when viewed from the X direction. That is, the tip portion 665a of the storage region 665 faces the discharge port 21 of the slit nozzle 2 , and the inner bottom surface of the bottom wall 661 (the valley side of the wing portions 661b and 661c) is an inclined surface. and face the outer surfaces of the lower ends 23a and 25a of the nozzle bodies 23 and 25, respectively. As a result, as schematically shown in the enlarged view of FIG. 5 , the residual deposits removed as described above, particularly the dispersion material DM as an insoluble solid, are stored by the inner bottom surface of the bottom wall 661 . It is guided and gathered to the tip portion 665a of the region 665 .

또, 상기한 초음파 진동의 인가 중에 있어서는, 냉각수(672) 내에서 기포(B)가 발생하고, 세정조(66)의 바닥벽(661)의 외측면으로 이동한다. 본 실시 형태에서는, 특히 바닥벽(661)이, X방향에서 보았을 때 초음파 진동자(68)를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되어 있다. 즉, 바닥벽(661)의 외측면(날개 부위(661b, 661c)의 산측면)은 경사면으로 되어 있다. 따라서, 바닥벽(661)의 외측면으로 이동해 온 기포(B)는 상기 경사면을 따라 부상하여, 냉각수(672)로부터 외기로 방출된다. 즉, 세정조(66)의 바닥벽(661)에 대한 기포(B)의 부착이 효과적으로 억제된다. 이에 의하여, 종래의 문제(세정조에 대한 기포 부착에 의한 초음파 진동의 전파 효율의 저하)를 효과적으로 해소할 수 있어, 초음파 진동에 의한 잔류 부착물이 높은 효율로 제거된다.Moreover, during application of the ultrasonic vibration described above, bubbles B are generated in the cooling water 672 and move to the outer surface of the bottom wall 661 of the washing tank 66 . In this embodiment, in particular, the bottom wall 661 is finished in a shape that tapers toward the ultrasonic vibrator 68 when viewed from the X direction. That is, the outer side surface of the bottom wall 661 (the mountain side surface of the blade parts 661b, 661c) is an inclined surface. Accordingly, the bubble B, which has moved to the outer surface of the bottom wall 661 , floats along the inclined surface, and is discharged from the cooling water 672 to the outside air. That is, adhesion of the bubble B to the bottom wall 661 of the washing tank 66 is suppressed effectively. Thereby, the conventional problem (the fall of the propagation efficiency of ultrasonic vibration due to bubble adhesion to a washing tank) can be effectively eliminated, and the residual deposit|attachment by ultrasonic vibration is removed with high efficiency.

세정액과 초음파 진동에 의한 노즐 세정이 완료되면, 제어부(100)는, 승강 기구(51b)를 제어하여 슬릿 노즐(2)을 세정조(66)로부터 끌어올린다(단계 S4). 그에 계속해서, 제어부(100)는, 진동자 구동부(681)에 의한 초음파 진동자(68)의 구동을 정지시킨다(단계 S5). 이렇게 하여, 저류 영역(665)에 저류된 세정액에 의한 세정이 1회 완료되면, 제어부(100)는 연속 세정 횟수를 「1」만큼 인크리먼트한다(단계 S6).When the nozzle cleaning by the cleaning liquid and ultrasonic vibration is completed, the control unit 100 controls the lifting mechanism 51b to raise the slit nozzle 2 from the cleaning tank 66 (step S4). Subsequently, the control unit 100 stops the driving of the ultrasonic vibrator 68 by the vibrator driving unit 681 (step S5). In this way, when cleaning with the cleaning liquid stored in the storage area 665 is completed once, the control unit 100 increments the number of consecutive cleanings by “1” (step S6).

이 연속 세정 횟수가 미리 설정한 규정 횟수에 도달하지 못한 동안(단계 S7에서 「NO」), 제어부(100)는 단계 S1로 되돌아가 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정 동작을 반복한다. 한편, 저류 영역(665)에 저류된 세정액을 그대로 사용하여 세정 유닛(62)에 의한 노즐 세정 동작이 규정 횟수만큼 연속하여 행해지면, 제어부(100)는, 세정액의 세정 성능이 저하함과 더불어 제거한 분산 재료(DM)의 양이 모여 있다고 판단한다. 그래서, 제어부(100)는 밸브(696)를 열어, 저류 영역(665)의 선단 부위(665a)에 모아진 분산 재료(DM)를, 사용 완료된 세정액과 함께 배액 배관(692)을 통하여 배액 회수부로 회수한다. 또, 제어부(100)는, 밸브(693)을 열어 세정액 공급원으로부터 프레시한 세정액을 린스액으로서 공급 배관(691)을 통하여 세정조(66)에 공급한다. 이에 의하여, 저류 영역(665)이 세정액(린스액)에 의하여 씻겨 나간다(린스 처리, 단계 S8).While this number of consecutive cleanings has not reached the preset number of times (“NO” in step S7 ), the control unit 100 returns to step S1 to repeat the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 62 . On the other hand, when the nozzle cleaning operation by the cleaning unit 62 is continuously performed for a prescribed number of times using the cleaning liquid stored in the storage area 665 as it is, the control unit 100 reduces the cleaning performance of the cleaning liquid and removes the It is determined that the amount of the dispersion material (DM) is gathered. Therefore, the control unit 100 opens the valve 696 and collects the dispersed material DM collected in the tip portion 665a of the storage area 665, together with the used cleaning liquid, through the drainage pipe 692 to the drainage recovery unit. do. Further, the control unit 100 opens the valve 693 to supply the cleaning liquid fresh from the cleaning liquid supply source to the cleaning tank 66 through the supply pipe 691 as a rinse liquid. Thereby, the storage area 665 is washed out by the washing liquid (rinsing liquid) (rinsing process, step S8).

이 린스 처리를 일정 시간만큼 행한 후에, 제어부(100)는, 밸브(693)의 열림 상태를 유지한 채로 밸브(696)를 닫아 세정액의 저류 영역(665)으로의 저류를 개시한다. 또, 밸브(696)의 닫힘과 동시 혹은 늦게, 제어부(100)는 밸브(695)를 연다. 그 후, 오버플로관(666)을 통하여 잉여의 세정액이 저류 영역(665)으로부터 배액되는 것을 검지하면, 제어부(100)는 밸브(693, 695)를 닫아 세정액의 저류를 완료한다(단계 S9). 여기서, 세정액의 오버플로에 대해서는, 배액 배관(694)을 흐르는 세정액을 센서로 검지해도 되고, 세정액의 저류 개시(밸브(696)의 닫힘)로부터의 경과 시간에 의거하여 검지해도 된다.After the rinsing process is performed for a certain period of time, the control unit 100 closes the valve 696 while maintaining the open state of the valve 693 to start storage of the cleaning liquid in the storage area 665 . Also, at the same time or later when the valve 696 is closed, the control unit 100 opens the valve 695 . After that, when it is detected that the excess cleaning liquid is drained from the storage area 665 through the overflow pipe 666, the control unit 100 closes the valves 693 and 695 to complete the storage of the cleaning liquid (step S9). . Here, as for the overflow of the cleaning liquid, the cleaning liquid flowing through the drain pipe 694 may be detected by a sensor, or may be detected based on the elapsed time from the start of storage of the cleaning liquid (closing of the valve 696 ).

이렇게 하여 프레시한 세정액의 저류가 완료되면, 제어부(100)는, 연속 세정 횟수를 클리어한(단계 S10) 후에, 단계 S1로 되돌아가 노즐 세정 처리를 반복한다.When the storage of the fresh cleaning liquid in this way is completed, the control unit 100 clears the number of consecutive cleanings (step S10), and then returns to step S1 to repeat the nozzle cleaning process.

이상과 같이, 본 실시 형태에 의하면, X방향에서 보았을 때 저류 영역(665)이 초음파 진동자(68)를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되어 있기 때문에, 다음과 같은 작용 효과가 얻어진다. 이 저류 영역(665)에 저류되는 세정액의 양, 저류 영역(665)으로부터 사용 완료된 세정액의 배출에 필요로 하는 시간, 및 저류 영역(665)으로의 세정액의 저류에 필요로 하는 시간은, 종래의 직사각형 단면 형상을 갖는 세정조보다 적어져, 러닝 코스트의 저감이나 노즐 세정에 필요로 하는 시간(이른바 택트 타임)의 단축을 도모할 수 있다. 또, 슬릿 노즐(2)로부터 제거된 잔류 부착물, 특히 분산 재료(DM)가 바닥벽(661)의 내저면을 따라 저류 영역(665)의 선단 부위(665a)에 모아져, 분산 재료(DM)가 바닥벽(661)의 내저면 전체에 퍼져 퇴적하는 것을 방지할 수 있다. 또, 이렇게 하여 모아진 분산 재료(DM)를 린스 처리에 의하여 세정액과 함께 X방향으로 씻어 내어, 세정조(66)로부터 확실히 배출할 수 있다. 또한, 도 5의 부분 확대도에 나타내는 바와 같이, 선단 부위(665a)는, X방향과 직교하는 YZ 평면에 있어서 호상의 오목부로 마무리된 상태로 X방향으로 연장 설치된 홈 구조를 갖기 때문에, 분산 재료(DM)에 대한 선단 부위(665a)의 접촉 저항이 억제된다. 이들에 의하여, 슬릿 노즐(2)의 세정을 더욱 효율적으로 행하는 것이 가능하게 되어 있다.As described above, according to the present embodiment, since the storage region 665 is finished in a shape that narrows toward the ultrasonic vibrator 68 when viewed from the X direction, the following effects are obtained. The amount of cleaning liquid stored in the storage area 665 , the time required for discharging the used cleaning liquid from the storage area 665 , and the time required for storage of the cleaning liquid into the storage area 665 are conventional It becomes smaller than the washing tank which has a rectangular cross-sectional shape, and reduction of a running cost and shortening of the time (so-called tact time) required for nozzle washing can be aimed at. Further, the residual deposits removed from the slit nozzle 2, particularly the dispersion material DM, are collected along the inner bottom surface of the bottom wall 661 at the tip portion 665a of the storage region 665, so that the dispersion material DM is formed. Spreading over the entire inner bottom surface of the bottom wall 661 can be prevented. In addition, the dispersed material DM collected in this way can be washed in the X direction together with the cleaning liquid by the rinse process, and can be reliably discharged from the cleaning tank 66 . Further, as shown in the partially enlarged view of FIG. 5 , the tip portion 665a has a groove structure extending in the X direction in a state of being finished with an arc-shaped concave in the YZ plane orthogonal to the X direction. The contact resistance of the tip portion 665a with respect to DM is suppressed. Thereby, it is possible to perform washing|cleaning of the slit nozzle 2 more efficiently.

또, 세정조 하단부(664)가 초음파 진동자(68)를 향하여 끝이 좁아지는 형상을 가짐으로써, 다음의 작용 효과도 얻어진다. 초음파 진동자(68)의 작동 시에 냉각수(672) 중에서 발생하는 기포(B)가, X방향에서 보았을 때 초음파 진동자(68)를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리된 바닥벽(661)의 외측면(날개 부위(661b, 661c)의 산측면)을 따라 냉각수(672)로부터 외기로 방출된다. 따라서, 상기 세정액에 의한 세정과 함께, 기포(B)의 영향을 배제하면서 초음파 진동을 슬릿 노즐(2)에 부여할 수 있다. 그 결과, 잔류 부착물을 더욱 높은 효율로 제거할 수 있다.Moreover, the following effect is also acquired by having the shape which the edge of the washing|cleaning tank lower end part 664 narrows toward the ultrasonic vibrator 68. As shown in FIG. The outer surface of the bottom wall 661 finished in a shape in which air bubbles B generated in the cooling water 672 during operation of the ultrasonic vibrator 68 are tapered toward the ultrasonic vibrator 68 when viewed from the X direction. It is discharged from the cooling water 672 to the outside air along (the mountain side of the wing portions 661b and 661c). Accordingly, ultrasonic vibration can be applied to the slit nozzle 2 while excluding the influence of the bubbles B together with the cleaning with the cleaning liquid. As a result, residual deposits can be removed with higher efficiency.

이상과 같이, 상기 실시 형태에서는, 슬릿 노즐(2)의 하단부(2a)가 본 발명의 「노즐 하단부」의 일례에 상당하고 있다. 또, 냉각수(672)가 본 발명의 「액체」의 일례에 상당하고 있다. 또, 저류 영역(665)의 선단 부위(665a)가 본 발명의 「홈」의 일례에 상당하고, 선단 부위(665a)에 대하여 (-Y)방향측에 설치되는 날개 부위(661b)의 골측면이 본 발명의 「제1 저류 경사면」의 일례에 상당하고, 선단 부위(665a)에 대하여 (+Y)방향측에 설치되는 날개 부위(661c)의 골측면이 본 발명의 「제2 저류 경사면」의 일례에 상당하고 있다. 또, 노즐 보디(23, 25)의 하단부(23a, 25a)의 외측의 면이 각각 본 발명의 「제1 립면」 및 「제2 립면」의 일례에 상당하고 있다. 또한, X방향이 본 발명의 「제1 수평 방향」에 상당하고, Y방향이 본 발명의 「제2 수평 방향」에 상당함과 더불어, (-Y)방향측 및 (+Y)방향측이 각각 본 발명의 「제2 수평 방향의 일방측」 및 「제2 수평 방향의 타방측」에 상당하고 있다. (-Z)방향이 본 발명의 「하방」에 상당하고 있다.As mentioned above, in the said embodiment, the lower end part 2a of the slit nozzle 2 corresponds to an example of the "nozzle lower end part" of this invention. Moreover, the cooling water 672 corresponds to an example of "liquid" of this invention. In addition, the tip portion 665a of the storage region 665 corresponds to an example of the "groove" of the present invention, and the bone side of the wing portion 661b provided on the (-Y) direction side with respect to the tip portion 665a. Corresponding to an example of the "first storage slope" of the present invention, the trough side of the wing portion 661c provided on the (+Y) direction side with respect to the tip portion 665a is the "second storage slope" of the present invention. corresponds to an example of Moreover, the surface of the outer side of the lower end parts 23a, 25a of the nozzle bodies 23 and 25 corresponds to an example of "1st lip surface" and "2nd lip surface" of this invention, respectively. In addition, while the X direction corresponds to the "first horizontal direction" of the present invention, and the Y direction corresponds to the "second horizontal direction" of the present invention, the (-Y) direction side and the (+Y) direction side are They correspond to "the one side of a 2nd horizontal direction" and "the other side of a 2nd horizontal direction" of this invention, respectively. The (-Z) direction corresponds to "downward" of the present invention.

또한, 본 발명은 상기한 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 그 취지를 벗어나지 않는 한에 있어서 상술한 것 이외에 다양한 변경을 행하는 것이 가능하다. 예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 상기 린스 처리에서 사용하는 린스액으로서 세정액을 이용하고 있다. 즉, 린스액과 세정액을 동일 성분의 액체를 이용하고 있다. 그러나, 린스액을 세정액과 상이한 액체, 예를 들면 DIW(deionized water)를 이용해도 된다.In addition, this invention is not limited to above-mentioned embodiment, Unless it deviates from the meaning, it is possible to make various changes other than what was mentioned above. For example, in the above embodiment, a washing liquid is used as the rinsing liquid used in the rinsing process. That is, the liquid of the same component is used for the rinse liquid and the cleaning liquid. However, a liquid different from the cleaning liquid, for example, DIW (deionized water) may be used for the rinse liquid.

또, 도 6 및 도 7에 나타내어지는 바와 같이, 세정조(66)는, 그 내부에 저류되는 세정액에 대하여, 세정 대상인 슬릿 노즐(2) 중 적어도 하단부(2a)를 침지 가능한 개구를 갖고 있으면 된다. 이 목적을 위하여, 세정조(66) 상단의 개구의 길이(X방향 사이즈)에 대해서는 노즐(2)의 하단부(2a)의 길이(X방향 사이즈)보다 크고, 또한 개구의 폭(Y방향 사이즈)(W6)에 대해서는 노즐(2)의 하단부(2a)의 폭(Y방향 사이즈; 도 4에 나타내는 부호 W2a)보다 커지도록 해도 된다.Further, as shown in Figs. 6 and 7, the washing tank 66 may have an opening capable of immersing at least the lower end 2a of the slit nozzle 2 to be cleaned with respect to the washing liquid stored therein. . For this purpose, the length (X-direction size) of the opening at the upper end of the cleaning tank 66 is greater than the length (X-direction size) of the lower end 2a of the nozzle 2, and the width of the opening (Y-direction size) About W6, you may make it larger than the width (Y-direction size; code|symbol W2a shown in FIG. 4) of the lower end part 2a of the nozzle 2.

또, 상기 실시 형태에서는, 세정조(66)의 바닥벽(661)을 절곡하여 성형하고 있지만, 바닥벽(661)과 봉 형상 부재(662b, 662c)를 일체적으로 성형하거나, 또는 세정조(66) 전체를 일체 성형에 의하여 제조해도 된다. 즉, 세정조(66)의 제조 방법은 임의이다.In the above embodiment, the bottom wall 661 of the cleaning tank 66 is bent and formed, but the bottom wall 661 and the rod-shaped members 662b and 662c are integrally formed or the cleaning tank ( 66) The whole may be manufactured by integral molding. That is, the manufacturing method of the washing tank 66 is arbitrary.

또, 상기 실시 형태에서는, 본 발명의 「홈」에 상당하는 선단 부위(665a)의 YZ 단면 형상을 호상으로 마무리하고 있지만, 당해 형상에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 직사각형 형상으로 마무리해도 된다.Moreover, in the said embodiment, although the YZ cross-sectional shape of the front-end|tip part 665a corresponded to the "groove" of this invention is finished in arc shape, it is not limited to the said shape, For example, you may finish in rectangular shape.

또한, 도포 대상이 되는 기판(3)에 대해서도, 액정 표시 장치용 유리 기판, 반도체 기판, PDP용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 직사각형 유리 기판, 필름 액정용 플렉시블 기판, 유기 EL용 기판 등의 다양한 기판을 이용할 수 있다.Further, about the substrate 3 to be applied, a glass substrate for a liquid crystal display device, a semiconductor substrate, a glass substrate for a PDP, a glass substrate for a photomask, a substrate for a color filter, a substrate for a recording disk, a substrate for a solar cell, an electronic paper Various substrates such as substrates for precision electronic devices such as substrates for use, rectangular glass substrates, flexible substrates for film liquid crystals, and substrates for organic EL can be used.

이 발명은, 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치 및 당해 노즐 세정 장치를 장비하는 도포 장치 전반에 적용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICATION This invention is applicable to the nozzle washing|cleaning apparatus which wash|cleans the nozzle which discharges a dispersion system coating liquid, and the coating apparatus in general equipped with the said nozzle washing|cleaning apparatus.

1: 도포 장치 2: 슬릿 노즐
2a: (노즐) 하단부 3: 기판
21: (노즐의) 토출구 62: 세정 유닛(노즐 세정 장치)
66: 세정조 67: 액체조
68: 초음파 진동자 661: 바닥벽
661a: (바닥벽의) 산절 부위 661b, 661c: 날개 부위
664: 세정조 하단부 665: 저류 영역
665a: (저류 영역의) 선단 부위 672: 냉각수(액체)
681: 진동자 구동부 B: 기포
DM: 분산 재료 X: 제1 수평 방향
Y: 제2 수평 방향
1: Applicator 2: Slit nozzle
2a: (nozzle) lower part 3: substrate
21: discharge port (of the nozzle) 62: cleaning unit (nozzle cleaning device)
66: washing tank 67: liquid tank
68: ultrasonic vibrator 661: bottom wall
661a: umbilical region (of the bottom wall) 661b, 661c: wing region
664: washing tank lower part 665: storage area
665a: tip (in the storage area) 672: coolant (liquid)
681: vibrator driving unit B: bubble
DM: dispersion material X: first horizontal direction
Y: second horizontal direction

Claims (7)

노즐 하단부에 형성된 제1 수평 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구로부터 분산계 도포액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로서,
상기 노즐 하단부를 세정하는 세정액을 저류하는 저류 영역이 형성되는 세정조 하단부, 및, 상기 저류 영역에서 저류되는 상기 세정액 중에 상기 노즐 하단부를 침지 가능하게 하는 개구부를 갖는 세정조와,
액체를 저류하면서 상기 액체 중에 상기 세정조 하단부를 침지시킨 상태로 상기 세정조의 하방에 설치되는 액체조와,
상기 액체조에 저류된 상기 액체 중에서 초음파 진동을 발생시켜, 상기 액체, 상기 세정조 하단부 및 상기 세정액을 통하여 상기 노즐 하단부에 초음파 진동을 부여하는 초음파 진동자를 구비하고,
상기 세정조 하단부 및 상기 저류 영역이, 상기 제1 수평 방향에서 보았을 때, 상기 초음파 진동자를 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되어 있는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
A nozzle cleaning apparatus for cleaning a nozzle that discharges a dispersion-based coating liquid from a first horizontally extending slit-shaped discharge port formed at the lower end of the nozzle, comprising:
a cleaning tank having a lower end of the cleaning tank in which a storage area for storing the cleaning liquid for cleaning the lower end of the nozzle is formed, and an opening through which the lower end of the nozzle can be immersed in the cleaning liquid stored in the storage area;
a liquid tank installed below the cleaning tank in a state in which the lower end of the cleaning tank is immersed in the liquid while storing the liquid;
and an ultrasonic vibrator for generating ultrasonic vibrations in the liquid stored in the liquid tank and applying ultrasonic vibrations to the nozzle lower end through the liquid, the lower end of the cleaning tank, and the cleaning liquid;
The nozzle cleaning apparatus, characterized in that the lower end of the cleaning tank and the storage area are finished in a shape that is narrowed toward the ultrasonic vibrator when viewed in the first horizontal direction.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 수평 방향의 일방측에서 상기 저류 영역을 린스하는 린스액 및 상기 세정액을 공급함과 더불어, 상기 제1 수평 방향의 타방측에서 상기 저류 영역으로부터 상기 린스액 및 상기 세정액을 배출하는, 노즐 세정 장치.
The method according to claim 1,
Nozzle cleaning in which a rinse liquid and a cleaning liquid for rinsing the storage area are supplied from one side in the first horizontal direction, and the rinse liquid and the cleaning liquid are discharged from the storage area on the other side in the first horizontal direction Device.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 저류 영역은,
상기 제1 수평 방향으로 연장되는 홈과,
상기 홈에 대하여 상기 제1 수평 방향과 직교하는 제2 수평 방향의 일방측에 설치되어 상기 홈을 향하여 경사진 제1 저류 경사면과,
상기 홈에 대하여 상기 제2 수평 방향의 타방측에 설치되어 상기 홈을 향하여 경사진 제2 저류 경사면
을 갖고,
상기 분산계 도포액에 포함되는 상기 세정액에 대하여 불용해성의 고형물을, 상기 제1 저류 경사면 및 상기 제2 저류 경사면에 의하여 상기 홈으로 안내하는, 노즐 세정 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The storage area is
a groove extending in the first horizontal direction;
a first storage inclined surface installed on one side of the second horizontal direction perpendicular to the first horizontal direction with respect to the groove and inclined toward the groove;
A second storage inclined surface installed on the other side of the second horizontal direction with respect to the groove and inclined toward the groove
have,
A nozzle cleaning apparatus for guiding a solid material insoluble in the cleaning liquid contained in the dispersion-based coating liquid to the groove by the first storage inclined surface and the second storage inclined surface.
청구항 3에 있어서,
상기 노즐이, 하방을 향하여 끝이 좁아지는 형상으로 마무리되고, 상기 토출구에 대하여 상기 제2 수평 방향의 일방측에서 상기 노즐 하단부의 하면을 향하여 경사진 제1 립면과, 상기 토출구에 대하여 상기 제2 수평 방향의 타방측에서 상기 노즐 하단부의 하면을 향하여 경사진 제2 립면을 가질 때,
상기 세정조는, 상기 홈이 상기 토출구에 대향하고, 상기 제1 저류 경사면이 상기 제1 립면에 대향하고, 상기 제2 저류 경사면이 상기 제2 립면에 대향하도록 배치되는, 노즐 세정 장치.
4. The method according to claim 3,
The nozzle is finished in a shape that is tapered downward, and a first lip surface inclined toward the lower surface of the lower end of the nozzle from one side in the second horizontal direction with respect to the discharge port, and the second lip surface with respect to the discharge port When it has a second lip surface inclined toward the lower surface of the lower end of the nozzle from the other side in the horizontal direction,
and the cleaning tank is arranged such that the groove faces the discharge port, the first storage inclined surface faces the first lip surface, and the second storage inclined surface faces the second lip surface.
청구항 3에 있어서,
상기 홈이, 상기 제1 수평 방향에서 보았을 때, 호상(弧狀)으로 마무리되어 있는, 노즐 세정 장치.
4. The method according to claim 3,
The nozzle cleaning apparatus in which the said groove|channel is finished in the arc shape when seen in the said 1st horizontal direction.
청구항 4에 있어서,
상기 홈이, 상기 제1 수평 방향에서 보았을 때, 호상으로 마무리되어 있는, 노즐 세정 장치.
5. The method according to claim 4,
The nozzle cleaning apparatus according to claim 1, wherein the groove is finished in an arc shape when viewed in the first horizontal direction.
노즐 하단부에 형성된 제1 수평 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구로부터 분산계 도포액을 노즐로부터 토출하여 기판에 상기 분산계 도포액을 도포하는 도포 처리부와,
상기 노즐을 세정하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 노즐 세정 장치
를 구비하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
a coating processing unit for discharging the dispersion-based coating liquid from the nozzle through a first horizontally extending slit-shaped discharge port formed at the lower end of the nozzle to apply the dispersion-based coating liquid to the substrate;
The nozzle cleaning apparatus according to claim 1 or 2, which cleans the nozzle.
An application device comprising a.
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