JP6575177B2 - 接触水素還元による製造方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、一般式(i)
一般式(i)
一般式(i)
(製法1)一般式(ia−1)で表される化合物の合成方法
1−ブロモ−4−ヨードベンゼンと4−ペンチルフェニルアセチレンに触媒としてテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを用い、塩基としてトリエチルアミンを用いた園頭反応により、ブロモ基を有するトラン誘導体(S−1)を選択的に得ることができる。次いで、2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェニルホウ酸とをテトラヒドロフラン溶媒下で鈴木カップリング反応を行うことにより目的化合物(ia−1)を得ることができる。
4−アセトキシ安息香酸と2,3−ジフロロ−4−プロポキシフェノールとのジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤を用いたエステル化反応により安息香酸誘導体(S−2)を得る。次いでブチルアミンでアセチル保護を外して、ヒドロキシ安息香酸誘導体(S−3)を得て、更に無水トリフロオロメタンスルホン酸によりフェノール基がトリフラート化された安息香酸誘導体(S−4)を得る。安息香酸誘導体(S−4)と2−フルオロ−4−ペンチルフェニルアセチレンとを触媒としてテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを用い、塩基としてトリエチルアミンを用いた園頭反応により、目的化合物(ib−3)を得ることができる。
6−ブロモ−3,4−ジフルオロナフトールと2,3−ジフロロ−4−メトキシフェニルホウ酸とをテトラヒドロフラン溶媒下で鈴木カップリング反応を行うことによりヒドロキシフェニルナフタレン誘導体(S−5)を得ることができる。次いで、無水トリフロオロメタンスルホン酸によりナフトール基がトリフラート化されたフェニルナフタレン誘導体(S−6)を得る。更に4−ブチルフェニルアセチレンとを触媒としてテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを用い、塩基としてトリエチルアミンを用いた園頭反応により、目的化合物(ic−3)を得ることができる。
4−ブロモ−ベンズアルデヒドと2,3−ジフロロ−4−エチルフェニルホウ酸とをテトラヒドロフラン溶媒下で鈴木カップリング反応を行うことによりビフェニル誘導体(S−7)を得ることができる。次いで、トリフェニル(4−プロピルベンジル)ホスホニウムブロミドとのウィッティヒ反応により、目的化合物(if−1)を得ることができる。
一般式(iib)で表される化合物としては、下記一般式(iif−1)〜一般式(iif−4)が好ましい。
一般式(iic)で表される化合物としては、下記一般式(iic−1)〜一般式(iic−2)が好ましい。
(製法5)一般式(iia−1)で表される化合物の合成方法
撹拌装置備えたオートクレーブ容器に、(ia−1)に示される化合物を加え、5%パラジウムカーボン(含水品)、溶媒として、テトラヒドロフランを仕込み、0.3MPaの水素にて還元反応(室温、8時間)を行うことにより目的化合物(iia−1)を得ることができる。
(GC分析条件)
カラム:Agilent Technologies,J&W Column DB−1HT,15m×0.25mm×0.10μm
温度プログラム:100℃(1分間)−(20℃/分間)−250℃−(10℃/分間)−380℃−(7℃/分間)−400℃(2.64分間)
注入口温度:350℃
検出器温度:400℃
(実施例1)式(i−1)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−4’−((4−プロピルフェニル)エチニル)−1,1‘−ビフェニルの製造方法
相転移温度(℃):Cr 121 N 222 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.47(t,3H),1.60−1.65(m,2H),2.34(t,2H),4.12(q,2H),6.76−6.80(m,1H),7.16−7.27(m,3H),7.45−7.57(m,4H),7.57(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.7,24.3,37.9,65.4,88.5,90.4,109.5,120.3,122.3,122.8,123.5,128.5,128.6,131.5,131.7,134.5,143.3
(実施例2)式(i−2)で表される2−((4−ブチルフェニル)エチニル)−6−(2,3−ジフロロ−4−メトキシフェニル)ナフタレンの製造方法
相転移温度(℃):Cr 143 N >250 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.33(m,2H),1.45(m,2H),2.34(t,2H),3.83(s,3H),7.02(m,1H),7.18(m,2H),7.35−7.47(m,6H),7.78(m,1H),7.98−8.03(m,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.7,24.1,37.9,65.37.6,37.7,55.8,89.7,92.1,109.5,119.7,122.7,123.6,127.8,128.0,129.7,131.4,132.6,133.1,141.8,149.2,150.0
(比較例1)式(i−1−A)で表される4−((4−エトキシ−2,3−ジフロロフェニル)エチニル)−4’−プロピル−1,1‘−ビフェニルの製造方法
相転移温度(℃):Cr 146 N 240 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.47(t,3H),1.60−1.65(m,2H),2.34(t,2H),4.12(q,2H),6.66−6.80(m,1H),7.06−7.17(m,3H),7.45−7.57(m,4H),7.67(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.7,24.3,37.9,65.4,90.3,92.4,111.2,122.3,122.8,123.8,124.6,128.5,128.6,131.7,132.8,134.5,143.3
以上のように実施例1と比較して融点が高く、溶解性に劣る結果であった。
(実施例3)式(ii−1)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−4’−((4−プロピルフェニル)エチル)−1,1‘−ビフェニルの製造方法
相転移温度(℃):Cr 78.5 N 104 Iso
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.47(t,3H),1.60−1.65(m,2H),2.34(t,2H),2.90−2.94(m,4H),4.14(q,2H),6.76−6.80(m,1H),7.06−7.14(m,3H),7.35−7.37(m,4H),7.43(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.8,14.7,24.6,37.4,65.37.6,37.7,65.3,109.5,123.4,123.5,128.2,128.4,128.6,132.4,138.8,140.3,141.5
(実施例4)式(ii−2)で表される2−(1−(4−ブチルフェニル)エチル)−6−(2,3−ジフロロ−4−メトキシフェニル)ナフタレンの製造方法
相転移温度(℃):Cr 102 N 215 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.33(m,2H),1.45(m,2H),2.34(t,2H),2.82−2.94(m,4H),3.83(s,3H),7.02−7.12(m,5H),7.32(m,1H),7.48−7.54(m,3H),7.68(m,1H),7.73−7.83(m,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.7,24.1,37.9,65.37.6,37.7,55.8,109.5,122.7,123.6,127.8,128.0,129.7,131.4,132.6,133.1,141.8,149.2,150.0
(比較例2)式(ii−1−A)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−4’−((4−プロピルフェニル)エチル)−1,1‘−ビフェニルの製造方法
テトラヒドロフランを減圧留去しトルエン( 300mL)、ヘキサン( 200mL)、及び水(500mL)を加えて水洗し、有機層を飽和食塩水(500mL)にて洗浄した。無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した後、有機溶媒を減圧留去し、(8)に示す2−(4−(4−プロピルスチリル)フェノキシ)テトラヒドロ−2H−ピランを22g得た。
以上のように実施例3と比較して、GC純度が低く、且つ収率も低めであった。
(実施例5)式(i−3)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−4’−((4−プロピルスチリル)−1,1‘−ビフェニルの製造方法
相転移温度(℃):Cr 132 N 252 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.95(t,3H),1.47(m,3H),1.61−1.68(m,2H),2.57(t,2H),4.12−4.17(m,2H),6.78(m,1H),7.06−7.12(m,3H),7.17−7.24(m,2H),7.45−7.48(m,4H)7.54(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.8,24.1,37.9,64.3,110.2,127.4,123.6,126.9,127.8,128.0,128.7,129.7,131.4,135.7,136.4,141.8,148.2,148.8
(実施例6)(ii−1−A)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−4’−((4−プロピルフェニル)エチル)−1,1‘−ビフェニル
(実施例7)式(i−4)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−フェニル−4−(4−プロピルスチリル)ベンゾアートの製造方法
相転移温度(℃):Cr 115 Sm 145 N 245 Iso
(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.95(t,3H),1.47(m,3H),1.61−1.68(m,2H),2.57(t,2H),4.12−4.17(m,2H),6.78−6.82(m,3H),6.91−7.12(m,3H),7.17−7.24(m,2H),7.61(d,2H),7.76(d,2H),7.89(d,2H),7.54(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.8,24.1,37.9,64.3,110.2,112.4,119.6,126.9,127.8,128.0,128.7,129.0,130.2,134.8,152.1,165.2
(実施例8)(ii−1−G)で表される4−エトキシ−2,3−ジフロロ−フェニル(4−プロピルフェニル)エチル)ベンゾアート
相転移温度(℃):Cr 88 N 150 Iso
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.95(t,3H),1.47(m,3H),1.61−1.68(m,2H),2.57(t,2H),2.86(m,4H),4.12−4.17(m,2H),6.78−6.82(m,1H),6.96−6.99.(m,3H),7.05−7.09(m,4H),8.10(d,2H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:13.7,14.8,24.1,37.4,37.9,64.3,110.2,112.4,119.6,126.9,127.8,128.0,128.7,129.0,131.4,139.5,152.1,165.2
(実施例7〜8、比較例3)
また、下記に示す化合物を含有した液晶組成物LC−1を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。
Claims (4)
- 一般式(i)
- 請求項1に記載の一般式(ii)におけるMi1及びMi2の少なくとも一方がナフタレン−2,6−ジイル基を表す化合物。
- 請求項3に記載の化合物を1種又は2種以上含有する組成物。
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