JP6573164B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
前記プラズマ処理装置は、
前記基板をプラズマ処理する処理室と、
前記処理室の内部に配された電極部と、
前記電極部を覆うように配され、かつ前記基板を載置する載置面を有する基板載置部と、
前記電極部に電気的に接続された高周波電源部と、を備え、
前記基板載置部は、前記電極部と電気的に接続された導体プレートと、誘電体プレートと、を備え、
前記導体プレートは、単独で、または、前記電極部と協働して、前記基板の底面に対向するように配された凸面と、前記凸面に隣接する凹面とを形成している、プラズマ処理装置に関する。
本発明の第1局面に係るプラズマ処理装置では、前記凹面が前記誘電体プレートで覆われており、かつ前記凹面と前記誘電体プレートとの間に、空隙を有する。
本発明の第2局面に係るプラズマ処理装置では、前記導体プレートは、複数の前記凸面を形成し、前記基板の上面には、複数のデバイス形成領域が間隔をあけて形成されており、複数の前記凸面は、それぞれ対応する前記デバイス形成領域の下方で、前記基板の底面に対向するように配されている。
本発明の第3局面に係るプラズマ処理装置では、前記導体プレートは、複数の前記凸面を形成し、前記複数の前記凸面の一部の前記電極部からの高さは、他の前記凸面の高さとは異なる。
図1は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す縦断面図である。プラズマ処理装置1は、基板10をプラズマ処理する処理室2と、処理室2の内部に配された電極部3と、電極部3を覆うように配された基板載置部9と、電極部3に電気的に接続された高周波電源部5とを備える。一対の案内部(ガイド部)8は、基板10の一対の縁部を挟みこむように配置されている。
図2は、本発明の第2実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す縦断面図である。図2のプラズマ処理装置11は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置1とは、基板載置部19の構造が異なるだけでその他の要素は第1実施形態と同じである。
図3は、本発明の第3実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す縦断面図である。図3のプラズマ処理装置21は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置1とは、基板載置部29の導体プレート16の構造が異なるだけでその他の要素は第1実施形態と同じである。
図4は、本発明の第4実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す縦断面図である。図4のプラズマ処理装置31は、第2実施形態に係るプラズマ処理装置11と、基板載置部39の導体プレート16の構造が異なるだけでその他の要素は第2実施形態と同じである。また、導体プレート16の構造は、第3実施形態におけるものと同じである。
図5は、第5実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す縦断面図である。図5のプラズマ処理装置41は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置1と、基板載置部49の構造が異なるだけでその他の要素は第1実施形態と同じである。
複数の凸面間で電極部からの高さが異なる例を第6実施形態として図6に示す。
図6は、第6実施形態に係るプラズマ処理装置において、基板を基板載置部に載置した状態を概略的に示す縦断面図である。第6実施形態は、第4実施形態とは、基板載置部59の構造(特に、複数の凸面間で電極部からの高さ)が異なるだけでその他の要素は第4実施形態と同じである。
基板の表面の一部にデバイス形成領域を形成する場合、デバイス形成領域を高いエッチング速度でプラズマ処理を行う一方、他の領域については緩やかなプラズマ処理を行うこともできる。デバイス形成領域が形成された基板をプラズマ処理する場合を第7実施形態として図7〜図9に示す。
なお、第7実施形態では、複数の凸面の電極部からの高さは、互いに同じである。
基板の表面にデバイス形成領域を形成する場合にも、複数の凸部の電極部からの高さを、凸部間で相違させてもよい。凸部の高さを、個々に設定することで、デバイス形成領域におけるイオンの入射エネルギー(ひいてはエッチング速度)を調節することができる。この場合の例を、第8実施形態として図10〜図12に示す。
図13は、本発明の第9実施形態に係るプラズマ処理装置を模式的に示す斜視図である。図14は、図13のプラズマ処理装置における基板載置部を模式的に示す上面図である。これらの図は、基板の載置状態を説明するための図である。プラズマ処理装置101は、基板10が載置される基板載置部89や電極部を備えるベース部分102と、プラズマ処理を行う処理室を形成するためのカバー103とを備える。
プラズマ処理装置の処理室には、ガス供給源からプラズマ処理に使用されるプロセスガスが供給される。プロセスガスとしては、プラズマ処理の用途に応じて公知のものから適宜選択できる。
処理室内の圧力は、処理室内の排気を、減圧ポンプなどの減圧機構により調節することで制御される。
誘電体プレートは、必ずしも導体プレートの少なくとも一部を覆うように配置する必要はない。しかし、誘電体プレートは、できるだけ導体プレートの少なくとも一部を覆うように配置することが好ましく、導体プレート全体(上面全体)を覆うように配置してもよい。
基板載置部において、載置面の個数は特に制限されず、1つであってもよく、複数であってもよい。
Claims (14)
- 基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ処理装置は、
前記基板をプラズマ処理する処理室と、
前記処理室の内部に配された電極部と、
前記電極部を覆うように配され、かつ前記基板を載置する載置面を有する基板載置部と、
前記電極部に電気的に接続された高周波電源部と、を備え、
前記基板載置部は、前記電極部と電気的に接続された導体プレートと、誘電体プレートと、を備え、
前記導体プレートは、単独で、または、前記電極部と協働して、前記基板の底面に対向するように配された凸面と、前記凸面に隣接する凹面とを形成し、
前記凹面が前記誘電体プレートで覆われており、かつ前記凹面と前記誘電体プレートとの間に、空隙を有する、プラズマ処理装置。 - 前記導体プレートは、前記電極部から取り外し可能である、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体プレートは、前記導体プレートの少なくとも一部を覆うように配されており、
前記誘電体プレートの底面が、前記凸面および前記凹面に嵌合する凹凸形状を有する、請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記導体プレートが前記凸面を形成し、前記電極部が前記凹面を形成している、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記導体プレートは、前記凹面を有するベース部と、前記ベース部から突出するとともに前記凸面を有する凸部とを備え、
前記導体プレートが、単独で、前記凸面と前記凹面とを形成している、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記凸面は、前記誘電体プレートの底面または前記基板の底面に接触するように配されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記導体プレートは、前記基板載置部の上面におけるエッチング速度の面内分布を調節する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記基板載置部の上面に前記基板を案内する案内部をさらに備える、請求項1〜7のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記案内部の少なくとも一部は、前記凸面と対向しないように設けられている、請求項8に記載のプラズマ処理装置。
- 前記導体プレートは、複数の前記凸面を形成している、請求項1〜9のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記基板載置部には、複数の基板をそれぞれ載置する複数の前記載置面が間隔をあけて設けられており、
複数の前記凸面は、それぞれ対応する前記基板の底面に対向するように配されている、請求項10に記載のプラズマ処理装置。 - 基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ処理装置は、
前記基板をプラズマ処理する処理室と、
前記処理室の内部に配された電極部と、
前記電極部を覆うように配され、かつ前記基板を載置する載置面を有する基板載置部と、
前記電極部に電気的に接続された高周波電源部と、を備え、
前記基板載置部は、前記電極部と電気的に接続された導体プレートと、誘電体プレートと、を備え、
前記導体プレートは、単独で、または、前記電極部と協働して、前記基板の底面に対向するように配された凸面と、前記凸面に隣接する凹面とを形成し、
前記導体プレートは、複数の前記凸面を形成し、
前記基板の上面には、複数のデバイス形成領域が間隔をあけて形成されており、
複数の前記凸面は、それぞれ対応する前記デバイス形成領域の下方で、前記基板の底面に対向するように配されている、プラズマ処理装置。 - 前記複数の前記凸面の前記電極部からの高さは、互いに同じである、請求項10〜12のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ処理装置は、
前記基板をプラズマ処理する処理室と、
前記処理室の内部に配された電極部と、
前記電極部を覆うように配され、かつ前記基板を載置する載置面を有する基板載置部と、
前記電極部に電気的に接続された高周波電源部と、を備え、
前記基板載置部は、前記電極部と電気的に接続された導体プレートと、誘電体プレートと、を備え、
前記導体プレートは、単独で、または、前記電極部と協働して、前記基板の底面に対向するように配された凸面と、前記凸面に隣接する凹面とを形成し、
前記導体プレートは、複数の前記凸面を形成し、
前記複数の前記凸面の一部の前記電極部からの高さは、他の前記凸面の高さとは異なる、プラズマ処理装置。
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JP2015187854A JP6573164B2 (ja) | 2015-09-25 | 2015-09-25 | プラズマ処理装置 |
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