JP6569574B2 - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板を回転させる回転機構と、
前記処理液による処理が行われた後の回転する基板の表面に対し、基板を乾燥させるための乾燥液を供給する乾燥液供給ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板と乾燥液供給ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記乾燥液供給ノズルから供給される乾燥液の供給流量を制御する流量制御機構と、
前記乾燥液供給ノズルから供給された乾燥液が基板へ到達する位置である着液点を、基板の中心部側から周縁部側に向けて移動させる際に、前記着液点を基点にして形成される乾燥液の流線における、前記着液点の中心から、基板の回転中心側の端部までの距離Lが、予め設定した上限距離M以下となるように制御を行う制御部と、を備え、
前記制御部は、下記式に基づいて基板の中心部側への乾燥液の流入量を特定し、前記着液点が描く軌道円の単位区間から、基板の中心部側への乾燥液の流入量が予め設定した値となるようにすることにより、前記距離Lを制御することを特徴とする。
乾燥液の流入量={(Q/2)*t}/C (但し、t=D/v)
ここで、Dは乾燥液供給ノズルの開口直径[mm]、Qは乾燥液の供給流量[ml/s]、vは着液点の移動速度[mm/s]、Cは着液点が描く軌道円の周長[mm]である。
(a)前記制御部は、前記乾燥液の供給流量を変化させること、または前記乾燥液供給ノズルの移動速度を変化させることにより、前記距離Lが上限距離M以下となるように制御を行うこと。
以下、図3を参照しながら、当該構成について説明する。
上述の薬液やDIWは、ウエハWの処理を行う処理液に相当する。
本例のN2ノズル431は、IPAノズル411などが設けられた既述の第1ノズルアーム41とは異なる第2ノズルアーム43の先端部に設けられている。第2ノズルアーム43の基端部側は、保持部31に保持されたウエハWの中央部の上方側の位置と、当該ウエハWの上方位置から側方へと退避した位置との間でN2ノズル431を移動させるためのガイドレール44に接続されている。ガイドレール44には、第2ノズルアーム43を移動させるための駆動部441が設けられている。図3中、側方へと退避した第2ノズルアーム43を実線で示し、ウエハWの中央部の上方側へ進入した第2ノズルアーム43を破線(既述の第1ノズルアーム41と共通の破線)で示してある。
N2ノズル431は、開閉バルブV4を介してN2供給源74に接続されている。
基板搬送機構17により処理ユニット16内に搬入されたウエハWが、保持部31に設けられた保持ピン311によって保持されると、側方へ退避していた第1ノズルアーム41をウエハWの上方側へ進入させ、薬液ノズル413、DIWノズル412をウエハWの中心部POの上方位置に配置する。しかる後、回転機構である駆動部33、支柱部32を介してウエハWを所定の回転速度で回転させて薬液ノズル413より薬液を供給し、薬液処理を行う。
なお図4の配置状態におけるIPAノズル411からのIPAの吐出位置と、N2ノズル431からのN2ガスの吐出位置との位置関係を分かり易くするため、図5にはIPAノズル411と同じ方向にN2ノズル431を移動させたと仮定したときのN2ノズル431の配置位置、及びN2ガスの吐出位置を破線で示してある。
ウエハWの乾燥終了後、ウエハWの回転を停止させ、処理ユニット16内に基板搬送装置17を進入させて、保持部31から基板搬送装置17へウエハWを受け渡し、処理が完了したウエハWを処理ユニット16から取り出す。こうして、処理ユニット16におけるウエハWに対する一連の処理が終了する。
以下、図5〜図8を参照しながら、パターン倒壊などの欠陥が発生する仕組み、及びその対策である実施の形態に係るIPAの供給手法について、従来の手法と比較しながら説明する。
前記領域の観察結果によると、IPAノズル411から吐出され、着液点PAに到達したIPAは、IPA液膜711の液膜内を等方に広がろうとする。一方で、当該IPAに対しては、回転するウエハWからの遠心力が作用するため、IPAは、図6中に示す旋回流状のIPA流線710を形成しつつ、やがてIPA液膜711へと吸収されていく。このとき、ウエハWに供給されたIPAは、ウエハWの表面に形成されているパターン700内に入り込み、DIWと置換される。なお、図5においては、着液点PAの近傍領域に形成されているパターン700を模式的に示してある。
即ち、距離Lが長くなると、ウエハWの中心側へ流入するIPAの量が多くなり、IPAノズル411の移動に追随し切れないIPAが多くなって中心部側IPA液膜711aの幅が広がる。一方、距離Lを短くすると、ウエハWの中心側へ流入するIPAの量が少なくなり、中心部側IPA液膜711aの幅を狭くすることができる。
IPAが着液点PAから等方的に広がる場合、距離Lは、着液点PAよりもウエハWの中心部側へと流入するIPAの流量(以下、「IPA中心流入量」という)の影響を受ける。即ち、IPA中心流入量が多くなると距離Lは長くなり、IPA中心流入量が少なくなると距離Lは短くなる。また、ウエハWの中心部側と周縁部側とでは、着液点P Aが描く軌道円の周長が異なるので、当該軌道円への単位区間あたりのIPA中心流入量が変化する。即ち、IPAノズル411からのIPAの吐出量を一定としたとき、着液点P Aが描く軌道円の周長が短い中心部側では、単位区間あたりのIPA中心流入量は多くなる。一方、軌道円の周長が長い周縁部側では、単位区間あたりのIPA中心流入量は少なくなる。
着液点PAが十分に小さく(例えばIPAノズル411の開口直径と同じ)、等方的に広がるIPAの半量がウエハWの中心部側へ流入すると考えたとき、上述のIPA中心流入量は下記(1)式で表現することができる。
={(Q/2)*t}/C (但し、t=D/v) …(1)
ここで、DはIPAノズル411の開口直径[mm]、QはIPAの供給流量[ml/s]、vは着液点PAのスキャン速度[mm/s]、Cは着液点PAが描く軌道円の周長[mm]である。IPAの供給流量は、例えば1〜300ml/min(0.017〜5ml/s)の範囲が想定される。
既述のように厚さが不安定な中心部側IPA液膜711aに対して、ウエハWの回転に起因する大きな遠心加速度(遠心力)が加わると、当該領域のIPAが不均一に乾燥したり、中心部側IPA液膜711aから千切れたIPAがウエハWの表面に取り残される事象がさらに発生しやすくなるおそれもある。
この比較形態において、IPAノズル411の開口直径はD=2mm、IPAの供給流量はQ=0.54ml/sで一定である。
ここで、本実施の形態においてIPAに働く遠心加速度を「一定に保つ」とは、この値が厳密に一定に保たれるように操作変数を制御する場合に加え、例えば制御の安定性や応答速度などに応じて、遠心加速度の変動範囲が例えば目標値の±5%程度の範囲内に収まるように制御を実行する場合も含んでいる。
但し、より好適な欠陥の抑制効果が得られる範囲として、IPA中心流入量の目標値を0.001ml/mm以下の値に設定し、また着液点PAのIPAに働く遠心加速度の目標値を60〜13000m/s2(ウエハWの回転数で200〜3000rpm相当)の範囲内の値に設定する場合を例示することができる。
例えば着液点PAのスキャン速度を一定値に固定した条件下で、図10(a)の第2比較形態に示すようにIPAノズル411からのIPAの供給流量を一定に保つと、ウエハWの中央部側から周縁部側へと着液点PAが移動するに連れてIPA中心流入量は低下する(図10(b))。
IPA中心流入量の調節が可能であることの確認として、図9(a)、(b)の第2実施形態には、図10(b)に示す第2比較形態の周縁部におけるIPA中心流入量と一致するように、着液点PAの移動方向に沿ってIPAの供給流量を変化させた例を示している。
また、図9(a)、(b)に示した第2実施形態においても、図7(c)、(d)を用いて説明した例と同様に、着液点PAのIPAに働く遠心加速度が、当該着地点PAの移動方向に沿って一定となるように、ウエハWの回転数を変化させてもよいことは勿論である。
当該実施形態においては、図11に示すようにIPAノズル411aからのIPAの吐出位置よりも、ウエハWに対するIPA着液点PAの方がウエハWの回転中心から見て周縁部側に位置するように、IPA液の吐出方向を傾斜させた状態で配置される。ウエハWの中心部側から逃げる方向へ向けてIPAを吐出することにより、距離Lを短くすることができる。この結果、欠陥の発生に影響を及ぼす中心部側IPA液膜711aの幅を短くすることができる。
さらには、N2ノズル431からのN2ガスの供給を行うことも必須の要件ではなく、IPAノズル411からのIPAの供給位置を移動させてIPAの液膜を押し流す動作だけで、ウエハWの乾燥を終了してもよい。
一方で、着液点PAに供給されたIPAに働く遠心加速度を一定とすること単独でも、比較形態に比べて中心部側IPA液膜711aの不安定乾燥などの発生を抑制することは可能である。
即ち、図8(a)、(b)や図10(a)、(b)に示すIPA中心流入量が変動する場合について、着地点PAの移動方向に沿って当該着液点PAに供給されたIPAに働く遠心加速度を一定に保つように、図7(c)、(d)に記載の技術を適用してもよい。
16 処理ユニット
31 保持部
33 駆動部
41 第1ノズルアーム
411、411a
IPAノズル
42 ガイドレール
421 駆動部
71 IPA供給源
Claims (7)
- 基板の表面に処理液を供給した後に乾燥液を供給する処理を行う基板処理装置において、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板を回転させる回転機構と、
前記処理液による処理が行われた後の回転する基板の表面に対し、基板を乾燥させるための乾燥液を供給する乾燥液供給ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板と乾燥液供給ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記乾燥液供給ノズルから供給される乾燥液の供給流量を制御する流量制御機構と、
前記乾燥液供給ノズルから供給された乾燥液が基板へ到達する位置である着液点を、基板の中心部側から周縁部側に向けて移動させる際に、前記着液点を基点にして形成される乾燥液の流線における、前記着液点の中心から、基板の回転中心側の端部までの距離Lが、予め設定した上限距離M以下となるように制御を行う制御部と、を備え、
前記制御部は、下記式に基づいて基板の中心部側への乾燥液の流入量を特定し、前記着液点が描く軌道円の単位区間から、基板の中心部側への乾燥液の流入量が予め設定した値となるようにすることにより、前記距離Lを制御することを特徴とする基板処理装置。
乾燥液の流入量={(Q/2)*t}/C (但し、t=D/v)
ここで、Dは乾燥液供給ノズルの開口直径[mm]、Qは乾燥液の供給流量[ml/s]、vは着液点の移動速度[mm/s]、Cは着液点が描く軌道円の周長[mm]である。 - 前記制御部は、前記乾燥液の供給流量を変化させることにより、前記距離Lが上限距離M以下となるように制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記乾燥液供給ノズルの移動速度を変化させることにより、前記距離Lが上限距離M以下となるように制御を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 基板の表面に処理液を供給する処理を行う基板処理方法において、
処理液による処理が行われた後の回転する基板の表面に対し、当該処理液を除去して基板を乾燥させる乾燥液を供給する工程を含み、
前記乾燥液を供給する工程は、
前記乾燥液が基板へ到達する位置である着液点を、当該基板の中心部側から周縁部側に向けて移動させることと、
基板の中心部を除き、前記着液点を基点にして形成される乾燥液の流線における、前記着液点の中心から、基板の回転中心側の端部までの距離Lを、予め設定した上限距離M以下とするため、下記式に基づいて基板の中心部側への乾燥液の流入量を特定し、前記着液点が描く軌道円の単位区間から、基板の中心部側への乾燥液の流入量が予め設定した値となるようにすることにより、前記距離Lを制御することと、を特徴とする基板処理方法。
乾燥液の流入量={(Q/2)*t}/C (但し、t=D/v)
ここで、Dは乾燥液供給ノズルの開口直径[mm]、Qは乾燥液の供給流量[ml/s]、vは着液点の移動速度[mm/s]、Cは着液点が描く軌道円の周長[mm]である。 - 前記乾燥液の供給流量を変化させることにより、前記距離Lを上限距離M以下とすることを特徴とする請求項4に記載の基板処理方法。
- 前記乾燥液の着液点の移動速度を変化させることにより、前記距離Lを上限距離M以下とすることを特徴とする請求項4または5に記載の基板処理方法。
- 基板の表面に処理液を供給して処理する基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項4ないし6のいずれか一つに記載の基板処理方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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